JP2000256878A - 高耐食性膜付き部材及びその製造方法 - Google Patents
高耐食性膜付き部材及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2000256878A JP2000256878A JP11061003A JP6100399A JP2000256878A JP 2000256878 A JP2000256878 A JP 2000256878A JP 11061003 A JP11061003 A JP 11061003A JP 6100399 A JP6100399 A JP 6100399A JP 2000256878 A JP2000256878 A JP 2000256878A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- thickness
- high corrosion
- corrosion resistant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
- H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment
Abstract
(57)【要約】
【課題】 合計１０μｍ以下の膜厚でも高耐食性を有
し、厳しい寸法精度が要求される精密部品や、複雑形状
の部品にも適用でき、しかも後加工が不要で比較的低コ
ストで得られる高耐食性膜付き部材、及び、その製造方
法を提供する。 【解決手段】 部材表面に、第１層としてＴｉ、Ａｌ、
Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ば
れる少なくとも１種の金属膜または金属合金膜が厚さ１
〜２μｍ、第２層としてアルミナ膜またはマグネシア膜
が厚さ１〜５μｍ、第３層としてポリパラキシリレン樹
脂膜が厚さ１〜５μｍ順次形成され、かつ、第１層〜第
３層の厚さの合計が１０μｍ以下である高耐食性膜付き
部材。
し、厳しい寸法精度が要求される精密部品や、複雑形状
の部品にも適用でき、しかも後加工が不要で比較的低コ
ストで得られる高耐食性膜付き部材、及び、その製造方
法を提供する。 【解決手段】 部材表面に、第１層としてＴｉ、Ａｌ、
Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ば
れる少なくとも１種の金属膜または金属合金膜が厚さ１
〜２μｍ、第２層としてアルミナ膜またはマグネシア膜
が厚さ１〜５μｍ、第３層としてポリパラキシリレン樹
脂膜が厚さ１〜５μｍ順次形成され、かつ、第１層〜第
３層の厚さの合計が１０μｍ以下である高耐食性膜付き
部材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、希土類磁
石、鋼、その他鉄を含む合金などの腐食しやすい部材に
適用したときに好適な、高耐食性膜付き部材及びその製
造方法に関する。
石、鋼、その他鉄を含む合金などの腐食しやすい部材に
適用したときに好適な、高耐食性膜付き部材及びその製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】鉄を主成分とする合金材料は様々な用途
で使用されている。例えば、炭素その他の元素と鉄とか
らなる鋼や、高磁力を有することで知られるＮｄ−Ｆｅ
−Ｂ系磁石合金、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁石合金などであ
る。これら鉄を主成分とする合金は、わずかな酸、アル
カリ、水分などの存在によって部材表面から腐食が進行
し、錆などが発生する。腐食し、または錆が発生する
と、これら合金部材のもつ諸特性、例えば機械的強度、
磁気特性等が低下してしまう。
で使用されている。例えば、炭素その他の元素と鉄とか
らなる鋼や、高磁力を有することで知られるＮｄ−Ｆｅ
−Ｂ系磁石合金、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁石合金などであ
る。これら鉄を主成分とする合金は、わずかな酸、アル
カリ、水分などの存在によって部材表面から腐食が進行
し、錆などが発生する。腐食し、または錆が発生する
と、これら合金部材のもつ諸特性、例えば機械的強度、
磁気特性等が低下してしまう。
【０００３】これら部材の耐食性を向上させるための、
湿式メッキや塗装などの各種表面処理による防食法が知
られているが、従来の表面処理法には次のような問題点
がある。
湿式メッキや塗装などの各種表面処理による防食法が知
られているが、従来の表面処理法には次のような問題点
がある。
【０００４】（１）長時間の塩水噴霧試験に耐えうるよ
うな高耐食性を保つためには少なくとも２０μｍ以上の
膜厚を形成しなければならず、膜厚が厚いほど均一な膜
厚を得るのは困難となり、厳しい寸法精度が要求される
精密部品や、複雑形状の部品には適用できない。
うな高耐食性を保つためには少なくとも２０μｍ以上の
膜厚を形成しなければならず、膜厚が厚いほど均一な膜
厚を得るのは困難となり、厳しい寸法精度が要求される
精密部品や、複雑形状の部品には適用できない。
【０００５】（２）膜にピンホールができやすく、導電
性膜として用いる場合では、膜と部材との間の電位差に
より局部電池が形成され、腐食がますます進行してしま
う。
性膜として用いる場合では、膜と部材との間の電位差に
より局部電池が形成され、腐食がますます進行してしま
う。
【０００６】（３）洗浄、乾燥などの後加工が必要で、
