JP2893455B2 - 接着性向上処理を施したｐ−パラキシリレン重合膜を有する稀土類鉄ホウ素系磁石物品 - Google Patents
接着性向上処理を施したｐ−パラキシリレン重合膜を有する稀土類鉄ホウ素系磁石物品Info
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- JP2893455B2 JP2893455B2 JP1103344A JP10334489A JP2893455B2 JP 2893455 B2 JP2893455 B2 JP 2893455B2 JP 1103344 A JP1103344 A JP 1103344A JP 10334489 A JP10334489 A JP 10334489A JP 2893455 B2 JP2893455 B2 JP 2893455B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は表面に接着剤に対する濡れを改善したｐ−キ
シリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜を有す
る高耐食性稀土類鉄ホウ素系磁石に関する。
シリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜を有す
る高耐食性稀土類鉄ホウ素系磁石に関する。
（従来の技術） 従来高エネルギー積磁石としては、Sm−Co系磁石が用
いられてきたが、コスト、機械加工性、より高いエネル
ギー積といった点で有利な稀土類鉄ホウ素系磁石が最近
注目され、特に原子比で８〜30％の稀土類元素、２〜28
％のＢ、および残部Feおよび不可避不純物からなる組成
が効果的であることが見出されている。
いられてきたが、コスト、機械加工性、より高いエネル
ギー積といった点で有利な稀土類鉄ホウ素系磁石が最近
注目され、特に原子比で８〜30％の稀土類元素、２〜28
％のＢ、および残部Feおよび不可避不純物からなる組成
が効果的であることが見出されている。
ところが、稀土類鉄ホウ素系磁石はSm−Co系に比べ、
耐食性という面では劣り、種々の表面保護処理が検討さ
れている状況にある。
耐食性という面では劣り、種々の表面保護処理が検討さ
れている状況にある。
稀土類鉄ホウ素系磁石は焼結法および急冷法で作製さ
れている。この系の磁石は酸化し易いNd、Feを多く含む
ので、耐薬品性、特に酸、アルカリに弱く、湿式めっき
等の表面処理では、酸、アルカリ等による前処理或いは
めっき工程中に表面が侵されたり、たとえめっきが出来
ても、内部に侵入した薬品の影響により、内部腐食が発
生したり、結晶粒間が侵食されることで磁気特性が低下
する。
れている。この系の磁石は酸化し易いNd、Feを多く含む
ので、耐薬品性、特に酸、アルカリに弱く、湿式めっき
等の表面処理では、酸、アルカリ等による前処理或いは
めっき工程中に表面が侵されたり、たとえめっきが出来
ても、内部に侵入した薬品の影響により、内部腐食が発
生したり、結晶粒間が侵食されることで磁気特性が低下
する。
急冷法で製造された材料は、焼結法で製造された材料
と比較して、外力による歪や熱による磁気特性の低下が
少ない。しかし、急冷粉末はプラスチック等でボンドと
して使われることが多く、磁石表面の磁石材料およびボ
ンド材料の両方に対し、高い密着強度を有する被膜材料
が要求されている。
と比較して、外力による歪や熱による磁気特性の低下が
少ない。しかし、急冷粉末はプラスチック等でボンドと
して使われることが多く、磁石表面の磁石材料およびボ
ンド材料の両方に対し、高い密着強度を有する被膜材料
が要求されている。
また、この系の磁石、特にこの系の焼結磁石にプラズ
マ重合被膜を設けることは知られているが（特開昭63−
6811）、従来の多元素系被膜では充分な重合度が得難か
った。
マ重合被膜を設けることは知られているが（特開昭63−
6811）、従来の多元素系被膜では充分な重合度が得難か
った。
たとえばアクリル酸などではプラズマ重合中に活性な
酸素が存在し、プラズマ重合と同時にプラズマエッチン
グが起こる。このため保護重合膜の硬度、ち密性が十分
でなく又重合度も低い。そのため十分なガスバリヤー性
