JP2881078B2 - 光学活性化合物 - Google Patents
光学活性化合物Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な光学活性化合物、
特に液晶素子に用いられる液晶組成物の成分として有用
な光学活性化合物に関する。
特に液晶素子に用いられる液晶組成物の成分として有用
な光学活性化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学活性を有することを特徴とす
る種々の光学素子としては、以下に例示するように多く
のものが知られている。
る種々の光学素子としては、以下に例示するように多く
のものが知られている。
【０００３】１）液晶状態においてコレステリック・ネ
マチック相転移効果を利用するもの［ジェイ ジェイ
ウィソキ，エイ アダムス，ダブリュ ハアース「フィ
ジックス レヴュー レターズ」（Ｊ．Ｊ．Ｗｙｓｏｋ
ｉ，Ａ．Ａｄａｍｓ ａｎｄＷ．Ｈａａｓ；Ｐｈｙｓ．
Ｒｅｖ．Ｌｅｔｔ．）２０，１０２４（１９６８）］、
マチック相転移効果を利用するもの［ジェイ ジェイ
ウィソキ，エイ アダムス，ダブリュ ハアース「フィ
ジックス レヴュー レターズ」（Ｊ．Ｊ．Ｗｙｓｏｋ
ｉ，Ａ．Ａｄａｍｓ ａｎｄＷ．Ｈａａｓ；Ｐｈｙｓ．
Ｒｅｖ．Ｌｅｔｔ．）２０，１０２４（１９６８）］、
【０００４】２）液晶状態においてホワイト・テイラー
形ゲスト・ホスト効果を利用するもの［デー エル ホ
ワイト，ジー エム テエイラー「ジャーナル オブ
アプライド フィジッスク」（Ｄ．Ｌ．Ｗｈｉｔｅ ａ
ｎｄ Ｇ．Ｎ．Ｔａｙｌｏｒ；Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙ
ｓ．），４５，４７１８（１９７４）］、
形ゲスト・ホスト効果を利用するもの［デー エル ホ
ワイト，ジー エム テエイラー「ジャーナル オブ
アプライド フィジッスク」（Ｄ．Ｌ．Ｗｈｉｔｅ ａ
ｎｄ Ｇ．Ｎ．Ｔａｙｌｏｒ；Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙ
ｓ．），４５，４７１８（１９７４）］、
【０００５】３）液晶状態においてカイラル・スメクチ
ックＣ相，Ｈ相，Ｆ相，Ｉ相，Ｇ相，Ｋ相，Ｊ相の強誘
電性効果を利用するもの［エヌ エイ クラーク，エス
テー ラガウエル「アプライド フィジックス レタ
ーズ」（Ｎ．Ａ．Ｃｌａｒｋａｎｄ Ｓ．Ｔ．Ｌａｇｅ
ｒｗａｌｌ；Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．），３
６，８９９（１９８０）］、
ックＣ相，Ｈ相，Ｆ相，Ｉ相，Ｇ相，Ｋ相，Ｊ相の強誘
電性効果を利用するもの［エヌ エイ クラーク，エス
テー ラガウエル「アプライド フィジックス レタ
ーズ」（Ｎ．Ａ．Ｃｌａｒｋａｎｄ Ｓ．Ｔ．Ｌａｇｅ
ｒｗａｌｌ；Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．），３
６，８９９（１９８０）］、
【０００６】４）液晶状態においてコレステリック相を
持つものをマトリックス中へ固定することにより、その
選択散乱特性を利用し、ノッチフィルターやバンドバス
フィルターとして利用するもの［エフ ジエイ カーン
「アプライド フィジックスレターズ」（Ｆ．Ｊ．Ｋａ
ｈｎ；Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．），１８，２３
１（１９７１）］、円偏光特性を利用した円偏光ビーム
スプリッターとして利用するもの［エス ディ ヤコブ
「エス ピー アイ イー」（Ｓ．Ｄ．Ｊａｃｏｂｓ，
ＳＰＩＥ），３７，９８（１９８１）］；等
持つものをマトリックス中へ固定することにより、その
選択散乱特性を利用し、ノッチフィルターやバンドバス
フィルターとして利用するもの［エフ ジエイ カーン
「アプライド フィジックスレターズ」（Ｆ．Ｊ．Ｋａ
ｈｎ；Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．），１８，２３
１（１９７１）］、円偏光特性を利用した円偏光ビーム
スプリッターとして利用するもの［エス ディ ヤコブ
「エス ピー アイ イー」（Ｓ．Ｄ．Ｊａｃｏｂｓ，
ＳＰＩＥ），３７，９８（１９８１）］；等
【０００７】個々の方式についての詳細な説明は省略す
るが、いずれも表示素子や変調素子として重要である。
るが、いずれも表示素子や変調素子として重要である。
【０００８】これら光学素子を構成する機能性材料の主
要成分として、あるいは比較的少量成分ではあるが、重
要な機能成分として光学活性化合物が使用されている。
例えば、エッチ アーノルド 「ツァイトシュリフト
フュア フイジカリッシュシェミー」（Ｈ．Ａｒｎｏｌ