時間とコストがかかる。
時間とコストがかかる。
【０００７】（４）塗装の場合、膜厚を数μｍに制御す
るのが難しい。
るのが難しい。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、合計
１０μｍ以下の膜厚でも長時間の塩水噴霧試験に耐えう
る高耐食性を有し、厳しい寸法精度が要求される精密部
品や、複雑形状の部品にも適用でき、しかも後加工が不
要で比較的低コストで得られる高耐食性膜付き部材、及
び、その製造方法を提供することを目的とする。
１０μｍ以下の膜厚でも長時間の塩水噴霧試験に耐えう
る高耐食性を有し、厳しい寸法精度が要求される精密部
品や、複雑形状の部品にも適用でき、しかも後加工が不
要で比較的低コストで得られる高耐食性膜付き部材、及
び、その製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するため手段】上記目的を達成するための
本発明の高耐食性膜付き部材は、部材表面に、第１層と
してＴｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａま
たはＣｒから選ばれる少なくとも１種の金属膜または金
属合金膜が厚さ１〜２μｍ、第２層としてアルミナ（Ａ
ｌ2Ｏ3）膜またはマグネシア（ＭｇＯ）膜が厚さ１〜５
μｍ、第３層としてポリパラキシリレン樹脂膜が厚さ１
〜５μｍ順次形成され、かつ、第１層〜第３層の厚さの
合計が１０μｍ以下であることを特徴とする。
本発明の高耐食性膜付き部材は、部材表面に、第１層と
してＴｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａま
たはＣｒから選ばれる少なくとも１種の金属膜または金
属合金膜が厚さ１〜２μｍ、第２層としてアルミナ（Ａ
ｌ2Ｏ3）膜またはマグネシア（ＭｇＯ）膜が厚さ１〜５
μｍ、第３層としてポリパラキシリレン樹脂膜が厚さ１
〜５μｍ順次形成され、かつ、第１層〜第３層の厚さの
合計が１０μｍ以下であることを特徴とする。
【００１０】また、このような本発明の高耐食性膜付き
部材は、部材表面に、第１層としてカソードアーク法以
外の真空法によってＴｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、
Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ばれる少なくとも１種
の金属膜または金属合金膜を厚さ１〜２μｍ形成し、第
２層として第１層の形成方法と同じ方法によってアルミ
ナ（Ａｌ2Ｏ3）膜またはマグネシア（ＭｇＯ）膜を厚さ
１〜５μｍ形成し、第３層としてＣＶＤ法によってポリ
パラキシリレン樹脂膜を厚さ１〜５μｍ順次形成し、か
つ、第１層〜第３層の厚さの合計を１０μｍ以下とする
ことで製造できる。
部材は、部材表面に、第１層としてカソードアーク法以
外の真空法によってＴｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、
Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ばれる少なくとも１種
の金属膜または金属合金膜を厚さ１〜２μｍ形成し、第
２層として第１層の形成方法と同じ方法によってアルミ
ナ（Ａｌ2Ｏ3）膜またはマグネシア（ＭｇＯ）膜を厚さ
１〜５μｍ形成し、第３層としてＣＶＤ法によってポリ
パラキシリレン樹脂膜を厚さ１〜５μｍ順次形成し、か
つ、第１層〜第３層の厚さの合計を１０μｍ以下とする
ことで製造できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる部材は特に限
定されないが、Ｓ２５Ｃ、ＳＳ４００、ＳＫ３などの炭
素鋼や、ＳＣＭ４４０、ＳＵＪ２などの合金鋼など、特
に発錆、腐食しやすい鋼系材料やＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁
石、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁石などに適用すると効果が大き
い。部材は鋳造材、焼結材、圧延材等、特にその製造方
法は限定されない。
定されないが、Ｓ２５Ｃ、ＳＳ４００、ＳＫ３などの炭
素鋼や、ＳＣＭ４４０、ＳＵＪ２などの合金鋼など、特
に発錆、腐食しやすい鋼系材料やＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁
石、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁石などに適用すると効果が大き
い。部材は鋳造材、焼結材、圧延材等、特にその製造方
法は限定されない。
【００１２】磁石材料を部材とする場合は、膜を形成す
る際に磁化されていない方が望ましい。磁化された部材
では、例えばイオンプレーティングにより膜を形成する
と部材表面から発生する磁界がプラズマや蒸発粒子に影
響を与え、膜厚分布や膜質に悪影響を与えるからであ
る。
る際に磁化されていない方が望ましい。磁化された部材
では、例えばイオンプレーティングにより膜を形成する
と部材表面から発生する磁界がプラズマや蒸発粒子に影
響を与え、膜厚分布や膜質に悪影響を与えるからであ
る。
【００１３】また、部材表面は、機械加工跡などが無く
平滑であることが好ましい。機械加工跡などがあると、
その箇所で被膜の応力が集中し、剥離して耐食性が損な
われるからである。例えば、Ｒｍａｘで３μｍ以下の粗
さに研磨するか、研磨の困難な部材では＃４００程度の
