JP2855350B2 - アキュムレータ用ブラダの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （１）発明の目的 ［産業上の利用分野］ 本発明は、アキュムレータ用ブラダの製造方法に関
し、特に、ガス遮蔽膜が真空成形ののち真空成形型に取
付けられたままで予め成形された弾性下層あるいは弾性
上層に対して配設されてなるアキュムレータ用ブラダの
製造方法に関するものである。

［従来の技術］ 従来、この種のアキュムレータ用ブラダの製造方法と
しては、ガス遮蔽膜が未成形の状態あるいは真空成形の
のち真空成形型から取外された状態で予め成形された未
加硫の弾性下層および未加硫の弾性上層の間に配設さ
れ、次いで弾性下層および弾性上層が加硫成形によって
ガス遮蔽膜と一体化されてなるものが提案されていた。

［解決すべき問題点］ したがって、従来のアキュムレータ用ブラダの製造方
法では、ガス遮蔽膜が真空成形ののち真空成形型から取
外された状態あるいは未成形の状態で弾性下層および弾
性上層の間に対して配設されていたので、（ｉ）弾性下
層および弾性上層の間に配設されるに際してガス遮蔽膜
にシワが形成されてしまう欠点があり、このため（ii）
経時変化に伴ないそのシワに起因してガス遮蔽膜に短時
日のうちに亀裂が発生してしまいガス遮蔽機能を喪失す
る欠点があり、ひいては（iii）寿命を延長できない欠
点があった。

そこで、本発明は、これらの欠点を除去すべく、ガス
遮蔽膜を真空成形ののち真空成形型に取付けたままで予
め成形された弾性下層あるいは弾性上層に対して配設し
てなるアキュムレータ用ブラダの製造方法を提供せんと
するものである。

（２）発明の構成 ［問題点の解決手段］ 本発明により提供される問題点の第１の解決手段は、 「真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を予め成形さ
れた弾性下層および弾性上層の間に配設してなるアキュ
ムレータ用ブラダの製造方法において、ガス遮蔽膜（5
1）が真空成形ののち真空成形型（11）に取付けたまま
で未加硫の弾性下層（52）あるいは未加硫の弾性上層
（53）に対して配設されており、かつガス遮蔽膜（51）
の配設ののち弾性下層（52）および弾性上層（53）が加
硫成形によってガス遮蔽膜（51）と一体化されてなるこ
とを特徴とするアキュムレータ用ブラダの製造方法」 である。

また、本発明により提供される問題点の第２の解決手
段は、 「真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を予め成形さ
れた弾性下層および弾性上層の間に配設してなるアキュ
ムレータ用ブラダの製造方法において、ガス遮蔽膜（5
1）が真空成形に先き立ち予め熱硬化性接着剤を付着さ
れかつ真空成形ののち真空成形型（11）に取付けたまま
で未加硫の弾性下層（52）あるいは未加硫の弾性上層
（53）に対して配設されており、かつガス遮蔽膜（51）
の配設ののち弾性下層（52）および弾性上層（53）が加
硫成形によって熱硬化性接着剤を硬化せしめつつガス遮
蔽膜（51）と一体化されてなることを特徴とするアキュ
ムレータ用ブラダの製造方法」 である。

更に、本発明により提供される問題点の第３の解決手
段は、 「真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を予め成形さ
れた弾性下層および弾性上層の間に配設してなるアキュ
ムレータ用ブラダの製造方法において、ガス遮蔽膜（5
1）が真空成形に先き立ち予め常温硬化性接着剤を付着
されかつ真空成形ののち真空成形型（11）に取付けたま
まで加硫成形された弾性下層（52）あるいは加硫成形さ
れた弾性上層（53）に対して配設されており、かつガス
遮蔽膜（51）の配設ののち弾性下層（52）および弾性上
層（53）が常温硬化性接着剤の硬化によってガス遮蔽膜
（51）と一体化されてなることを特徴とするアキュムレ
ータ用ブラダの製造方法」 である。