が得られないなど、耐食性保護膜として充分に機能でき
ない。
酸素が存在し、プラズマ重合と同時にプラズマエッチン
グが起こる。このため保護重合膜の硬度、ち密性が十分
でなく又重合度も低い。そのため十分なガスバリヤー性
が得られないなど、耐食性保護膜として充分に機能でき
ない。
また、保護被覆として稀土類焼結金属磁石の表面に高
分子樹脂膜を形成することも行なわれているが（特開昭
61−198221号公報、同56−81908号公報、同60−63901号
等）、高分子樹脂膜は透湿性、酸素透過性が大きく、ま
た稀土類焼結金属磁石との親和性が低いので、充分な接
着を確保することができない。また弗素樹脂のように高
温焼付けを要するために磁石の酸化を招くもの、エポキ
シ樹脂などのように耐食性で劣るものなど、接着性と耐
食性の両者を兼ね備えた膜は提供されていない。更にキ
シリレン樹脂を真空蒸着で成膜することも提案されてい
るが、重合度は低く、耐食性に問題がある（特開昭55−
103714）。
分子樹脂膜を形成することも行なわれているが（特開昭
61−198221号公報、同56−81908号公報、同60−63901号
等）、高分子樹脂膜は透湿性、酸素透過性が大きく、ま
た稀土類焼結金属磁石との親和性が低いので、充分な接
着を確保することができない。また弗素樹脂のように高
温焼付けを要するために磁石の酸化を招くもの、エポキ
シ樹脂などのように耐食性で劣るものなど、接着性と耐
食性の両者を兼ね備えた膜は提供されていない。更にキ
シリレン樹脂を真空蒸着で成膜することも提案されてい
るが、重合度は低く、耐食性に問題がある（特開昭55−
103714）。
こうした高分子樹脂膜のうち、水分及び酸素に対して
極めと良好なバリヤー性を有し、そのため極めて優れた
耐食性を有する材料としてｐ−キシリレン重合膜及び塩
素化ｐ−キシリレン重合膜が知られている（気相重合法
によるものは米国ユニオン・カーバイド社より商品名パ
リレンとして市販されている）。
極めと良好なバリヤー性を有し、そのため極めて優れた
耐食性を有する材料としてｐ−キシリレン重合膜及び塩
素化ｐ−キシリレン重合膜が知られている（気相重合法
によるものは米国ユニオン・カーバイド社より商品名パ
リレンとして市販されている）。
（解決すべき問題点） しかしながらｐ−キシリレン重合膜及び塩素化ｐ−キ
シリレン重合膜は稀土類鉄ホウ素系磁石に対して接着性
が極めて悪いだけでなく、重合膜の接触角が90度と高
く、撥水性のため接着剤との馴染みが悪く充分な接着力
が得られない欠点がある。この被覆を有する高耐食性磁
石または物品をエポキシ樹脂その他の接着剤により電気
又は電子装置の一部にあるいはその他のものの一部に固
定使用とすると接着が非常に悪く実用化の障害となって
いた。強いて使用するためには接着剤以外の方法例えば
止めバンド、螺子、鋲等の機械的な手段を必要とし、作
業性やスペース等に問題があった。
シリレン重合膜は稀土類鉄ホウ素系磁石に対して接着性
が極めて悪いだけでなく、重合膜の接触角が90度と高
く、撥水性のため接着剤との馴染みが悪く充分な接着力
が得られない欠点がある。この被覆を有する高耐食性磁
石または物品をエポキシ樹脂その他の接着剤により電気
又は電子装置の一部にあるいはその他のものの一部に固
定使用とすると接着が非常に悪く実用化の障害となって
いた。強いて使用するためには接着剤以外の方法例えば
止めバンド、螺子、鋲等の機械的な手段を必要とし、作
業性やスペース等に問題があった。
（発明の目的） 従って本発明の目的は稀土類鉄ホウ素系磁石に対して
接着性が良く、且つ接着剤に対する濡れを改善したｐ−
キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被
覆した耐食性の良い稀土類鉄ホウ素系磁石物品を提供す
ることにある。
接着性が良く、且つ接着剤に対する濡れを改善したｐ−
キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被
覆した耐食性の良い稀土類鉄ホウ素系磁石物品を提供す
ることにある。
（問題点を解決する手段） 本発明者は上記欠点を解決するために種々の検討を加
えたところ、表面粗度Raが１μｍ以下になるまで研磨し
た稀土類鉄ホウ素系磁石の表面に、ｐ−キシリレン重合