ガラスビーズでブラスト処理などして表面を均一に細か
く荒らすのが望ましい。
平滑であることが好ましい。機械加工跡などがあると、
その箇所で被膜の応力が集中し、剥離して耐食性が損な
われるからである。例えば、Ｒｍａｘで３μｍ以下の粗
さに研磨するか、研磨の困難な部材では＃４００程度の
ガラスビーズでブラスト処理などして表面を均一に細か
く荒らすのが望ましい。
【００１４】第１層には、Ｔｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ばれる、１種の金
属膜、または、２種以上からなる金属合金膜を、厚さ１
〜２μｍ形成する。
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ばれる、１種の金
属膜、または、２種以上からなる金属合金膜を、厚さ１
〜２μｍ形成する。
【００１５】第１層の膜厚は、１μｍ未満ではピンホー
ルが多く発生し、第２層膜を形成する際に導入する酸素
ガスによって部材が酸化するので好ましくない。また、
膜厚が２μｍを超えると膜厚全体が厚くなり、生産性・
経済性に劣るので好ましくない。
ルが多く発生し、第２層膜を形成する際に導入する酸素
ガスによって部材が酸化するので好ましくない。また、
膜厚が２μｍを超えると膜厚全体が厚くなり、生産性・
経済性に劣るので好ましくない。
【００１６】第２層には、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）膜また
はマグネシア（ＭｇＯ）膜を厚さ１〜５μｍ形成する。
これらは絶縁性に優れた膜である。アルミナ膜またはマ
グネシア膜を形成することで、局部電池の形成を防止で
き、腐食の進行を抑制できる。
はマグネシア（ＭｇＯ）膜を厚さ１〜５μｍ形成する。
これらは絶縁性に優れた膜である。アルミナ膜またはマ
グネシア膜を形成することで、局部電池の形成を防止で
き、腐食の進行を抑制できる。
【００１７】第２層目の膜厚は、１μｍ未満では十分な
絶縁性が得られないので好ましくない。また、膜厚が５
μｍを超えると全体の膜厚が厚くなり、生産性・経済性
に劣るので好ましくない。
絶縁性が得られないので好ましくない。また、膜厚が５
μｍを超えると全体の膜厚が厚くなり、生産性・経済性
に劣るので好ましくない。
【００１８】第１層と第２層の膜は、カソードアーク法
以外の同じ真空法で形成する。カソードアーク法で形成
される膜は、ドロップレットやピンホールなどの欠陥が
多く存在するため、耐食性に劣るからである。カソード
アーク法以外の真空法としては、例えば真空蒸着、ＲＦ
イオンプレーティング法、ＡＲＥ法、ＨＣＤ法などが挙
げられ、いずれもカソードアーク法よりも平滑で欠陥の
少ない膜が得られる。
以外の同じ真空法で形成する。カソードアーク法で形成
される膜は、ドロップレットやピンホールなどの欠陥が
多く存在するため、耐食性に劣るからである。カソード
アーク法以外の真空法としては、例えば真空蒸着、ＲＦ
イオンプレーティング法、ＡＲＥ法、ＨＣＤ法などが挙
げられ、いずれもカソードアーク法よりも平滑で欠陥の
少ない膜が得られる。
【００１９】この中でも真空蒸着以外のイオンプレーテ
ィング法は特に望ましい。イオンプレーティング法で
は、部材と第１層の密着性を向上させるためのメタルイ
オン・ボンバード処理ができるからである。さらにイオ
ンプレーティング法の中でも、第１層目および第２層目
が連続的に容易にコーティングできる、反応性イオンプ
レーテインング法が望ましい。イオンプレーティング法
におけるイオン化の方法は、公知のアーク放電、グロー
放電、ホロカソード放電、高周波放電など、いずれの方
法でも良い。
ィング法は特に望ましい。イオンプレーティング法で
は、部材と第１層の密着性を向上させるためのメタルイ
オン・ボンバード処理ができるからである。さらにイオ
ンプレーティング法の中でも、第１層目および第２層目
が連続的に容易にコーティングできる、反応性イオンプ
レーテインング法が望ましい。イオンプレーティング法
におけるイオン化の方法は、公知のアーク放電、グロー
放電、ホロカソード放電、高周波放電など、いずれの方
法でも良い。
【００２０】第１層と第２層との密着力を向上するため
に、第１層形成後に、ベーキング処理、Ａｒボンバード
処理、メタルボンバード処理、等を行ってもよい。
に、第１層形成後に、ベーキング処理、Ａｒボンバード
処理、メタルボンバード処理、等を行ってもよい。
【００２１】Ａｒボンバード処理とは、例えば真空チャ
ンバーにＡｒガスを導入し、部材にバイアス電圧を−５
００〜−２，０００Ｖ印加して、１分以上処理するもの
である。
ンバーにＡｒガスを導入し、部材にバイアス電圧を−５
００〜−２，０００Ｖ印加して、１分以上処理するもの
である。
【００２２】メタルボンバード処理とは、第１層に形成
する金属膜あるいは金属合金膜の原料となる金属または
金属合金を溶融し、蒸発粒子をイオン化して、部材にバ
イアス電圧を−５００〜−１，０００Ｖ印加して、１〜
５分処理するものである。５分を超えて行うと部材表面
が荒れるので好ましくない。
する金属膜あるいは金属合金膜の原料となる金属または
金属合金を溶融し、蒸発粒子をイオン化して、部材にバ
イアス電圧を−５００〜−１，０００Ｖ印加して、１〜
５分処理するものである。５分を超えて行うと部材表面
が荒れるので好ましくない。
【００２３】第３層には、ＣＶＤ法によりポリパラキシ
リレン樹脂膜を厚さ１〜５μｍ形成する。ポリパラキシ
リレン樹脂は、ＣＶＤ法によれば所望の膜厚に均一に形
成できる。
リレン樹脂膜を厚さ１〜５μｍ形成する。ポリパラキシ
