JP2848557B2 - 水素の精製法 - Google Patents
水素の精製法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、各種化学工場より発生するガスから高純度
の水素を効率良く得る方法に関する。 最近エレクトロニクス、ファインセラミックス、ファ
インケミカル工業において極めて純度の高い水素が必要
とされている。 （従来の技術） 高純度水素は、スチームリホーマー、エチレンオフガ
ス、接触改質装置、アンモニアまたはメタノールの分解
ガス等を原料とし、一般に吸着カラムクロマトグラフィ
ー法により分離、精製して製造される。 この吸着カラムクロマトグラフィー法により高純度水
素を得る方法は、吸着剤を充填したカラムを用い、 （１）加圧下での不純成分の吸着操作 （２）ほぼ大気圧への減圧操作 （３）原料ガスによる掃気操作 （４）精製水素による再生操作 （５）原料ガスまたは精製水素による加圧操作 の各操作を１基または並列にならべた複数のカラムで逐
次行う方法が採られる。 これらの操作を行う方法は、そのカラム配置と操作順
序などの組合せにより、多くの特許が公開されており、
例えば特公昭39−8204号、特公昭55−46962号および特
公昭62−1768号などには、カラムを３基並列にならべて
上記操作を行う方法が記載されており、また特公昭45−
20082号、特公昭55−12295号および特公昭57−2046号な
どには、カラムを４基以上並列にならべて上記操作を行
う方法が記載されている。 更に特公昭51−40550号および特公昭55−28725号に
は、カラムを２〜４基並列にならべて上記操作を行う方
法が、また特公昭42−26115号、特開昭57−194026号お
よび特開昭58−146420号には、カラムを２基以上ならべ
て減圧工程を２段階にして上記操作を行う方法が記載さ
れている。 （発明が解決しようとする問題点） これらの吸着カラムクロマトグラフィー法による水素
精製法は、加熱等の操作が不要で、上記操作により容易
に高純度水素が得られるが、次のような問題点が挙げら
れる。 （１）一般に水素の純度を高めようとする程、水素回収
率が極端に低下し、原料ガスの原単位が悪化する。 （２）水素回収率を高めるためには、多量の吸着剤を使
用する必要があり、従って装置コストが増大する。 （３）吸着剤使用量が多いとカラムが大きくなる。 大型のカラムでは、カラム内の局部的な偏流、混合、
吸着されたガスの拡散などの問題があり、吸着カラムク
ロマトグラフィー法の性質上、大型化が非常に困難であ
る。 （４）このためカラムを多数並列に配置する方法が採ら
れるが、この場合は装置コストが増大すると同時に、制
御が複雑となり運転が困難となる。 （問題点を解決するための手段） 発明者等は、上記の如き問題点を有する吸着ガスクロ
マトグラフィー法に関し、吸着剤をできるだけ少なくし
て高純度の水素を回収する方法を検討した結果、水素精
製操作である上記の加圧下での不純ガスの吸着操作を二
段階で行い、第一工程の掃気操作と加圧操作に原料ガス
を用いれば、吸着剤が少なくて済み、しかも高純度の水
素を容易に高回収率で得られることを見出し、本発明に
至った。 即ち本発明は、水素と少なくとも１種類以上の不純物
を含む原料ガスを吸着ガスクロマトグラフィー法で精製
するに際し、原料ガスの吸着操作と減圧操作、原料ガス
による掃気操作および加圧操作とに切換えることができ
る２基以上のカラムを有する粗精製工程と、粗精工程よ
り得られた粗精製ガスの最終吸着操作と減圧操作、原料
ガスによる掃気操作、精製された水素による再生操作お
よび加圧操作とに切換えることができる２基以上のカラ
ムを有する精製工程からなり、粗精製工程と精製工程で
同種の吸着剤を用いることを特徴とする水素の精製法で
ある。 本発明の原料ガスには、各種化学工場より発生するガ
スが用いられる。このガス中に含まれる不純成分とは、
加圧下で吸着性の高い物質である。本発明の原料ガスお
よびその不純成分の代表例を挙げれば次の如くである。 即ち原料ガスが、スチームリホーマーないし部分酸化
ガスにより発生するガスではCO,CO2,CH4、エチレンオフ
ガスでは、CH4,N2,C2H4,C2H6が主な不純成分である。ま
た接触改質装置よりのガスではC1〜C8の炭化水素、アン
モニア分解ガスではN2,NH3、メタノール分解ガスではCO
2,CO、オキソプラントではCO,CO2,CH4、スチレンオフガ
スでは芳香族ガス,CO,CO2,CH4、アンモニアパージガス
ではN2,CH4,Ar、メタノールパージガスではCO,CO2,CH3,
OH、ブタジエンオフガスではC1〜C4炭化水素、コークス
炉ガスではCH4,N2,芳香族ガス,SO2,CO,CO2,NOx,O2、転
炉ガスではCH4,N2,CO,CO2が主な不純成分である。 これらの不純成分を吸着するのに使用される吸着剤に
は、合成ゼオライト、活性炭、分子篩カーボン、活性ア
ルミナ、シリカゲルなど一般に使用されている吸着剤が
用いられる。 これらの吸着剤は一般に、原料ガスに含有されている
不純成分の種類、数および量並びに処理温度などに応じ
それぞれのカラムの条件に適した吸着剤が使用される。
吸着剤は粗精製工程および精製工程の各工程内で同種の
ものを用いる。 各工程で使用されるカラム数は、それぞれ２基以上で
あれば特に制限は無いが、粗精製工程では１〜10基、精
製工程では２〜４基とすることが好ましい。 各カラムに充填する吸着剤量は、それぞれのカラムの
条件に適した量が選ばれる。各カラム間の吸着剤重量の
割合は、各工程内で同じであることが好ましく、また粗
精製工程の充填量と精製工程の充填量の比は、実用上1/
0.1〜10とされる。 吸収カラムの温度および圧力は、各カラムに充填され
ている吸着剤の種類、原料ガス中に含有されている不純
成分の種類、成分数及びその量によって異なり、それぞ
れ適した条件を選択される。 温度は通常 10〜60℃、好ましくは室温ないし常温で
あり、特に加熱、冷却の必要は無いが、加熱、冷却する
ことを妨げない。 吸着操作時のカラム入口の圧力は、通常３〜30kg/cm2
G、好ましくは５〜20kg/cm2Gである。 各操作でのガスの見掛けの空塔速度は、特に制限は無
いが、実用上、通常0.1〜50cm/sec、好ましくは１〜20c
m/secである。 次に図面により本発明を具体的に説明する。 本発明のために使用される精製装置のフローシートの