膜又は塩素化ｐ−キシリレンを被覆し、次いでその表面
をプラズマ重合膜で被覆することにより、接着剤に対す
る濡れを接着に必要な程度に充分に改良し得ることを見
出した。
えたところ、表面粗度Raが１μｍ以下になるまで研磨し
た稀土類鉄ホウ素系磁石の表面に、ｐ−キシリレン重合
膜又は塩素化ｐ−キシリレンを被覆し、次いでその表面
をプラズマ重合膜で被覆することにより、接着剤に対す
る濡れを接着に必要な程度に充分に改良し得ることを見
出した。
更に、本発明はｐ−キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−
キシリレン重合膜で被覆される被保護材料の表面をプラ
ズマ処理するか又はプラズマ重合膜で被覆すると材料と
ｐ−キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜
との密着性が改善され更に望ましい。
キシリレン重合膜で被覆される被保護材料の表面をプラ
ズマ処理するか又はプラズマ重合膜で被覆すると材料と
ｐ−キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜
との密着性が改善され更に望ましい。
（発明の具体的な説明） 耐食性物品 本発明で耐食性物品とは被保護材料にｐ−キシリレン
重合膜及び塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被覆したもの
を指す。ここに被保護材料は周囲の湿気と空気の作用に
より錆を生じ易い稀土類鉄ホウ素系磁石である。このよ
うな稀土類鉄ホウ素系磁石は耐食性に劣るもので、一般
にＲ−Ｔ−Ｂ又はＲ−Ｔ−Ｂ−Ｍ（ただしＲは稀土類元
素、ＴはFe又はFe、Coを主体とする遷移金属、ＭはZr、
Nb、Mo、Hf、Ta、Ｗの少なくとも１種）の組成を有する
もの、例えばNd−Fe−Ｂ、Nd−Fe−Ｂ−Zr、ミッシュメ
タル任意の稀土類鉄ホウ素系磁石を挙げることができ
る。このような磁石は粉末を成形し焼結した焼結型磁
石、あるいはこれらの磁石を機械的に粉砕し10重量％以
下の有機バインダーで結合したボンド磁石の形で使用す
ることができる。
重合膜及び塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被覆したもの
を指す。ここに被保護材料は周囲の湿気と空気の作用に
より錆を生じ易い稀土類鉄ホウ素系磁石である。このよ
うな稀土類鉄ホウ素系磁石は耐食性に劣るもので、一般
にＲ−Ｔ−Ｂ又はＲ−Ｔ−Ｂ−Ｍ（ただしＲは稀土類元
素、ＴはFe又はFe、Coを主体とする遷移金属、ＭはZr、
Nb、Mo、Hf、Ta、Ｗの少なくとも１種）の組成を有する
もの、例えばNd−Fe−Ｂ、Nd−Fe−Ｂ−Zr、ミッシュメ
タル任意の稀土類鉄ホウ素系磁石を挙げることができ
る。このような磁石は粉末を成形し焼結した焼結型磁
石、あるいはこれらの磁石を機械的に粉砕し10重量％以
下の有機バインダーで結合したボンド磁石の形で使用す
ることができる。
ｐ−キシリレン重合膜及び塩素化ｐ−キシリレン重合
膜被覆を有する磁石等の電子部品はそれ自体公知であ
る。このような被覆には例えば米国ユニオン・カーバイ
ド社よりパリレンＮ（ポリｐ−キシリレン）、パリレン
Ｃ（ポリモノクロロｐ−キシリレン）、パリレンＤ（ポ
リジクロロｐ−キシリレン）等があるがガス透過性が低
いので特にパリレンＣが好ましい。ポリｐ−キシリレン
等の膜は２量体のガスを減圧下に熱分解することにより
得られる。膜厚としては0.5μｍ以上、好ましくは１〜2
0μｍである。しかしｐ−キシリレン重合膜及び塩素化
ｐ−キシリレン重合膜は接着性が悪いために被保護材料
の表面から剥れ易く、このため耐食性が充分ではない。
この対策としては本発明者は最近被保護材料の表面の接
着性を改善し、結果的に耐食性を改善することを提案し
た。その一つは被保護材料の表面をプラズマ処理するこ
とによりエッチング、各種ラジカルの形成、OH等の官能
基等を行なって接着性ないし密着性を改善する（特願平
１−67521号）。他の方法は被保護材料の表面に実質的
に炭素と水素からなるプラズマ重合膜を形成してｐ−キ
シリレン重合膜及び塩素化ｐ−キシリレン重合膜に対す