［作用］ 本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの第１の製造
方法は、真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を予め
成形された弾性下層および弾性上層の間に配設してなる
アキュムレータ用ブラダの製造方法であって、特に、ガ
ス遮蔽膜が真空成形ののち真空成形型に取付けたままで
未加硫の弾性下層あるいは未加硫の弾性上層に対して配
設されており、かつガス遮蔽膜の配設ののち弾性下層お
よび弾性上層が加硫成形によってガス遮蔽膜と一体化さ
れてなるので、 （ｉ）ガス遮蔽膜に対しシワが形成されることを回避す
る作用 をなし、ひいては （ii）経時変化に伴ないそのシワに起因してガス遮蔽膜
に短時日のうちに亀裂が発生しガス遮蔽機能を喪失する
ことを回避する作用 をなし、結果的に （iii）従来技術に比べ寿命を延長可能とする作用 をなす。

また、本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの第２
の製造方法は、真空成形によって形成されたガス遮蔽膜
を予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設し
てなるアキュムレータ用ブラダの製造方法であって、特
に、ガス遮蔽膜が真空成形に先き立ち予め熱硬化性接着
剤を付着されかつ真空成形ののち真空成形型に取付けた
ままで未加硫の弾性下層あるいは未加硫の弾性上層に対
して配設されており、かつガス遮蔽膜の配設ののち弾性
下層および弾性上層が加硫成形によって熱硬化性接着剤
を硬化せしめつつガス遮蔽膜と一体化されてなるので、
（ｉ）〜（iii）の作用に加え、 （iv）ガス遮蔽膜にピンホールが生じてもその拡大を抑
制する作用 をなし、ひいては （ｖ）第１の製造方法に比べ寿命を延長可能とする作用 をなす。

更に、本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの第３
の製造方法は、真空成形によって形成されたガス遮蔽膜
を予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設し
てなるアキュムレータ用ブラダの製造方法であって、特
に、ガス遮蔽膜が真空成形に先き立ち予め常温硬化性接
着剤を付着されかつ真空成形ののち真空成形型に取付け
たままで加硫成形された弾性下層あるいは加硫成形され
た弾性上層に対して配設されており、かつガス遮蔽膜の
配設ののち弾性下層および弾性上層が常温硬化性接着剤
の硬化によってガス遮蔽膜と一体化されてなるので、
（ｉ）〜（ｖ）の作用に加え、 （vi）ガス遮蔽膜の熱劣化を防止する作用 をなし、ひいては （vii）第２の製造方法に比べ寿命を延長可能とする作
用 をなす。

［実施例］ 次に、本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造
方法について、その好ましい実施例を挙げ、具体的に説
明する。しかしながら、以下に説明する実施例は、本発
明の理解を容易化ないし促進化するために記載されるも
のであって、本発明を限定するために記載されるもので
はない。換言すれば、以下に説明される実施例において
開示される各要素は、本発明の精神ならびに技術的範囲
に属する全ての設計変更ならびに均等物置換を含むもの
である。

（添付図面の説明） 第１図（ａ）〜（ｃ）は、本発明にかかるアキュムレ
ータ用ブラダの製造方法の第１ないし第３の実施例に含
まれたガス遮蔽膜成形工程を説明するための断面図であ
って、ガス遮蔽膜成形装置10によってガス遮蔽膜51を真
空成形するための一連の作業工程を示している。第2,第
３の実施例の場合、第１図（ａ）に示した工程に先き立
ち、ガス遮蔽膜材料12に対し、それぞれ、熱硬化性接着
剤および常温硬化性接着剤を付着する工程が実行され
る。

第２図（ａ）（ｂ）は、本発明にかかるアキュムレー
タ用ブラダの製造方法の第１ないし第３の実施例に含ま
れた弾性下層成形工程を説明するための断面図であっ
て、（ｉ）第1,第２の実施例の場合、弾性下層成形装置
20によって弾性下層52を未加硫状態で予備成形し、また
（ii）第３の実施例の場合、弾性下層成形装置20によっ
て弾性下層52を加硫状態で予備成形している。

第３図（ａ）（ｂ）は、本発明にかかるアキュムレー
タ用ブラダの製造方法の第１ないし第３の実施例に含ま
れた弾性上層成形工程を説明するための断面図であっ
て、（ｉ）第1,第２の実施例の場合、弾性上層成形装置
30によって弾性上層53を未加硫状態で予備成形し、また
（ii）第３の実施例の場合、弾性上層成形装置30によっ
て弾性上層53を加硫状態で予備成形している。