リレン樹脂は、ＣＶＤ法によれば所望の膜厚に均一に形
成できる。
【００２４】ポリパラキシリレン樹脂は、分子量５０万
程度のポリマー材料である。この樹脂膜は、ジパラキシ
リレン固体ダイマーを真空室内に導入し、これを熱分解
してジラジカルパラキシリレンを生成させ、これを部材
へ吸着させることで形成することができる。熱分解温度
の約６８０℃以上で熱分解させたジラジカルパラキシリ
レンを基材表面へ導入させて吸着させればよい。部材を
加熱する必要は特に無く、部材温度は室温でも構わな
い。
程度のポリマー材料である。この樹脂膜は、ジパラキシ
リレン固体ダイマーを真空室内に導入し、これを熱分解
してジラジカルパラキシリレンを生成させ、これを部材
へ吸着させることで形成することができる。熱分解温度
の約６８０℃以上で熱分解させたジラジカルパラキシリ
レンを基材表面へ導入させて吸着させればよい。部材を
加熱する必要は特に無く、部材温度は室温でも構わな
い。
【００２５】本発明では、樹脂の重合が部材への吸着と
同時に進行するため、特別な重合処理を必要とせず、所
望の膜厚の樹脂膜の形成が容易に行える。
同時に進行するため、特別な重合処理を必要とせず、所
望の膜厚の樹脂膜の形成が容易に行える。
【００２６】第３層の膜厚は、１μｍ未満では第１層と
第２層のピンホールを埋めるのに不十分であり、逆に５
μｍを超えて厚くすると全体の膜厚が厚くなり、生産性
・経済性に劣るので好ましくない。この樹脂膜の膜厚の
制御は、樹脂材料であるジパラキシリレンの導入量の制
御、または、形成時間の制御で可能である。
第２層のピンホールを埋めるのに不十分であり、逆に５
μｍを超えて厚くすると全体の膜厚が厚くなり、生産性
・経済性に劣るので好ましくない。この樹脂膜の膜厚の
制御は、樹脂材料であるジパラキシリレンの導入量の制
御、または、形成時間の制御で可能である。
【００２７】第１層〜第３層の厚さの合計は１０μｍ以
下とする。１０μｍを超えると寸法精度が悪くなるから
である。また、磁石などを部材とする場合に、膜厚が厚
いと表面磁力も低下する。
下とする。１０μｍを超えると寸法精度が悪くなるから
である。また、磁石などを部材とする場合に、膜厚が厚
いと表面磁力も低下する。
【００２８】
【実施例】（実施例１） 寸法１０×１０×５ｍｍの磁
化していないＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石をエタノール中
で超音波洗浄し、乾燥後、反応性イオンプレーティング
装置内にセットした。第１層膜の蒸発材としてＣｒ粒
を、第２層膜の蒸発材として直径１〜３ｍｍの粒状アル
ミナ（溶融粉砕品）を、Ｃｕ製のハース内に充填した。
部材および蒸発材を真空チャンバー内の所定位置にセッ
ティングした後、真空チャンバー内を１×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで排気し、内部ヒータで３００℃まで加熱し、その
まま２時間保持した。次にＡｒガスを０．０３Ｔｏｒｒ
導入し、部材に−８００Ｖを印加して、イオンボンバー
ドメント処理を１０分間行った。
化していないＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石をエタノール中
で超音波洗浄し、乾燥後、反応性イオンプレーティング
装置内にセットした。第１層膜の蒸発材としてＣｒ粒
を、第２層膜の蒸発材として直径１〜３ｍｍの粒状アル
ミナ（溶融粉砕品）を、Ｃｕ製のハース内に充填した。
部材および蒸発材を真空チャンバー内の所定位置にセッ
ティングした後、真空チャンバー内を１×１０-5Ｔｏｒ
ｒまで排気し、内部ヒータで３００℃まで加熱し、その
まま２時間保持した。次にＡｒガスを０．０３Ｔｏｒｒ
導入し、部材に−８００Ｖを印加して、イオンボンバー
ドメント処理を１０分間行った。
【００２９】次に、１０ｋＶ−１００ｍＡの電子ビーム
をＣｒ粒に照射してＣｒを蒸発させ、部材に−８００Ｖ
のバイアス電圧を印加して、Ｃｒイオンによりメタルボ
ンバード処理を５分間行った。続いて、バイアス電圧を
−２００Ｖに下げて、Ｃｒメタルを３分間成膜した。
をＣｒ粒に照射してＣｒを蒸発させ、部材に−８００Ｖ
のバイアス電圧を印加して、Ｃｒイオンによりメタルボ
ンバード処理を５分間行った。続いて、バイアス電圧を
−２００Ｖに下げて、Ｃｒメタルを３分間成膜した。
【００３０】次に、蒸発材をアルミナに変えて、電子ビ
ームを１０ｋＶ−４００ｍＡ照射し、酸素を５×１０-4
Ｔｏｒｒになるまで導入し、２５分間成膜した。
ームを１０ｋＶ−４００ｍＡ照射し、酸素を５×１０-4
Ｔｏｒｒになるまで導入し、２５分間成膜した。
【００３１】次にポリパラキシリレン樹脂（日本パリレ
ン（株）製：製品名 パリレンＣ）からなる樹脂層（第
３層）を、ジパラキシリレンを気化させた後、熱分解を
伴うＣＶＤ法により形成した。
ン（株）製：製品名 パリレンＣ）からなる樹脂層（第
３層）を、ジパラキシリレンを気化させた後、熱分解を
伴うＣＶＤ法により形成した。
【００３２】得られた膜厚は、第１層のＣｒ膜が１．０
μｍ、第２層のアルミナ膜が４．８μｍ、第３層のポリ
パラキシリレン樹脂膜が３．０μｍ、合計で８．８μｍ
であった。
μｍ、第２層のアルミナ膜が４．８μｍ、第３層のポリ
パラキシリレン樹脂膜が３．０μｍ、合計で８．８μｍ
であった。
【００３３】この膜付き部材（焼結磁石）を、ＪＩＳ
Ｚ ２３７１に準じた塩水噴霧試験に供したところ、１
６８時間後でも発錆は見られず、高い耐食性を有した。
Ｚ ２３７１に準じた塩水噴霧試験に供したところ、１
６８時間後でも発錆は見られず、高い耐食性を有した。