る接着性を改善し、結果的に耐食性を改善する（特願昭
63−109063号）。更に他の方法は被保護材料の表面平滑
度を上げ、あるいはこれを上記の方法に組合せるとかの
方法を採用する（特願平１−69289号）。本発明の対象
となる耐食性物品は稀土類鉄ホウ素系磁石にｐ−キシリ
レン重合膜及び塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被覆した
ものであるが、好ましくは上記の改良された物品であ
る。なお、上記のプラズマ処理及びプラズマ重合膜は以
下で述べる本発明に必須のものと同一であり得るのでそ
れらを参照されたい。
膜被覆を有する磁石等の電子部品はそれ自体公知であ
る。このような被覆には例えば米国ユニオン・カーバイ
ド社よりパリレンＮ（ポリｐ−キシリレン）、パリレン
Ｃ（ポリモノクロロｐ−キシリレン）、パリレンＤ（ポ
リジクロロｐ−キシリレン）等があるがガス透過性が低
いので特にパリレンＣが好ましい。ポリｐ−キシリレン
等の膜は２量体のガスを減圧下に熱分解することにより
得られる。膜厚としては0.5μｍ以上、好ましくは１〜2
0μｍである。しかしｐ−キシリレン重合膜及び塩素化
ｐ−キシリレン重合膜は接着性が悪いために被保護材料
の表面から剥れ易く、このため耐食性が充分ではない。
この対策としては本発明者は最近被保護材料の表面の接
着性を改善し、結果的に耐食性を改善することを提案し
た。その一つは被保護材料の表面をプラズマ処理するこ
とによりエッチング、各種ラジカルの形成、OH等の官能
基等を行なって接着性ないし密着性を改善する（特願平
１−67521号）。他の方法は被保護材料の表面に実質的
に炭素と水素からなるプラズマ重合膜を形成してｐ−キ
シリレン重合膜及び塩素化ｐ−キシリレン重合膜に対す
る接着性を改善し、結果的に耐食性を改善する（特願昭
63−109063号）。更に他の方法は被保護材料の表面平滑
度を上げ、あるいはこれを上記の方法に組合せるとかの
方法を採用する（特願平１−69289号）。本発明の対象
となる耐食性物品は稀土類鉄ホウ素系磁石にｐ−キシリ
レン重合膜及び塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被覆した
ものであるが、好ましくは上記の改良された物品であ
る。なお、上記のプラズマ処理及びプラズマ重合膜は以
下で述べる本発明に必須のものと同一であり得るのでそ
れらを参照されたい。
稀土類鉄ホウ素系磁石 本発明では稀土類鉄ホウ素系磁石はまず表面平滑化さ
れる。稀土類鉄ホウ素系磁石の表面を研磨してJIS規格
による表面粗度Raを約１μｍ以下にすることにより耐食
性が飛躍的に向上する。その原因は明らかではないがｐ
−キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜の
ステップカバレージ特性と表面粗度のマッチングがとれ
る事により保護膜が被保護材料をうまくカバーすること
と、被保護材料の表面粗度を小さくすることは最初に存
在する穴、ホール等の欠陥を減少させるためと考えられ
る。通常稀土類鉄ホウ素系磁石の表面粗度はかなり大き
く、JIS規格によるRaで表わして２μｍ以上である。
れる。稀土類鉄ホウ素系磁石の表面を研磨してJIS規格
による表面粗度Raを約１μｍ以下にすることにより耐食
性が飛躍的に向上する。その原因は明らかではないがｐ
−キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜の
ステップカバレージ特性と表面粗度のマッチングがとれ
る事により保護膜が被保護材料をうまくカバーすること
と、被保護材料の表面粗度を小さくすることは最初に存
在する穴、ホール等の欠陥を減少させるためと考えられ
る。通常稀土類鉄ホウ素系磁石の表面粗度はかなり大き
く、JIS規格によるRaで表わして２μｍ以上である。
プラズマ処理 稀土類鉄ホウ素系磁石の表面は好ましくはプラズマ処
理を施される。プラズマ処理はAr、He、Ne等の希ガス
H2、N2、O2、CO、CO2、H2O、NOX、NO2、NH3のガス等を
真空室に導入し、プラズマ化しこれを稀土類鉄ホウ素系
磁石に接触させることにより行なわれる。プラズマ処理
の条件としては通常次ぎのものを使用する。ガス圧力0.