例を第１図に示す。即ちこの装置は、第１カラム１、第
２カラム２、第３カラム３および第４カラム４の４基の
カラムを有する場合であり、各カラムの塔頂にはそれぞ
れ第１塔頂管９、第２塔頂管10、第３塔頂管11および第
４塔頂管12がある。これらの塔頂管は第１塔頂管９から
分岐した塔頂連絡管13によって互いに接続されている。
またこれらの塔頂管にはそれぞれ第１塔頂弁31、第２塔
頂弁32、第３塔頂弁33および第４塔頂弁34が設けられて
おり、塔頂連絡管13には第２塔頂管10と第３塔頂管11が
接続されている間に塔頂連絡弁35が設けられている。 各カラムの塔底にはそれぞれ第１塔底管18、第２塔底
管19、第３塔底管20および第４塔底管21がある。これら
の塔底管は第１塔底管18から分岐した塔底連絡管22によ
って互いに接続されている。これらの塔底管にはそれぞ
れ第１塔底弁40、第２塔底弁41、第３塔底弁42および第
４塔底弁43が設けられている。また各カラムの塔底と各
弁との間にそれぞれ第１検出器５、第２検出器６、第６
検出器29および第７検出器30が設けられている。 塔頂連絡管13の第３塔頂管11と第４塔頂管12が接続さ
れている間の部分と塔底連絡管22の第３塔底管20と第４
塔底管21が接続されている間の部分とは塔頂塔底連絡管
27で連絡され、塔頂塔底連絡管27には塔頂塔底連絡弁44
および第５検出器28が設けられている。 第３カラム３および第４カラム４の塔底にはそれぞれ
第１製品管23および第２製品管24がある。これらの製品
管にはそれぞれ第１製品弁45および第２製品弁46が設け
られている。また第３カラム３および第４カラム４には
各カラムの塔底と各製品弁との間にそれぞれ第３検出器
７および第４検出器８が設けられている。 また第１製品管23は第２製品弁46の出口の所で第２製
品管24と合流している。第１製品管23の第３検出器７と
第１製品弁45の間の部分から第２再生管26が分岐されて
いる。第２製品管24の第４検出器８と第２製品弁46の間
の部分から第１再生管25が分岐されている。これらの再
生管にはそれぞれ第１再生弁47および第２再生弁48が設
けられている。また第２再生管26には第２再生弁48の出
口の所で第１再生管25と合流している。第１再生管25は
第１製品管23との合流した所の後に第２製品管24と合流
している。 第３カラム３および第４ラム４の塔頂にはそれぞれ第
１連絡管14および第２連絡管15がある。これらの連絡管
にはそれぞれ第１連絡弁36および第２連絡弁37が設けら
れている。また第２連絡管15は第１連絡弁36の入口の所
で第１連絡管14から分岐されている。第１連絡管14は第
１塔底管18の第１検出器５と第１塔底弁40の間の部分で
第１塔底管18から分岐されている。 第３カラム３および第４カラム４の塔頂にはそれぞれ
第３連絡管16および第４連絡管17がある。これらの連絡
管にはそれぞれ第３連絡弁38および第４連絡弁39が設け
られている。また第４連絡管17は第３連絡弁38の入口の
所で第３連絡管16から分岐されている。第３連絡管16は
第２塔底管19の第２検出器６と第２塔底弁41の間の部分
で第２塔底管19から分岐されている。 依って第１カラム１および第２カラム２は並列に接続
され、同様に第３カラム３および第４カラム４は並列に
接続され、更に第１カラム１および第２カラム２は第３
カラム３および第４カラム４と直列に接続され、二段階
の精製が行われる。 なお各カラムの塔底の検出器としては、例えば熱伝導
度検出器、膜電極検出器および赤外線式ガス分析計など
をそれぞれ使用することができる。またこれらの測定器
に代えて、予め実験的に求められらタイムスケジュール
によっても弁を開閉させることができる。 次にこの装置を使用して、粗精製工程および精製工程
からなる二段階の精製工程により、高純度水素を連続的
に得る方法を説明する。 まず粗精製工程は第１カラム１および第２カラム２を
使用し、次の４操作を連続的に行う。 （１）吸着剤を充填したカラムに加圧状態で原料ガスを
供給し、不純成分を吸着させる吸着操作 （２）吸着操作後、カラム内の圧力をほぼ大気圧まで減
圧する減圧操作 （３）原料ガスによる掃気操作 （４）吸着操作と同じ圧力まで加圧する加圧操作 なお第１カラム１が吸着操作にある時は、第２カラム
２において減圧操作、掃気操作および加圧操作を逐次行
い、第２カラム２が吸着操作にある時は、第１カラム１
において減圧操作、掃気操作および加圧操作を逐次行な
う。 第１カラム１を吸着操作とするには、第１塔頂弁31を
開け、第２塔頂弁32、塔頂連絡弁35および第１塔底弁40
を閉め、原料ガスを第１塔頂管９から第１カラム１に供
給する。粗精製されたガスは、第１連絡弁36または第２
連絡弁37を開けることにより第１連絡管14から精製工程
の第３カラム３または第４カラム４に供給される。 一方吸着操作が終了して加圧状態にある第２カラム２
では、まず第３連絡弁38または第４連絡弁39を閉め、第
２塔底弁41を開け、第２塔底管19、塔底連絡管22及び第
１塔底管18へと、加圧状態のガスをほぼ大気圧まで減圧
する減圧操作を行う。次に第２塔頂弁32を開け、第２塔
頂管10より原料ガスを供給し、掃気操作を行う。 第２検出器６で原料ガスと同じ組成になった時点で、
直ちに第２塔底弁41を閉め、吸着操作と同じ圧まで加圧
する加圧操作を行う。これで第２カラム２での吸着操作
の準備が完了する。 第１カラム１での吸着操作において、時間の経過と共
に不純成分の吸着が蓄積し、第１検出器５で不純成分が
検出され始めた時、速やかに第１連絡弁36または第２連
絡弁37を閉め、更に第１塔頂弁31を閉める。上記方法に
より第１カラム１で、減圧操作、掃気操作および加圧操
作を逐次行い、第２カラム２では第２塔頂弁32を開のま
まで吸着操作を行う。 次に精製工程について説明する。精製工程は、第３カ
ラム３および第４カラム４を使用し、次の５つの操作を
連続的に行う。 （１）吸着剤を充填したカラムに加圧状態で粗精製工程
よりのガスを供給し、不純成分を吸着させる最終吸着操
作 （２）最終吸着操作の後、カラム内の圧力をほぼ大気圧
まで減圧する減圧操作 （３）原料ガスによる掃気操作 （４）精製された水素による再生操作 （５）精製された水素により最終吸着操作と同じ圧力ま
で加圧する加圧操作 なお第３カラム３が最終吸着操作である時は、第４カ
ラム４において減圧操作、掃気操作、再生操作および加