第４図（ａ）〜（ｃ）は、本発明にかかるアキュムレ
ータ用ブラダの製造方法の第１ないし第３の実施例に含
まれたガス遮蔽膜配設工程を説明するための断面図であ
って、（ｉ）第1,第２の実施例の場合、予備成形された
かつ下型21内に保持された状態にある未加硫の弾性下層
52に対してガス遮蔽膜51を真空成形ののち真空成形型11
から取外すことなく配設し、また（ii）第３の実施例の
場合、予備成形されかつ下型21内に保持された状態にあ
る既加硫の弾性下層52に対してガス遮蔽膜51を真空成形
ののち真空成形型11から取外すことなく配設している。

第５図（ａ）（ｂ）は、本発明にかかるアキュムレー
タ用ブラダの製造方法の第１ないし第３の実施例に含ま
れた弾性上層配設工程を説明するための断面図であっ
て、上型32内に保持された状態にある弾性上層53をガス
遮蔽膜51の配設された弾性下層52に対して配設し弾性下
層52および弾性上層53とガス遮蔽膜51とを互いに一体化
するための一連の作業工程を示している。第1,第２の実
施例の場合、弾性下層52および弾性上層53の加硫成形が
併せて実行される。

第６図は、本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの
製造方法の第１ないし第３の実施例によって製造された
アキュムレータ用ブラダ50を説明するための断面図であ
る。

（第１の実施例の構成） まず、第１図（ａ）ないし第６図を参照しつつ、本発
明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造方法の第１の
実施例について、その構成を詳細に説明する。

全体構成 本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造方法
は、フィルム状の適宜のガス遮蔽膜材料12から真空成形
によってガス遮蔽膜51を成形するためのガス遮蔽膜成形
工程と、ゴムなどの弾性材料からガス遮蔽膜51の一面に
対して配設される弾性下層52を未加硫状態で予備成形す
るための弾性下層成形工程と、ゴムなどの弾性材料から
ガス遮蔽膜51の他面に対して配設される弾性上層53を未
加硫状態で予備成形するための弾性上層成形工程と、ガ
ス遮蔽膜成形工程で成形されたガス遮蔽膜51を真空成形
型11から取外すことなく（すなわち取付けたままで）予
備成形された未加硫の弾性下層52に対して配設するため
のガス遮蔽膜配設工程と、未加硫の弾性下層52に配設さ
れたガス遮蔽膜51に対して予備成形された未加硫の弾性
上層53を配設しかつ弾性下層52および弾性上層53の加硫
成形に伴なって弾性下層52および弾性上層53とガス遮蔽
膜51とを互いに一体化するための弾性上層配設工程とを
備えている。

ここで、弾性下層52とは、本発明にかかる製造方法に
よって作成されたアキュムレータ用ブラダ50がアキュム
レータのシェル（図示せず）内に配設されたとき液体室
側に位置する弾性層をいう（以下同様）。

また、弾性上層53とは、本発明にかかる製造方法によ
って作成されたアキュムレータ用ブラダ50がアキュムレ
ータのシェル内に配設されたときガス室側に位置する弾
性層をいう（以下同様）。

ガス遮蔽膜成形工程 ガス遮蔽膜成形工程は、ガス遮蔽膜成形装置20におい
て、以下のごとく実行される。真空成形型11の開口部に
対しガス遮蔽膜材料12を固定治具13で固定して配設した
のち、真空成形型11とガス遮蔽膜材料12とで包囲された
空間から排気孔11aを介して排気しつつ、ガス遮蔽膜材
料12を加熱装置（図示せず）によって矢印Ａで示すごと
く適宜に加熱する。

この結果、ガス遮蔽膜材料12は、軟化するので、大気
圧によって真空成形型11の内部に向けて押圧され密着さ
れる。これにより、ガス遮蔽膜51が成形される。

ガス遮蔽膜51の成形終了ののち、固定治具13が真空成
形型11の開口部から取り除かれ、併せて排気孔11aを介
した排気が停止されかつ排気孔11aの内部が大気に開放
され、後続のガス遮蔽膜配設工程に備えられる。