01〜10Torrにて電源は直流、交流が使用でき、交流の周
波数は50Hzから5GHzまで使用できる。サンプルの形状及
び量により処理条件は異なるが使用電力10W〜10KW処理
時間0.5秒〜10分に設定することができる。
理を施される。プラズマ処理はAr、He、Ne等の希ガス
H2、N2、O2、CO、CO2、H2O、NOX、NO2、NH3のガス等を
真空室に導入し、プラズマ化しこれを稀土類鉄ホウ素系
磁石に接触させることにより行なわれる。プラズマ処理
の条件としては通常次ぎのものを使用する。ガス圧力0.
01〜10Torrにて電源は直流、交流が使用でき、交流の周
波数は50Hzから5GHzまで使用できる。サンプルの形状及
び量により処理条件は異なるが使用電力10W〜10KW処理
時間0.5秒〜10分に設定することができる。
プラズマ処理は耐食性物品の表面を活性化し、ｐ−キ
シリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜との密
着性を向上する。
シリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜との密
着性を向上する。
プラズマ重合膜 本発明で必須のプラズマ重合膜の形成には、従来知ら
れている任意のモノマーガスを使用し得る。例えばメタ
ン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、エチレン、
プロピレン、ブテン、ブタジエン、アセチレン、メチル
アセチレン等の炭化水素モノマーの他、テトラメトキシ
シラン等のケイ素系モノマー、テトラフルオロエチレン
等のフッ化水素系モノマー、メチルメタアクリレート等
を挙げることができる。特に実質的に炭素と水素のみか
らなるプラズマ重合膜は、表面にち密でピンホールの無
い硬質の膜を形成し、耐食性が良好で、長期安定性にす
ぐれた磁気特性を保つことができるという利点を有する
ので好ましく、中でも原子数の比（原子組成比）で表わ
して好ましくはH/C＝1.5以下であると三次元的に充分架
橋した特性の良いプラズマ重合膜が形成できる。この場
合、膜厚が0.2μｍ以下で充分な耐食性が得られる。こ
のようなプラズマ重合保護膜は炭化水素モノマーガスの
量を少なくし、反応圧力を低くし、且つ印加電力を大き
くすることにより生成し得る。すなわち、反応圧力を低
く印加電力を大きくすることにより、モノマー単位量あ
たりの分解エネルギーが大きく成って分解が進み、架橋
したプラズマ重合保護膜が形成できる。本発明の実施に
適当なエネルギー密度W/（FM）は108J/kg以上である
（Ｗはプラズマ投入電力J/秒、Ｆは原料ガス流量kg/
秒、Ｍは原料ガス分子量）。その他キャリアガスとして
水素、不活性ガス等のガスが使用できる。ただし不可避
不純物として入ってくる微量以上の酸素は用いてはなら
ない。このように不可避的な不純物ガスを除いて実質的
に炭素と水素のみから成る時高い耐食性と良好な接着性
を示すことになる。更に、プラズマ重合膜を形成すると
き、磁石の温度を上げておくことにより更に効果を上げ
ることができる。
れている任意のモノマーガスを使用し得る。例えばメタ
ン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、エチレン、
プロピレン、ブテン、ブタジエン、アセチレン、メチル
アセチレン等の炭化水素モノマーの他、テトラメトキシ
シラン等のケイ素系モノマー、テトラフルオロエチレン
等のフッ化水素系モノマー、メチルメタアクリレート等
を挙げることができる。特に実質的に炭素と水素のみか
らなるプラズマ重合膜は、表面にち密でピンホールの無
い硬質の膜を形成し、耐食性が良好で、長期安定性にす
ぐれた磁気特性を保つことができるという利点を有する
ので好ましく、中でも原子数の比（原子組成比）で表わ
して好ましくはH/C＝1.5以下であると三次元的に充分架
橋した特性の良いプラズマ重合膜が形成できる。この場
合、膜厚が0.2μｍ以下で充分な耐食性が得られる。こ
のようなプラズマ重合保護膜は炭化水素モノマーガスの
量を少なくし、反応圧力を低くし、且つ印加電力を大き