圧操作を逐次行い、第４カラム４が最終吸着操作である
時は、第３カラム３において減圧操作、掃気操作、再生
操作および加圧操作を逐次行う。 ここで粗精製工程は、第１カラム１で吸着操作、第２
カラム２で減圧操作、掃気操作あるいは加圧操作を行
い、精製工程は、第３カラム３で最終吸着操作、第４カ
ラム４で減圧操作、掃気操作、再生操作および加圧操作
を行う場合について説明する。 第３カラム３での最終吸着操作は、第１連絡弁36およ
び第１製品弁45を開け、第３塔頂弁33、第３連絡弁38、
第３塔底弁42および再生弁47を閉め、第１カラム１で粗
精製された粗精製ガスを第１連絡管14から第３カラム３
に供給する。精製された水素ガスは、第１製品管23およ
び第２製品管24を通り系外に出される。 一方最終吸着操作終了後加圧状態にある第４カラム４
では、まず第４塔底弁43を開け、第４塔頂弁34、第２連
絡弁37、第４連絡弁39、第２製品弁46および第２再生弁
48を閉め、第４塔底管21、塔底連絡管22および第１塔底
管18へと加圧状態のガスをほぼ大気圧まで減圧する減圧
操作を行う。次に塔頂塔底連絡弁44を閉め、第４塔頂弁
34および塔頂連絡弁35を開け、塔頂連絡管13および第４
塔頂管12を通し原料ガスを供給し掃気操作を行う。 第７検出器30で原料ガスと同じ組成になった時点で直
ちに塔頂連絡弁35および第４塔底弁43を閉め、塔頂塔底
連絡弁44および第２再生弁48を開け、第１再生管25およ
び第２製品管24を通る精製された水素を供給し再生操作
を行う。第４カラム４に供給された水素はカラムに残存
している不純成分と共に第４塔頂管２、塔頂連絡管13、
塔頂塔底連絡管27、塔底連絡管22および第１塔底管18を
通り系外に出される。第５検出器28で不純成分が検出さ
れなくなった時点で直ちに第４塔頂弁34および塔頂塔底
連絡弁44を閉め、最終吸着操作と同じ圧力まで加圧する
加圧操作を行う。加圧操作終了後第２再生弁48を閉め、
これで第４カラム４での最終吸着操作の準備が完了す
る。 第３カラム３の最終吸着操作において時間の経過と共
に第３検出器７で不純成分が出され始めた時、速やかに
第１連絡弁36および第１製品弁45を閉める。続いて第３
カラム３で減圧操作、掃気操作、再生操作および加圧操
作を逐次行い、第４カラム４では最終吸着操作を行う。 （実施例） 次に実施例により本発明を更に具体的に説明する。し
かしながら本発明はこれらの実施例によって限定される
ものでは無い。 実施例 H2 90％、CO 9.5％、CH4 0.45％、CO2 0.05％からな
る原料ガスを第１図に示した装置を用いて精製した。４
基の堅型円筒カラム（径30mm、高さ200mm）に、吸着剤
として合成ゼオライト（和光純薬工業（株）製）を1027
gずつ各カラムに充填した。装置全体の温度は30℃であ
った。検出器は全て赤外線式ガス分析計（島津製作所
製）を使用した。 まず粗精製工程では、原料ガスを第１塔頂管９より第
１カラム１に供給し、吸着操作を行った。原料ガスの供
給量は、1.778Nm3/Hr、供給圧力は、15kg/cm2Gであり、
第１カラム１での見掛けの空塔速度は約0.05m/secであ
った。第１カラム１の塔底からの粗精製ガスは、第１連
絡管14より第３カラム３に供給した。 一方第１カラム１で吸着操作を行っている間に第２カ
ラム２では、既に吸着操作終了後の加圧状態のガスを約
0.1kg/cm2Gまで減圧する減圧操作を第２塔底管19、塔底
連絡管22および第１塔底管18を使用して行った。これに
要した時間は約2.5分であった。次に第２塔頂弁32を開
け原料ガスを供給し、掃気操作を行った。第２検出器６
での検出により、掃気操作開始後約３分で第２塔底弁41
を閉め掃気操作を終了とし、加圧操作へ移行した。加圧
操作の所要時間は約１分であった。これで第２カラム２
での吸着操作の準備が完了した。 吸着操作を行っている第１カラム１では、第１検出器
５の検出により、吸着操作開始後約10.2分で吸着操作を
終了とし第１塔頂弁31および第１連絡弁36を閉め、更に
第２塔頂弁32を開け、第２カラム２での吸着操作を開始
した。なお第１カラム１では、減圧、掃気及び加圧操作
を逐次行った。 次に精製工程について説明する。粗精製ガスは第１連
絡管14より第３カラム３に供給し、最終吸着操作を行っ
た。第３カラム３での見掛けの空塔速度は約0.04m/sec
であった。第３カラム３の塔底よりの精製水素は、第１
製品管23および第２製品管24を通り系外に出した。この
精製水素量は、平均1.36Nm3/Hrであり、その純度は99.9
999％以上であった。この結果水素の回収率は85.0％で
あり、単位時間に精製された水素量当りの吸着剤全使用
量は、3021g−吸着剤.Hr/Nm3となる。 一方第３カラム３で最終吸着操作を行っている間に第
４カラム４では、既に最終吸着操作終了後の加圧状態の
ガスを約0.1kg/cm2Gまで減圧する減圧操作を第４塔底管
21、塔底連絡管22および第１塔底管18を使用して行っ
た。これに要した時間は約2.5分であった。次に第４塔
頂弁34および塔頂連絡弁35を開け原料ガスを供給し、掃
気操作を行った。第７検出器30での検出により、掃気操
作開始後約３分で掃気操作を終了した。次に塔頂連絡弁
35および第４塔底弁43を閉め、塔頂塔底連絡弁44および
第２再生弁48を開け、第１再生管25および第２製品管24
より精製水素を供給し、再生操作を行った。第４カラム
４に供給された水素は、カラムに存在している不純成分
と共に第４塔頂管12、塔頂連絡管13、塔頂塔底連絡管2
7、塔底連絡管22および第１塔底管18を通り系外に出さ
れた。再生操作開始後約３分で第５検出器28の検出によ
り再生操作を終了した。次に第４塔頂弁34および塔頂塔
底連絡弁44を閉め、加圧操作へ移行した。加圧操作の所
要時間は約１分であった。これで第４カラム４での最終
吸着操作の準備が完了した。 最終吸着操作を行っている第３カラム３では、第３検
出器７の検出により、最終吸着操作開始後約200分で吸
着操作を終了とし第１連絡弁36および第１製品弁45を閉
め、更に第２連絡弁37を開け、第４カラム４での最終吸
着操作を開始した。なお第３カラム３では、減圧操作、
掃気操作、再生操作及び加圧操作を逐次行った。 比較例 カラムを４基並列にならべた第２図に示す装置を用い
て、実施例と同じガスを精製した。 この装置は、第１カラム１、第２カラム２、第３カラ
ム３および第４カラム４の４基のカラムを有しており、