【００３４】（実施例２） 基材をＳ２５Ｃとし、第１
層膜の蒸発材としてＴｉ板を、第２層膜の蒸発材として
直径１〜５ｍｍの粒状マグネシア（ＭｇＯ、電融粉砕
品）をＣｕ製ハース内に充填し、第１層にＴｉメタル膜
を１．５μｍ形成し、第２層にＭｇＯ膜を３．０μｍ形
成し、第３層にポリパラキシリレン樹脂膜を５．０μｍ
成膜（合計９．５μｍ）コーティングした。上記以外は
実施例１と同様の処理を行った。
層膜の蒸発材としてＴｉ板を、第２層膜の蒸発材として
直径１〜５ｍｍの粒状マグネシア（ＭｇＯ、電融粉砕
品）をＣｕ製ハース内に充填し、第１層にＴｉメタル膜
を１．５μｍ形成し、第２層にＭｇＯ膜を３．０μｍ形
成し、第３層にポリパラキシリレン樹脂膜を５．０μｍ
成膜（合計９．５μｍ）コーティングした。上記以外は
実施例１と同様の処理を行った。
【００３５】得られた膜付き部材を、実施例１と同様の
塩水噴霧試験に供したところ、１６８時間後でも発錆は
見られず、高い耐食性を有した。
塩水噴霧試験に供したところ、１６８時間後でも発錆は
見られず、高い耐食性を有した。
【００３６】（比較例１） 第３層のポリパラキシリレ
ン樹脂膜を除いた以外は、実施例１と同様の処理を行っ
た。
ン樹脂膜を除いた以外は、実施例１と同様の処理を行っ
た。
【００３７】得られた膜厚は、第１層のＣｒ膜が１．２
μｍ、第２層のアルミナ膜が５．１μｍ、合計で６．３
μｍであったが、光学顕微鏡で基材表面を観察したとこ
ろ、クラックが発生していた。
μｍ、第２層のアルミナ膜が５．１μｍ、合計で６．３
μｍであったが、光学顕微鏡で基材表面を観察したとこ
ろ、クラックが発生していた。
【００３８】このコーティング磁石を実施例１と同様の
塩水噴霧試験に供したところ、１２時間後に発錆が見ら
れた。
塩水噴霧試験に供したところ、１２時間後に発錆が見ら
れた。
【００３９】（比較例２） 第３層のポリパラキシリレ
ン樹脂膜を除いた以外は、実施例２と同様の処理を行っ
た。得られた膜厚は、第１層のＴｉ膜が１．３μｍ、第
２層のＭｇＯ膜が３．５μｍ、合計で４．８μｍであっ
た。この膜付き部材を実施例１と同様の塩水噴霧試験に
供したところ、９６時間後に発錆が見られた。
ン樹脂膜を除いた以外は、実施例２と同様の処理を行っ
た。得られた膜厚は、第１層のＴｉ膜が１．３μｍ、第
２層のＭｇＯ膜が３．５μｍ、合計で４．８μｍであっ
た。この膜付き部材を実施例１と同様の塩水噴霧試験に
供したところ、９６時間後に発錆が見られた。
【００４０】
【発明の効果】本発明により、合計１０μｍ以下の膜厚
でも長時間の塩水噴霧試験に耐えうる高耐食性を有し、
厳しい寸法精度が要求される精密部品や、複雑形状の部
品にも適用でき、しかも後加工が不要で比較的低コスト
で得られる高耐食性膜付き部材、及び、その製造方法が
提供できた。
でも長時間の塩水噴霧試験に耐えうる高耐食性を有し、
厳しい寸法精度が要求される精密部品や、複雑形状の部
品にも適用でき、しかも後加工が不要で比較的低コスト
で得られる高耐食性膜付き部材、及び、その製造方法が
提供できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ２３Ｃ 14/06 Ｈ０１Ｆ 1/04 Ａ ５Ｅ０６２ Ｆターム(参考） 4F100 AA18B AA19B AB01A AB03D AB10A AB12A AB13A AB16A AB19A AB31A AB40A AK80C AT00D BA04 BA07 BA10C BA10D BA13 GB51 JA20A JA20B JB02 YY00A YY00B 4J002 CE001 4K029 AA02 BA02 BA03 BA07 BA12 BA17 BA43 BA44 BA62 BB02 BC01 BD11 CA03 GA03 4K044 AA02 AA06 BA02 BA10 BA12 BA13 BA21 BB04 BC02 CA13 CA14 5E040 AA03 AA04 AA19 BC01 BC05 BC08 CA01 HB14 NN05 5E062 CD04 CG07
Claims (2)
- 【請求項１】 部材表面に、第１層としてＴｉ、Ａｌ、
Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ば
れる少なくとも１種の金属膜または金属合金膜が厚さ１
〜２μｍ、第２層としてアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）膜または
マグネシア（ＭｇＯ）膜が厚さ１〜５μｍ、第３層とし
てポリパラキシリレン樹脂膜が厚さ１〜５μｍ順次形成
され、かつ、第１層〜第３層の厚さの合計が１０μｍ以
下である高耐食性膜付き部材。 - 【請求項２】 部材表面に、第１層としてカソードアー
ク法以外の真空法によってＴｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、ＴａまたはＣｒから選ばれる少なくとも
１種の金属膜または金属合金膜を厚さ１〜２μｍ形成
し、第２層として第１層の形成方法と同じ方法によって
アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）膜またはマグネシア（ＭｇＯ）膜
を厚さ１〜５μｍ形成し、第３層としてＣＶＤ法によっ
てポリパラキシリレン樹脂膜を厚さ１〜５μｍ順次形成
し、かつ、第１層〜第３層の厚さの合計を１０μｍ以下