くすることにより生成し得る。すなわち、反応圧力を低
く印加電力を大きくすることにより、モノマー単位量あ
たりの分解エネルギーが大きく成って分解が進み、架橋
したプラズマ重合保護膜が形成できる。本発明の実施に
適当なエネルギー密度W/（FM）は108J/kg以上である
（Ｗはプラズマ投入電力J/秒、Ｆは原料ガス流量kg/
秒、Ｍは原料ガス分子量）。その他キャリアガスとして
水素、不活性ガス等のガスが使用できる。ただし不可避
不純物として入ってくる微量以上の酸素は用いてはなら
ない。このように不可避的な不純物ガスを除いて実質的
に炭素と水素のみから成る時高い耐食性と良好な接着性
を示すことになる。更に、プラズマ重合膜を形成すると
き、磁石の温度を上げておくことにより更に効果を上げ
ることができる。
（実施例の説明） （耐食性ボンド磁石の調製） 原料を秤量し、溶融し、鋳造して、合金組成がNd9Fe
79.5Zr4B7.5（合金１）及びNd8.5Fe80Zr3.5B8（合金
２）の２種類の合金インゴットを製造した。これらをそ
れぞれ高周波溶解し、Ar雰囲気中Cu単ロール（周速20m/
秒）の表面に射出して高速急冷して合金薄帯を得た。こ
れをAr雰囲気中、700℃で30分間熱処理した後、スタン
プミルで50〜200μｍの平均粒子径となるように粉砕し
て磁石粉末を得た。
79.5Zr4B7.5（合金１）及びNd8.5Fe80Zr3.5B8（合金
２）の２種類の合金インゴットを製造した。これらをそ
れぞれ高周波溶解し、Ar雰囲気中Cu単ロール（周速20m/
秒）の表面に射出して高速急冷して合金薄帯を得た。こ
れをAr雰囲気中、700℃で30分間熱処理した後、スタン
プミルで50〜200μｍの平均粒子径となるように粉砕し
て磁石粉末を得た。
上記、磁石粉末に対して、2.5wt％のエポキシ樹脂を
混合し、5ton/cm2で加圧成形し、次いで180℃の温度で
樹脂硬化を行なった。得られた成形体の磁気特性は表１
に示す通りである。
混合し、5ton/cm2で加圧成形し、次いで180℃の温度で
樹脂硬化を行なった。得られた成形体の磁気特性は表１
に示す通りである。
又これらの成形体の表面粗度Raはそれぞれ2.1μｍで
あった。これらの成形体の表面を研磨して0.3μｍにし
た。
あった。これらの成形体の表面を研磨して0.3μｍにし
た。
次いでこれら試料の表面に下記の条件によりプラズマ
処理を施した。
処理を施した。
O2ガスを用いガス圧0.11Torrで13.56MHzのRF電源にて
電力100Wの条件で表面をプラズマ処理した。表面の接触
角は10゜であった。
電力100Wの条件で表面をプラズマ処理した。表面の接触
角は10゜であった。
次いで、これらすべての成形体をプラズマ重合装置に
装入し、圧力0.02Torr、RF電力800W、CH45SCCMの条件で
成形体の表面に炭化水素重合膜を成膜した。成膜処理は
エリプソメーターを用いて測定して約0.15μｍの膜厚に
成るまで行なった。二次電子質量分析器SIMSで測定した
ところ、H/C比は1.21であった。
装入し、圧力0.02Torr、RF電力800W、CH45SCCMの条件で
成形体の表面に炭化水素重合膜を成膜した。成膜処理は
エリプソメーターを用いて測定して約0.15μｍの膜厚に
成るまで行なった。二次電子質量分析器SIMSで測定した
ところ、H/C比は1.21であった。
次いで、得られた成形体にモノクロルパラキシレン二
量体の25℃、0.05Torrの条件下に熱分解及び重合により
パリレンＣを10μｍの厚さに成膜した。
量体の25℃、0.05Torrの条件下に熱分解及び重合により
パリレンＣを10μｍの厚さに成膜した。
（耐食性焼結磁石の調製） Nd15Fe77B8からなる組成の合金（合金３）を作製し、
粗粉砕した後、ジェットミルを用いて平均粒径3.5μｍ
の磁性粉末に微粉砕した。本磁性粉末を10kOeの磁場中
で1.5ton/cm2の圧力で成形した。その後真空中で1100
℃、2hrの焼結を行ない、続いて600℃、1hrの時効処理
を行なった。
粗粉砕した後、ジェットミルを用いて平均粒径3.5μｍ
の磁性粉末に微粉砕した。本磁性粉末を10kOeの磁場中
で1.5ton/cm2の圧力で成形した。その後真空中で1100