弾性下層成形工程 弾性下層成形工程は、弾性下層成形装置20において、
以下のごとく実行される。下型21の中央部に対しポペッ
ト22を配置したのち、上型23を積層し、周知の要領で下
型21と上型23との間に形成された成形スペース24に対し
ゴムなどの弾性材料を供給し、併せて周知の要領で処理
することにより、弾性下層52が未加硫状態で予備成形さ
れる。

弾性下層52の予備成形終了ののち、上型23が下型21か
ら取除かれ、後続のガス遮蔽膜配設工程に備えられる。

弾性上層成形工程 弾性上層成形工程は、弾性上層成形装置30において、
以下のごとく実行される。下型31に対し上型32を積層し
たのち、周知の要領で、下型31および上型32の間に形成
された成形スペース33に対しゴムなどの弾性材料を供給
し、併せて周知の要領で処理することにより、弾性上層
53が未加硫状態で予備成形される。

弾性上層53の予備成形終了ののち、下型31が上型32か
ら取り除かれ、後続の弾性上層配設工程に備えられる。

ガス遮蔽膜配設工程 ガス遮蔽膜配設工程では、ガス遮蔽膜成形工程で形成
されたガス遮蔽膜51を真空成形型11に取付けたままで
（すなわち取外すことなく）、弾性下層成形工程で予備
成形された未加硫の弾性下層52の上面に対し加圧密着せ
しめる。

弾性下層52は、未加硫状態でかつ十分の粘着性を有し
ているので、ガス遮蔽膜51を捕捉でき、真空成形型11か
ら容易に取外すことができる。

ちなみに、真空成形型11の排気孔11aに対し加圧空気
を供給すれば、ガス遮蔽膜51を未加硫の弾性下層52に対
し一層容易かつ確実に配設できる。

これにより、ガス遮蔽膜51は、シワが発生することを
防止しつつ、弾性下層52に対して配設される。

弾性上層配設工程 弾性上層配設工程では、下型21に収容された状態でガ
ス遮蔽膜51の配設された弾性下層52に対し、弾性上層成
形工程で予備成形された上型32に収容された状態にあり
未加硫状態でかつ十分の粘着性を有する弾性上層53を接
近当接せしめ、併せて弾性下層52および弾性上層53を加
熱して加硫成形せしめる。

これにより、ガス遮蔽膜51と弾性下層52および弾性上
層53とが互いに一体化され、ガス遮蔽膜51を有するアキ
ュムレータ用ブラダ50が作成される。

（第１の実施例の作用） 併せて、第１図（ａ）ないし第６図を参照しつつ、本
発明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造方法の第１
の実施例について、その作用を詳細に説明する。

本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造方法で
は、ガス遮蔽膜成形工程において真空成形したガス遮蔽
膜51を真空成形型11から取外すことなく（すなわち取付
けたままで）、ガス遮蔽膜配設工程において未加硫の弾
性下層52に対して配設してなるので、弾性下層52および
弾性上層53との間に配設するに際し、ガス遮蔽膜51に対
しシワが形成されることを回避できる。

したがって、本発明にかかるアキュムレータ用ブラダ
の製造方法によれば、経時変化に伴なってガス遮蔽膜51
に短時日のうちに亀裂が発生してしまいガス遮蔽機能を
喪失することを回避でき、従来技術に比べ寿命の延長あ
るいは信頼性の向上などを可能とできる。

（第２の実施例の構成・作用） 更に、第１図（ａ）ないし第６図を参照しつつ、本発
明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造方法の第２の
実施例について、その構成および作用を詳細に説明す
る。

第２の実施例は、ガス遮蔽膜成形工程において予め適
宜の熱硬化性接着剤の付着されたガス遮蔽膜材料12を採
用し、かつ弾性上層配設工程において加硫成形に際し熱
硬化性接着剤を硬化せしめることを除き、第１の実施例
と同一の構成を有する。

したがって、第２の実施例では、第１の実施例の作用
効果に加え、ガス遮蔽膜51に対して接着剤層が形成され
ることとなるので、ガス遮蔽膜51にピンホールが発生し
ても拡大することを抑制でき、ひいては第１の実施例に
比べて寿命の延長あるいは信頼性の向上などを可能とで
きる。