とする請求項１に記載の高耐食性膜付き部材の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11061003A JP2000256878A (ja) | 1999-03-09 | 1999-03-09 | 高耐食性膜付き部材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11061003A JP2000256878A (ja) | 1999-03-09 | 1999-03-09 | 高耐食性膜付き部材及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000256878A true JP2000256878A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=13158754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11061003A Pending JP2000256878A (ja) | 1999-03-09 | 1999-03-09 | 高耐食性膜付き部材及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000256878A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002189069A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-05 | Murata Mfg Co Ltd | 磁気センサおよびその製造方法 |
| JP2002241936A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Murata Mfg Co Ltd | 成膜用治具、これに用いる磁石、成膜装置および成膜方法 |
| WO2006085581A1 (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-17 | Neomax Co., Ltd. | 超小型希土類磁石およびその製造方法 |
| JP2009517852A (ja) * | 2005-11-17 | 2009-04-30 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ポリマーコーティングを備えたチャンバコンポーネント及びその製造方法 |
| CN102002669A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-04-06 | 河南理工大学 | 烧结钕铁硼磁体表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法 |
| CN102041506A (zh) * | 2009-10-13 | 2011-05-04 | 北京中科三环高技术股份有限公司 | 永磁材料的表面处理方法 |
| CN104651782A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-05-27 | 北京中科三环高技术股份有限公司 | 磁体表面处理方法和烧结钕铁硼磁体 |
| CN105671503A (zh) * | 2016-01-27 | 2016-06-15 | 合肥工业大学 | 一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法 |
| CN109686558A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-04-26 | 安徽大地熊新材料股份有限公司 | 一种高耐蚀性烧结NdFeB磁体的制备方法 |
| WO2019167674A1 (ja) * | 2018-02-27 | 2019-09-06 | 日立金属株式会社 | 被覆部材およびその製造方法 |
| EP3567619A1 (en) * | 2018-05-08 | 2019-11-13 | Abiomed Europe GmbH | Corrosion-resistant permanent magnet and intravascular blood pump comprising the magnet |
| CN110699648A (zh) * | 2019-10-11 | 2020-01-17 | 宁波韵升股份有限公司 | 一种钕铁硼磁体的pvd复合膜层及制备工艺 |
| JP2020503083A (ja) * | 2016-11-02 | 2020-01-30 | アビオメド オイローパ ゲーエムベーハー | 耐腐食性永久磁石を備えた血管内血液ポンプ |
| EP3822996A1 (en) * | 2019-11-12 | 2021-05-19 | Abiomed Europe GmbH | Corrosion-resistant permanent magnet for an intravascular blood pump |
| CN113005440A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-06-22 | 昆明狴犴人力资源服务有限公司 | 一种钕铁硼永磁铁表面镀层及其制备方法 |
-
1999
- 1999-03-09 JP JP11061003A patent/JP2000256878A/ja active Pending