ｄ，Ｚ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．），２２６，１４６（１
９６４）には、上記したような光学素子材料、特に液晶
材料に、他の光学活性物質ないしは液晶性化合物を添加
することにより、液晶状態において発現する液晶相の種
類や温度範囲を制御することが開示されている。また、
電界応答により駆動される液晶材料に、大きな双極子を
持つ化合物を導入して、より電界応答性の良好な液晶材
料を得ることも期待される。この様な機能性材料の多く
は、それ自体が光学活性である中間体から合成される。
要成分として、あるいは比較的少量成分ではあるが、重
要な機能成分として光学活性化合物が使用されている。
例えば、エッチ アーノルド 「ツァイトシュリフト
フュア フイジカリッシュシェミー」（Ｈ．Ａｒｎｏｌ
ｄ，Ｚ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．），２２６，１４６（１
９６４）には、上記したような光学素子材料、特に液晶
材料に、他の光学活性物質ないしは液晶性化合物を添加
することにより、液晶状態において発現する液晶相の種
類や温度範囲を制御することが開示されている。また、
電界応答により駆動される液晶材料に、大きな双極子を
持つ化合物を導入して、より電界応答性の良好な液晶材
料を得ることも期待される。この様な機能性材料の多く
は、それ自体が光学活性である中間体から合成される。
【０００９】また、光学活性を有することを特徴とする
光学素子のうち、液晶状態の電界応答光学効果を用いる
方法においては、応答性を高めるために極性基を導入す
ることが行なわれてきた。特に、強誘電性液晶において
は、応答速度は自発分極に比例することが知られてお
り、高速化のためには自発分極を増加させることが望ま
れている。このような点から、ピー ケラー（Ｐ．Ｋｅ
ｌｌｅｒ）らは、不斉炭素に塩素基を導入することで自
発分極を増加させ応答速度の高速化が可能であることを
示した［シー アール アカデミー サイエンス（Ｃ．
Ｒ．Ａｃａｄ．Ｓｃ．Ｐａｒｉｓ），２８２ Ｃ，６３
９（１９７６）］。
光学素子のうち、液晶状態の電界応答光学効果を用いる
方法においては、応答性を高めるために極性基を導入す
ることが行なわれてきた。特に、強誘電性液晶において
は、応答速度は自発分極に比例することが知られてお
り、高速化のためには自発分極を増加させることが望ま
れている。このような点から、ピー ケラー（Ｐ．Ｋｅ
ｌｌｅｒ）らは、不斉炭素に塩素基を導入することで自
発分極を増加させ応答速度の高速化が可能であることを
示した［シー アール アカデミー サイエンス（Ｃ．
Ｒ．Ａｃａｄ．Ｓｃ．Ｐａｒｉｓ），２８２ Ｃ，６３
９（１９７６）］。
【００１０】しかしながら、不斉炭素に導入された塩素
基は化学的に不安定であるという欠点を有しているため
に、その改善が望まれている。
基は化学的に不安定であるという欠点を有しているため
に、その改善が望まれている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の事情
に鑑みてなされたものであり、その主要な目的は、不斉
中心にトリフルオロメチル基を持つ光学活性化合物を提
供することにある。より具体的には、本発明は、不斉中
心に直接、双極子モーメントの大きいトリフルオロメチ
ル基と、比較的かさ高いフェニル基を導入することによ
り、双極子の自由回転を抑え、双極子を一定方向に配向
させることにより、大きな自発分極を誘起させ、より優
れた電界応答を示す液晶組成物の成分として有効な光学
活性化合物を提供することを目的とする。
に鑑みてなされたものであり、その主要な目的は、不斉
中心にトリフルオロメチル基を持つ光学活性化合物を提
供することにある。より具体的には、本発明は、不斉中
心に直接、双極子モーメントの大きいトリフルオロメチ
ル基と、比較的かさ高いフェニル基を導入することによ
り、双極子の自由回転を抑え、双極子を一定方向に配向
させることにより、大きな自発分極を誘起させ、より優
れた電界応答を示す液晶組成物の成分として有効な光学
活性化合物を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、下記
一般式（Ｉ）
一般式（Ｉ）
【００１３】
【化５】
【００１４】（式中、Ｒ１ 、Ｒ２ は炭素原子数１〜
１８の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｘ１
は、単結合、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＯＯＣ
−を示し、Ｘ２ は−ＯＣＨ２ −，−ＯＯＣ−を示
す。Ａ１ 、Ａ２ 、Ａ３ は
１８の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｘ１