℃、2hrの焼結を行ない、続いて600℃、1hrの時効処理
を行なった。
得られた磁石の磁気特性は表２に示す通りである。表
面粗度は2.3μｍであった。
面粗度は2.3μｍであった。
本成形体に対して耐食性ボンド磁石の調製と同じ処理
を施し、H/C比が1.21のプラズマ重合膜の表面被覆膜を
有する焼結磁石を得た。次いでパリレンＣを10μｍの厚
さに被覆した。合金１、２、３に対するこれらの処理を
行なったものはいずれも耐食性が良好である。
を施し、H/C比が1.21のプラズマ重合膜の表面被覆膜を
有する焼結磁石を得た。次いでパリレンＣを10μｍの厚
さに被覆した。合金１、２、３に対するこれらの処理を
行なったものはいずれも耐食性が良好である。
以下に実施例を示すが実施例１、２はパリレンＣの表
面をプラズマ処理した例を示し、実施例３、４はパリレ
ンＣの表面にプラズマ重合膜を形成した例である。
面をプラズマ処理した例を示し、実施例３、４はパリレ
ンＣの表面にプラズマ重合膜を形成した例である。
実施例１（ボンド磁石） 上記比較試料１、２をプラズマ重合装置に装入し、圧
力0.02Torr、RF電力800W、CH45SCCMの条件で成形体の表
面に炭化水素重合膜を成膜した。成膜処理はエリプソメ
ーターを用いて測定して約0.15μｍの膜厚に成るまで行
なった。得られた膜を二次電子質量分析器SIMSで測定し
たところ、H/C比は1.21であった。得られた試料をそれ
ぞれ試料１、２とする。
力0.02Torr、RF電力800W、CH45SCCMの条件で成形体の表
面に炭化水素重合膜を成膜した。成膜処理はエリプソメ
ーターを用いて測定して約0.15μｍの膜厚に成るまで行
なった。得られた膜を二次電子質量分析器SIMSで測定し
たところ、H/C比は1.21であった。得られた試料をそれ
ぞれ試料１、２とする。
比較試料１、２及び試料１、２を上記の鉄製の四角柱
の表面にエポキシ接着剤で接着した。結果を表３に示
す。
の表面にエポキシ接着剤で接着した。結果を表３に示
す。
実施例２（焼結磁石） 比較試料３に実施例１と同一の条件でプラズマ重合膜
を形成した。これを試料３′とする。接着試験の結果を
表３に示す。
を形成した。これを試料３′とする。接着試験の結果を
表３に示す。
尚、表中Ｃはパリレンと接着剤との境界面を示し、Ｅ
は鉄と接着剤の境界面を示す。
は鉄と接着剤の境界面を示す。
（作用効果のまとめ） 以上の実施例から分かるように、稀土類鉄ホウ素系磁
石の表面を研摩して表面粗度Raが１μｍ以下にし、ｐ−
キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被
覆し、次いでその外表面にプラズマ重合膜を形成させた
高耐食物品は、接着剤に対する濡れないし接着力が改善
されることが分かる。従って先に述べた各種用途におい
てこの物品を接着剤を使用して所定の位置に容易に固定
することが出来る。
石の表面を研摩して表面粗度Raが１μｍ以下にし、ｐ−
キシリレン重合膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜を被
覆し、次いでその外表面にプラズマ重合膜を形成させた
高耐食物品は、接着剤に対する濡れないし接着力が改善
されることが分かる。従って先に述べた各種用途におい
てこの物品を接着剤を使用して所定の位置に容易に固定
することが出来る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上田 国博 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (72)発明者 柴原 正典 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−50338（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−208904（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−168859（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08J 5/00 - 5/02 C08J 5/12 - 5/22 C08J 7/00 - 7/18