Cited By (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002189069A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-05 | Murata Mfg Co Ltd | 磁気センサおよびその製造方法 |
| JP2002241936A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Murata Mfg Co Ltd | 成膜用治具、これに用いる磁石、成膜装置および成膜方法 |
| JP4724926B2 (ja) * | 2001-02-19 | 2011-07-13 | 株式会社村田製作所 | 成膜用治具、これに用いる磁石、成膜装置および成膜方法 |
| WO2006085581A1 (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-17 | Neomax Co., Ltd. | 超小型希土類磁石およびその製造方法 |
| JPWO2006085581A1 (ja) * | 2005-02-10 | 2008-06-26 | 日立金属株式会社 | 超小型希土類磁石およびその製造方法 |
| JP2009517852A (ja) * | 2005-11-17 | 2009-04-30 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ポリマーコーティングを備えたチャンバコンポーネント及びその製造方法 |
| CN102041506A (zh) * | 2009-10-13 | 2011-05-04 | 北京中科三环高技术股份有限公司 | 永磁材料的表面处理方法 |
| CN102002669A (zh) * | 2010-12-17 | 2011-04-06 | 河南理工大学 | 烧结钕铁硼磁体表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法 |
| CN104651782A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-05-27 | 北京中科三环高技术股份有限公司 | 磁体表面处理方法和烧结钕铁硼磁体 |
| CN105671503A (zh) * | 2016-01-27 | 2016-06-15 | 合肥工业大学 | 一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法 |
| US11967454B2 (en) | 2016-11-02 | 2024-04-23 | Abiomed Europe Gmbh | Intravascular blood pump comprising corrosion resistant permanent magnet |
| JP7402044B2 (ja) | 2016-11-02 | 2023-12-20 | アビオメド オイローパ ゲーエムベーハー | 耐腐食性永久磁石を備えた血管内血液ポンプ |
| CN114464390A (zh) * | 2016-11-02 | 2022-05-10 | 阿比奥梅德欧洲股份有限公司 | 含有耐腐蚀永磁体的血管内血泵 |
| JP2020503083A (ja) * | 2016-11-02 | 2020-01-30 | アビオメド オイローパ ゲーエムベーハー | 耐腐食性永久磁石を備えた血管内血液ポンプ |
| WO2019167674A1 (ja) * | 2018-02-27 | 2019-09-06 | 日立金属株式会社 | 被覆部材およびその製造方法 |
| JP6593667B1 (ja) * | 2018-02-27 | 2019-10-23 | 日立金属株式会社 | 被覆部材およびその製造方法 |
| CN111771011B (zh) * | 2018-02-27 | 2022-07-05 | 日立金属株式会社 | 被覆构件及其制造方法 |
| CN111771011A (zh) * | 2018-02-27 | 2020-10-13 | 日立金属株式会社 | 被覆构件及其制造方法 |
| WO2019214920A1 (en) * | 2018-05-08 | 2019-11-14 | Abiomed Europe Gmbh | Corrosion-resistant permanent magnet and intravascular blood pump comprising the magnet |
| JP2021523570A (ja) * | 2018-05-08 | 2021-09-02 | アビオメド オイローパ ゲーエムベーハー | 耐食性永久磁石およびこの磁石を含む血管内血液ポンプ |
| CN112106155A (zh) * | 2018-05-08 | 2020-12-18 | 阿比奥梅德欧洲股份有限公司 | 耐腐蚀永磁体和包括该磁体的血管内血泵 |
| US11569015B2 (en) | 2018-05-08 | 2023-01-31 | Abiomed Europe Gmbh | Corrosion-resistant permanent magnet and intravascular blood pump comprising the magnet |
| AU2019264734B2 (en) * | 2018-05-08 | 2023-02-23 | Abiomed Europe Gmbh | Corrosion-resistant permanent magnet and intravascular blood pump comprising the magnet |