は、単結合、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＯＯＣ
−を示し、Ｘ２ は−ＯＣＨ２ −，−ＯＯＣ−を示
す。Ａ１ 、Ａ２ 、Ａ３ は
【００１５】
【化６】 を示す。Ｙ１ ，Ｙ２ はＨまたはハロゲンを示す。
ｍ，ｎは０または１である。＊は光学活性であることを
示す。）で表わされる光学活性化合物を提供するもので
ある。
ｍ，ｎは０または１である。＊は光学活性であることを
示す。）で表わされる光学活性化合物を提供するもので
ある。
【００１６】前記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性化
合物のうちＸ２ が−ＯＣＨ２ −である化合物が好ま
しい。
合物のうちＸ２ が−ＯＣＨ２ −である化合物が好ま
しい。
【００１７】また、前記一般式（Ｉ）で表わされる光学
活性化合物のうち特に好ましい化合物としては、下記の
（Ｉａ）〜（Ｉｈ）が挙げられる。
活性化合物のうち特に好ましい化合物としては、下記の
（Ｉａ）〜（Ｉｈ）が挙げられる。
【００１８】
【化７】
【００１９】（式中、Ｒ１ ，Ｒ２ は炭素原子数１〜
１８の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｘ１
は単結合，−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＯＯＣ−
を示す。Ｙ１ ，Ｙ２ はＨまたはハロゲンを示す。＊
は光学活性であることを示す。）更に、前記一般式
（Ｉ）で表わされる光学活性化合物のうちより好ましい
化合物としては下記の（Ｉｃａ）〜（Ｉｆｂ）が挙げら
れる。
１８の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｘ１
は単結合，−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＯＯＣ−
を示す。Ｙ１ ，Ｙ２ はＨまたはハロゲンを示す。＊
は光学活性であることを示す。）更に、前記一般式
（Ｉ）で表わされる光学活性化合物のうちより好ましい
化合物としては下記の（Ｉｃａ）〜（Ｉｆｂ）が挙げら
れる。
【００２０】
【化８】
【００２１】（式中、Ｒ１ ，Ｒ２ は炭素原子数１〜
１８の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。＊は光
学活性であることを示す。）
１８の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。＊は光
学活性であることを示す。）
【００２２】また、前記一般式（Ｉ）中のＲ１ ，Ｒ２
は炭素原子数３〜１２の直鎖状のアルキル基であるこ
とが好ましい。
は炭素原子数３〜１２の直鎖状のアルキル基であるこ
とが好ましい。
【００２３】次に前記一般式（Ｉ）で示される光学活性
化合物の一般的な合成法を示す。
化合物の一般的な合成法を示す。
【００２４】
【化９】
【００２５】また、一般式（Ｉ）で示される光学活性化
合物は、好ましくは本出願人等による出願（特願平４−
５７２６０号）の明細書に示される下記一般式（ＩＩ）
の光学活性４，４，４−トリフルオロ−３−（４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン酸アルキルエステルから製造さ
れる。
合物は、好ましくは本出願人等による出願（特願平４−
５７２６０号）の明細書に示される下記一般式（ＩＩ）
の光学活性４，４，４−トリフルオロ−３−（４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン酸アルキルエステルから製造さ
れる。
【００２６】
【化１０】 （式中、Ｒは炭素原子数１〜１８の直鎖状あるいは分岐
状のアルキル基を示す。）
状のアルキル基を示す。）
【００２７】次に、前記一般式（Ｉ）で示される光学活
性化合物の具体的な化合物例を以下に示す。
性化合物の具体的な化合物例を以下に示す。
【００２８】
【化１１】
【００２９】
【化１２】
【００３０】
【化１３】
【００３１】
【化１４】
【００３２】
【化１５】
【００３３】
【化１６】
【００３４】
【化１７】
【００３５】
【化１８】
【００３６】
【化１９】
【００３７】
【化２０】
【００３８】
【化２１】
【００３９】
【化２２】
【００４０】
【化２３】
【００４１】
【化２４】
【００４２】
【化２５】
【００４３】
【化２６】
【００４４】
【化２７】
【００４５】
【化２８】
【００４６】
【実施例】以下実施例により本発明について、更に詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
【００４７】実施例１ 光学活性３−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４，