（第３の実施例の構成・作用） 加えて、第１図（ａ）ないし第６図を参照しつつ、本
発明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造方法の第３
の実施例について、その構成および作用を詳細に説明す
る。

第３の実施例は、ガス遮蔽膜成形工程において予め適
宜の常温硬化性接着剤の付着されたガス遮蔽膜材料12を
採用し、かつ弾性下層成形工程および弾性上層成形工程
においてそれぞれ弾性下層52および弾性上層53が加硫状
態で予備成形されることを除き、第1,第２の実施例と同
一の構成を有する。

したがって、第３の実施例では、第1,第２の実施例の
作用効果に加え、ガス遮蔽膜51の熱劣化を防止でき、ひ
いては第1,第２の実施例に比べて寿命の延長あるいは信
頼性の向上などを可能とできる。

（変形例） なお、第1,第２の実施例においては、ガス遮蔽膜51を
真空成形型11から取外すことなく予備成形した未加硫の
弾性下層52に対して配置したのち予備成形した未加硫の
弾性上層53に配置して加硫成形するよう説明したが、本
発明は、これに限定されるものではなく、ガス遮蔽膜51
を真空成形型11から取外すことなく予備成形した未加硫
の弾性上層53に対して配置したのち予備成形した未加硫
の弾性下層52を配置して加硫成形により一体化する場合
も包摂している。

また、第３の実施例において、ガス遮蔽膜51を真空成
形型11から取外すことなく予備成形した加硫成形済の弾
性下層52に対して配置したのち予備成形した加硫成形済
の弾性上層53に配置してするよう説明したが、本発明
は、これに限定されるものではなく、ガス遮蔽膜51を真
空成形型11から取外すことなく予備成形した加硫成形済
の弾性上層53に対して配置したのち予備成形した加硫成
形済の弾性下層52を配置して一体化する場合も包摂して
いる。

（３）発明の効果 上述より明らかなように、本発明にかかるアキュムレ
ータ用ブラダの第１の製造方法は、真空成形によって形
成されたガス遮蔽膜を予め成形された弾性下層および弾
性上層の間に配設してなるアキュムレータ用ブラダの製
造方法であって、特に、ガス遮蔽膜が真空成形ののち真
空成形型に取付けたままで未加硫の弾性下層あるいは未
加硫の弾性上層に対して配設されており、かつガス遮蔽
膜の配設ののち弾性下層および弾性上層が加硫成形によ
ってガス遮蔽膜と一体化されてなるので、 （ｉ）ガス遮蔽膜に対しシワが形成されることを回避で
きる効果 を有し、ひいては （ii）経時変化に伴ないそのシワに起因してガス遮蔽膜
に短時日のうちに亀裂が発生しガス遮蔽機能を喪失する
ことを回避できる効果 を有し、結果的に （iii）従来技術に比べ寿命を延長可能とできる効果 を有する。

また、本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの第２
の製造方法は、真空成形によって形成されたガス遮蔽膜
を予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設し
てなるアキュムレータ用ブラダの製造方法であって、特
に、ガス遮蔽膜が真空成形に先き立ち予め熱硬化性接着
剤を付着されかつ真空成形ののち真空成形型に取付けた
ままで未加硫の弾性下層あるいは未加硫の弾性上層に対
して配設されており、かつガス遮蔽膜の配設ののち弾性
下層および弾性上層が加硫成形によって熱硬化性接着剤
を硬化せしめつつガス遮蔽膜と一体化されてなるので、
（ｉ）〜（iii）の効果に加え、 （iv）ガス遮蔽膜にピンホールが生じてもその拡大を抑
制できる効果 を有し、ひいては （ｖ）第１の製造方法に比べ寿命を延長可能とできる効
果 を有する。