| CN112106155B (zh) * | 2018-05-08 | 2023-03-07 | 阿比奥梅德欧洲股份有限公司 | 耐腐蚀永磁体和包括该磁体的血管内血泵 |
| EP3567619A1 (en) * | 2018-05-08 | 2019-11-13 | Abiomed Europe GmbH | Corrosion-resistant permanent magnet and intravascular blood pump comprising the magnet |
| CN109686558A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-04-26 | 安徽大地熊新材料股份有限公司 | 一种高耐蚀性烧结NdFeB磁体的制备方法 |
| CN110699648A (zh) * | 2019-10-11 | 2020-01-17 | 宁波韵升股份有限公司 | 一种钕铁硼磁体的pvd复合膜层及制备工艺 |
| EP3822996A1 (en) * | 2019-11-12 | 2021-05-19 | Abiomed Europe GmbH | Corrosion-resistant permanent magnet for an intravascular blood pump |
| WO2021094297A1 (en) * | 2019-11-12 | 2021-05-20 | Abiomed Europe Gmbh | Corrosion-resistant permanent magnet for an intravascular blood pump |
| EP4095872A1 (en) * | 2019-11-12 | 2022-11-30 | Abiomed Europe GmbH | Corrosion-resistant permanent magnet for an intravascular blood pump |
| CN113005440A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-06-22 | 昆明狴犴人力资源服务有限公司 | 一种钕铁硼永磁铁表面镀层及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000256878A (ja) | 高耐食性膜付き部材及びその製造方法 | |
| EP2743370A1 (en) | Remote arc discharge plasma assisted processes | |
| CN1793416A (zh) | 金属薄膜复合制备装置及工艺 | |
| CN111441017A (zh) | 一种制备钕铁硼磁体表面防腐涂层的方法 | |
| TW201438884A (zh) | 具有硬質膜層的不銹鋼製品及其製備方法 | |
| CN111636082A (zh) | 一种电化学制备核燃料包壳元件事故容错Cr涂层的方法 | |
| CA2916769A1 (en) | Tib2 layers and manufacture thereof | |
| US20120251746A1 (en) | Device housing and method for making the same | |
| JP2003147508A (ja) | 炭素膜、炭素膜の成膜方法、および炭素膜被覆部材 | |
| US8715810B2 (en) | Coated article and method for making the same | |
| US7279078B2 (en) | Thin-film coating for wheel rims | |
| US20120107606A1 (en) | Article made of aluminum or aluminum alloy and method for manufacturing | |
| CN211367703U (zh) | 一种沉积dlc薄膜的磁控溅射镀膜机 | |
| JPH01129958A (ja) | 高密着窒化チタン膜形成方法 | |
| CN111304596A (zh) | 一种钕铁硼磁体表面防腐涂层的制备方法 | |
| Münz et al. | Zinc/manganese multilayer coatings for corrosion protection | |
| JP3305786B2 (ja) | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 | |
| KR20080099418A (ko) | 마그네트론 롤 스퍼터링을 이용한 유연성 폴리머 기판상의금속박막 증착방법 | |
| CN104114740B (zh) | 低温电弧离子镀涂层 | |
| JP2753588B2 (ja) | ｐ―キシリレン重合膜を有する稀土類鉄系合金焼結磁石とその製造法 | |
| CN108251810B (zh) | 一种耐腐蚀烧结钕铁硼磁体的制备方法 | |
| JP2000256826A (ja) | 高耐食性膜付き部材及びその製造方法 | |
| JP2001011603A (ja) | 積層被膜付き部材および該積層被膜 | |
| JP2000160365A (ja) | 被膜付き高耐食性部材およびその被膜 | |
| CN111304611B (zh) | 一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层的制备方法 |