４，４−トリフルオロブタン酸４ −（５−デシルピリ
ミジン−２−イル）フェニル（例示化合物１０６）の製
造 下記の工程に従い光学活性３−（４−ヘキシルオキシフ
ェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸４−（５
−デシルピリミジン−２−イル）フェニルを製造した。
４，４−トリフルオロブタン酸４ −（５−デシルピリ
ミジン−２−イル）フェニル（例示化合物１０６）の製
造 下記の工程に従い光学活性３−（４−ヘキシルオキシフ
ェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸４−（５
−デシルピリミジン−２−イル）フェニルを製造した。
【００４８】
【化２９】
【００４９】工程１）光学活性３−（４−ヘキシルオキ
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸ヘキ
シルの製造 ナスフラスコに水素化ナトリウム９７ｍｇ（２．４ｍｍ
ｏｌ）と乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３ｍｌを
入れ、それに光学活性３−（４−ヒドロキシフェニル）
−４，４，４−トリフルオロブタン酸１９０ｍｇ（０．
８１ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ４ｍｌの混合液を加えた。
更にヨウ化ヘキシル５１６ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）と乾
燥ＤＭＦ２ｍｌの混合液を加え、８０℃で７５分間、加
熱撹拌した。
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸ヘキ
シルの製造 ナスフラスコに水素化ナトリウム９７ｍｇ（２．４ｍｍ
ｏｌ）と乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３ｍｌを
入れ、それに光学活性３−（４−ヒドロキシフェニル）
−４，４，４−トリフルオロブタン酸１９０ｍｇ（０．
８１ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ４ｍｌの混合液を加えた。
更にヨウ化ヘキシル５１６ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）と乾
燥ＤＭＦ２ｍｌの混合液を加え、８０℃で７５分間、加
熱撹拌した。
【００５０】反応終了後、ＤＭＦを減圧留去し、希塩酸
を加え、エーテルで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムを加え乾燥した。溶媒留去後、薄層クロマトグラフィ
ーにて精製を行い、目的物２７５ｍｇ（０．６８４ｍｍ
ｏｌ）を得た。
を加え、エーテルで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムを加え乾燥した。溶媒留去後、薄層クロマトグラフィ
ーにて精製を行い、目的物２７５ｍｇ（０．６８４ｍｍ
ｏｌ）を得た。
【００５１】収率８４％ ［α］Ｄ ２３ −３１．６°，［α］４３５ ２３ −６
７．０°（ｃ１．６６８，ＥｔＯＨ）
７．０°（ｃ１．６６８，ＥｔＯＨ）
【００５２】工程２）光学活性３−（４−ヘキシルオキ
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸の製
造 ナスフラスコに光学活性３−（４−ヘキシルオキシフェ
ニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸ヘキシル２
７５ｍｇ（０．６８４ｍｍｏｌ）と９９％エタノール２
ｍｌ，水酸化カリウム９０ｍｇ，水１ｍｌを入れ４時
間、還流した。反応終了後、エーテル，水を加え、水酸
化ナトリウム水溶液で抽出した。抽出液に塩酸をｐＨ１
になるまで加え、遊離したカルボン酸をエーテルで抽出
した。
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸の製
造 ナスフラスコに光学活性３−（４−ヘキシルオキシフェ
ニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸ヘキシル２
７５ｍｇ（０．６８４ｍｍｏｌ）と９９％エタノール２
ｍｌ，水酸化カリウム９０ｍｇ，水１ｍｌを入れ４時
間、還流した。反応終了後、エーテル，水を加え、水酸
化ナトリウム水溶液で抽出した。抽出液に塩酸をｐＨ１
になるまで加え、遊離したカルボン酸をエーテルで抽出
した。
【００５３】得られた抽出液を水洗後、無水硫酸ナトリ
ウムを加えて乾燥した。溶媒留去後、減圧蒸留して目的
物１８９ｍｇ（０．５９４ｍｍｏｌ）を得た。