更に、本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの第３
の製造方法は、真空成形によって形成されたガス遮蔽膜
を予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設し
てなるアキュムレータ用ブラダの製造方法であって、特
に、ガス遮蔽膜が真空成形に先き立ち予め常温硬化性接
着剤を付着されかつ真空成形ののち真空成形型に取付け
たままで加硫成形された弾性下層あるいは加硫成形され
た弾性上層に対して配設されており、かつガス遮蔽膜の
配設ののち弾性下層および弾性上層が常温硬化性接着剤
の硬化によってガス遮蔽膜と一体化されてなるので、
（ｉ）〜（ｖ）の効果に加え、 （vi）ガス遮蔽膜の熱劣化を防止できる効果 を有し、ひいては （vii）第２の製造方法に比べ寿命を延長可能とできる
効果 を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｃ）は本発明にかかるアキュムレータ
用ブラダの製造方法の第１ないし第３の実施例に含まれ
たガス遮蔽膜成形工程を説明するための断面図、第２図
（ａ）（ｂ）は本発明にかかるアキュムレータ用ブラダ
の製造方法の第１ないし第３の実施例に含まれた弾性下
層成形工程を説明するための断面図、第３図（ａ）
（ｂ）は本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造
方法の第１ないし第３の実施例に含まれた弾性上層成形
工程を説明するための断面図、第４図（ａ）〜（ｃ）は
本発明にかかるアキュムレータ用ブラダの製造方法の第
１ないし第３の実施例に含まれたガス遮蔽膜配設工程を
説明するための断面図、第５図（ａ）（ｂ）は本発明に
かかるアキュムレータ用ブラダの製造方法の第１ないし
第３の実施例に含まれた弾性上層配設工程を説明するた
めの断面図、第６図は本発明にかかるアキュムレータ用
ブラダの製造方法の第１ないし第３の実施例によって製
造されたアキュムレータ用ブラダを説明するための断面
図である。10 ……ガス遮蔽膜成形装置 11……真空成形型 11a……排気孔 12……ガス遮蔽膜材料 13……固定治具20 ……弾性下層成形装置 21……下型 22……ポペット 23……上型 24……成形スペース30 ……弾性上層成形装置 31……下型 32……上型 33……成形スペース50 ……アキュムレータ用ブラダ 51……ガス遮蔽膜 52……弾性下層 53……弾性上層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｋ 105:24 Ｂ２９Ｌ 31:00 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B29C 65/00 - 65/82 F15B 1/047 F16J 3/02

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を
   予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設して
   なるアキュムレータ用ブラダの製造方法において、ガス
   遮蔽膜（51）が真空成形ののち真空成形型（11）に取付
   けたままで未加硫の弾性下層（52）あるいは未加硫の弾
   性上層（53）に対して配設されており、かつガス遮蔽膜
   （51）の配設ののち弾性下層（52）および弾性上層（5
   3）が加硫成形によってガス遮蔽膜（51）と一体化され
   てなることを特徴とするアキュムレータ用ブラダの製造
   方法。
2. 【請求項２】真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を
   予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設して
   なるアキュムレータ用ブラダの製造方法において、ガス
   遮蔽膜（51）が真空成形に先き立ち予め熱硬化性接着剤
   を付着されかつ真空成形ののち真空成形型（11）に取付
   けたままで未加硫の弾性下層（52）あるいは未加硫の弾
   性上層（53）に対して配設されており、かつガス遮蔽膜
   （51）の配設ののち弾性下層（52）および弾性上層（5
   3）が加硫成形によって熱硬化性接着剤を硬化せしめつ
   つガス遮蔽膜（51）と一体化されてなることを特徴とす
   るアキュムレータ用ブラダの製造方法。
3. 【請求項３】真空成形によって形成されたガス遮蔽膜を
   予め成形された弾性下層および弾性上層の間に配設して
   なるアキュムレータ用ブラダの製造方法において、ガス
   遮蔽膜（51）が真空成形に先き立ち予め常温硬化性接着
   剤を付着されかつ真空成形ののち真空成形型（11）に取
   付けたままで加硫成形された弾性下層（52）あるいは加
   硫成形された弾性上層（53）に対して配設されており、
   かつガス遮蔽膜（51）の配設ののち弾性下層（52）およ
   び弾性上層（53）が常温硬化性接着剤の硬化によってガ
   ス遮蔽膜（51）と一体化されてなることを特徴とするア
   キュムレータ用ブラダの製造方法。