Claims (5)
- 【請求項１】表面粗度Raが１μｍ以下になるまで研磨し
た稀土類鉄ホウ素系磁石の表面を、ｐ−キシリレン重合
膜又は塩素化ｐ−キシリレン重合膜、次いでプラズマ重
合膜表面で被覆した高耐食性稀土類鉄ホウ素系磁石物
品。 - 【請求項２】プラズマ重合膜は実質的に炭素と水素だけ
の重合膜であり、水素原子の数が炭素原子の数の1.5倍
以下で含まれる前記第１項に記載の高耐食性稀土類鉄ホ
ウ素系磁石物品。 - 【請求項３】稀土類鉄ホウ素系磁石の表面はプラズマ処
理されている前記第１項ないし第２項のいずれかに記載
の高耐食性稀土類鉄ホウ素系磁石物品。 - 【請求項４】稀土類鉄ホウ素系磁石の表面は更に第二の
プラズマ重合膜を有する前記第１項ないし第３項のいず
れかに記載の高耐食性稀土類鉄ホウ素系磁石物品。 - 【請求項５】前記第二のプラズマ重合膜は実質的に水素
と炭素だけからなる重合膜であり、水素原子の数が炭素
原子の数の1.5倍以下で含まれる前記第４項記載の高耐
食性稀土類鉄ホウ素系磁石物品。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103344A JP2893455B2 (ja) | 1989-04-25 | 1989-04-25 | 接着性向上処理を施したｐ−パラキシリレン重合膜を有する稀土類鉄ホウ素系磁石物品 |
| US07/497,549 US5154978A (en) | 1989-03-22 | 1990-03-22 | Highly corrosion-resistant rare-earth-iron magnets |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1103344A JP2893455B2 (ja) | 1989-04-25 | 1989-04-25 | 接着性向上処理を施したｐ−パラキシリレン重合膜を有する稀土類鉄ホウ素系磁石物品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02283732A JPH02283732A (ja) | 1990-11-21 |
| JP2893455B2 true JP2893455B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=14351524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1103344A Expired - Fee Related JP2893455B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-04-25 | 接着性向上処理を施したｐ−パラキシリレン重合膜を有する稀土類鉄ホウ素系磁石物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2893455B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117820944B (zh) * | 2024-03-05 | 2024-08-23 | 烟台舜康生物科技有限公司 | 用于电子电路模块表面涂覆的派瑞林膜层的制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5753730A (en) * | 1980-09-16 | 1982-03-30 | Canon Inc | Liquid crystal display device |
-
1989
- 1989-04-25 JP JP1103344A patent/JP2893455B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02283732A (ja) | 1990-11-21 |
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