ウムを加えて乾燥した。溶媒留去後、減圧蒸留して目的
物１８９ｍｇ（０．５９４ｍｍｏｌ）を得た。
【００５４】収率８７％，ｂ．ｐ．１８５℃／０．３ｔ
ｏｒｒ，［α］Ｄ ２１ −３５．９°，［α］４３５
２１ −７７．２°（ｃ ０．９１２，ＣＨＣｌ３）
ｏｒｒ，［α］Ｄ ２１ −３５．９°，［α］４３５
２１ −７７．２°（ｃ ０．９１２，ＣＨＣｌ３）
【００５５】工程３）光学活性３−（４−ヘキシルオキ
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸４−
（５−デシルピリミジン−２−イル）フェニルの製造 ナスフラスコに、光学活性３−（４−ヘキシルオキシフ
ェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸９９ｍｇ
（０．３１ｍｍｏｌ）と４−（５−デシルピリミジン−
２−イル）フェノール９８ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ），
ジメチルアミノピリジン１９ｍｇ（０．１６ｍｍｏ
ｌ），乾燥ジクロロメタン２ｍｌを入れ、室温で３０分
間、撹拌した。
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸４−
（５−デシルピリミジン−２−イル）フェニルの製造 ナスフラスコに、光学活性３−（４−ヘキシルオキシフ
ェニル）−４，４，４−トリフルオロブタン酸９９ｍｇ
（０．３１ｍｍｏｌ）と４−（５−デシルピリミジン−
２−イル）フェノール９８ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ），
ジメチルアミノピリジン１９ｍｇ（０．１６ｍｍｏ
ｌ），乾燥ジクロロメタン２ｍｌを入れ、室温で３０分
間、撹拌した。
【００５６】それにジシクロヘキシルカルボジイミド
（ＤＣＣ）１９２ｍｇ（０．９３２ｍｍｏｌ）と乾燥ジ
クロロメタン１ｍｌを加え、更に室温で３時間撹拌し
た。反応終了後、ろ過して結晶を除去した。ろ液を濃縮
し、薄層カラムクロマトグラフィーにて精製を行い目的
物１６２ｍｇ（０．２６５ｍｍｏｌ）を得た。
（ＤＣＣ）１９２ｍｇ（０．９３２ｍｍｏｌ）と乾燥ジ
クロロメタン１ｍｌを加え、更に室温で３時間撹拌し
た。反応終了後、ろ過して結晶を除去した。ろ液を濃縮
し、薄層カラムクロマトグラフィーにて精製を行い目的
物１６２ｍｇ（０．２６５ｍｍｏｌ）を得た。
【００５７】収率８５％，ｍｐ．４６℃ ［α］Ｄ ２４ −７８．７°，［α］４３５ ２４ −１
８４°（ｃ ０．７１５，ＣＨＣｌ３）
８４°（ｃ ０．７１５，ＣＨＣｌ３）
【００５８】実施例２ 光学活性１，１，１−トリフルオロ−２−（４−ヘキシ
ルオキシフェニル）−４−｛４ −（５−デシルピリミ
ジン−２−イル）フェノキシ｝ブタン（例示化合物 ５
３）の製造 下記の工程に従い光学活性１，１，１−トリフルオロ−
２−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４−｛４−（５
−デシルピリミジン−２−イル）フェノキシ｝ブタンを
製造した。
ルオキシフェニル）−４−｛４ −（５−デシルピリミ
ジン−２−イル）フェノキシ｝ブタン（例示化合物 ５
３）の製造 下記の工程に従い光学活性１，１，１−トリフルオロ−
２−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４−｛４−（５
−デシルピリミジン−２−イル）フェノキシ｝ブタンを
製造した。
【００５９】
【化３０】
【００６０】工程１）光学活性３−（４−ヘキシルオキ
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタノールの
製造 ナスフラスコにリチウムアルミニウムハイドライド８２
ｍｇ（２．１５ｍｍｏｌ）と乾燥エーテルを入れた。そ
れに、光学活性３−（４−ヘキシルオキシフェニル）−
４，４，４−トリフルオロブタン酸ヘキシル２８８ｍｇ
（０．７１６ｍｍｏｌ）と乾燥エーテル４ｍｌの混合液
を滴下した。４時間加熱還流した後、希塩酸を加え、エ
ーテルで抽出した。無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した
後、溶媒を留去し、減圧蒸留を行い、目的物２０８ｍｇ
（０．６８４ｍｍｏｌ）を得た。
シフェニル）−４，４，４−トリフルオロブタノールの
製造 ナスフラスコにリチウムアルミニウムハイドライド８２
ｍｇ（２．１５ｍｍｏｌ）と乾燥エーテルを入れた。そ
れに、光学活性３−（４−ヘキシルオキシフェニル）−
４，４，４−トリフルオロブタン酸ヘキシル２８８ｍｇ
（０．７１６ｍｍｏｌ）と乾燥エーテル４ｍｌの混合液
を滴下した。４時間加熱還流した後、希塩酸を加え、エ
ーテルで抽出した。無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した