各カラムの吸着剤とその充填量およびそれらの操作条件
は、実施例と同一とした。 この装置においては、各カラムの塔頂にそれぞれ第１
塔頂管14、第２塔頂管15、第３塔頂管16および第４塔頂
管17があり、これらの塔頂管は第１塔頂管14から分岐し
た塔頂連絡管18によって互いに接続されている。またこ
れらの塔頂管にはそれぞれ第１塔頂弁40、第２塔頂弁4
1、第３塔頂弁42および第４塔頂弁43が設けられてい
る。 各カラムの塔底にはそれぞれ第１塔底管19、第２塔底
管20、第３塔底管21および第４塔底管22がある。これら
の塔底管は第１塔底管19から分岐した塔底連絡管23によ
って互いに接続されている。またこれらの塔底管にはそ
れぞれ第１塔底弁44、第２塔底弁45、第３塔底弁46およ
び第４塔底弁47が設けられている。また各カラムの塔底
と各塔底弁との間にそれぞれそれぞれ第１検出器５、第
２検出器６、第３検出器７および第４検出器８が設けら
れている。 また各カラムの塔底にはそれぞれ第１製品管24、第２
製品管25、第３製品管26および第４製品管27がある。こ
れらの製品管は製品連絡弁28によって互いに接続され、
第４製品管27に合流される。これらの製品管にはそれぞ
れ第１製品弁48、第２製品弁49、第３製品弁50および第
４製品弁51が設けられている。また各カラムの塔底と各
製品弁との間にそれぞれそれぞれ第５検出器９、第６検
出器10、第７検出器11および第８検出器12が設けられて
いる。 各製品管の検出器と製品弁の間の所から第１再生管2
6、第２再生管30、第３再生管31および第４再生管32が
分岐されている。これらの再生管は再生連絡管33によっ
て互いに接続され、第４再生管32に合流される。これら
の再生管にはそれぞれ第１再生弁52、第２再生弁53、第
３再生弁54および第４再生弁55が設けられている。また
第４再生管32は第４製品管27に合流される。 各カラムの塔頂にはそれぞれ第１回収管34、第２回収
管35、第３回収管36および第４回収管37がある。これら
の回収管は回収連絡管38によって互いに接続されて第１
回収管34に合流され、また第１回収管34は第１塔底管19
に合流される。これらの回収管にはそれぞれ第１回収弁
56、第２回収弁57、第３回収弁58および第４回収弁59が
設けられている。また第１回収管34には第９検出器13が
設けられている。 この装置では、一段階のみの精製であるため、実施例
の精製工程のみを実施例に準じて行った。 即ち第１カラム１が最終吸着操作にある時は、第２カ
ラム２では減圧操作、第３カラムでは掃気操作、第４カ
ラム４は再生および加圧操作を行った。また第１カラム
１で最終吸着操作終了後は減圧操作、掃気操作、再生操
作および加圧操作を逐次行い、第２カラム２、第３カラ
ム３および第４カラム４でも同様とした。 この結果、精製水素量は平均1.12Nm3/Hr、水素純度9
9.99％であった。水素の回収率は70.0％、単位時間に精
製された水素量当りの吸着剤全使用量は3668g−吸着剤.
Hr/Nm3となる。 このように本比較例では、実施例に比較して、水素純
度および回収率が著しく低下しており、単位時間に精製
された水素量当りの吸着剤全使用量も多くなっている。 （発明の効果） 本発明においては、水素精製工程が二段階で行われる
ので、充填されている吸着剤が有効に使用されることに
なり、少ない吸着剤の使用量で、水素回収率が向上し、
また水素純度も著しく向上する。これにより水素精製コ
ストが著しく低減されると共に、今まで困難であった吸
着カラムクロマトグラフィー法の大型化が促進されるよ
うになり、本発明の工業的意義が大きい。
の水素を効率良く得る方法に関する。 最近エレクトロニクス、ファインセラミックス、ファ
インケミカル工業において極めて純度の高い水素が必要
とされている。 （従来の技術） 高純度水素は、スチームリホーマー、エチレンオフガ
ス、接触改質装置、アンモニアまたはメタノールの分解
ガス等を原料とし、一般に吸着カラムクロマトグラフィ
ー法により分離、精製して製造される。 この吸着カラムクロマトグラフィー法により高純度水
素を得る方法は、吸着剤を充填したカラムを用い、 （１）加圧下での不純成分の吸着操作 （２）ほぼ大気圧への減圧操作 （３）原料ガスによる掃気操作 （４）精製水素による再生操作 （５）原料ガスまたは精製水素による加圧操作 の各操作を１基または並列にならべた複数のカラムで逐
次行う方法が採られる。 これらの操作を行う方法は、そのカラム配置と操作順
序などの組合せにより、多くの特許が公開されており、
例えば特公昭39−8204号、特公昭55−46962号および特
公昭62−1768号などには、カラムを３基並列にならべて
上記操作を行う方法が記載されており、また特公昭45−
20082号、特公昭55−12295号および特公昭57−2046号な
どには、カラムを４基以上並列にならべて上記操作を行
う方法が記載されている。 更に特公昭51−40550号および特公昭55−28725号に
は、カラムを２〜４基並列にならべて上記操作を行う方
法が、また特公昭42−26115号、特開昭57−194026号お
よび特開昭58−146420号には、カラムを２基以上ならべ
て減圧工程を２段階にして上記操作を行う方法が記載さ
れている。 （発明が解決しようとする問題点） これらの吸着カラムクロマトグラフィー法による水素
精製法は、加熱等の操作が不要で、上記操作により容易
に高純度水素が得られるが、次のような問題点が挙げら
れる。 （１）一般に水素の純度を高めようとする程、水素回収
率が極端に低下し、原料ガスの原単位が悪化する。 （２）水素回収率を高めるためには、多量の吸着剤を使
用する必要があり、従って装置コストが増大する。 （３）吸着剤使用量が多いとカラムが大きくなる。 大型のカラムでは、カラム内の局部的な偏流、混合、
吸着されたガスの拡散などの問題があり、吸着カラムク
ロマトグラフィー法の性質上、大型化が非常に困難であ
る。 （４）このためカラムを多数並列に配置する方法が採ら
れるが、この場合は装置コストが増大すると同時に、制
御が複雑となり運転が困難となる。 （問題点を解決するための手段） 発明者等は、上記の如き問題点を有する吸着ガスクロ
マトグラフィー法に関し、吸着剤をできるだけ少なくし
て高純度の水素を回収する方法を検討した結果、水素精
製操作である上記の加圧下での不純ガスの吸着操作を二
段階で行い、第一工程の掃気操作と加圧操作に原料ガス
を用いれば、吸着剤が少なくて済み、しかも高純度の水
素を容易に高回収率で得られることを見出し、本発明に
至った。 即ち本発明は、水素と少なくとも１種類以上の不純物
を含む原料ガスを吸着ガスクロマトグラフィー法で精製
するに際し、原料ガスの吸着操作と減圧操作、原料ガス
による掃気操作および加圧操作とに切換えることができ
る２基以上のカラムを有する粗精製工程と、粗精工程よ
り得られた粗精製ガスの最終吸着操作と減圧操作、原料
ガスによる掃気操作、精製された水素による再生操作お
よび加圧操作とに切換えることができる２基以上のカラ
ムを有する精製工程からなり、粗精製工程と精製工程で
同種の吸着剤を用いることを特徴とする水素の精製法で
ある。 本発明の原料ガスには、各種化学工場より発生するガ
スが用いられる。このガス中に含まれる不純成分とは、
加圧下で吸着性の高い物質である。本発明の原料ガスお
よびその不純成分の代表例を挙げれば次の如くである。 即ち原料ガスが、スチームリホーマーないし部分酸化
ガスにより発生するガスではCO,CO2,CH4、エチレンオフ
ガスでは、CH4,N2,C2H4,C2H6が主な不純成分である。ま
た接触改質装置よりのガスではC1〜C8の炭化水素、アン
モニア分解ガスではN2,NH3、メタノール分解ガスではCO
2,CO、オキソプラントではCO,CO2,CH4、スチレンオフガ
スでは芳香族ガス,CO,CO2,CH4、アンモニアパージガス
ではN2,CH4,Ar、メタノールパージガスではCO,CO2,CH3,
OH、ブタジエンオフガスではC1〜C4炭化水素、コークス
炉ガスではCH4,N2,芳香族ガス,SO2,CO,CO2,NOx,O2、転
炉ガスではCH4,N2,CO,CO2が主な不純成分である。 これらの不純成分を吸着するのに使用される吸着剤に
は、合成ゼオライト、活性炭、分子篩カーボン、活性ア
ルミナ、シリカゲルなど一般に使用されている吸着剤が
用いられる。 これらの吸着剤は一般に、原料ガスに含有されている
不純成分の種類、数および量並びに処理温度などに応じ
それぞれのカラムの条件に適した吸着剤が使用される。
吸着剤は粗精製工程および精製工程の各工程内で同種の
ものを用いる。 各工程で使用されるカラム数は、それぞれ２基以上で
あれば特に制限は無いが、粗精製工程では１〜10基、精
製工程では２〜４基とすることが好ましい。 各カラムに充填する吸着剤量は、それぞれのカラムの
条件に適した量が選ばれる。各カラム間の吸着剤重量の
割合は、各工程内で同じであることが好ましく、また粗
精製工程の充填量と精製工程の充填量の比は、実用上1/
0.1〜10とされる。 吸収カラムの温度および圧力は、各カラムに充填され
ている吸着剤の種類、原料ガス中に含有されている不純
成分の種類、成分数及びその量によって異なり、それぞ
れ適した条件を選択される。 温度は通常 10〜60℃、好ましくは室温ないし常温で
あり、特に加熱、冷却の必要は無いが、加熱、冷却する
ことを妨げない。 吸着操作時のカラム入口の圧力は、通常３〜30kg/cm2
G、好ましくは５〜20kg/cm2Gである。 各操作でのガスの見掛けの空塔速度は、特に制限は無
いが、実用上、通常0.1〜50cm/sec、好ましくは１〜20c
m/secである。 次に図面により本発明を具体的に説明する。 本発明のために使用される精製装置のフローシートの
例を第１図に示す。即ちこの装置は、第１カラム１、第
２カラム２、第３カラム３および第４カラム４の４基の
カラムを有する場合であり、各カラムの塔頂にはそれぞ
れ第１塔頂管９、第２塔頂管10、第３塔頂管11および第
４塔頂管12がある。これらの塔頂管は第１塔頂管９から
分岐した塔頂連絡管13によって互いに接続されている。
またこれらの塔頂管にはそれぞれ第１塔頂弁31、第２塔
頂弁32、第３塔頂弁33および第４塔頂弁34が設けられて
おり、塔頂連絡管13には第２塔頂管10と第３塔頂管11が
接続されている間に塔頂連絡弁35が設けられている。 各カラムの塔底にはそれぞれ第１塔底管18、第２塔底
管19、第３塔底管20および第４塔底管21がある。これら
の塔底管は第１塔底管18から分岐した塔底連絡管22によ
って互いに接続されている。これらの塔底管にはそれぞ
れ第１塔底弁40、第２塔底弁41、第３塔底弁42および第
４塔底弁43が設けられている。また各カラムの塔底と各
弁との間にそれぞれ第１検出器５、第２検出器６、第６
検出器29および第７検出器30が設けられている。 塔頂連絡管13の第３塔頂管11と第４塔頂管12が接続さ
れている間の部分と塔底連絡管22の第３塔底管20と第４
塔底管21が接続されている間の部分とは塔頂塔底連絡管
27で連絡され、塔頂塔底連絡管27には塔頂塔底連絡弁44
および第５検出器28が設けられている。 第３カラム３および第４カラム４の塔底にはそれぞれ
第１製品管23および第２製品管24がある。これらの製品
管にはそれぞれ第１製品弁45および第２製品弁46が設け
られている。また第３カラム３および第４カラム４には
各カラムの塔底と各製品弁との間にそれぞれ第３検出器
７および第４検出器８が設けられている。 また第１製品管23は第２製品弁46の出口の所で第２製
品管24と合流している。第１製品管23の第３検出器７と
第１製品弁45の間の部分から第２再生管26が分岐されて
いる。第２製品管24の第４検出器８と第２製品弁46の間
の部分から第１再生管25が分岐されている。これらの再
生管にはそれぞれ第１再生弁47および第２再生弁48が設
けられている。また第２再生管26には第２再生弁48の出
口の所で第１再生管25と合流している。第１再生管25は
第１製品管23との合流した所の後に第２製品管24と合流
している。 第３カラム３および第４ラム４の塔頂にはそれぞれ第
１連絡管14および第２連絡管15がある。これらの連絡管
にはそれぞれ第１連絡弁36および第２連絡弁37が設けら
れている。また第２連絡管15は第１連絡弁36の入口の所
で第１連絡管14から分岐されている。第１連絡管14は第
１塔底管18の第１検出器５と第１塔底弁40の間の部分で
第１塔底管18から分岐されている。 第３カラム３および第４カラム４の塔頂にはそれぞれ
第３連絡管16および第４連絡管17がある。これらの連絡
管にはそれぞれ第３連絡弁38および第４連絡弁39が設け
られている。また第４連絡管17は第３連絡弁38の入口の
所で第３連絡管16から分岐されている。第３連絡管16は
第２塔底管19の第２検出器６と第２塔底弁41の間の部分
で第２塔底管19から分岐されている。 依って第１カラム１および第２カラム２は並列に接続
され、同様に第３カラム３および第４カラム４は並列に
接続され、更に第１カラム１および第２カラム２は第３
カラム３および第４カラム４と直列に接続され、二段階
の精製が行われる。 なお各カラムの塔底の検出器としては、例えば熱伝導
度検出器、膜電極検出器および赤外線式ガス分析計など
をそれぞれ使用することができる。またこれらの測定器
に代えて、予め実験的に求められらタイムスケジュール
によっても弁を開閉させることができる。 次にこの装置を使用して、粗精製工程および精製工程
からなる二段階の精製工程により、高純度水素を連続的
に得る方法を説明する。 まず粗精製工程は第１カラム１および第２カラム２を
使用し、次の４操作を連続的に行う。 （１）吸着剤を充填したカラムに加圧状態で原料ガスを
供給し、不純成分を吸着させる吸着操作 （２）吸着操作後、カラム内の圧力をほぼ大気圧まで減
圧する減圧操作 （３）原料ガスによる掃気操作 （４）吸着操作と同じ圧力まで加圧する加圧操作 なお第１カラム１が吸着操作にある時は、第２カラム
２において減圧操作、掃気操作および加圧操作を逐次行
い、第２カラム２が吸着操作にある時は、第１カラム１
において減圧操作、掃気操作および加圧操作を逐次行な
う。 第１カラム１を吸着操作とするには、第１塔頂弁31を
開け、第２塔頂弁32、塔頂連絡弁35および第１塔底弁40
を閉め、原料ガスを第１塔頂管９から第１カラム１に供
給する。粗精製されたガスは、第１連絡弁36または第２
連絡弁37を開けることにより第１連絡管14から精製工程
の第３カラム３または第４カラム４に供給される。 一方吸着操作が終了して加圧状態にある第２カラム２
では、まず第３連絡弁38または第４連絡弁39を閉め、第
２塔底弁41を開け、第２塔底管19、塔底連絡管22及び第
１塔底管18へと、加圧状態のガスをほぼ大気圧まで減圧
する減圧操作を行う。次に第２塔頂弁32を開け、第２塔
頂管10より原料ガスを供給し、掃気操作を行う。 第２検出器６で原料ガスと同じ組成になった時点で、
直ちに第２塔底弁41を閉め、吸着操作と同じ圧まで加圧
する加圧操作を行う。これで第２カラム２での吸着操作
の準備が完了する。 第１カラム１での吸着操作において、時間の経過と共
に不純成分の吸着が蓄積し、第１検出器５で不純成分が
検出され始めた時、速やかに第１連絡弁36または第２連
絡弁37を閉め、更に第１塔頂弁31を閉める。上記方法に
より第１カラム１で、減圧操作、掃気操作および加圧操
作を逐次行い、第２カラム２では第２塔頂弁32を開のま
まで吸着操作を行う。 次に精製工程について説明する。精製工程は、第３カ
ラム３および第４カラム４を使用し、次の５つの操作を
連続的に行う。 （１）吸着剤を充填したカラムに加圧状態で粗精製工程
よりのガスを供給し、不純成分を吸着させる最終吸着操
作 （２）最終吸着操作の後、カラム内の圧力をほぼ大気圧
まで減圧する減圧操作 （３）原料ガスによる掃気操作 （４）精製された水素による再生操作 （５）精製された水素により最終吸着操作と同じ圧力ま
で加圧する加圧操作 なお第３カラム３が最終吸着操作である時は、第４カ
ラム４において減圧操作、掃気操作、再生操作および加
圧操作を逐次行い、第４カラム４が最終吸着操作である
時は、第３カラム３において減圧操作、掃気操作、再生
操作および加圧操作を逐次行う。 ここで粗精製工程は、第１カラム１で吸着操作、第２
カラム２で減圧操作、掃気操作あるいは加圧操作を行
い、精製工程は、第３カラム３で最終吸着操作、第４カ
ラム４で減圧操作、掃気操作、再生操作および加圧操作
を行う場合について説明する。 第３カラム３での最終吸着操作は、第１連絡弁36およ
び第１製品弁45を開け、第３塔頂弁33、第３連絡弁38、
第３塔底弁42および再生弁47を閉め、第１カラム１で粗
精製された粗精製ガスを第１連絡管14から第３カラム３
に供給する。精製された水素ガスは、第１製品管23およ
び第２製品管24を通り系外に出される。 一方最終吸着操作終了後加圧状態にある第４カラム４
では、まず第４塔底弁43を開け、第４塔頂弁34、第２連
絡弁37、第４連絡弁39、第２製品弁46および第２再生弁
48を閉め、第４塔底管21、塔底連絡管22および第１塔底
管18へと加圧状態のガスをほぼ大気圧まで減圧する減圧
操作を行う。次に塔頂塔底連絡弁44を閉め、第４塔頂弁
34および塔頂連絡弁35を開け、塔頂連絡管13および第４
塔頂管12を通し原料ガスを供給し掃気操作を行う。 第７検出器30で原料ガスと同じ組成になった時点で直
ちに塔頂連絡弁35および第４塔底弁43を閉め、塔頂塔底
連絡弁44および第２再生弁48を開け、第１再生管25およ
び第２製品管24を通る精製された水素を供給し再生操作
を行う。第４カラム４に供給された水素はカラムに残存
している不純成分と共に第４塔頂管２、塔頂連絡管13、
塔頂塔底連絡管27、塔底連絡管22および第１塔底管18を
通り系外に出される。第５検出器28で不純成分が検出さ
れなくなった時点で直ちに第４塔頂弁34および塔頂塔底
連絡弁44を閉め、最終吸着操作と同じ圧力まで加圧する
加圧操作を行う。加圧操作終了後第２再生弁48を閉め、
これで第４カラム４での最終吸着操作の準備が完了す
る。 第３カラム３の最終吸着操作において時間の経過と共
に第３検出器７で不純成分が出され始めた時、速やかに
第１連絡弁36および第１製品弁45を閉める。続いて第３
カラム３で減圧操作、掃気操作、再生操作および加圧操
作を逐次行い、第４カラム４では最終吸着操作を行う。 （実施例） 次に実施例により本発明を更に具体的に説明する。し
かしながら本発明はこれらの実施例によって限定される
ものでは無い。 実施例 H2 90％、CO 9.5％、CH4 0.45％、CO2 0.05％からな
る原料ガスを第１図に示した装置を用いて精製した。４
基の堅型円筒カラム（径30mm、高さ200mm）に、吸着剤
として合成ゼオライト（和光純薬工業（株）製）を1027
gずつ各カラムに充填した。装置全体の温度は30℃であ
った。検出器は全て赤外線式ガス分析計（島津製作所
製）を使用した。 まず粗精製工程では、原料ガスを第１塔頂管９より第
１カラム１に供給し、吸着操作を行った。原料ガスの供
給量は、1.778Nm3/Hr、供給圧力は、15kg/cm2Gであり、
第１カラム１での見掛けの空塔速度は約0.05m/secであ
った。第１カラム１の塔底からの粗精製ガスは、第１連
絡管14より第３カラム３に供給した。 一方第１カラム１で吸着操作を行っている間に第２カ
ラム２では、既に吸着操作終了後の加圧状態のガスを約
0.1kg/cm2Gまで減圧する減圧操作を第２塔底管19、塔底
連絡管22および第１塔底管18を使用して行った。これに
要した時間は約2.5分であった。次に第２塔頂弁32を開
け原料ガスを供給し、掃気操作を行った。第２検出器６
での検出により、掃気操作開始後約３分で第２塔底弁41
を閉め掃気操作を終了とし、加圧操作へ移行した。加圧
操作の所要時間は約１分であった。これで第２カラム２
での吸着操作の準備が完了した。 吸着操作を行っている第１カラム１では、第１検出器
５の検出により、吸着操作開始後約10.2分で吸着操作を
終了とし第１塔頂弁31および第１連絡弁36を閉め、更に
第２塔頂弁32を開け、第２カラム２での吸着操作を開始
した。なお第１カラム１では、減圧、掃気及び加圧操作
を逐次行った。 次に精製工程について説明する。粗精製ガスは第１連
絡管14より第３カラム３に供給し、最終吸着操作を行っ
た。第３カラム３での見掛けの空塔速度は約0.04m/sec
であった。第３カラム３の塔底よりの精製水素は、第１
製品管23および第２製品管24を通り系外に出した。この
精製水素量は、平均1.36Nm3/Hrであり、その純度は99.9
999％以上であった。この結果水素の回収率は85.0％で
あり、単位時間に精製された水素量当りの吸着剤全使用
量は、3021g−吸着剤.Hr/Nm3となる。 一方第３カラム３で最終吸着操作を行っている間に第
４カラム４では、既に最終吸着操作終了後の加圧状態の
ガスを約0.1kg/cm2Gまで減圧する減圧操作を第４塔底管
21、塔底連絡管22および第１塔底管18を使用して行っ
た。これに要した時間は約2.5分であった。次に第４塔
頂弁34および塔頂連絡弁35を開け原料ガスを供給し、掃
気操作を行った。第７検出器30での検出により、掃気操
作開始後約３分で掃気操作を終了した。次に塔頂連絡弁
35および第４塔底弁43を閉め、塔頂塔底連絡弁44および
第２再生弁48を開け、第１再生管25および第２製品管24
より精製水素を供給し、再生操作を行った。第４カラム
４に供給された水素は、カラムに存在している不純成分
と共に第４塔頂管12、塔頂連絡管13、塔頂塔底連絡管2
7、塔底連絡管22および第１塔底管18を通り系外に出さ
れた。再生操作開始後約３分で第５検出器28の検出によ
り再生操作を終了した。次に第４塔頂弁34および塔頂塔
底連絡弁44を閉め、加圧操作へ移行した。加圧操作の所
要時間は約１分であった。これで第４カラム４での最終
吸着操作の準備が完了した。 最終吸着操作を行っている第３カラム３では、第３検
出器７の検出により、最終吸着操作開始後約200分で吸
着操作を終了とし第１連絡弁36および第１製品弁45を閉
め、更に第２連絡弁37を開け、第４カラム４での最終吸
着操作を開始した。なお第３カラム３では、減圧操作、
掃気操作、再生操作及び加圧操作を逐次行った。 比較例 カラムを４基並列にならべた第２図に示す装置を用い
て、実施例と同じガスを精製した。 この装置は、第１カラム１、第２カラム２、第３カラ
ム３および第４カラム４の４基のカラムを有しており、
各カラムの吸着剤とその充填量およびそれらの操作条件
は、実施例と同一とした。 この装置においては、各カラムの塔頂にそれぞれ第１
塔頂管14、第２塔頂管15、第３塔頂管16および第４塔頂
管17があり、これらの塔頂管は第１塔頂管14から分岐し
た塔頂連絡管18によって互いに接続されている。またこ
れらの塔頂管にはそれぞれ第１塔頂弁40、第２塔頂弁4
1、第３塔頂弁42および第４塔頂弁43が設けられてい
る。 各カラムの塔底にはそれぞれ第１塔底管19、第２塔底
管20、第３塔底管21および第４塔底管22がある。これら
の塔底管は第１塔底管19から分岐した塔底連絡管23によ
って互いに接続されている。またこれらの塔底管にはそ
れぞれ第１塔底弁44、第２塔底弁45、第３塔底弁46およ
び第４塔底弁47が設けられている。また各カラムの塔底
と各塔底弁との間にそれぞれそれぞれ第１検出器５、第
２検出器６、第３検出器７および第４検出器８が設けら
れている。 また各カラムの塔底にはそれぞれ第１製品管24、第２
製品管25、第３製品管26および第４製品管27がある。こ
れらの製品管は製品連絡弁28によって互いに接続され、
第４製品管27に合流される。これらの製品管にはそれぞ
れ第１製品弁48、第２製品弁49、第３製品弁50および第
４製品弁51が設けられている。また各カラムの塔底と各
製品弁との間にそれぞれそれぞれ第５検出器９、第６検
出器10、第７検出器11および第８検出器12が設けられて
いる。 各製品管の検出器と製品弁の間の所から第１再生管2
6、第２再生管30、第３再生管31および第４再生管32が
分岐されている。これらの再生管は再生連絡管33によっ
て互いに接続され、第４再生管32に合流される。これら
の再生管にはそれぞれ第１再生弁52、第２再生弁53、第
３再生弁54および第４再生弁55が設けられている。また
第４再生管32は第４製品管27に合流される。 各カラムの塔頂にはそれぞれ第１回収管34、第２回収
管35、第３回収管36および第４回収管37がある。これら
の回収管は回収連絡管38によって互いに接続されて第１
回収管34に合流され、また第１回収管34は第１塔底管19
に合流される。これらの回収管にはそれぞれ第１回収弁
56、第２回収弁57、第３回収弁58および第４回収弁59が
設けられている。また第１回収管34には第９検出器13が
設けられている。 この装置では、一段階のみの精製であるため、実施例
の精製工程のみを実施例に準じて行った。 即ち第１カラム１が最終吸着操作にある時は、第２カ
ラム２では減圧操作、第３カラムでは掃気操作、第４カ
ラム４は再生および加圧操作を行った。また第１カラム
１で最終吸着操作終了後は減圧操作、掃気操作、再生操
作および加圧操作を逐次行い、第２カラム２、第３カラ
ム３および第４カラム４でも同様とした。 この結果、精製水素量は平均1.12Nm3/Hr、水素純度9
9.99％であった。水素の回収率は70.0％、単位時間に精
製された水素量当りの吸着剤全使用量は3668g−吸着剤.
Hr/Nm3となる。 このように本比較例では、実施例に比較して、水素純
度および回収率が著しく低下しており、単位時間に精製
された水素量当りの吸着剤全使用量も多くなっている。 （発明の効果） 本発明においては、水素精製工程が二段階で行われる
ので、充填されている吸着剤が有効に使用されることに
なり、少ない吸着剤の使用量で、水素回収率が向上し、
また水素純度も著しく向上する。これにより水素精製コ
ストが著しく低減されると共に、今まで困難であった吸
着カラムクロマトグラフィー法の大型化が促進されるよ
うになり、本発明の工業的意義が大きい。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の方法において使用される水素精製装置
のフローシートの一例を示し、また第２図は本発明の比
較例において使用された水素精製装置のフローシートを
示す。 （第１図） １〜4:第１〜４カラム、13:塔頂連絡管 ５〜8:第１〜４検出器、14〜17:第１〜４連絡管 ９〜12:第１〜４塔頂管、18〜21:第１〜４塔底管 22:塔底連絡管、35:塔頂連絡弁 23〜24:第１〜２製品管、36〜39:第１〜４連絡弁 25〜26:第１〜２再生管、40〜43:第１〜４塔底弁 27:塔頂塔底連絡管、44:塔頂塔底連絡弁 28〜30:第５〜７検出器、45〜46:第１〜２製品弁 31〜34:第１〜４塔頂弁、47〜48:第１〜２再生弁 （第２図） １〜4:第１〜４カラム、33:再生連絡管 ５〜13:第１〜９検出器、34〜37:第１〜４回収管 14〜17:第１〜４塔頂管、38:回収連絡管 18:塔頂連絡管、40〜43:第１〜４塔頂弁 19〜22:第１〜４塔底管、44〜47:第１〜４塔底弁 23:塔底連絡管、48〜51:第１〜４製品弁 24〜27:第１〜４製品管、52〜55:第１〜４再生弁 28:製品連絡管、56〜59:第１〜４回収弁 29〜32:第１〜４再生管
のフローシートの一例を示し、また第２図は本発明の比
較例において使用された水素精製装置のフローシートを
示す。 （第１図） １〜4:第１〜４カラム、13:塔頂連絡管 ５〜8:第１〜４検出器、14〜17:第１〜４連絡管 ９〜12:第１〜４塔頂管、18〜21:第１〜４塔底管 22:塔底連絡管、35:塔頂連絡弁 23〜24:第１〜２製品管、36〜39:第１〜４連絡弁 25〜26:第１〜２再生管、40〜43:第１〜４塔底弁 27:塔頂塔底連絡管、44:塔頂塔底連絡弁 28〜30:第５〜７検出器、45〜46:第１〜２製品弁 31〜34:第１〜４塔頂弁、47〜48:第１〜２再生弁 （第２図） １〜4:第１〜４カラム、33:再生連絡管 ５〜13:第１〜９検出器、34〜37:第１〜４回収管 14〜17:第１〜４塔頂管、38:回収連絡管 18:塔頂連絡管、40〜43:第１〜４塔頂弁 19〜22:第１〜４塔底管、44〜47:第１〜４塔底弁 23:塔底連絡管、48〜51:第１〜４製品弁 24〜27:第１〜４製品管、52〜55:第１〜４再生弁 28:製品連絡管、56〜59:第１〜４回収弁 29〜32:第１〜４再生管
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合議体
審判長 松本 悟
審判官 内野 春喜
審判官 関根 恒也
(56)参考文献 特開 昭59−207803（ＪＰ，Ａ)
特公 昭55−46962（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．水素と少なくとも１種類以上の不純物を含む原料ガ
スを吸着ガスクロマトグラフィー法で精製するに際し、
原料ガスの吸着操作と減圧操作、原料ガスによる掃気操
作および加圧操作とに切換えることができる２基以上の
カラムを有する粗精製工程と、粗精製工程より得られた
粗精製ガスの最終吸着操作と減圧操作、原料ガスによる
掃気操作、精製された水素による再生操作および加圧操
作とに切換えることができる２基以上のカラムを有する
精製工程からなり、粗精製工程と精製工程で同種の吸着
剤を用いることを特徴とする水素の精製法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62150186A JP2848557B2 (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 水素の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62150186A JP2848557B2 (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 水素の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63315503A JPS63315503A (ja) | 1988-12-23 |
| JP2848557B2 true JP2848557B2 (ja) | 1999-01-20 |
Family
ID=15491392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62150186A Expired - Lifetime JP2848557B2 (ja) | 1987-06-18 | 1987-06-18 | 水素の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2848557B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4212106B2 (ja) | 2005-04-19 | 2009-01-21 | オルガノ株式会社 | ガス分離装置及びガス分離方法 |
| CN110436414A (zh) * | 2019-07-31 | 2019-11-12 | 武汉钢铁有限公司 | 一种高纯氢气净化设备 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59207803A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-11-26 | Nippon Kagaku Gijutsu Kk | 二段圧力スイング吸着法による水素精製方法 |
-
1987
- 1987-06-18 JP JP62150186A patent/JP2848557B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63315503A (ja) | 1988-12-23 |
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