後、溶媒を留去し、減圧蒸留を行い、目的物２０８ｍｇ
（０．６８４ｍｍｏｌ）を得た。
【００６１】収率９６％， ｂｐ １３５℃／０．１５
ｔｏｒｒ ［α］Ｄ ２７ ＋４５．３°，［α］４３５ ２６ ＋９
２．４°（ｃ ０．９００，ＣＨＣｌ３）
ｔｏｒｒ ［α］Ｄ ２７ ＋４５．３°，［α］４３５ ２６ ＋９
２．４°（ｃ ０．９００，ＣＨＣｌ３）
【００６２】工程２）光学活性４−トルエンスルホン酸
３−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４，４，４−ト
リフルオロブチルの製造 ナスフラスコに４−トルエンスルホン酸クロリド１３７
ｍｇと乾燥ジクロロメタン１ｍｌを入れ、光学活性３−
（４−ヘキシルオキシフェニル）−４，４，４−トリフ
ルオロブタノール２０８ｍｇと乾燥ジクロロメタン２ｍ
ｌの混合液を加え、更にトリエチレンジアミン８０ｍｇ
（０．７１４ｍｍｏｌ）と乾燥ジクロロメタン１ｍｌの
混合液を加えた。氷浴中２４時間撹拌した。反応終了
後、希塩酸を加え、エーテルで抽出した。無水硫酸ナト
リウムを加え乾燥した後、溶媒を留去し、薄層クロマト
グラフィーにて精製を行い目的物２４７ｍｇ（０．５３
９ｍｍｏｌ）を得た。
３−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４，４，４−ト
リフルオロブチルの製造 ナスフラスコに４−トルエンスルホン酸クロリド１３７
ｍｇと乾燥ジクロロメタン１ｍｌを入れ、光学活性３−
（４−ヘキシルオキシフェニル）−４，４，４−トリフ
ルオロブタノール２０８ｍｇと乾燥ジクロロメタン２ｍ
ｌの混合液を加え、更にトリエチレンジアミン８０ｍｇ
（０．７１４ｍｍｏｌ）と乾燥ジクロロメタン１ｍｌの
混合液を加えた。氷浴中２４時間撹拌した。反応終了
後、希塩酸を加え、エーテルで抽出した。無水硫酸ナト
リウムを加え乾燥した後、溶媒を留去し、薄層クロマト
グラフィーにて精製を行い目的物２４７ｍｇ（０．５３
９ｍｍｏｌ）を得た。
【００６３】収率７９％ ［α］Ｄ ２３ −４０．５°，［α］４３５ ２３ ＋８
１．７°（ｃ ０．８７８，ＣＨＣｌ３）
１．７°（ｃ ０．８７８，ＣＨＣｌ３）
【００６４】工程３）光学活性１，１，１−トリフルオ
ロ−２−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４−｛４−
（５−デシルピリミジン−２−イル）フェノキシ｝ブタ
ンの製造 ナスフラスコに６０％−水素化ナトリウム１３ｍｇ
（０．３３ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ１ｍｌを入れ、それ
に４−（５−デシルピリミジン−２−イル）フェノール
８２ｍｇ（０．２６３ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ２ｍｌの
混合液を加え、室温で１０分間撹拌した。それに光学活
性４−トルエンスルホン酸３−（４−ヘキシルオキシフ
ェニル）−４，４，４−トリフルオロブチル１２０ｍｇ
（０．２６２ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ２ｍｌの混合液を
加え、室温で６時間、５０℃で１時間撹拌した。反応終
了後、ＤＭＦを減圧留去し希塩酸を加え、エーテルで抽
出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水
で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。溶
媒留去後、薄層クロマトグラフィーにて精製を行い、目
的物１４１ｍｇ（０．２３５ｍｍｏｌ）を得た。
ロ−２−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４−｛４−
（５−デシルピリミジン−２−イル）フェノキシ｝ブタ
ンの製造 ナスフラスコに６０％−水素化ナトリウム１３ｍｇ
（０．３３ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ１ｍｌを入れ、それ
に４−（５−デシルピリミジン−２−イル）フェノール
８２ｍｇ（０．２６３ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ２ｍｌの
混合液を加え、室温で１０分間撹拌した。それに光学活
性４−トルエンスルホン酸３−（４−ヘキシルオキシフ
ェニル）−４，４，４−トリフルオロブチル１２０ｍｇ
（０．２６２ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ２ｍｌの混合液を
加え、室温で６時間、５０℃で１時間撹拌した。反応終
了後、ＤＭＦを減圧留去し希塩酸を加え、エーテルで抽
出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び水
で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。溶
媒留去後、薄層クロマトグラフィーにて精製を行い、目
的物１４１ｍｇ（０．２３５ｍｍｏｌ）を得た。
【００６５】収率９０％， ｍｐ．５６℃ ［α］Ｄ ２９ ＋１１２°，［α］４３５ ２８ ＋２６
５°（ｃ ０．７０２， ＣＨＣｌ３）
５°（ｃ ０．７０２， ＣＨＣｌ３）
【００６６】実施例３ 光学活性１，１，１−トリフルオロ−２−（４−ヘキシ
ルオキシフェニル）−４−｛４−（５−デシルオキシピ
リミジン−２−イル）フェノキシ｝ブタン（例示化合物
５４）の製造 下記の工程に従い、光学活性１，１，１−トリフルオロ
−２（４−ヘキシルオキシフェニル）−４−｛４−（５
−デシルオキシピリミジン−２−イル）フェノキシ｝ブ
タンを製造した。
ルオキシフェニル）−４−｛４−（５−デシルオキシピ
リミジン−２−イル）フェノキシ｝ブタン（例示化合物
５４）の製造 下記の工程に従い、光学活性１，１，１−トリフルオロ
−２（４−ヘキシルオキシフェニル）−４−｛４−（５
−デシルオキシピリミジン−２−イル）フェノキシ｝ブ
タンを製造した。
【００６７】
【化３１】
【００６８】ナスフラスコに６０％水素化ナトリウム１
３ｍｇ（０．３３ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ１ｍｌを入
れ、それに４−（５−デシルオキシピリミジン２−イ
ル）フェノール８５ｍｇ（０．２５９ｍｍｏｌ）と乾燥
ＤＭＦ２ｍｌの混合液を加え、室温で１０分間攪拌し
た。それに光学活性４−トルエンスルホン酸３−（４−
ヘキシルオキシフェニル）−４，４，４−トリフルオロ
ブチル１１９ｍｇ（０．２６０ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ
２ｍｌの混合液を加え、温室で６時間、５０℃で１時間
攪拌した。反応終了後、ＤＭＦを減圧留去し、希塩酸を
加え、エーテルで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムを加え乾燥した。
３ｍｇ（０．３３ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ１ｍｌを入
れ、それに４−（５−デシルオキシピリミジン２−イ
ル）フェノール８５ｍｇ（０．２５９ｍｍｏｌ）と乾燥
ＤＭＦ２ｍｌの混合液を加え、室温で１０分間攪拌し
た。それに光学活性４−トルエンスルホン酸３−（４−
ヘキシルオキシフェニル）−４，４，４−トリフルオロ
ブチル１１９ｍｇ（０．２６０ｍｍｏｌ）と乾燥ＤＭＦ
２ｍｌの混合液を加え、温室で６時間、５０℃で１時間
攪拌した。反応終了後、ＤＭＦを減圧留去し、希塩酸を
加え、エーテルで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液および水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムを加え乾燥した。
【００６９】溶媒留去後、薄層クロマトグラフィーにて
精製を行い、目的物１３９ｍｇ（０．２２６ｍｍｏｌ）
を得た。
精製を行い、目的物１３９ｍｇ（０．２２６ｍｍｏｌ）
を得た。
【００７０】収率８７％ ［α］Ｄ ２７ ＋１１１°，［α］４３５ ２６ ＋２６
０°（ｃ ０．６３６， ＣＨＣｌ３） 相転移温度（℃）
０°（ｃ ０．６３６， ＣＨＣｌ３） 相転移温度（℃）
【００７１】
【数１】
【００７２】実施例４ 下記に構造を示すＭＯＲＡ８の９５重量部に、１，１，
１−トリフルオロ−２−（４−ペンチルオキシ）フェニ
ル−４−｛４−（４−オクチルフェニル）フェノキシ｝
ブタン（例示化合物１５）を５重量部加えて液晶組成物
を得た。
１−トリフルオロ−２−（４−ペンチルオキシ）フェニ
ル−４−｛４−（４−オクチルフェニル）フェノキシ｝
ブタン（例示化合物１５）を５重量部加えて液晶組成物
を得た。
【００７３】
【化３２】
【００７４】この液晶組成物は、ＳｍＣ＊ 相を示し、
ＭＯＲＡ８単独に比べて、自発分極は２．５倍となり、
応答時間は±１５Ｖ印加の条件で２２ｍｓｅｃと約５３
％となった。
ＭＯＲＡ８単独に比べて、自発分極は２．５倍となり、
応答時間は±１５Ｖ印加の条件で２２ｍｓｅｃと約５３
％となった。
【００７５】
【発明の効果】本発明によれば、化学的に安定で新規な
光学活性化合物を提供することができた。本発明の光学
活性化合物は、大きな双極子モーメントを有するトリフ
ルオロメチル基が不斉中心に直結していることより、そ
れ自体が強誘電性相を有する場合には、大きな自発分極
を持つことが期待される。
光学活性化合物を提供することができた。本発明の光学
活性化合物は、大きな双極子モーメントを有するトリフ
ルオロメチル基が不斉中心に直結していることより、そ
れ自体が強誘電性相を有する場合には、大きな自発分極
を持つことが期待される。
【００７６】また、本発明の光学活性化合物は、自発分
極の付与材料としても有効であり、ノンカイラルスメク
チック相、あるいはカイラルスメクチック相を有する液
晶組成物に添加した場合、自発分極が増大し、応答速度
の改善された液晶組成物を得ることができる。
極の付与材料としても有効であり、ノンカイラルスメク
チック相、あるいはカイラルスメクチック相を有する液
晶組成物に添加した場合、自発分極が増大し、応答速度
の改善された液晶組成物を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 69/86 Ｃ０７Ｃ 69/86 69/92 69/92 69/94 69/94 Ｃ０７Ｄ 239/34 Ｃ０７Ｄ 239/34 // Ｃ０９Ｋ 19/20 Ｃ０９Ｋ 19/20 19/30 19/30 19/34 19/34 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性
化合物。 【化１】 （式中、Ｒ１ 、Ｒ２ は炭素原子数１〜１８の直鎖状
または分岐状のアルキル基を示す。Ｘ１ は、単結合、
−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＯＯＣ−を示し、Ｘ
２ は−ＯＣＨ２ −，−ＯＯＣ−を示す。Ａ１ 、Ａ
２ 、Ａ３ は 【化２】 を示す。Ｙ１ ，Ｙ２ はＨまたはハロゲンを示す。
ｍ，ｎは０または１である。＊は光学活性であることを
示す。） - 【請求項２】 前記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性
化合物のうちＸ２が−ＯＣＨ２ −である請求項１記載
の光学活性化合物。 - 【請求項３】 前記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性
化合物が下記の（Ｉａ）〜（Ｉｈ）のいずれかである請
求項１記載の光学活性化合物。 【化３】 （式中、Ｒ１ ，Ｒ２ は炭素原子数１〜１８の直鎖状
または分岐状のアルキル基を示す。Ｘ１ は単結合，−
Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−，−ＯＯＣ−を示す。Ｙ１
，Ｙ２ はＨまたはハロゲンを示す。＊は光学活性で
あることを示す。） - 【請求項４】 前記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性
化合物が下記の（Ｉｃａ）〜（Ｉｆｂ）のいずれかであ
る請求項１記載の光学活性化合物。 【化４】 （式中、Ｒ１ ，Ｒ２ は炭素原子数１〜１８の直鎖状
または分岐状のアルキル基を示す。＊は光学活性である
ことを示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28818892A JP2881078B2 (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | 光学活性化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28818892A JP2881078B2 (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | 光学活性化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06116196A JPH06116196A (ja) | 1994-04-26 |
| JP2881078B2 true JP2881078B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=17726952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28818892A Expired - Fee Related JP2881078B2 (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | 光学活性化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2881078B2 (ja) |
-
1992
- 1992-10-05 JP JP28818892A patent/JP2881078B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06116196A (ja) | 1994-04-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |