JP2839716B2 - フォトクロミックナフトピラン化合物 - Google Patents
フォトクロミックナフトピラン化合物Info
- Publication number
- JP2839716B2 JP2839716B2 JP7502913A JP50291395A JP2839716B2 JP 2839716 B2 JP2839716 B2 JP 2839716B2 JP 7502913 A JP7502913 A JP 7502913A JP 50291395 A JP50291395 A JP 50291395A JP 2839716 B2 JP2839716 B2 JP 2839716B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- phenyl
- fluoro
- photochromic
- alkoxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/04—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/23—Photochromic filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D407/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00
- C07D407/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing two hetero rings
- C07D407/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/15—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring
- C08K5/151—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring having one oxygen atom in the ring
- C08K5/1545—Six-membered rings
Description
【発明の詳細な説明】 発明の説明 本発明はある新規なナフトピラン化合物に関する。特
別には、本発明は新規なフォトクロミックナフトピラン
化合物、及びこのような新規なナフトピラン化合物を含
有する組成物及び物品に関する。紫外線、例えば太陽光
又は水銀ランプ中の紫外線を含む光放射線に暴露したと
き、多くのフォトクロミック化合物は可逆的な色の変化
を示す。紫外線の照射を中断したとき、このようなフォ
トクロミック化合物はその当初の色又は無色状態に戻
る。
別には、本発明は新規なフォトクロミックナフトピラン
化合物、及びこのような新規なナフトピラン化合物を含
有する組成物及び物品に関する。紫外線、例えば太陽光
又は水銀ランプ中の紫外線を含む光放射線に暴露したと
き、多くのフォトクロミック化合物は可逆的な色の変化
を示す。紫外線の照射を中断したとき、このようなフォ
トクロミック化合物はその当初の色又は無色状態に戻
る。
いろいろな種類のフォトクロミック化合物が合成さ
れ、太陽光で誘導される可逆的な変化又は暗色化が望ま
れる用途での使用が提案されてきた。米国特許第3,657,
605号（ベッカー（Becker））はあるベンゾピラン類及
びナフトピラン類を包含する一連のピラン誘導体を記載
している。これらの化合物はクロメンの誘導体として記
載され、色の変化（例えば無色から黄色−オレンジへ）
が約−30℃以下の温度で紫外光による光照射時に生じる
と報告されている。化合物の可視光での又は約０℃以上
に温度を上げたときの光照射は着色状態を無色状態に戻
すと報告されている。
れ、太陽光で誘導される可逆的な変化又は暗色化が望ま
れる用途での使用が提案されてきた。米国特許第3,657,
605号（ベッカー（Becker））はあるベンゾピラン類及
びナフトピラン類を包含する一連のピラン誘導体を記載
している。これらの化合物はクロメンの誘導体として記
載され、色の変化（例えば無色から黄色−オレンジへ）
が約−30℃以下の温度で紫外光による光照射時に生じる
と報告されている。化合物の可視光での又は約０℃以上
に温度を上げたときの光照射は着色状態を無色状態に戻
すと報告されている。
本発明は新規なナフトピラン化合物に関し、その着色
状態が置換基を有さない又は同じ環の位置に異なった置
換基を有する対応する化合物より予想外に高い吸収最大
を有することを見いだした。これらの化合物はピラン環
の３位を（ｉ）アリール置換基及び（ii）フェニル置換
基の第３及び４の炭素原子で融合した５−又は６−員環
の複素環状環を有するフェニル置換基で置換されてい
る。
状態が置換基を有さない又は同じ環の位置に異なった置
換基を有する対応する化合物より予想外に高い吸収最大
を有することを見いだした。これらの化合物はピラン環
の３位を（ｉ）アリール置換基及び（ii）フェニル置換
基の第３及び４の炭素原子で融合した５−又は６−員環
の複素環状環を有するフェニル置換基で置換されてい
る。
発明の詳細な説明 近年、フェトクロミックプラスチック材料、特に光学
的用途用のプラスチック材料が重要な考察の対象となっ
てきた。特に、フォトクロミック眼鏡用プラスチックレ
ンズはガラスレンズに対抗してそれが与える重量優位性
のために研究されてきた。更に、乗り物、例えば自動車
及び飛行機用に対しフォトクロミックの透過性は、その
透過性が与える潜在的な安全特性のために興味が持たれ
ている。
的用途用のプラスチック材料が重要な考察の対象となっ
てきた。特に、フォトクロミック眼鏡用プラスチックレ
ンズはガラスレンズに対抗してそれが与える重量優位性
のために研究されてきた。更に、乗り物、例えば自動車
及び飛行機用に対しフォトクロミックの透過性は、その
透過性が与える潜在的な安全特性のために興味が持たれ
ている。
光学的用途、例えば従来の眼鏡用レンズに有用なフォ
トクロミック化合物は（ａ）近紫外線で着色するための
高い量子効率（quantum efficiency）、（ｂ）白色光で
漂白するための低い量子収率（quantum yield）、及び
（ｃ）外気温度で比較的早い熱的減衰であるが白色光漂
白及び熱的減衰の組み合わせが強い太陽光の紫外線成分
による着色を防止するほど熱的減衰速度が早くないこと
を備えたものである。更に、このような材料をこのよう
なフォトクロミック化合物に適用した又はフォトクロミ
ック化合物をその内部に導入した場合に、前述の特性は
眼鏡用又は平面レンズ用に慣用的に使用される常套の剛
直な合成プラスチック材料中で、好適に保持される。
トクロミック化合物は（ａ）近紫外線で着色するための
高い量子効率（quantum efficiency）、（ｂ）白色光で
漂白するための低い量子収率（quantum yield）、及び
（ｃ）外気温度で比較的早い熱的減衰であるが白色光漂
白及び熱的減衰の組み合わせが強い太陽光の紫外線成分
による着色を防止するほど熱的減衰速度が早くないこと
を備えたものである。更に、このような材料をこのよう
なフォトクロミック化合物に適用した又はフォトクロミ
ック化合物をその内部に導入した場合に、前述の特性は
眼鏡用又は平面レンズ用に慣用的に使用される常套の剛
直な合成プラスチック材料中で、好適に保持される。
化合物、例えば3,3−ジフェニル−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピランは近紫外線露光時に色変化するが；室温以上
ではこの化合物は眼鏡用レンズにおける使用にとっては
早く漂白し過ぎる。メタ位又はパラ位のいずれか又は両
方のフェニル環の置換は更に早い漂白速度を生じ、従っ
て更に低い色濃度を生じる。化合物2,2−ジフェニル−2
H−ナフト［2,1−ｂ］ピランも室温で近紫外線露光時に
着色するが適度な時間内に漂白しない。メタ位又はパラ
位のいずれか又は両方のフェニル環の置換はこれらの化
合物の漂白速度においてほとんど効果がない。
ｂ］ピランは近紫外線露光時に色変化するが；室温以上
ではこの化合物は眼鏡用レンズにおける使用にとっては
早く漂白し過ぎる。メタ位又はパラ位のいずれか又は両
方のフェニル環の置換は更に早い漂白速度を生じ、従っ
て更に低い色濃度を生じる。化合物2,2−ジフェニル−2
H−ナフト［2,1−ｂ］ピランも室温で近紫外線露光時に
着色するが適度な時間内に漂白しない。メタ位又はパラ
位のいずれか又は両方のフェニル環の置換はこれらの化
合物の漂白速度においてほとんど効果がない。
本発明によれば、近紫外性で着色するための高い量子
効率及び許容可能な減衰速度を有するある新規なナフト
ピラン化合物を調製することができることをここに見い
だした。これらの化合物はピラン環の３位を（ｉ）アリ
ール置換基及び（ii）フェニル置換基の第３及び４の炭
素原子で縮合した５−又は６−員環の複素環状環を有す
るフェニル置換基で、置換されたナフトピラン類そして
記載してもよく、以下の式で表してもよい。
効率及び許容可能な減衰速度を有するある新規なナフト
ピラン化合物を調製することができることをここに見い
だした。これらの化合物はピラン環の３位を（ｉ）アリ
ール置換基及び（ii）フェニル置換基の第３及び４の炭
素原子で縮合した５−又は６−員環の複素環状環を有す
るフェニル置換基で、置換されたナフトピラン類そして
記載してもよく、以下の式で表してもよい。
式Ｉにおいて、R1及びR2はそれぞれC1〜C10アルキ
ル、C5〜C7シクロアルキル、例えばシクロペンチル、シ
クロヘキシル、及びシクロヘプチル、ハロゲン、Ｒ
（Ｒ′）Ｎ−、又は−Ｏ−Ｌ基であってもよく、ここ
で、Ｒ及びＲ′はそれぞれ水素又はC1〜C3アルキルであ
り、ＬはC1〜C12アルキル、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、ノニル、デシル、ウンデシル、及びドデシル、フ
ェニル（C1〜C3）アルキル、例えばベンジル、フェネチ
ル、フェニルプロピル、モノー、ジ−及びトリ（C1〜
C3）アルキルフェニル、例えばトリル、キシリル、メシ
チル、及びクメニル、C1〜C5アルキルカルボニル、及び
ハロ（C1〜C4）アルキルカルボニル（これはモノ−、ジ
−又はトリ−ハロ置換基を包含する）、C1〜C4モノアル
キルアミノカルボニル、アセトニル、ピリジル、置換又
は非置換アリールカルボニル（前記アリール基はフェニ
ル又はナフチルであり、前記アリール置換基はC1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、例えばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、及びブトキシである）、ハロゲン、C5
〜C7シクロアルキル又はC1〜C4アルキル置換C5〜C7シク
ロアルキルであり、先に記載した前記ハロゲン（又はハ
ロ）基はクロロ、フルオロ、又はブロモであり、ａ及び
ｂはそれぞれ０、１又は２の整数であり、但しａ及びｂ
の合計は２以下である。
ル、C5〜C7シクロアルキル、例えばシクロペンチル、シ
クロヘキシル、及びシクロヘプチル、ハロゲン、Ｒ
（Ｒ′）Ｎ−、又は−Ｏ−Ｌ基であってもよく、ここ
で、Ｒ及びＲ′はそれぞれ水素又はC1〜C3アルキルであ
り、ＬはC1〜C12アルキル、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、ノニル、デシル、ウンデシル、及びドデシル、フ
ェニル（C1〜C3）アルキル、例えばベンジル、フェネチ
ル、フェニルプロピル、モノー、ジ−及びトリ（C1〜
C3）アルキルフェニル、例えばトリル、キシリル、メシ
チル、及びクメニル、C1〜C5アルキルカルボニル、及び
ハロ（C1〜C4）アルキルカルボニル（これはモノ−、ジ
−又はトリ−ハロ置換基を包含する）、C1〜C4モノアル
キルアミノカルボニル、アセトニル、ピリジル、置換又
は非置換アリールカルボニル（前記アリール基はフェニ
ル又はナフチルであり、前記アリール置換基はC1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、例えばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、及びブトキシである）、ハロゲン、C5
〜C7シクロアルキル又はC1〜C4アルキル置換C5〜C7シク
ロアルキルであり、先に記載した前記ハロゲン（又はハ
ロ）基はクロロ、フルオロ、又はブロモであり、ａ及び
ｂはそれぞれ０、１又は２の整数であり、但しａ及びｂ
の合計は２以下である。
好ましくは、R1及びR2はそれぞれＲ（Ｒ′）Ｎ−、又
は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ
水素又はC1〜C3アルキルであり、ＬはC1〜C4アルキル、
C1〜C2アルキルフェニル、フェニル（C1〜C2）アルキ
ル、C1〜C2アルキルカルボニル、ハロ（C1〜C2）アルキ
ルカルボニル又はC1〜C2モノアルキルアミノカルボニル
であり、前記ハロ基はクロロ又はフルオロであり、ａ及
びｂはそれぞれ０又は１の整数である。
は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ
水素又はC1〜C3アルキルであり、ＬはC1〜C4アルキル、
C1〜C2アルキルフェニル、フェニル（C1〜C2）アルキ
ル、C1〜C2アルキルカルボニル、ハロ（C1〜C2）アルキ
ルカルボニル又はC1〜C2モノアルキルアミノカルボニル
であり、前記ハロ基はクロロ又はフルオロであり、ａ及
びｂはそれぞれ０又は１の整数である。
Ｂは置換又は非置換アリール基、ナフチル又はフェニ
ルでもよく、前記アリール置換基はC1〜C5アルキル、ハ
ロ（C1〜C5）アルキル、ヒドロキシ、C1〜C5アルコキ
シ、C1〜C4アルコキシ（C1〜C4）アルキル、ハロゲン、
又はＲ（Ｒ′）Ｎ−であり、ここで、Ｒ及びＲ′はそれ
ぞれ水素又はC1〜C3アルキルであり、前記ハロゲン（ハ
ロ）基はフッ素、塩素又は臭素である。好ましくは、Ｂ
は以下の式IIで表される。
ルでもよく、前記アリール置換基はC1〜C5アルキル、ハ
ロ（C1〜C5）アルキル、ヒドロキシ、C1〜C5アルコキ
シ、C1〜C4アルコキシ（C1〜C4）アルキル、ハロゲン、
又はＲ（Ｒ′）Ｎ−であり、ここで、Ｒ及びＲ′はそれ
ぞれ水素又はC1〜C3アルキルであり、前記ハロゲン（ハ
ロ）基はフッ素、塩素又は臭素である。好ましくは、Ｂ
は以下の式IIで表される。
式II中、R6は水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキ
シ、フルオロ、又はクロロであり、それぞれR7はC1〜C4
アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキシ、クロロ又は
フルオロであり、ｄは０から２の整数である。
シ、フルオロ、又はクロロであり、それぞれR7はC1〜C4
アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキシ、クロロ又は
フルオロであり、ｄは０から２の整数である。
Ｂ′は以下の式III又はIVの１つで表してもよい。
式III及びIV中、Ｘは酸素又は窒素であり、Ｙは炭素
又は酸素であり、但しＸが窒素のときＹは炭素であり;R
4及びR5はそれぞれ水素、又はC1〜C5アルキルである；
それぞれR3はC1〜C5アルキル、C1〜C5アルコキシ、ヒド
ロキシ、又はハロゲンであり、前記ハロゲン置換基はク
ロロ、フルオロ、又はブロモであり、ｃは０から３の整
数、例えば０、１、２、又は３である。好ましくは、
Ｂ′は式IIIで表され、ここでＸは酸素であり;Yは炭素
又は酸素であり、;R4及びR5はそれぞれ水素、又はC1〜C
4アルキルであり；それぞれR3はC1〜C4アルキル、C1〜C
4アルコキシ、ヒドロキシ、又はフルオロであり;cは
０、１又は２の整数である。
又は酸素であり、但しＸが窒素のときＹは炭素であり;R
4及びR5はそれぞれ水素、又はC1〜C5アルキルである；
それぞれR3はC1〜C5アルキル、C1〜C5アルコキシ、ヒド
ロキシ、又はハロゲンであり、前記ハロゲン置換基はク
ロロ、フルオロ、又はブロモであり、ｃは０から３の整
数、例えば０、１、２、又は３である。好ましくは、
Ｂ′は式IIIで表され、ここでＸは酸素であり;Yは炭素
又は酸素であり、;R4及びR5はそれぞれ水素、又はC1〜C
4アルキルであり；それぞれR3はC1〜C4アルキル、C1〜C
4アルコキシ、ヒドロキシ、又はフルオロであり;cは
０、１又は２の整数である。
式III中、Ｘが酸素でありＹが炭素でありｃが０のと
き、この基は2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イルで
あり;Xが酸素でありＹが酸素でありｃが０のとき、この
基は1,3−ベンゾ−ジオキソール−５−イルであり;Xが
窒素でありＹが炭素でありｃが０のとき、この基はイン
ドリン−５−イルである。式IV中、Ｘが酸素でありＹが
炭素のとき、この非置換基はクロマン−６−イルであ
り;Xが酸素でありＹが酸素のとき、この非置換基は1,4
−ベンゾジオキサン−６−イルであり;Xが窒素でありＹ
が炭素のとき、この非置換基は1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−６−イルである。簡潔にするために、これら
の基はここでは縮合複素環状−フェニル基として示す。
き、この基は2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イルで
あり;Xが酸素でありＹが酸素でありｃが０のとき、この
基は1,3−ベンゾ−ジオキソール−５−イルであり;Xが
窒素でありＹが炭素でありｃが０のとき、この基はイン
ドリン−５−イルである。式IV中、Ｘが酸素でありＹが
炭素のとき、この非置換基はクロマン−６−イルであ
り;Xが酸素でありＹが酸素のとき、この非置換基は1,4
−ベンゾジオキサン−６−イルであり;Xが窒素でありＹ
が炭素のとき、この非置換基は1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−６−イルである。簡潔にするために、これら
の基はここでは縮合複素環状−フェニル基として示す。
式Ｉで表される化合物を式Ｖの適当に置換された又は
非置換のベンゾイルクロライドを市販入手可能な縮合複
素環状−ベンゼン化合物とともに使用したフリーデル−
クラフツ法によって調製し式III又はIVのＢ′構造を生
成する。刊行物フリーデル−クラフツ及び関連反応（Fr
iedel−Crafts and Related Reactions）、ジョージ（G
eorge）A.オラフ（Olah）、インターサイエンス・パブ
リシャーズ（Interscience Publishers）、1964年、第
３巻、第XXXI章（芳香族ケトン合成（Aromatic Ketone
Synthesis））、及び「1,2,3,4−テトラヒドロキノリン
及び関連窒素複素環の放射線選択性フリーデル−クラフ
ツアシル化:NH保護基及び環の大きさにおける効果（Reg
ioselective Friedel−Crafts Acylation of 1,2,3,4−
Tettrahydroquinoline and Related Nitrogen Heterocy
cles:Effect on NH Protective Groups and Ring Siz
e）」、イシハラ・ユウジ（Ishihara,Yuji）ら、J.ケ
ム．ソク．（Chem.Soc.）パーキ・トランス．（Perkin
Trans.）１、3401〜3406頁、1992年参照。
非置換のベンゾイルクロライドを市販入手可能な縮合複
素環状−ベンゼン化合物とともに使用したフリーデル−
クラフツ法によって調製し式III又はIVのＢ′構造を生
成する。刊行物フリーデル−クラフツ及び関連反応（Fr
iedel−Crafts and Related Reactions）、ジョージ（G
eorge）A.オラフ（Olah）、インターサイエンス・パブ
リシャーズ（Interscience Publishers）、1964年、第
３巻、第XXXI章（芳香族ケトン合成（Aromatic Ketone
Synthesis））、及び「1,2,3,4−テトラヒドロキノリン
及び関連窒素複素環の放射線選択性フリーデル−クラフ
ツアシル化:NH保護基及び環の大きさにおける効果（Reg
ioselective Friedel−Crafts Acylation of 1,2,3,4−
Tettrahydroquinoline and Related Nitrogen Heterocy
cles:Effect on NH Protective Groups and Ring Siz
e）」、イシハラ・ユウジ（Ishihara,Yuji）ら、J.ケ
ム．ソク．（Chem.Soc.）パーキ・トランス．（Perkin
Trans.）１、3401〜3406頁、1992年参照。
酸素を含有する縮合複素環状−ベンゼン化合物が市販
入手できない場合には適当に置換されたフェノールから
有機反応（Organic Reactions）、第II巻、26〜27頁に
記載されているように調製してもよい。以下に示す反応
Ａにおいて、式Ｖ及びIIIで表される化合物を溶剤、例
えば二硫化炭素又は塩化メチレン中にルイス酸、例えば
塩化アルミニウムの存在中で溶解して式VIIで表される
対応する複素環状縮合ベンゾフェノンを形成する。
入手できない場合には適当に置換されたフェノールから
有機反応（Organic Reactions）、第II巻、26〜27頁に
記載されているように調製してもよい。以下に示す反応
Ａにおいて、式Ｖ及びIIIで表される化合物を溶剤、例
えば二硫化炭素又は塩化メチレン中にルイス酸、例えば
塩化アルミニウムの存在中で溶解して式VIIで表される
対応する複素環状縮合ベンゾフェノンを形成する。
以下に示す反応Ｂにおいて、式VIIで表される複素環
状縮合ベンゾフェノンをナトリウムアセチリドと好適な
溶剤、例えば、ドライテトラヒドロフラン中で反応さ
せ、式VIIIで表される対応するプロパジル（propargy
l）アルコールを形成する。
状縮合ベンゾフェノンをナトリウムアセチリドと好適な
溶剤、例えば、ドライテトラヒドロフラン中で反応さ
せ、式VIIIで表される対応するプロパジル（propargy
l）アルコールを形成する。
以下に示す反応Ｃにおいて、式VIIIで表されるプロパ
ジルアルコールを式IXで表される適当に置換された２−
ナフトールと酸性条件下でカップリングし、これが式Ｉ
で表される化合物である。
ジルアルコールを式IXで表される適当に置換された２−
ナフトールと酸性条件下でカップリングし、これが式Ｉ
で表される化合物である。
反応Ａにおいて式IVの縮合複素環状−フェニル基に式
IIIのそれを置き換えることによって、３−フェニル置
換基の第３及び４の炭素原子で縮合した６員環複素環状
環である以外は式Ｘによって表されるものと類似した化
合物を調製してもよい。
IIIのそれを置き換えることによって、３−フェニル置
換基の第３及び４の炭素原子で縮合した６員環複素環状
環である以外は式Ｘによって表されるものと類似した化
合物を調製してもよい。
式Ｉで表される化合物を有機フォトクロミック物質を
用いてもよい用途、例えば光学レンズ、例えば、眼鏡用
及び平面レンズ、フェイスシールド、ゴーグル、バイザ
ー、カメラレンズ、窓、自動ウインドシールド、エアー
クラフト）及び自動スライド（automotive transparenc
ies）、例えば、Ｔ−ルーフ、サイドライト、及びバッ
クライト、プラスチックフィルム及びシート、織物及び
被膜、例えばペイントのような被膜組成物、及び認証又
証明の真実性が要求される重要書類例えば預金通帳、パ
スポート及び運転免許証のような書類上への証明印に使
用してもよい。式Ｉで表されるナフトピラン類は無色か
ら黄色〜オレンジの範囲の着色への色変化を有する。
用いてもよい用途、例えば光学レンズ、例えば、眼鏡用
及び平面レンズ、フェイスシールド、ゴーグル、バイザ
ー、カメラレンズ、窓、自動ウインドシールド、エアー
クラフト）及び自動スライド（automotive transparenc
ies）、例えば、Ｔ−ルーフ、サイドライト、及びバッ
クライト、プラスチックフィルム及びシート、織物及び
被膜、例えばペイントのような被膜組成物、及び認証又
証明の真実性が要求される重要書類例えば預金通帳、パ
スポート及び運転免許証のような書類上への証明印に使
用してもよい。式Ｉで表されるナフトピラン類は無色か
ら黄色〜オレンジの範囲の着色への色変化を有する。
発明の範囲内で期待されるナフトピラン類の例は以下
の物である。
の物である。
（１）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）
−３−フェニル−3H−ナフト−［2,1−ｂ］ピラン； （２）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）
−３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピラン； （３）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）
−３−（２−メトキシフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピラン； （４）５−アセトキシ−３−（2,3−ジヒドロベンゾフ
ラン−５−イル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H
−ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （５）８−メトキシ−３−（2,3−ジヒドロベンゾフラ
ン−５−イル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H−
ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （６）３−（４−メトキシフェニル）−３−（2,4,7−
トリメチル−2,3−ジヒドロ−ベンゾフラン−５−イ
ル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （７）３−（２−メチルジヒドロベンゾフラン−５−イ
ル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,
1−ｂ］ピラン； （８）３−（1,4−ベンゾジオキサン−６−イル）−３
−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］
ピラン； （９）３−（1,3−ベンゾジオキソール−５−イル）−
３−フェニル−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （10）３−（インドリン−５−イル）−３−フェニル−
3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン；及び （11）３−（1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−６−イ
ル）−３−フェニル−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン。
−３−フェニル−3H−ナフト−［2,1−ｂ］ピラン； （２）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）
−３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピラン； （３）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）
−３−（２−メトキシフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピラン； （４）５−アセトキシ−３−（2,3−ジヒドロベンゾフ
ラン−５−イル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H
−ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （５）８−メトキシ−３−（2,3−ジヒドロベンゾフラ
ン−５−イル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H−
ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （６）３−（４−メトキシフェニル）−３−（2,4,7−
トリメチル−2,3−ジヒドロ−ベンゾフラン−５−イ
ル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （７）３−（２−メチルジヒドロベンゾフラン−５−イ
ル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,
1−ｂ］ピラン； （８）３−（1,4−ベンゾジオキサン−６−イル）−３
−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］
ピラン； （９）３−（1,3−ベンゾジオキソール−５−イル）−
３−フェニル−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （10）３−（インドリン−５−イル）−３−フェニル−
3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン；及び （11）３−（1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−６−イ
ル）−３−フェニル−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン。
ハロゲン化銀粒子を市販入手可能な光反応性無機ガラ
スレンズは太陽光中でニュートラルグレイ又はブラウン
色に暗色化する。式Ｉの有機フォトクロミックナフトピ
ラン類を用いたプラスチックレンズにおいてこの色変化
を再現するために、このようなナフトピラン類を他の好
適な補足的有機フォトクロミック材料と組み合わせ使用
し、このようなフォトクロミック材料を含有するプラス
チックレンズが紫外光に暴露されたときにこれらが共同
で所望のグレイ又はブラウン色の影を形成するように設
計する。例えば、黄色に着色する化合物を適当に紫に着
色する化合物と混ぜ合わせてブラウンの影を形成しても
よい。同様に、その着色状態がオレンジである化合物は
適当に青色に着色する化合物とともに使用した場合にグ
レイの影を生成する。
スレンズは太陽光中でニュートラルグレイ又はブラウン
色に暗色化する。式Ｉの有機フォトクロミックナフトピ
ラン類を用いたプラスチックレンズにおいてこの色変化
を再現するために、このようなナフトピラン類を他の好
適な補足的有機フォトクロミック材料と組み合わせ使用
し、このようなフォトクロミック材料を含有するプラス
チックレンズが紫外光に暴露されたときにこれらが共同
で所望のグレイ又はブラウン色の影を形成するように設
計する。例えば、黄色に着色する化合物を適当に紫に着
色する化合物と混ぜ合わせてブラウンの影を形成しても
よい。同様に、その着色状態がオレンジである化合物は
適当に青色に着色する化合物とともに使用した場合にグ
レイの影を生成する。
使用してもよい補助的有機フォトクロミック化合物の
特に考えられる種類としては、：紫／青スピロ（インド
リン）ベンゾキサジン類（米国特許第4,816,584号に記
載）；スピロ（インドリン）ピリドベゾキサジンフェト
クロミック化合物（米国特許第4,637,698号に記載）；
スピロ（インドリン）ナフトキサジン類（米国特許第3,
562,172、3,578,602、4,215,010及び7,342,668号に記
載）；及びピラン環の２位に窒素含有置換基を有するベ
ンゾピラン類及びナフトピラン類（米国特許第4,818,09
6号に記載）がある。前述のオキサジン−およびピラン
−タイプの有機フォトクロミック化合物はすべて紫外光
に暴露の際無色から紫／青への色変化を生ずることが報
告されている。前記米国特許の記載をここに挿入する。
特に考えられる種類としては、：紫／青スピロ（インド
リン）ベンゾキサジン類（米国特許第4,816,584号に記
載）；スピロ（インドリン）ピリドベゾキサジンフェト
クロミック化合物（米国特許第4,637,698号に記載）；
スピロ（インドリン）ナフトキサジン類（米国特許第3,
562,172、3,578,602、4,215,010及び7,342,668号に記
載）；及びピラン環の２位に窒素含有置換基を有するベ
ンゾピラン類及びナフトピラン類（米国特許第4,818,09
6号に記載）がある。前述のオキサジン−およびピラン
−タイプの有機フォトクロミック化合物はすべて紫外光
に暴露の際無色から紫／青への色変化を生ずることが報
告されている。前記米国特許の記載をここに挿入する。
紫外光に暴露の際無色から黄色／オレンジへの色変化
を生じることが報告され、組み合わせて使用して本発明
のナフトピラン化合物の黄色／オレンジ色を増大させる
他の考えられる補助的有機フォトクロミック化合物とし
ては；スピロアダマンタン基をピラン環の２位に有する
ベンゾピラン類及びナフトピラン類（米国特許第4,826,
977号に記載）；及び米国特許第5,066,818号に記載され
ているようなナフトピラン化合物がある。
を生じることが報告され、組み合わせて使用して本発明
のナフトピラン化合物の黄色／オレンジ色を増大させる
他の考えられる補助的有機フォトクロミック化合物とし
ては；スピロアダマンタン基をピラン環の２位に有する
ベンゾピラン類及びナフトピラン類（米国特許第4,826,
977号に記載）；及び米国特許第5,066,818号に記載され
ているようなナフトピラン化合物がある。
本発明のナフトピラン化合物を前述の補助する又は増
大させる有機フォトクロミック化合物と、化合物の混合
物を適用する又はこれらを導入する有機ホスト材料がフ
ィルターされない太陽光で活性化されたときに実質的に
ニュートラルな色を有する、即ち活性化したフォトクロ
ミック化合物の色がニュートラルグレイ又はブラウンに
できるだけ近い色を与えるような量又は割合で混合して
又は組み合わせて使用してもよい。使用するフォトクロ
ミック化合物の相対的な量は変化しこのような化合物の
活性種の色の相対濃度に対して一部依存する。
大させる有機フォトクロミック化合物と、化合物の混合
物を適用する又はこれらを導入する有機ホスト材料がフ
ィルターされない太陽光で活性化されたときに実質的に
ニュートラルな色を有する、即ち活性化したフォトクロ
ミック化合物の色がニュートラルグレイ又はブラウンに
できるだけ近い色を与えるような量又は割合で混合して
又は組み合わせて使用してもよい。使用するフォトクロ
ミック化合物の相対的な量は変化しこのような化合物の
活性種の色の相対濃度に対して一部依存する。
例えば、本発明のナフトピラン化合物を１以上の前述
の紫／青オキサジン−及び／又はピラン−タイプの有機
フォトクロミック化合物と、化合物の混合物を適用する
又はこれらを導入する有機ホスト材料が近ブラウン色を
有するような量及び割合で組み合わせてもよい。一般
に、前述のオキサジン−及びピラン−タイプの化合物の
本発明のナフトピラン化合物に対する重量比は約1:3〜
約3:1、例えば約1:2又は0.75:1と約2:1の間で変化す
る。
の紫／青オキサジン−及び／又はピラン−タイプの有機
フォトクロミック化合物と、化合物の混合物を適用する
又はこれらを導入する有機ホスト材料が近ブラウン色を
有するような量及び割合で組み合わせてもよい。一般
に、前述のオキサジン−及びピラン−タイプの化合物の
本発明のナフトピラン化合物に対する重量比は約1:3〜
約3:1、例えば約1:2又は0.75:1と約2:1の間で変化す
る。
近ニュートラルグレイ色は400〜700ナノメートルの
間、例えば440〜660ナノメートルの間の可視領域にほぼ
等しい吸収を有するスペクトルを備えている。近ニュー
トラルブラウン色は400〜550ナノメートル範囲の吸収が
550〜700ナノメートル範囲よりかなり大きいスペクトル
を備えている。色を記載する別の方法はその色座標（ch
romaticity coordinates）の立場からであり、色品位に
加えてその明度（luminance factor）、即ち色彩を記載
する。CIEシステムでは、色座標を３つの刺激値のそれ
らの合計に対する割合、例えばｘ＝X/X＋Ｙ＋Ｚ及びｙ
＝Y/X＋Ｙ＋Ｚを取ることによって与える。CIEシステム
で記載されるような色、通常色座標ｘ及びｙのプロット
を色図上にを取る。色技術の原理（Principles of Colo
r Technology）、F.W.ビルメイヤー，ジュニア（Billme
yer,Jr.）とマックス・サルツマン（Max Saltzman）に
よる、第２版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Jo
hn Willey and Sons）、N.Y.（1981）の47〜52頁参照。
間、例えば440〜660ナノメートルの間の可視領域にほぼ
等しい吸収を有するスペクトルを備えている。近ニュー
トラルブラウン色は400〜550ナノメートル範囲の吸収が
550〜700ナノメートル範囲よりかなり大きいスペクトル
を備えている。色を記載する別の方法はその色座標（ch
romaticity coordinates）の立場からであり、色品位に
加えてその明度（luminance factor）、即ち色彩を記載
する。CIEシステムでは、色座標を３つの刺激値のそれ
らの合計に対する割合、例えばｘ＝X/X＋Ｙ＋Ｚ及びｙ
＝Y/X＋Ｙ＋Ｚを取ることによって与える。CIEシステム
で記載されるような色、通常色座標ｘ及びｙのプロット
を色図上にを取る。色技術の原理（Principles of Colo
r Technology）、F.W.ビルメイヤー，ジュニア（Billme
yer,Jr.）とマックス・サルツマン（Max Saltzman）に
よる、第２版、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Jo
hn Willey and Sons）、N.Y.（1981）の47〜52頁参照。
ホスト材料中に適用される又は導入されるフォトクロ
ミック物質又はこれを含有する組成物の量は重要ではな
いが、但し裸眼で識別可能なフォトクロミック効果を生
じるように十分な量を使用する。一般にこのような量を
フォトクロミック量として記載することができる。使用
する特定量はしばしば光照射時に要求される色濃度及び
フォトクロミック物質を導入又は適用するのに使用する
方法に依存する。典型的には、適用される又は導入され
る化合物が多いほど色濃度は大きくなる。
ミック物質又はこれを含有する組成物の量は重要ではな
いが、但し裸眼で識別可能なフォトクロミック効果を生
じるように十分な量を使用する。一般にこのような量を
フォトクロミック量として記載することができる。使用
する特定量はしばしば光照射時に要求される色濃度及び
フォトクロミック物質を導入又は適用するのに使用する
方法に依存する。典型的には、適用される又は導入され
る化合物が多いほど色濃度は大きくなる。
一般に、ホスト材料に導入される又は適用される各々
フォトクロミック物質の量は約0.01又は0.05〜約10又は
20重量％の範囲でよい。より典型的には、ホスト材料に
導入される又は適用されるフォトクロミック物質の量は
ホスト材料の重量に基づいて約0.01〜約２重量％、より
特別には約0.01〜約１重量％、例えば約0.1又は0.5〜約
１重量％の範囲である。異なった表現では、光学ホスト
材料に導入される又は適用されるフォトクロミック物質
の総量はフォトクロミック物質を導入又は適用する表面
１平方センチメートルに対して約0.15〜約0.35ミリグラ
ムの範囲でよい。
フォトクロミック物質の量は約0.01又は0.05〜約10又は
20重量％の範囲でよい。より典型的には、ホスト材料に
導入される又は適用されるフォトクロミック物質の量は
ホスト材料の重量に基づいて約0.01〜約２重量％、より
特別には約0.01〜約１重量％、例えば約0.1又は0.5〜約
１重量％の範囲である。異なった表現では、光学ホスト
材料に導入される又は適用されるフォトクロミック物質
の総量はフォトクロミック物質を導入又は適用する表面
１平方センチメートルに対して約0.15〜約0.35ミリグラ
ムの範囲でよい。
本発明のフォトクロミック化合物、他のフォトクロミ
ック化合物とこのような化合物との混合物、又はこれを
含有する組成物（以降「フォトクロミック物質」）を業
界で記載されている種々の方法によりホスト材料に適用
又は導入してもよい。このような方法としては、ホスト
材料内へこの物質を溶解又は分散する、例えばホスト材
料のフォトクロミック物質の熱溶液中への浸漬による又
は熱輸送によるフォトクロミック物質のホスト材料内へ
の吸収；フォトクロミック物質を別の層としてホスト材
料の隣接する層の間に提供する、例えばポリマー層部分
として；及びフォトクロミック物質をホスト材料の表面
上に配置した被膜部分として適用することがある。「吸
収」又は「吸収する」という用語はフォトクロミック物
質単独のホスト材料内への浸透、フォトクロミック物質
の多孔性プリマー内への溶剤補助された輸送吸収、気相
輸送、及び他のこのような輸送機構を意味し包含するこ
とを意図する。前述の方法の例のために米国特許第5,06
6,818号、第14段落第41行〜第15段落第25行を参照。ポ
リマーホスト材料は通常透明であるが、半透明であって
も不透明であってもよい。ポリマー生成物はフォトクロ
ミック物質を活性化させる電磁波スペクトルの部分、即
ち物質のオープン状態を生成する紫外線（UV）光の波長
及びそのUV活性化状態、即ちオープン状態における物質
の吸収最大波長を含む可視スペクトルの部分にたいして
のみ透過性である必要がある。更に、樹脂の色はそれが
フォトクロミック物質の活性化状態の色をマスクするよ
うなものであるべきでなく、即ち色変化が観察者に容易
に解る。好ましくは、ホスト材料物品は固形の透過性又
は光学的に透明な材料である。
ック化合物とこのような化合物との混合物、又はこれを
含有する組成物（以降「フォトクロミック物質」）を業
界で記載されている種々の方法によりホスト材料に適用
又は導入してもよい。このような方法としては、ホスト
材料内へこの物質を溶解又は分散する、例えばホスト材
料のフォトクロミック物質の熱溶液中への浸漬による又
は熱輸送によるフォトクロミック物質のホスト材料内へ
の吸収；フォトクロミック物質を別の層としてホスト材
料の隣接する層の間に提供する、例えばポリマー層部分
として；及びフォトクロミック物質をホスト材料の表面
上に配置した被膜部分として適用することがある。「吸
収」又は「吸収する」という用語はフォトクロミック物
質単独のホスト材料内への浸透、フォトクロミック物質
の多孔性プリマー内への溶剤補助された輸送吸収、気相
輸送、及び他のこのような輸送機構を意味し包含するこ
とを意図する。前述の方法の例のために米国特許第5,06
6,818号、第14段落第41行〜第15段落第25行を参照。ポ
リマーホスト材料は通常透明であるが、半透明であって
も不透明であってもよい。ポリマー生成物はフォトクロ
ミック物質を活性化させる電磁波スペクトルの部分、即
ち物質のオープン状態を生成する紫外線（UV）光の波長
及びそのUV活性化状態、即ちオープン状態における物質
の吸収最大波長を含む可視スペクトルの部分にたいして
のみ透過性である必要がある。更に、樹脂の色はそれが
フォトクロミック物質の活性化状態の色をマスクするよ
うなものであるべきでなく、即ち色変化が観察者に容易
に解る。好ましくは、ホスト材料物品は固形の透過性又
は光学的に透明な材料である。
ここで記載するフォトクロミック物質又は組成物とと
もに使用してもよいホスト材料の例としては：ポリマ
ー、即ちポリオール（アリルカーボネート）モノマー、
例えばジエチレングリコールビス（アリルカーボネー
ト）のホモポリマー及びコポリマー、ポリマー、即ち多
官能アクリレートモノマーのホモポリマー及びコポリマ
ー、ポリアクリレート類（これはアクリル酸又はメタク
リル酸のエステルのポリマーであり例えばメチルアクリ
レート及びメチルメタクリレートである）、セルロース
アセテート、セルローストリアセテート、セルロースア
セテートプロピネート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコー
ル）、ポリ（ビニルクロライド）、ポリ（ビニリデンク
ロライド）、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポ
リ（エチレンテレフタレート）、ポリスチレン、コポリ
（スチレン−メチルメタクリレート）、コポリ（スチレ
ン−アクリロニトリル）、ポリビニルブチラール、及び
ポリマー、即ちジアリリデンペンタエリスリトールのホ
モポリマー及びコポリマー、特にポリオール（アリルカ
ーボネート）モノマー、例えばジエチレングリコールビ
ス（アリルカーボネート）とアクリレートモノマーとの
コポリマーがある。
もに使用してもよいホスト材料の例としては：ポリマ
ー、即ちポリオール（アリルカーボネート）モノマー、
例えばジエチレングリコールビス（アリルカーボネー
ト）のホモポリマー及びコポリマー、ポリマー、即ち多
官能アクリレートモノマーのホモポリマー及びコポリマ
ー、ポリアクリレート類（これはアクリル酸又はメタク
リル酸のエステルのポリマーであり例えばメチルアクリ
レート及びメチルメタクリレートである）、セルロース
アセテート、セルローストリアセテート、セルロースア
セテートプロピネート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコー
ル）、ポリ（ビニルクロライド）、ポリ（ビニリデンク
ロライド）、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポ
リ（エチレンテレフタレート）、ポリスチレン、コポリ
（スチレン−メチルメタクリレート）、コポリ（スチレ
ン−アクリロニトリル）、ポリビニルブチラール、及び
ポリマー、即ちジアリリデンペンタエリスリトールのホ
モポリマー及びコポリマー、特にポリオール（アリルカ
ーボネート）モノマー、例えばジエチレングリコールビ
ス（アリルカーボネート）とアクリレートモノマーとの
コポリマーがある。
透明なコポリマー及び透明なポリマーの混合物もホス
ト材料として好適である。好ましくは、ホスト材料はポ
リカーボネート樹脂、例えばビスフェノールＡ（2,2−
ビス（４′ヒドロキシフェニル）プロパン）とホスゲン
から誘導されるカーボネート結合樹脂、即ちポリ（2,2
−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン）（商品
名レクサン（LEXAN）で市販されている）；ポリ（メチ
ルメタクリレート）（例えば、この材料は商品名プレキ
シグラス（PLEXIGLAS）で市販されている）；ポリオー
ル（アリルカーボネート）、特にジエチレングリコール
ビス（アリルカーボネート）の重合体（モノマーは商品
名CR−39で市販されている）及びポリオール（アリルカ
ーボネート）、例えばジエチレングリコールビス（アリ
ルカーボネート）と他の共重合可能なモノマー状材料と
のコポリマー、例えばビニルアセテートとのコポリマ
ー、例えば80〜90％のジエチレングリコールビス（アリ
ルカーボネート）と10〜20％のビニルアセテート、特に
80〜85％のビス（アリルカーボネート）と15〜20％のビ
ニルアセテートのコポリマー、及び米国特許第4,360,65
3号に記載されているように末端ジアクリレート官能基
を有するポリウレタン、セルロースアセテート、セルロ
ースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロー
スアセテートブチレート、ポリスチレンとのコポリマー
及びスチレンのメチルメタクリレート、ビニルアセテー
ト及びアクリロニトリルとのコポリマーの重合体から調
製される光学的に透明な重合有機材料である。
ト材料として好適である。好ましくは、ホスト材料はポ
リカーボネート樹脂、例えばビスフェノールＡ（2,2−
ビス（４′ヒドロキシフェニル）プロパン）とホスゲン
から誘導されるカーボネート結合樹脂、即ちポリ（2,2
−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン）（商品
名レクサン（LEXAN）で市販されている）；ポリ（メチ
ルメタクリレート）（例えば、この材料は商品名プレキ
シグラス（PLEXIGLAS）で市販されている）；ポリオー
ル（アリルカーボネート）、特にジエチレングリコール
ビス（アリルカーボネート）の重合体（モノマーは商品
名CR−39で市販されている）及びポリオール（アリルカ
ーボネート）、例えばジエチレングリコールビス（アリ
ルカーボネート）と他の共重合可能なモノマー状材料と
のコポリマー、例えばビニルアセテートとのコポリマ
ー、例えば80〜90％のジエチレングリコールビス（アリ
ルカーボネート）と10〜20％のビニルアセテート、特に
80〜85％のビス（アリルカーボネート）と15〜20％のビ
ニルアセテートのコポリマー、及び米国特許第4,360,65
3号に記載されているように末端ジアクリレート官能基
を有するポリウレタン、セルロースアセテート、セルロ
ースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロー
スアセテートブチレート、ポリスチレンとのコポリマー
及びスチレンのメチルメタクリレート、ビニルアセテー
ト及びアクリロニトリルとのコポリマーの重合体から調
製される光学的に透明な重合有機材料である。
重合して透明なホスト材料を形成してもよいポリオー
ル（アリルカーボネート）モノマーは線形又は分岐脂肪
族又は芳香族液体ポリオールのアリルカーボネート類、
例えば、脂肪族クリコールビス（アリルカーボネート）
化合物又はアルキリデンビスフェノールビス（アリルカ
ーボネート）化合物である。これらのモノマーはポリオ
ール類、例えばグリコール類の不飽和ポリカーボネート
類として記載することができる。モノマーをこの業界で
公知の操作、例えば米国著特許第2,370,567号及び2,40
3,113号によって調製することができる。
ル（アリルカーボネート）モノマーは線形又は分岐脂肪
族又は芳香族液体ポリオールのアリルカーボネート類、
例えば、脂肪族クリコールビス（アリルカーボネート）
化合物又はアルキリデンビスフェノールビス（アリルカ
ーボネート）化合物である。これらのモノマーはポリオ
ール類、例えばグリコール類の不飽和ポリカーボネート
類として記載することができる。モノマーをこの業界で
公知の操作、例えば米国著特許第2,370,567号及び2,40
3,113号によって調製することができる。
（化学的に及び色味的に）適当な染色剤、即ち染料を
ホスト材料に適応して医学的理由のため、又はファッシ
ョン的理由のために、より美的結果としてもよい。選択
される特別な染料は達成すべき前述の必要性及び結果に
応じて変化しこれに依存する。ある実施態様では、染料
を活性化したフォトクロミック物質から生じる色を補足
するため、例えばよりニュートラルな色にするため又は
入射光の特定の波長を吸収するために選択してもよい。
別の実施態様では、染料を、フォトクロミック物質が非
活性状態のときにホストマトリックスに所望の色味を提
供するために選択してもよい。
ホスト材料に適応して医学的理由のため、又はファッシ
ョン的理由のために、より美的結果としてもよい。選択
される特別な染料は達成すべき前述の必要性及び結果に
応じて変化しこれに依存する。ある実施態様では、染料
を活性化したフォトクロミック物質から生じる色を補足
するため、例えばよりニュートラルな色にするため又は
入射光の特定の波長を吸収するために選択してもよい。
別の実施態様では、染料を、フォトクロミック物質が非
活性状態のときにホストマトリックスに所望の色味を提
供するために選択してもよい。
典型的には、染色は選択した染料の加熱した水分散体
中へのホスト材料の浸漬によって達成する。染色の程度
は染料浴の温度及びホスト材料を浴中に保持する時間の
長さによって制御する。一般に、染料浴は100℃以下の
温度、例えば70℃〜90℃、例えば80℃であり、ホスト材
料は浴中に５分以下、例えば約0.5〜３分間、例えば約
２分間保持する。染色の程度は得られた物品が約70〜85
％、例えば80〜82％の光透過性を有するようにする。
中へのホスト材料の浸漬によって達成する。染色の程度
は染料浴の温度及びホスト材料を浴中に保持する時間の
長さによって制御する。一般に、染料浴は100℃以下の
温度、例えば70℃〜90℃、例えば80℃であり、ホスト材
料は浴中に５分以下、例えば約0.5〜３分間、例えば約
２分間保持する。染色の程度は得られた物品が約70〜85
％、例えば80〜82％の光透過性を有するようにする。
補助材料をホスト材料中にフォトクロミック物質とと
もに、ホスト材料中へのフォトクロミック物質の適用又
は導入の前に、それと同時に、又はその後に導入しても
よい。例えば、紫外光吸収剤をフォトクロミック物質と
混合した後ホスト材料へのこれらの適用を行ってもよ
く、又はこのような吸収剤をフォトクロミック物質と入
射光の間に層として配置する、例えば重ねてもよい。更
に、安定化剤をフォトクロミック物質と混合した後に、
それをホスト材料へ適用して、フォトクロミック物質の
光疲労対抗性を改良してもよい。安定化剤は、例えばヒ
ンダードアミン光安定化剤及びシングレット酸素抑制
剤、例えば有機配位子とのニッケルイオン錯体が考えら
れる。これらは単独又は組み合わせて使用してもよい。
このような安定化剤は米国特許第4,720,356号に記載さ
れている。最終的に、適当な保護被膜をホスト材料の表
面に適用してもよい。これらは研磨対抗性被膜及び／又
は酸素バリヤーとして機能する被膜である。このような
被膜はこの業界で公知である。
もに、ホスト材料中へのフォトクロミック物質の適用又
は導入の前に、それと同時に、又はその後に導入しても
よい。例えば、紫外光吸収剤をフォトクロミック物質と
混合した後ホスト材料へのこれらの適用を行ってもよ
く、又はこのような吸収剤をフォトクロミック物質と入
射光の間に層として配置する、例えば重ねてもよい。更
に、安定化剤をフォトクロミック物質と混合した後に、
それをホスト材料へ適用して、フォトクロミック物質の
光疲労対抗性を改良してもよい。安定化剤は、例えばヒ
ンダードアミン光安定化剤及びシングレット酸素抑制
剤、例えば有機配位子とのニッケルイオン錯体が考えら
れる。これらは単独又は組み合わせて使用してもよい。
このような安定化剤は米国特許第4,720,356号に記載さ
れている。最終的に、適当な保護被膜をホスト材料の表
面に適用してもよい。これらは研磨対抗性被膜及び／又
は酸素バリヤーとして機能する被膜である。このような
被膜はこの業界で公知である。
本発明は以下の実施例でより特別に記載するが、これ
は単に例示を意図しておりそこでは多くの改良及び変更
が当業者に明らかである。
は単に例示を意図しておりそこでは多くの改良及び変更
が当業者に明らかである。
実施例１ 工程１ 2,3−ジヒドロベンゾフラン（9.25g、0.077mol）を10
0mlの塩化メチレン及び10.8g（0.077mol）の塩化ベンゾ
イルを含有する反応フラスコに添加した。塩化アルミニ
ウム（12.32g、0.092mol）をゆっくりと添加し得られた
混合物を２時間窒素雰囲気下で撹拌した。反応混合物を
５％塩酸水溶液に添加し無色になるまで撹拌した。有機
層を分離し水層を再度100mlの塩化メチレンで抽出し
た。有機部分を合わせて1mlのトリエチルアミンを含有
した10％水酸化ナトリウム水溶液に添加して未反応の出
発材料をすべて除去した。混合物を撹拌し有機層を分離
し硫酸マグネシウム上で乾燥した。残存塩化メチレンを
真空下で除去した。得られた薄黄色のオイルをヘキサン
に溶解し次いでその溶液をドライアイス／アセトン浴中
で冷却することによって結晶化させた。7.8gの結晶性生
成物、５−ベンゾイル−2,3−ジヒドロベンゾフランを
真空濾過によって回収した。
0mlの塩化メチレン及び10.8g（0.077mol）の塩化ベンゾ
イルを含有する反応フラスコに添加した。塩化アルミニ
ウム（12.32g、0.092mol）をゆっくりと添加し得られた
混合物を２時間窒素雰囲気下で撹拌した。反応混合物を
５％塩酸水溶液に添加し無色になるまで撹拌した。有機
層を分離し水層を再度100mlの塩化メチレンで抽出し
た。有機部分を合わせて1mlのトリエチルアミンを含有
した10％水酸化ナトリウム水溶液に添加して未反応の出
発材料をすべて除去した。混合物を撹拌し有機層を分離
し硫酸マグネシウム上で乾燥した。残存塩化メチレンを
真空下で除去した。得られた薄黄色のオイルをヘキサン
に溶解し次いでその溶液をドライアイス／アセトン浴中
で冷却することによって結晶化させた。7.8gの結晶性生
成物、５−ベンゾイル−2,3−ジヒドロベンゾフランを
真空濾過によって回収した。
工程２ 工程１からの５−ベンゾイル−2,3−ジヒドロベンゾ
フラン（7.8g、0.035mol）をアセチレンで飽和した300m
lのテトラヒドロフランを含有する反応フラスコに添加
した。10.0gのキシレン／ミネラルオイル中へのナトリ
ウムアセチリドの18重量％のけん濁液（0.035molのナト
リウムアセチリド）を撹拌した溶液中にゆっくりと添加
した。室温窒素雰囲気下で16時間後、反応混合物を５％
塩酸水溶液に溶解した。得られた混合物を100mlの塩化
メチレン３回抽出した。有機抽出液を合わせ硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。溶媒の塩化メチレンを真空下で除
去し、7.0gの１−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−
イル）−１−フェニル−２−プロピン−１−オールを含
有する生成物を得、これを更に精製せずに次の工程で直
接使用した。
フラン（7.8g、0.035mol）をアセチレンで飽和した300m
lのテトラヒドロフランを含有する反応フラスコに添加
した。10.0gのキシレン／ミネラルオイル中へのナトリ
ウムアセチリドの18重量％のけん濁液（0.035molのナト
リウムアセチリド）を撹拌した溶液中にゆっくりと添加
した。室温窒素雰囲気下で16時間後、反応混合物を５％
塩酸水溶液に溶解した。得られた混合物を100mlの塩化
メチレン３回抽出した。有機抽出液を合わせ硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。溶媒の塩化メチレンを真空下で除
去し、7.0gの１−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−
イル）−１−フェニル−２−プロピン−１−オールを含
有する生成物を得、これを更に精製せずに次の工程で直
接使用した。
工程３ 工程２からの生成物（7.0g）を300mlのベンゼン及び
4.0gの２−ヒドロキシナフタレンを含有する反応フラス
コに添加した。触媒量のドデシルベンゼンスルホン酸
（３滴）を添加した。混合物を40℃に加熱し１時間窒素
雰囲気下撹拌した。その後、反応混合物を蒸留水に溶解
し約300mlの10％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。
有機層を分離し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、残った
ベンゼンを真空下で除去した。得られた残存物をヘキサ
ン／エーテル混合物中に溶解しドライアイス／アセトン
浴中で混合物を冷却することによって結晶化させた。得
られた結晶を真空濾過によって回収し、ヘキサン：エチ
ルアセテートの9:1混合物に溶解し1.5時間撹拌し、真空
濾過によって回収した。128〜131℃で融解する結晶性生
成物、約3.0g、を液体クロマトグラフィー分析で同定し
たところ97.7％の純度であった。核磁気共鳴（NMR）ス
ペクトルは固形の結晶性生成物が３−（2,3−ジヒドロ
ベンゾフラン−５−イル）−３−フェニル−3H−ナフト
［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有することを示し
た。
4.0gの２−ヒドロキシナフタレンを含有する反応フラス
コに添加した。触媒量のドデシルベンゼンスルホン酸
（３滴）を添加した。混合物を40℃に加熱し１時間窒素
雰囲気下撹拌した。その後、反応混合物を蒸留水に溶解
し約300mlの10％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。
有機層を分離し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、残った
ベンゼンを真空下で除去した。得られた残存物をヘキサ
ン／エーテル混合物中に溶解しドライアイス／アセトン
浴中で混合物を冷却することによって結晶化させた。得
られた結晶を真空濾過によって回収し、ヘキサン：エチ
ルアセテートの9:1混合物に溶解し1.5時間撹拌し、真空
濾過によって回収した。128〜131℃で融解する結晶性生
成物、約3.0g、を液体クロマトグラフィー分析で同定し
たところ97.7％の純度であった。核磁気共鳴（NMR）ス
ペクトルは固形の結晶性生成物が３−（2,3−ジヒドロ
ベンゾフラン−５−イル）−３−フェニル−3H−ナフト
［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有することを示し
た。
実施例２ 実施例１の工程１の操作を以下のことを除いて使用し
た:2−フルオロベンゾイルクロライド（13.2g、0.083mo
l）を塩化ベンゾイルの代わりに使用した；混合物を１
時間撹拌した；合わせた有機フラクションを再度蒸留水
で抽出した。19.5gの５−（２−フルオロ−ベンゾイル
−2,3−ジヒドロベンゾフランを含む生成物を回収し
た。
た:2−フルオロベンゾイルクロライド（13.2g、0.083mo
l）を塩化ベンゾイルの代わりに使用した；混合物を１
時間撹拌した；合わせた有機フラクションを再度蒸留水
で抽出した。19.5gの５−（２−フルオロ−ベンゾイル
−2,3−ジヒドロベンゾフランを含む生成物を回収し
た。
実施例１の工程２の操作を５−（２−フルオロ−ベン
ゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを（8g、0.033mo
l）を反応物として使用し；反応混合物を20時間撹拌し;
10％の塩酸水溶液を使用して反応混合物を溶解し；及び
合わせた有機フラクションを各約300mlの水で２回洗浄
したこと以外は使用した。１−（2,3−ジヒドロベンゾ
フラン−５−イル）−１−（２−フルオロ−フェニル）
−２−プロピン−１−オールを含有する生成物の収率は
7.0gであった。
ゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを（8g、0.033mo
l）を反応物として使用し；反応混合物を20時間撹拌し;
10％の塩酸水溶液を使用して反応混合物を溶解し；及び
合わせた有機フラクションを各約300mlの水で２回洗浄
したこと以外は使用した。１−（2,3−ジヒドロベンゾ
フラン−５−イル）−１−（２−フルオロ−フェニル）
−２−プロピン−１−オールを含有する生成物の収率は
7.0gであった。
実施例１の工程３の操作を１−（2,3−ジヒドロベン
ゾフラン−５−イル）−１−（２−フルオロフェニル）
−２−プロピン−１−オール（7.0g）、トルエン（300m
ol）及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸（３滴）を使
用した；及び反応混合物を45℃に加熱した以外は使用し
た。有機層を分離した後、水層を約100mlの塩化メチレ
ンで１回洗浄し有機フラクションを合わせた。合わせた
有機抽出液を硫酸マグネシウム上で乾燥し真空下で濃縮
して7.0gのオイルを得た。
ゾフラン−５−イル）−１−（２−フルオロフェニル）
−２−プロピン−１−オール（7.0g）、トルエン（300m
ol）及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸（３滴）を使
用した；及び反応混合物を45℃に加熱した以外は使用し
た。有機層を分離した後、水層を約100mlの塩化メチレ
ンで１回洗浄し有機フラクションを合わせた。合わせた
有機抽出液を硫酸マグネシウム上で乾燥し真空下で濃縮
して7.0gのオイルを得た。
オイルをシリカゲルカラム及びエチルアセテート：ヘ
キサンの1:4混合物を溶離液として使用して精製した。
フォトクロミックフラクションを回収し合わせてのこっ
た溶離液を真空下で除去した。結晶を実施例１の工程３
に記載するように単離した。結晶性生成物3.0gは110〜1
13℃で融解し、液体クロマトグラフィー分析で同定した
とろ99.8％の純度であった。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは固形の結晶性生成物が３−（2,3−ジヒドロベン
ゾフラン−５−イル）−３−（２−フルオロフェニル）
−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有す
ることを示した。
キサンの1:4混合物を溶離液として使用して精製した。
フォトクロミックフラクションを回収し合わせてのこっ
た溶離液を真空下で除去した。結晶を実施例１の工程３
に記載するように単離した。結晶性生成物3.0gは110〜1
13℃で融解し、液体クロマトグラフィー分析で同定した
とろ99.8％の純度であった。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは固形の結晶性生成物が３−（2,3−ジヒドロベン
ゾフラン−５−イル）−３−（２−フルオロフェニル）
−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有す
ることを示した。
実施例３ 実施例１の工程１の操作を、２−アニソイルクロライ
ド（14.2g、0.083mol）を塩化ベンゾイルの代わりに反
応物として使用し、反応混合物を１時間撹拌したこと以
外は従った。16.7gの結晶性生成物、５−（２−メトキ
シベンゾイル）−2.3−ジヒドロベンゾフランを回収
し、次の工程で使用した。実施例１の工程２の操作を、
合わせた有機フラクションを蒸留水で洗浄したこと外は
従った。１−（2,3−ジヒドロキシベンゾ−フラン−５
−イル）−１−（２−メトキシフェニル）−２−プロピ
ン−１−オールを含有する生成物の収率は16.7gであっ
た。
ド（14.2g、0.083mol）を塩化ベンゾイルの代わりに反
応物として使用し、反応混合物を１時間撹拌したこと以
外は従った。16.7gの結晶性生成物、５−（２−メトキ
シベンゾイル）−2.3−ジヒドロベンゾフランを回収
し、次の工程で使用した。実施例１の工程２の操作を、
合わせた有機フラクションを蒸留水で洗浄したこと外は
従った。１−（2,3−ジヒドロキシベンゾ−フラン−５
−イル）−１−（２−メトキシフェニル）−２−プロピ
ン−１−オールを含有する生成物の収率は16.7gであっ
た。
実施例１の工程３の操作を１−（2,3−ジヒドロベン
ゾフラン−５−イル）−１−（２−メトキシフェニル）
−２−プロピン−１−オールを含有する生成物及び触媒
量のｐ−トルエンスルホン酸を使用し；反応混合物を35
℃に加熱し；及び実施例２のオイル精製操作を使用した
以外は使用した。得られた結晶性生成物3.7gは142〜144
℃で融解し、液体クロマトグラフィー分析で同定したと
ころ99.5％の純度であった。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは固形の結晶性生成物が３−（2,3−ジヒドロベン
ゾフラン−５−イル）−３−（２−メトキシフェニル）
−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有す
ることを示した。
ゾフラン−５−イル）−１−（２−メトキシフェニル）
−２−プロピン−１−オールを含有する生成物及び触媒
量のｐ−トルエンスルホン酸を使用し；反応混合物を35
℃に加熱し；及び実施例２のオイル精製操作を使用した
以外は使用した。得られた結晶性生成物3.7gは142〜144
℃で融解し、液体クロマトグラフィー分析で同定したと
ころ99.5％の純度であった。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは固形の結晶性生成物が３−（2,3−ジヒドロベン
ゾフラン−５−イル）−３−（２−メトキシフェニル）
−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有す
ることを示した。
実施例４ 実施例１の工程１の操作を、２−フロオロベンゾイル
クロライド（13.2g、0.083mol）を塩化ベンゾイルの代
わりに反応物として使用し、混合物を１時間撹拌し、合
わせた有機フラクションを蒸留水で再度抽出したこと以
外は使用した。19.5gの５−（２−フルオロベンゾイ
ル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを含有する生成物を
回収た。実施例１の工程２の操作を、５−（２−フルオ
ロベンゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを（5g、
0.02mol）を使用し、合わせた有機フラクションを蒸留
水で洗浄したこと以外は従った。１−（2,3−ジヒドロ
ベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−２−プロピン−１−オールを含有する生成物の黄
色のオイルの収率は4.3gであった。
クロライド（13.2g、0.083mol）を塩化ベンゾイルの代
わりに反応物として使用し、混合物を１時間撹拌し、合
わせた有機フラクションを蒸留水で再度抽出したこと以
外は使用した。19.5gの５−（２−フルオロベンゾイ
ル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを含有する生成物を
回収た。実施例１の工程２の操作を、５−（２−フルオ
ロベンゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを（5g、
0.02mol）を使用し、合わせた有機フラクションを蒸留
水で洗浄したこと以外は従った。１−（2,3−ジヒドロ
ベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フルオロフェニ
ル）−２−プロピン−１−オールを含有する生成物の黄
色のオイルの収率は4.3gであった。
実施例１の工程３の操作を、工程２からの１−（2,3
−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フル
オロフェニル）−２−プロピン−１−オール（4.3g）、
３−アセトキシ−２−ナフトール（3.3g、0.016mol）、
及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を使用し；反応混
合物を45℃に加熱し；及び実施例２のオイル精製操作を
使用した以外は使用した。得られた結晶性生成物4.6gは
156〜157℃で融解し、液体クロマトグラフィー分析で同
定したところ99.0％の純度であった。核磁気共鳴（NM
R）スペクトルは固形の結晶性生成物が５−アセトキシ
−３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−３
−（２−フルオロ−フェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピランに一致する構造を有することを示した。
−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フル
オロフェニル）−２−プロピン−１−オール（4.3g）、
３−アセトキシ−２−ナフトール（3.3g、0.016mol）、
及び触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を使用し；反応混
合物を45℃に加熱し；及び実施例２のオイル精製操作を
使用した以外は使用した。得られた結晶性生成物4.6gは
156〜157℃で融解し、液体クロマトグラフィー分析で同
定したところ99.0％の純度であった。核磁気共鳴（NM
R）スペクトルは固形の結晶性生成物が５−アセトキシ
−３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−３
−（２−フルオロ−フェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピランに一致する構造を有することを示した。
実施例５ 実施例１の工程１の操作を、２−フルオロベンゾイル
クロライド（13.2g、0.083mol）を塩化ベンゾイルの代
わりに反応物として使用し、混合物を１時間撹拌したこ
と以外は従った。16.0gの生成物、５−（２−フルオロ
ベンゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを回収し
た。実施例１の工程２の操作を、工程１からの５−（２
−フルオロベンゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフラン
（12.5g、0.051mol）を使用して従った。１−（2,3−ジ
ヒドロベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フルオロ
−フェニル）−２−プロピン−１−オールを含有する生
成物の収率は11.0gであった。
クロライド（13.2g、0.083mol）を塩化ベンゾイルの代
わりに反応物として使用し、混合物を１時間撹拌したこ
と以外は従った。16.0gの生成物、５−（２−フルオロ
ベンゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフランを回収し
た。実施例１の工程２の操作を、工程１からの５−（２
−フルオロベンゾイル）−2,3−ジヒドロベンゾフラン
（12.5g、0.051mol）を使用して従った。１−（2,3−ジ
ヒドロベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フルオロ
−フェニル）−２−プロピン−１−オールを含有する生
成物の収率は11.0gであった。
実施例１の工程３の操作を、工程２からの１−（2,3
−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フル
オロフェニル）−２−プロピン−１−オール（5.0g）、
６−メトキシ−２−ヒドロキシナフタレン、及び触媒量
のｐ−トルエンスルホン酸を使用し；反応混合物を35℃
に加熱し1.5時間撹拌し；及び実施例２のオイル精製操
作を使用した以外は使用した。得られた結晶性生成物4.
3gは164〜167℃で融解し、液体クロマドグラフィー分析
で同定したところ95.0％の純度であった。核磁気共鳴
（NMR）スペクトルは固形の結晶性生成物が８−メトキ
シ−３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−
３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピランに一致する構造を有することを示した。
−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−１−（２−フル
オロフェニル）−２−プロピン−１−オール（5.0g）、
６−メトキシ−２−ヒドロキシナフタレン、及び触媒量
のｐ−トルエンスルホン酸を使用し；反応混合物を35℃
に加熱し1.5時間撹拌し；及び実施例２のオイル精製操
作を使用した以外は使用した。得られた結晶性生成物4.
3gは164〜167℃で融解し、液体クロマドグラフィー分析
で同定したところ95.0％の純度であった。核磁気共鳴
（NMR）スペクトルは固形の結晶性生成物が８−メトキ
シ−３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−
３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピランに一致する構造を有することを示した。
実施例６ 工程１ 2,5−ジメチルフェノール（30.0g、0.25mol）を300ml
のエチルアルコール及び17.0g（0.3mol）の水酸化カリ
ウムを含有する反応フラスコに添加した。臭化アリル
（36.3g、0.3mol）をゆっくりと撹拌している溶液に15
分間にわたって添加した。反応混合物を窒素雰囲気中で
４時間還流した。過剰の溶媒を真空下で除去し残った固
体を200mlの５％水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、各
約100mlの塩化メチレンで３回抽出し。有機抽出液を合
わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し真空下で濃縮して3
3.3gの所望の生成物2,5−ジメチルフェニルアリルエー
テルを含有する黄色いオイルを得た。
のエチルアルコール及び17.0g（0.3mol）の水酸化カリ
ウムを含有する反応フラスコに添加した。臭化アリル
（36.3g、0.3mol）をゆっくりと撹拌している溶液に15
分間にわたって添加した。反応混合物を窒素雰囲気中で
４時間還流した。過剰の溶媒を真空下で除去し残った固
体を200mlの５％水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、各
約100mlの塩化メチレンで３回抽出し。有機抽出液を合
わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し真空下で濃縮して3
3.3gの所望の生成物2,5−ジメチルフェニルアリルエー
テルを含有する黄色いオイルを得た。
工程２ 工程１からの2,5−ジメチルフェニルアリルエーテル
（33.3g、0.21mol）をウォーターコンデンサーを備えた
反応フラスコに添加し窒素雰囲気下で撹拌しつつ195℃
に加熱した。２時間後、温度を140℃に下げてドデシル
ベンゼンスルホン酸を数滴添加した。反応混合物をゆっ
くりと195℃に加熱し３時間そこに放置した。反応混合
物を冷却し５％の水酸化ナトリウム水溶液に溶解した。
得られた混合物を100mlの塩化メチレンで３回抽出し
た。有機抽出液を合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し
真空下で濃縮した。得られた生成物を6mmHgの減圧下で8
0℃の沸点で蒸留し11.0gの無色透明なオイルを得た。核
磁気スペクトル（NMR）は生成物が2,3−ジヒドロ−2,4,
7−トリメチルベンゾフランに一致する構造を有するこ
とを示した。
（33.3g、0.21mol）をウォーターコンデンサーを備えた
反応フラスコに添加し窒素雰囲気下で撹拌しつつ195℃
に加熱した。２時間後、温度を140℃に下げてドデシル
ベンゼンスルホン酸を数滴添加した。反応混合物をゆっ
くりと195℃に加熱し３時間そこに放置した。反応混合
物を冷却し５％の水酸化ナトリウム水溶液に溶解した。
得られた混合物を100mlの塩化メチレンで３回抽出し
た。有機抽出液を合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥し
真空下で濃縮した。得られた生成物を6mmHgの減圧下で8
0℃の沸点で蒸留し11.0gの無色透明なオイルを得た。核
磁気スペクトル（NMR）は生成物が2,3−ジヒドロ−2,4,
7−トリメチルベンゾフランに一致する構造を有するこ
とを示した。
工程３ 工程２からの2,3−ジヒドロ−2,4,7−トリメチルベン
ゾフラン（5.0g、0.031mol）を300mlの塩化メチレン及
び5.3g（0.031mol）のｐ−アニソイルクロライドを含有
する反応フラスコに添加した。塩化アルミニウム（5.0
g、0.037mol）をゆっくりと撹拌した溶液に添加した。
1.5時間後、反応混合物を20％塩酸水溶液中に溶解し10
分間撹拌した。有機層を分離し水層を100mlの塩化メチ
レンで１回洗浄した。有機抽出液を合わせ、約200mlの
蒸留水で洗浄し分離して硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。溶媒、塩化メチレンを真空下で除去し所望のケト
ン、５−（４−メトキシベンゾイル）−2,4,7−トリメ
チル−ジヒドロベンゾフランを含有する7.0gの生成物を
得た。
ゾフラン（5.0g、0.031mol）を300mlの塩化メチレン及
び5.3g（0.031mol）のｐ−アニソイルクロライドを含有
する反応フラスコに添加した。塩化アルミニウム（5.0
g、0.037mol）をゆっくりと撹拌した溶液に添加した。
1.5時間後、反応混合物を20％塩酸水溶液中に溶解し10
分間撹拌した。有機層を分離し水層を100mlの塩化メチ
レンで１回洗浄した。有機抽出液を合わせ、約200mlの
蒸留水で洗浄し分離して硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。溶媒、塩化メチレンを真空下で除去し所望のケト
ン、５−（４−メトキシベンゾイル）−2,4,7−トリメ
チル−ジヒドロベンゾフランを含有する7.0gの生成物を
得た。
工程４ 工程３からの５−（４−メトキシベンゾイル）−2,4,
7−トリメチルジヒドロベンゾフラン（7.0g、0.024mo
l）をアセチレンで飽和した300mlのテトラヒドフランを
含有する反応フラスコに添加した。8.1gのキシレン／ラ
イトミネラルオイル中のナトリウムアセチリドの18重量
％の溶液（0.028molのナトリウムアセチリド）を撹拌し
た溶液に添加した。72時間後、反応混合物を10％塩酸水
溶液に溶解し、各約100mlの塩化メチレンで３回抽出し
た。有機抽出液を合わせ硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。塩化メチレンを真空下で除去した。１−（2,3−ジ
ヒドロ−2,4,7−トリメチル−ベンゾフラン）−５−イ
ル−１−（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１
−オールを含有する生成物を次の工程で直接使用した。
7−トリメチルジヒドロベンゾフラン（7.0g、0.024mo
l）をアセチレンで飽和した300mlのテトラヒドフランを
含有する反応フラスコに添加した。8.1gのキシレン／ラ
イトミネラルオイル中のナトリウムアセチリドの18重量
％の溶液（0.028molのナトリウムアセチリド）を撹拌し
た溶液に添加した。72時間後、反応混合物を10％塩酸水
溶液に溶解し、各約100mlの塩化メチレンで３回抽出し
た。有機抽出液を合わせ硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。塩化メチレンを真空下で除去した。１−（2,3−ジ
ヒドロ−2,4,7−トリメチル−ベンゾフラン）−５−イ
ル−１−（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１
−オールを含有する生成物を次の工程で直接使用した。
工程５ 工程４からの１−（2,3−ジヒドロ−2,4−７−トリメ
チルベンゾフラン）−５−イル−１−（４−メトキシフ
ェニル）−２−プロピン−１−オール（5.0g）を300ml
のベンゼン及び2.3g（0.016mol）の２−ヒドロキシナフ
タレンを含有する反応フラスコに添加した。触媒量のｐ
−トルエンスルホン酸を撹拌した溶液に添加し、混合物
を35℃に窒素雰囲気下で加熱した。1.5時間後、反応混
合物を20％水酸化ナトリウム水溶液に溶解し各約100ml
の塩化メチレンで３回抽出し。有機抽出液を合わせ硫酸
マグネシウム上で乾燥した。塩化メチレンを真空下で除
去した。生成物をシリカゲルカラム及びエチルアセテー
ト：ヘキサンの1:4混合物を溶離液として使用して精製
した。フォトクロミックフラクションを合わせてのこっ
た溶離液を真空下で除去した。残ったオイルをヘキサン
から結晶化し200mgの所望のフォトクロミック化合物を
得た。結晶性生成物は162〜164℃で融解し、液体クロマ
トグラフィー分析で同定したところ98.8％の純度であっ
た。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは固形の結晶性生成
物が３−（４−メトキシフェニル）−３−（2,4,7−ト
リ−メチルジヒドロベンゾフラン−５−イル）−3H−ナ
フト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有することを
示した。
チルベンゾフラン）−５−イル−１−（４−メトキシフ
ェニル）−２−プロピン−１−オール（5.0g）を300ml
のベンゼン及び2.3g（0.016mol）の２−ヒドロキシナフ
タレンを含有する反応フラスコに添加した。触媒量のｐ
−トルエンスルホン酸を撹拌した溶液に添加し、混合物
を35℃に窒素雰囲気下で加熱した。1.5時間後、反応混
合物を20％水酸化ナトリウム水溶液に溶解し各約100ml
の塩化メチレンで３回抽出し。有機抽出液を合わせ硫酸
マグネシウム上で乾燥した。塩化メチレンを真空下で除
去した。生成物をシリカゲルカラム及びエチルアセテー
ト：ヘキサンの1:4混合物を溶離液として使用して精製
した。フォトクロミックフラクションを合わせてのこっ
た溶離液を真空下で除去した。残ったオイルをヘキサン
から結晶化し200mgの所望のフォトクロミック化合物を
得た。結晶性生成物は162〜164℃で融解し、液体クロマ
トグラフィー分析で同定したところ98.8％の純度であっ
た。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは固形の結晶性生成
物が３−（４−メトキシフェニル）−３−（2,4,7−ト
リ−メチルジヒドロベンゾフラン−５−イル）−3H−ナ
フト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有することを
示した。
実施例７ ２−メチルジヒドロベンゾフランを実施例６、工程１
及び２に記載する方法によって工程１での2,5−ジメチ
ルフェノールの代わりにフェノールを使用して調製し
た。更なる合成を詳述する情報については有機反応（Or
ganic Reactions）、第II巻26〜27頁を参照。実施例１
の工程１、２及び３の操作に、工程１での2,3−ジヒド
ロベンゾフランの代わりに２−メチルジヒドロベンゾフ
ランを使用して従った。得られた生成物は液体クロマド
グラフィー分析で同定したところ98.6％の純度であっ
た。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは生成物が３−（２
−メチルジヒドロベンゾフラン−５−イル）−３−（２
−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン
に一致する構造を有することを示した。
及び２に記載する方法によって工程１での2,5−ジメチ
ルフェノールの代わりにフェノールを使用して調製し
た。更なる合成を詳述する情報については有機反応（Or
ganic Reactions）、第II巻26〜27頁を参照。実施例１
の工程１、２及び３の操作に、工程１での2,3−ジヒド
ロベンゾフランの代わりに２−メチルジヒドロベンゾフ
ランを使用して従った。得られた生成物は液体クロマド
グラフィー分析で同定したところ98.6％の純度であっ
た。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは生成物が３−（２
−メチルジヒドロベンゾフラン−５−イル）−３−（２
−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン
に一致する構造を有することを示した。
実施例８ 実施例１の工程１の操作を、２−フルオロベンゾイル
クロライド（5.0g、0.032mol）をベンゾイルクロライド
の代わりに使用し;1,4−ベンゾジオキサン（4.4g、0.03
2mol）を2,3−ジヒドロベンゾフランの代わりに使用
し；及び反応混合物を１時間撹拌した以外は使用した。
8.0gの白色結晶生成生物、５−（２−フルオロベンゾイ
ル）−1,4−ベンゾジオキサンを回収した。実施例１の
工程２の操作に、５−（２−フルオロベンゾイル）−1,
4−ベンゾジオキサン（8.0g、0.031mol）を使用し反応
混合物を20時間撹拌したこと以外は従った。１−（1,4
−ベンゾジオキサン−６−イル）−１−（２−フルオロ
ベンゾイル）−２−プロピン−１−オールを含有する生
成物の収率は7.0gであった。
クロライド（5.0g、0.032mol）をベンゾイルクロライド
の代わりに使用し;1,4−ベンゾジオキサン（4.4g、0.03
2mol）を2,3−ジヒドロベンゾフランの代わりに使用
し；及び反応混合物を１時間撹拌した以外は使用した。
8.0gの白色結晶生成生物、５−（２−フルオロベンゾイ
ル）−1,4−ベンゾジオキサンを回収した。実施例１の
工程２の操作に、５−（２−フルオロベンゾイル）−1,
4−ベンゾジオキサン（8.0g、0.031mol）を使用し反応
混合物を20時間撹拌したこと以外は従った。１−（1,4
−ベンゾジオキサン−６−イル）−１−（２−フルオロ
ベンゾイル）−２−プロピン−１−オールを含有する生
成物の収率は7.0gであった。
実施例１の工程３の操作を、工程２からの１−（1,4
−ベンゾジオキサン−６−イル）−１−（２−フルオロ
ベンゾイル）−２−プロピン−１−オール、（7.0g）２
−ナフトール（3.6g）及び触媒量のｐ−トルエンスルホ
ン酸を使用し、；混合物を２時間撹拌し；及び実施例２
のオイル精製操作を使用した以外は使用した。得られた
結晶生成生物、約0.5gは143〜147℃で融解し、液体クロ
マトグラフィー分析で同定したところ97.3％の純度であ
った。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは固形の結晶性生
成物が３−（1,4−ベンゾジオキサン−６−イル）−３
−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］
ピランに一致する構造を有することを示した。
−ベンゾジオキサン−６−イル）−１−（２−フルオロ
ベンゾイル）−２−プロピン−１−オール、（7.0g）２
−ナフトール（3.6g）及び触媒量のｐ−トルエンスルホ
ン酸を使用し、；混合物を２時間撹拌し；及び実施例２
のオイル精製操作を使用した以外は使用した。得られた
結晶生成生物、約0.5gは143〜147℃で融解し、液体クロ
マトグラフィー分析で同定したところ97.3％の純度であ
った。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは固形の結晶性生
成物が３−（1,4−ベンゾジオキサン−６−イル）−３
−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］
ピランに一致する構造を有することを示した。
実施例９ 工程１ ピペロナール（10.0g、0.067mol）を100mlのテトラヒ
ドロフランを含有する反応フラスコに添加した。フェニ
ルマグネシウムブロマイド（0.08mol）をゆっくりと添
加し、得られた混合物を66℃に加熱し１時間窒素雰囲気
下で撹拌した。反応混合物を５％塩酸及び氷水溶液に添
加した。有機層を分離し水層を100mlの塩化メチレンで
３回洗浄した。有機部分を合わせ、硫酸マグネシウム上
で乾燥した。残った塩化メチレンを真空下で除去した。
約15.0gの白色／黄色オイル生成物を回収した。核磁気
共鳴（NMR）スペクトルは生成物がアルファー−フェニ
ル−1,3−ベンゾジオキソール−５−メタノールに一致
することを示した。
ドロフランを含有する反応フラスコに添加した。フェニ
ルマグネシウムブロマイド（0.08mol）をゆっくりと添
加し、得られた混合物を66℃に加熱し１時間窒素雰囲気
下で撹拌した。反応混合物を５％塩酸及び氷水溶液に添
加した。有機層を分離し水層を100mlの塩化メチレンで
３回洗浄した。有機部分を合わせ、硫酸マグネシウム上
で乾燥した。残った塩化メチレンを真空下で除去した。
約15.0gの白色／黄色オイル生成物を回収した。核磁気
共鳴（NMR）スペクトルは生成物がアルファー−フェニ
ル−1,3−ベンゾジオキソール−５−メタノールに一致
することを示した。
工程２ 工程１からのアルファー−フェニル−1,3−ベンゾジ
オキソール−５−メタノール（10.0g、0.044mol）を300
molの塩化メチレンを含有する反応フラスコ中に溶解
し、ピリジニウムジクロメート（25.0g。0.066mol）を
添加した。室温窒素雰囲気下で16時間後、反応混合物を
ジエチルエーテルで希釈し真空濾過して固形分を除去し
た。液体フラクションを蒸発させ8.3gのわずかに粘性の
オフホワイトオイルを得た。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは生成物が５−ベンゾイル−1,3−ベンゾジオキソ
ールに一致する構造を有することを示した。
オキソール−５−メタノール（10.0g、0.044mol）を300
molの塩化メチレンを含有する反応フラスコ中に溶解
し、ピリジニウムジクロメート（25.0g。0.066mol）を
添加した。室温窒素雰囲気下で16時間後、反応混合物を
ジエチルエーテルで希釈し真空濾過して固形分を除去し
た。液体フラクションを蒸発させ8.3gのわずかに粘性の
オフホワイトオイルを得た。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは生成物が５−ベンゾイル−1,3−ベンゾジオキソ
ールに一致する構造を有することを示した。
工程３ 実施例１の工程２の操作に、５−ベンゾイル−1,3−
ベンゾジオキソール（8.3g）を５−（ベンゾイル）−2,
3−ジヒドロベンゾフェノンのかわりに反応物として使
用し、反応混合物を22時間室温で撹拌した後pHを約2.0
に減らした以外は、従った。１−（1,3−ベンゾジオキ
ソール−５−イル）−１−フェニル−２−プロピン−１
−オールを含有する生成物の収率は9.0gであった。
ベンゾジオキソール（8.3g）を５−（ベンゾイル）−2,
3−ジヒドロベンゾフェノンのかわりに反応物として使
用し、反応混合物を22時間室温で撹拌した後pHを約2.0
に減らした以外は、従った。１−（1,3−ベンゾジオキ
ソール−５−イル）−１−フェニル−２−プロピン−１
−オールを含有する生成物の収率は9.0gであった。
工程４ 工程３からの１−（1,3−ベンゾジオキソール−５−
イル）−１−フェニル−２−プロピン−１−オール（3.
5g、0.014mol）及び２−ナフトール（2.0g、0.014mol）
を300mlのトルエンを含有する反応フラスコに添加し
た。触媒量のｐ−トルエンスルホン酸をゆっくりと添加
し、反応混合物を２時間室温で窒素雰囲気下で撹拌し
た。その後、反応混合物を200mlの20％水酸化ナトリウ
ム水溶液に添加し洗浄した。有機層を分離し硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。固定分を濾過し得られたオイルを
クロロフルムを溶離液として使用したシリカゲルカラム
で精製した。得られたオレンジオイルをヘキサン／エー
テル混合物中のそれを溶解し混合物をドライアイス／ア
セトン浴中で冷却することによって結晶化させた。得ら
れた結晶を真空濾過によって回収した。結晶性生成物、
約4.1gは168〜170℃で融解し、液体クロマトグラフィー
分析で同定したところ99.8％の純度であった。核磁気共
鳴（NMR）スペクトルは固形の結晶性生成物が３−（1,3
−ベンゾジオキソール−５−イル）−３−フェニル−3H
−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有するこ
とを示した。
イル）−１−フェニル−２−プロピン−１−オール（3.
5g、0.014mol）及び２−ナフトール（2.0g、0.014mol）
を300mlのトルエンを含有する反応フラスコに添加し
た。触媒量のｐ−トルエンスルホン酸をゆっくりと添加
し、反応混合物を２時間室温で窒素雰囲気下で撹拌し
た。その後、反応混合物を200mlの20％水酸化ナトリウ
ム水溶液に添加し洗浄した。有機層を分離し硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。固定分を濾過し得られたオイルを
クロロフルムを溶離液として使用したシリカゲルカラム
で精製した。得られたオレンジオイルをヘキサン／エー
テル混合物中のそれを溶解し混合物をドライアイス／ア
セトン浴中で冷却することによって結晶化させた。得ら
れた結晶を真空濾過によって回収した。結晶性生成物、
約4.1gは168〜170℃で融解し、液体クロマトグラフィー
分析で同定したところ99.8％の純度であった。核磁気共
鳴（NMR）スペクトルは固形の結晶性生成物が３−（1,3
−ベンゾジオキソール−５−イル）−３−フェニル−3H
−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構造を有するこ
とを示した。
比較例１ 1,1−ジフェニル−２−プロピン−１−オール（20.8
g、0.1mol）を200mlのベンゼン及び15gの２−ナフトー
ルを含有する反応フラスコに添加した。反応混合物を55
℃に温めすべての２−ナフトールが溶解した後に0.25g
のｐ−トルエンスルホン酸を撹拌した反応混合物中に添
加した。混合物は明るい黄褐色から暗い黒に変化し、発
熱して温度が70℃に上昇した。数分後、反応混合物は明
るくなり冷え始めた。30分後、反応混合物を100mlの10
％水酸化ナトリウム水溶液に注ぎ振り混ぜた。有機相を
10％水酸化ナトリウム水溶液で１回洗浄し次いで水で洗
浄した。溶媒のベンゼンをロータリーエバポレーターで
除去した。得られた黄褐色の固体残渣を100mlのヘキサ
ンでスラリー化し濾過した。濾過した固体を再度100ml
のヘキサンで洗浄し乾燥して18.4gの生成物3,3−ジフェ
ニル−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランを得た。固体生成
物は156〜158℃の融点を有し。液体クロマトグラフィー
分析で同定したところ98％の純度であった。
g、0.1mol）を200mlのベンゼン及び15gの２−ナフトー
ルを含有する反応フラスコに添加した。反応混合物を55
℃に温めすべての２−ナフトールが溶解した後に0.25g
のｐ−トルエンスルホン酸を撹拌した反応混合物中に添
加した。混合物は明るい黄褐色から暗い黒に変化し、発
熱して温度が70℃に上昇した。数分後、反応混合物は明
るくなり冷え始めた。30分後、反応混合物を100mlの10
％水酸化ナトリウム水溶液に注ぎ振り混ぜた。有機相を
10％水酸化ナトリウム水溶液で１回洗浄し次いで水で洗
浄した。溶媒のベンゼンをロータリーエバポレーターで
除去した。得られた黄褐色の固体残渣を100mlのヘキサ
ンでスラリー化し濾過した。濾過した固体を再度100ml
のヘキサンで洗浄し乾燥して18.4gの生成物3,3−ジフェ
ニル−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランを得た。固体生成
物は156〜158℃の融点を有し。液体クロマトグラフィー
分析で同定したところ98％の純度であった。
比較例２ アニソール（10.8g、0.1mol）及び塩化ベンゾイル（1
4g、0.1mol）を200mlのヘキサンに溶解し、室温で撹拌
した。無水塩化アルミニウム15gをゆっくりと反応混合
物に15分にわたって添加した。反応混合物を更に15分間
撹拌した。ヘキサンをデカントし得られた粘性の残渣を
注意深く200mlの氷及び希塩酸の混合物で加水分解し
た。有機フラクションをジクロロメタン中にとり得られ
た溶液を水で洗浄した。ジクロロメタンをロータリーエ
バポレーターで除去し、そのままでは固化するオイル生
成物を残した。固化した生成物を粉砕し50mlのペンタン
で２回洗浄し、乾燥して４−メトキシベンゾフェノンを
得た。
4g、0.1mol）を200mlのヘキサンに溶解し、室温で撹拌
した。無水塩化アルミニウム15gをゆっくりと反応混合
物に15分にわたって添加した。反応混合物を更に15分間
撹拌した。ヘキサンをデカントし得られた粘性の残渣を
注意深く200mlの氷及び希塩酸の混合物で加水分解し
た。有機フラクションをジクロロメタン中にとり得られ
た溶液を水で洗浄した。ジクロロメタンをロータリーエ
バポレーターで除去し、そのままでは固化するオイル生
成物を残した。固化した生成物を粉砕し50mlのペンタン
で２回洗浄し、乾燥して４−メトキシベンゾフェノンを
得た。
10gの４−メトキシベンゾフェノンを実施例１の工程
２に記載した操作によってプロパジルアルコールに変更
した。得られた生成物のNMR分析はこれが１−フェニル
−１−（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１−
オール及び出発のケトン、４−メトキシベンゾフェノン
の3:1の割合からなる構造を有する化合物の混合物であ
ることを示した。
２に記載した操作によってプロパジルアルコールに変更
した。得られた生成物のNMR分析はこれが１−フェニル
−１−（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１−
オール及び出発のケトン、４−メトキシベンゾフェノン
の3:1の割合からなる構造を有する化合物の混合物であ
ることを示した。
未精製のプロパジルアルコールを5gの２−ナフトー
ル、40gの無水酸アルミナ及び200mlのトルエンのスラリ
ーを含有する反応フラスコに添加した。得られた反応混
合物を30分間還流して加熱し、冷却し、濾過した。アル
ミナを100mlのヘキサンで２回洗浄した。トルエン及び
ヘキサンフラクションを合わせて有機溶媒をロータリー
エバポーレーターで除去した。得られた生成物はオレン
ジのオイルで、これをヘキサンとジエチルエーテルの混
合物中の溶解し次いで溶液をドライアイス／アセトン浴
中で冷却することによって結晶化した。生成物の結晶を
ジエチルエーテルで洗浄し乾燥して1.4gの149〜150℃の
融点を有する生成物を得た。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは固体生成物が３−フェニル−３（４−メトキシフ
ェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構
造を有することを示した。
ル、40gの無水酸アルミナ及び200mlのトルエンのスラリ
ーを含有する反応フラスコに添加した。得られた反応混
合物を30分間還流して加熱し、冷却し、濾過した。アル
ミナを100mlのヘキサンで２回洗浄した。トルエン及び
ヘキサンフラクションを合わせて有機溶媒をロータリー
エバポーレーターで除去した。得られた生成物はオレン
ジのオイルで、これをヘキサンとジエチルエーテルの混
合物中の溶解し次いで溶液をドライアイス／アセトン浴
中で冷却することによって結晶化した。生成物の結晶を
ジエチルエーテルで洗浄し乾燥して1.4gの149〜150℃の
融点を有する生成物を得た。核磁気共鳴（NMR）スペク
トルは固体生成物が３−フェニル−３（４−メトキシフ
ェニル）−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピランに一致する構
造を有することを示した。
比較例３ 実施例１の工程１及び２の操作に、アニソールを2,3
−ジヒドロベンゾフランの代わりに使用し、工程１中の
２−フルオロベンゾイルクロライドを塩化ベンゾイルの
代わりに使用した以外は、従った。得られた生成物は１
−（４−メトキシ−３−メチル−フェニル）−１−（２
−フルオロフェニル）−２−プロピン−１−オールを含
有した。実施例１の工程３の操作を、先の工程から１−
（４−メトキシ−３−メチルフェニル）−１−（２−フ
ルオロフェニル）−２−プロピン−１−オール（5.5g、
0.02mol）、２−ナフトール（3.0g）、及び触媒量のｐ
−トルエンスルホン酸を使用し；反応混合物を35℃に加
熱し数時間撹拌した以外は、使用した。
−ジヒドロベンゾフランの代わりに使用し、工程１中の
２−フルオロベンゾイルクロライドを塩化ベンゾイルの
代わりに使用した以外は、従った。得られた生成物は１
−（４−メトキシ−３−メチル−フェニル）−１−（２
−フルオロフェニル）−２−プロピン−１−オールを含
有した。実施例１の工程３の操作を、先の工程から１−
（４−メトキシ−３−メチルフェニル）−１−（２−フ
ルオロフェニル）−２−プロピン−１−オール（5.5g、
0.02mol）、２−ナフトール（3.0g）、及び触媒量のｐ
−トルエンスルホン酸を使用し；反応混合物を35℃に加
熱し数時間撹拌した以外は、使用した。
得られたオイル生成物をエチルアセテート：ヘキサン
の1:5混合物を第１の溶離液として、次いでクロロフル
ム：ヘキサンの1:1混合物を第２の溶離液として使用し
たシリカゲルカラムで精製した。濾液を集め溶媒を除去
して2.0gの固体生成物を得た。固体生成物は98℃の融点
を有し、液体クロマドグラフィー分析による同定で99％
の純度であった。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは固体
生成物が３−（４−メトキシ−３−メチルフェニル）−
３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピランに一致する構造を有することを示した。
の1:5混合物を第１の溶離液として、次いでクロロフル
ム：ヘキサンの1:1混合物を第２の溶離液として使用し
たシリカゲルカラムで精製した。濾液を集め溶媒を除去
して2.0gの固体生成物を得た。固体生成物は98℃の融点
を有し、液体クロマドグラフィー分析による同定で99％
の純度であった。核磁気共鳴（NMR）スペクトルは固体
生成物が３−（４−メトキシ−３−メチルフェニル）−
３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピランに一致する構造を有することを示した。
実施例10 パートＡ 実施例９で調製したナフトピランをエチルセルロース
樹脂中に以下の操作によって導入した。25mgのフォトク
ロミック化合物を2.0gの10重量％エチルエルロースのト
ルエン溶液に添加した。ナフトピラン化合物を蒸気浴上
で温め撹拌することによって溶解した。約2.0gの得られ
た溶液を75×25ミリメートル（mm）のスライドガラスの
エッジ上に置いた。塗るためのダウンバーを使用して、
8mmのフォトクロミック樹脂溶液の層をスライド上に全
体に置き乾燥させた。
樹脂中に以下の操作によって導入した。25mgのフォトク
ロミック化合物を2.0gの10重量％エチルエルロースのト
ルエン溶液に添加した。ナフトピラン化合物を蒸気浴上
で温め撹拌することによって溶解した。約2.0gの得られ
た溶液を75×25ミリメートル（mm）のスライドガラスの
エッジ上に置いた。塗るためのダウンバーを使用して、
8mmのフォトクロミック樹脂溶液の層をスライド上に全
体に置き乾燥させた。
パートＢ 以下の操作によってジエチレングリコールビス（アリ
ルカーボネート）のホモポリマーのテストスクエア中に
熱輸送により吸収された選択されたナフノピランについ
てさらに試験を行った。各ナフトピランをトルエン溶媒
に溶解し４重量％の化合物の溶液を形成した。１枚のN
o.4ファットマン（Whatman）濾紙をナフトピラン溶液で
飽和し空気乾燥した。乾燥した濾紙を1/8インチ（0.3c
m）×２インチ（5.1cm）×２インチ（5.1cm）の大きさ
のポリマーのテストスクエアの片側上に置いた、１枚の
不飽和濾紙をポリマーテストスクエアの他方側上に置
き、得られたサンドイッチ構造を２枚の平坦なアルミニ
ウム金属プレートの間に置いた。アセンブリー全体を次
いで155℃のオーブン中に、ナフトピランをポリマーテ
ストスクエア中に熱的に輸送するのに十分な時間置い
た。オーブン内への保持時間を調整して347nmで好適なU
V吸収を得るために適量のナフトピラン化合物を吸収さ
せた。オーブンから取り出した後吸収させたテストスク
エアをアセトンで洗浄した。
ルカーボネート）のホモポリマーのテストスクエア中に
熱輸送により吸収された選択されたナフノピランについ
てさらに試験を行った。各ナフトピランをトルエン溶媒
に溶解し４重量％の化合物の溶液を形成した。１枚のN
o.4ファットマン（Whatman）濾紙をナフトピラン溶液で
飽和し空気乾燥した。乾燥した濾紙を1/8インチ（0.3c
m）×２インチ（5.1cm）×２インチ（5.1cm）の大きさ
のポリマーのテストスクエアの片側上に置いた、１枚の
不飽和濾紙をポリマーテストスクエアの他方側上に置
き、得られたサンドイッチ構造を２枚の平坦なアルミニ
ウム金属プレートの間に置いた。アセンブリー全体を次
いで155℃のオーブン中に、ナフトピランをポリマーテ
ストスクエア中に熱的に輸送するのに十分な時間置い
た。オーブン内への保持時間を調整して347nmで好適なU
V吸収を得るために適量のナフトピラン化合物を吸収さ
せた。オーブンから取り出した後吸収させたテストスク
エアをアセトンで洗浄した。
パートＣ 両組のポリマーテスト試料を光ベンチ上でのフォトク
ロミック応答速度について試験した。試料を硫酸銅浴と
約１つの太陽強度でのニュートラル濃度フィルターを備
えた150ワットのキセノンランプに照射した。UV源で露
光された試料の領域を通過するように調整されたフィル
ターされたタングステンランプにより提供される光の第
２ビームを用いて、スペクトルの可視領域での異なった
波長範囲にわたる試料の透過性についての変化を検知し
た。試料を通過した後の検知するビームの強度をシリコ
ン検出ヘッドとマッチングフィルターを備えたIL−1500
ラジオメーターを用いて測定した。
ロミック応答速度について試験した。試料を硫酸銅浴と
約１つの太陽強度でのニュートラル濃度フィルターを備
えた150ワットのキセノンランプに照射した。UV源で露
光された試料の領域を通過するように調整されたフィル
ターされたタングステンランプにより提供される光の第
２ビームを用いて、スペクトルの可視領域での異なった
波長範囲にわたる試料の透過性についての変化を検知し
た。試料を通過した後の検知するビームの強度をシリコ
ン検出ヘッドとマッチングフィルターを備えたIL−1500
ラジオメーターを用いて測定した。
△OD/MinはUV光に対するフォトクロミック化合物の応
答の感応性を表し、これはシリコン検出器上のフォトピ
ックフィルターを用いて測定した。フィルターした検出
器の応答は光度曲線にほぼ一致した。△OD/MinをUV露光
の最初の５秒にわたって測定し、次いで分単位で表示し
た。飽和光強度（OD）を、UV露光を表１における実施例
について20分間続け、表２における実施例については15
分間続けたことを除いて、同一条件下△OD/Minとして取
った。ラムダ最大を表１及び２に報告したが、これは表
１ではポリ（ジエチレングリコールビス（アリルカーボ
ネート））中の、表２ではエチルセルロース樹脂中のフ
ォトクロミック化合物の活性（着色）状態の最大吸収が
生じるときの可視スペクトルの波長である。漂白速度T1
/2は、テストポリマー中のナフトピランの活性状態の吸
収に対して、活性化光源の除去後室温（72゜F、22.2
℃）での最大吸収の1/2に達するまでの時間間隔（秒）
である。結果を表１及び２に表する。
答の感応性を表し、これはシリコン検出器上のフォトピ
ックフィルターを用いて測定した。フィルターした検出
器の応答は光度曲線にほぼ一致した。△OD/MinをUV露光
の最初の５秒にわたって測定し、次いで分単位で表示し
た。飽和光強度（OD）を、UV露光を表１における実施例
について20分間続け、表２における実施例については15
分間続けたことを除いて、同一条件下△OD/Minとして取
った。ラムダ最大を表１及び２に報告したが、これは表
１ではポリ（ジエチレングリコールビス（アリルカーボ
ネート））中の、表２ではエチルセルロース樹脂中のフ
ォトクロミック化合物の活性（着色）状態の最大吸収が
生じるときの可視スペクトルの波長である。漂白速度T1
/2は、テストポリマー中のナフトピランの活性状態の吸
収に対して、活性化光源の除去後室温（72゜F、22.2
℃）での最大吸収の1/2に達するまでの時間間隔（秒）
である。結果を表１及び２に表する。
表１及び２に表したデータは化合物実施例８及び９を
除いてすべての化合物実施例が比較例１、２及び３に比
べて480nmにち近いラムダ最大値を有することを示して
いる。化合物実施例８及び９は、ピラン環の３位に２つ
のフェニル基を有する比較例１よりもかなり高いラムダ
最大値を有している。比較例「ａ」は476のラムダ最大
値を有するが漂白速度が眼鏡用レンズ用途における使用
に対しては不適当に遅い。
除いてすべての化合物実施例が比較例１、２及び３に比
べて480nmにち近いラムダ最大値を有することを示して
いる。化合物実施例８及び９は、ピラン環の３位に２つ
のフェニル基を有する比較例１よりもかなり高いラムダ
最大値を有している。比較例「ａ」は476のラムダ最大
値を有するが漂白速度が眼鏡用レンズ用途における使用
に対しては不適当に遅い。
本発明はその特定の実施態様の特別な詳述を参照して
記載したが、このような詳述は、これらが添付の請求の
範囲に含まれる範囲であるという記載を除いて本発明の
範囲と考えられることを意図していない。
記載したが、このような詳述は、これらが添付の請求の
範囲に含まれる範囲であるという記載を除いて本発明の
範囲と考えられることを意図していない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 407/04 ＷＰＩＬ（Ｄｅｒｗｅｎｔ)
Claims (19)
- 【請求項１】以下の式： （式中、（ａ）R1及びR2はそれぞれC1〜C10アルキル、C
5〜C7シクロアルキル、ハロゲン、Ｒ（Ｒ′）Ｎ−、又
は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ
水素又はC1〜C3アルキルであり、ＬはC1〜C12アルキ
ル、フェニル（C1〜C3）アルキル、C1〜C3アルキルフェ
ニル、C1〜C5アルキルカルボニル、ハロ（C1〜C4）アル
キルカルボニル、C1〜C4モノアルキルアミノカルボニ
ル、アセトニル、ピリジル、置換又は非置換アリールカ
ルボニルであり、前記アリール基はフェニル又はナフチ
ルであり、前記アリール置換基はC1〜C4アルキル、C1〜
C4アルコキシ、ハロゲン、C5〜C7シクロアルキル又はC1
〜C4アルキル置換C5〜C7シクロアルキルであり、前記ハ
ロゲン（又はハロ）基はクロロ、フルオロ、又はブロモ
であり;a及びｂはそれぞれ０、１又は２の整数であり、
但しａ及びｂの合計は２以下であり、 （ｂ）Ｂは置換又は非置換アリール基、ナフチル又はフ
ェニルであり、前記アリール置換基はC1〜C5アルキル、
ハロ（C1〜C5）アルキル、ヒドロキシ、C1〜C5アルコキ
シ、C1〜C4アルコキシ（C1〜C4）アルキル、ハロゲン、
又はＲ（Ｒ′）Ｎ−であり、ここで、Ｒ及びＲ′はそれ
ぞれ水素又はC1〜C3アルキルであり、前記ハロゲン（又
はハロ）基はフッ素、塩素又は臭素である；及び （ｃ）Ｂ′は以下の式： （式中、Ｘは酸素又は窒素であり、Ｙは炭素又は酸素で
あり、但しＸが窒素のときＹは炭素である;R4及びR5は
それぞれ水素、又はC1〜C5アルキルである；それぞれR3
はC1〜C5アルキル、C1〜C5アルコキシ、ヒドロキシ、又
はハロゲンであり、前記ハロゲンはクロロ、フルオロ、
又はブロモであり、ｃは０から３の整数である）で表さ
れる基から選択される） で表されるナフトピラン化合物。 - 【請求項２】式中： （ａ）R1及びR2はそれぞれC1〜C5アルキル、C5〜C6シク
ロアルキル、フッ素、臭素、Ｒ（Ｒ′）Ｎ−、又は−Ｏ
−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ水素又
はC1〜C2アルキルであり、ＬはC1〜C4アルキル、C1〜C2
アルキルフェニル、フェニル（C1〜C2）アルキル、フェ
ニルカルボニル、C1〜C2アルキルカルボニル、ハロ（C1
〜C2）アルキルカルボニル、又はC1〜C2モノアルキルア
ミノカルボニルであって、前記ハロ基はクロロ、又はフ
ルオロであり;a及びｂは０又は１の整数であり、 （ｂ）Ｂは以下の式： （式中、R6は水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキ
シ、フルオロ、又はクロロであり、それぞれR7はC1〜C4
アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキシ、クロロ又は
フルオロであり、ｄは０から２の整数である）で表さ
れ； 及び（ｃ）Ｂ′は以下の式： （式中、Ｘは酸素であり;Yは炭素又は酸素であり、R4及
びR5はそれぞれ水素、又はC1〜C4アルキルであり、それ
ぞれR3はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキ
シ、又はフルオロであり、ｃは０〜２の整数である）で
表される基から選択される請求項１のナフトピラン。 - 【請求項３】式中、R1及びR2はそれぞれC1〜C3アルキ
ル、フッ素、又は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｌはア
セチル、ベンゾイル、メチル又はメチルアミノカルボニ
ルであり;Bはフェニル又は置換フェニルであって、前記
フェニル置換基はフルオロ、メチル、又はメトキシであ
り;B′は2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル、２−
メチルジヒドロベンゾフラン−５−イル、インドリン−
５−イル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−６−イ
ル、クロマン−６−イル、又は1,3−ベンゾジオキソー
ル−５−イルであり;R3、R4及びR5はそれぞれ水素、又
はメチルであリ、ａ、ｂ及びｄは０又は１の整数である
請求項２のナフトピラン化合物。 - 【請求項４】（ａ）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン
−５−イル）−３−フェニル−3H−ナフト−［2,1−
ｂ］ピラン； （ｂ）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）
−３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピラン； （ｃ）３−（2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）
−３−（２−メトキシフェニル）−3H−ナフト［2,1−
ｂ］ピラン； （ｄ）３−（２−メチルジヒドロベンゾフラン−５−イ
ル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H−ナフト［2,
1−ｂ］ピラン； （ｅ）８−メトキシ−３−（2,3−ジヒドロベンゾフラ
ン−５−イル）−３−（２−フルオロフェニル）−3H−
ナフト［2,1−ｂ］ピラン； （ｆ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（2,4,7−
トリメチル−2,3−じヒドロベンゾフラン−５−イル）
−3H−ナフト［2,1−ｂ］ピラン；及び （ｇ）３−（1,3−ベンゾオキソール−５−イル）−３
−フェニル−3H−ナフト（2,1−ｂ）ピラン からなる群から選択されるナフトピラン化合物。 - 【請求項５】有機ホスト材料と、以下の式： （式中、（ａ）R1及びR2はそれぞれC1〜C10アルキル、C
5〜C7シクロアルキル、ハロゲン、Ｒ（Ｒ′）Ｎ−、又
は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ
水素又はC1〜C3アルキルであり、ＬはC1〜C12アルキ
ル、フェニル（C1〜C3）アルキル、C1〜C3アルキルフェ
ニル、C1〜C5アルキルカルボニル、ハロ（C1〜C4）アル
キルカルボニル、C1〜C4モノアルキルアミノカルボニ
ル、アセトニル、ピリジル、置換又は非置換アリールカ
ルボニルであり、前記アリール基はフェニル又はナフチ
ルであり、前記アリール置換基はC1〜C4アルキル、C1〜
C4アルコキシ、ハロゲン、C5〜C7シクロアルキル又はC1
〜C4アルキル置換C5〜C7シクロアルキルであり、前記ハ
ロゲン（又はハロ）基はクロロ、フルオロ、又はブロモ
であり;a及びｂはそれぞれ０、１又は２の整数であり、
但しａ及びｂの合計は２以下であり、 （ｂ）Ｂは置換又は非置換アリール基、ナフチル又はフ
ェニルであり、前記アリール置換基はC1〜C5アルキル、
ハロ（C1〜C5）アルキル、ヒドロキシ、C1〜C5アルコキ
シ、C1〜C4アルコキシ（C1〜C4）アルキル、ハロゲン、
又はＲ（Ｒ′）Ｎ−であり、ここで、Ｒ及びＲ′はそれ
ぞれ水素又はC1〜C3アルキルであり、前記ハロゲン（又
はハロ）基はフッ素、塩素又は臭素である；及び （ｃ）Ｂ′は以下の式： （式中、Ｘは酸素又は窒素であり、Ｙは炭素又は酸素で
あり、但しＸが窒素のときＹは炭素である;R4及びR5は
それぞれ水素、又はC1〜C5アルキルである；それぞれR3
はC1〜C5アルキル、C1〜C5アルコキシ、ヒドロキシ、又
はハロゲンであり、前記ハロゲンはクロロ、フルオロ、
又はブロモであり、ｃは０から３の整数である）で表さ
れる基から選択される） で表されるナフトピラン化合物のフォトクロミック量を
含有するフォトクロミック物品。 - 【請求項６】有機ホスト材料が、ポリアクリレート類、
セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテ
ートブチレート、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビ
ニルアルコール）、ポリ（ビニルニルクロライド）、ポ
リ（ビニリデンクロライド）、ポリカーボネート、ポリ
ウレタン、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリスチ
レン、コポリ（スチレン−メチルメタクリレート）、コ
ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリビニルブチ
ラール及びポリオール（アリルカーボネート）モノマ
ー、多官能アクリレートモノマー、及びジアリリデンペ
ンタエリスリトールモノマーからなる群の構成のポリマ
ーからなる群から選択される請求項５のフォトクロミッ
ク物品。 - 【請求項７】式中： （ａ）R1及びR2はそれぞれC1〜C5アルキル、C5〜C6シク
ロアルキル、フッ素、臭素、Ｒ（Ｒ′）Ｎ−、又は−Ｏ
−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ水素又
はC1〜C2アルキルであり、ＬはC1〜C4アルキル、C1〜C2
アルキルフェニル、フェニル（C1〜C2）アルキル、C1〜
C2アルキルカルボニル、ハロ（C1〜C2）アルキルカルボ
ニル、又はC1〜C2モノアルキルアミノカルボニルであっ
て、前記ハロ基はクロロ、又はフルオロであり;a及びｂ
は０又は１の整数であり、 （ｂ）Ｂは以下の式： （式中、R6は水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキ
シ、フルオロ、又はクロロであり、それぞれR7はC1〜C4
アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキシ、クロロ又は
フルオロであり、ｄは０から２の整数である）で表さ
れ；及び （ｃ）Ｂ′は以下の式： （式中、Ｘは酸素であり;Yは炭素又は酸素であり、R4及
びR5はそれぞれ水素、又はC1〜C4アルキルであり、それ
ぞれR3はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキ
シ、又はフルオロであり、ｃは０〜２の整数である）で
表される基から選択される請求項６のフォトクロミック
物品。 - 【請求項８】式中、R1及びR2はそれぞれC1〜C3アルキ
ル、フッ素、又は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｌはア
セチル、ベンゾイル、メチル又はメチルアミノカルボニ
ルであり;Bはフェニル又は置換フェニルであって、前記
フェニル置換基はフルオロ、メチル、又はメトキシであ
り;B′は2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル、２−
メチルジヒドロベンゾフラン−５−イル、インドリン−
５−イル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−６−イ
ル、クロマン−６−イル、又は1,3−ベンゾジオキソー
ル−５−イルであり;R3、R4及びR5はそれぞれ水素、又
はメチルであり、ａ、ｂ及びｄは０又は１の整数である
請求項７のフォトクロミック物品。 - 【請求項９】有機ホスト材料が固体で透明なジエチレン
グリコールビス（アリルカーボネート）のホモポリマー
又はコポリマー、2,2−ビス（４′−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンとホスゲンとから誘導されたカルボネート
架橋樹脂、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリビニル
ブチラール又はポリウレタンである請求項８のフォトク
ロミック物品。 - 【請求項１０】フォトクロミック化合物がフォトクロミ
ック物質を導入又は適用する有機ホスト材料表面１平方
センチメートル当たり約0.15〜0.35mgの量存在する請求
項９のフォトクロミック物品。 - 【請求項１１】物品がレンズである請求項10のフォトク
ロミック物品。 - 【請求項１２】固体で透明なポリマー状有機ホスト材料
と、フォトクロミック量の（ａ）スピロ（インドリン）
ナフトキサジン類、スピロ（インドリン）ピリドベンゾ
キサジン類、及びスピロ（インドリン）ベンゾキサジン
類、及びピラン環の２位に窒素含有置換基を有するベン
ゾピラン類又はナフトピラン類からなる群から選択され
る第１のフォトクロミック物質、及び（ｂ）以下の式： （式中、（ａ）R1及びR2はそれぞれC1〜C10アルキル、C
5〜C7シクロアルキル、ハロゲン、Ｒ（Ｒ′）Ｎ−、又
は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ
水素又はC1〜C3アルキルであり、ＬはC1〜C12アルキ
ル、フェニル（C1〜C3）アルキル、C1〜C3アルキルフェ
ニル、C1〜C5アルキルカルボニル、ハロ（C1〜C4）アル
キルカルボニル、C1〜C4モノアルキルアミノカルボニ
ル、アセトニル、ピリジル、置換又は非置換アリールカ
ルボニルであり、前記アリール基はフェニル又はナフチ
ルであり、前記アリール置換基はC1〜C4アルキル、C1〜
C4アルコキシ、ハロゲン、C5〜C7シクロアルキル又はC1
〜C4アルキル置換C5〜C7シクロアルキルであり、前記ハ
ロゲン（又はハロ）基はクロロ、フルオロ、又はブロモ
であり;a及びｂはそれぞれ０、１又は２の整数であり、
但しａ及びｂの合計は２以下であり、 （ｂ）Ｂは置換又は非置換アリール基、ナフチル又はフ
ェニルであり、前記アリール置換基はC1〜C5アルキル、
ハロ（C1〜C5）アルキル、ヒドロキシ、C1〜C5アルコキ
シ、、C1〜C4アルコキシ（C1〜C4）アルキル、ハロゲ
ン、又はＲ（Ｒ′）Ｎ−であり、ここで、Ｒ及びＲ′は
それぞれ水素又はC1〜C3アルキルであり、前記ハロゲン
（又はハロ）基はフッ素、塩素置又は臭素である；及び （ｃ）Ｂ′は以下の式： （式中、Ｘは酸素又は窒素であり、Ｙは炭素又は酸素で
あり、但しＸが窒素のときＹは炭素である;R4及びR5は
それぞれ水素、又はC1〜C5アルキルである；それぞれR3
はC1〜C5アルキル、C1〜C5アルコキシ、ヒドロキシ、又
はハロゲンであり、前記ハロゲンはクロロ、フルオロ、
又はブロモであり、ｃは０から３の整数である）で表さ
れる基から選択される） で表されるナフトピラン化合物から選択される第２のフ
ォトクロミック物質の各々を含有するフォトクロミック
物品。 - 【請求項１３】有機ホスト材料が、ポリアクリレート
類、セルロースアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、ポリ（ビニルアセテート）、ポ
リ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニルニルクロライ
ド）、ポリ（ビニリデンクロライド）、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン、ポリ（エチレンテレフタレート）、
ポリスチレン、コポリ（スチレン−メチルメタクリレー
ト）、コポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリビ
ニルブチラール及びポリオール（アリルカーボネート）
モノマー、多官能アクリレートモノマー、及びジアリリ
デンペンタエリスリトールモノマーからなる群の構成の
ポリマーからなる群から選択される請求項12のフォトク
ロミック物品。 - 【請求項１４】式中： （ａ）R1及びR2はそれぞれC1〜C5アルキル、C5〜C6シク
ロアルキル、フッ素、臭素、Ｒ（Ｒ′）Ｎ−、又は−Ｏ
−Ｌ基であって、ここで、Ｒ及びＲ′はそれぞれ水素又
はC1〜C2アルキルであり、ＬはC1〜C4アルキル、C1〜C2
アルキルフェニル、フェニル（C1〜C2）アルキル、フェ
ニルカルボニル、C1〜C2アルキルカルボニル、ハロ（C1
〜C2）アルキルカルボニル、又はC1〜C2モノアルキルア
ミノカルボニルであって、前記ハロ基はクロロ、又はフ
ルオロであり;a及びｂは０又は１の整数であり、 （ｂ）Ｂは以下の式： （式中、R6は水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキ
シ、フルオロ、又はクロロであり、それぞれR7はC1〜C4
アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキシ、クロロ又は
フルオロであり、ｄは０から２の整数である）で表さ
れ； 及び（ｃ）Ｂ′は以下の式： （式中、Ｘは酸素であり;Yは炭素又は酸素であり、R4及
びR5はそれぞれ水素、又はC1〜C4アルキルであり、それ
ぞれR3はC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ヒドロキ
シ、又はフルオロであり、ｃは０〜２の整数である）で
表される基から選択される請求項13のフォトクロミック
物品。 - 【請求項１５】式中、R1及びR2はそれぞれC1〜C3アルキ
ル、フッ素、又は−Ｏ−Ｌ基であって、ここで、Ｌはア
セチル、ベンゾイル、メチル又はメチルアミノカルボニ
ルであり;Bはフェニル又は置換フェニルであって、前記
フェニル置換基はフルオロ、メチル、又はメトキシであ
り;B′は2,3−ジヒドロベンゾフラン−５−イル、２−
メチルジヒドロベンゾフラン−５−イル、インドリン−
５−イル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−６−イ
ル、クロマン−６−イル、又は1,3−ベンゾジオキソー
ル−５−イルであり、;R3、R4及びR5はそれぞれ水素、
又はメチルであり、ａ、ｂ及びｄは０又は１の整数であ
る請求項14のフォトクロミック物品。 - 【請求項１６】有機ホスト材料が固体で透明なジエチレ
ングリコールビス（アリルカーボネート）のホモポリマ
ー又はコポリマー、2,2−ビス（４′−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンとホスゲンとから誘導されたカルボネー
ト架橋樹脂、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリビニ
ルブチラール又はポリウレタンである請求項15のフォト
クロミック物品。 - 【請求項１７】フォトクロミック化合物がフォトクロミ
ック物質を導入又は適用する有機ホスト材料表面１平方
センチメートル当たり約0.15〜0.35mgの量存在する請求
項16のフォトクロミック物品。 - 【請求項１８】ナフトピラン化合物に対する第１のフォ
トクロミック物質の重量比が約1:3〜約3:1である請求項
17のフォトクロミック物品。 - 【請求項１９】物品が眼鏡用レンズである請求項18のフ
ォトクロミック物品。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US080,250 | 1993-06-21 | ||
| US08/080,250 | 1993-06-21 | ||
| US08/080,250 US5384077A (en) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | Photochromic naphthopyran compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08512031A JPH08512031A (ja) | 1996-12-17 |
| JP2839716B2 true JP2839716B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=22156177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7502913A Expired - Fee Related JP2839716B2 (ja) | 1993-06-21 | 1994-06-13 | フォトクロミックナフトピラン化合物 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5384077A (ja) |
| EP (1) | EP0704067B1 (ja) |
| JP (1) | JP2839716B2 (ja) |
| KR (1) | KR100267063B1 (ja) |
| CN (1) | CN1053445C (ja) |
| AU (1) | AU672126B2 (ja) |
| BR (1) | BR9407267A (ja) |
| CA (1) | CA2164949C (ja) |
| DE (1) | DE69427859T2 (ja) |
| SG (1) | SG50593A1 (ja) |
| WO (1) | WO1995000866A1 (ja) |
Families Citing this family (161)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5585042A (en) * | 1992-02-24 | 1996-12-17 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic naphthopyrans |
| US5552091A (en) * | 1993-03-12 | 1996-09-03 | Ppg Industries, Inc. | Benzopyran compounds |
| GB9306587D0 (en) * | 1993-03-30 | 1993-05-26 | Pilkington Plc | Photochromic compounds |
| US5578252A (en) * | 1993-06-21 | 1996-11-26 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic substituted naphthopyran compounds |
| US5651923A (en) * | 1993-12-09 | 1997-07-29 | Transitions Optical, Inc. | Substituted naphthopyrans |
| US5650098A (en) * | 1993-12-09 | 1997-07-22 | Transitions Optical, Inc. | Substituted naphthopyrans |
| US5645767A (en) * | 1994-11-03 | 1997-07-08 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic indeno-fused naphthopyrans |
| US5658500A (en) * | 1995-06-14 | 1997-08-19 | Transitions Optical, Inc. | Substituted naphthopyrans |
| US5656206A (en) * | 1995-06-14 | 1997-08-12 | Transitions Optical, Inc. | Substituted naphthopyrans |
| US5658501A (en) * | 1995-06-14 | 1997-08-19 | Transitions Optical, Inc. | Substituted naphthopyrans |
| US5744070A (en) * | 1995-12-20 | 1998-04-28 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic substituted naphthopyran compounds |
| US5753146A (en) * | 1996-03-29 | 1998-05-19 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic naphthopyran compositions of neutral color |
| US5770115A (en) * | 1996-04-19 | 1998-06-23 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic naphthopyran compositions of improved fatigue resistance |
| US6022498A (en) | 1996-04-19 | 2000-02-08 | Q2100, Inc. | Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
| US6280171B1 (en) | 1996-06-14 | 2001-08-28 | Q2100, Inc. | El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light |
| US5955520A (en) * | 1996-06-17 | 1999-09-21 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic indeno-fused naphthopyrans |
| US5723072A (en) * | 1996-06-17 | 1998-03-03 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic heterocyclic fused indenonaphthopyrans |
| US5698141A (en) * | 1996-06-17 | 1997-12-16 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic heterocyclic fused indenonaphthopyrans |
| US5883043A (en) * | 1997-08-27 | 1999-03-16 | Ncr Corporation | Thermal paper with security features |
| US6770687B1 (en) | 1996-11-21 | 2004-08-03 | Ncr Corporation | Water-based dual security ink |
| US5981634A (en) * | 1996-11-27 | 1999-11-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of preparing photochromic articles |
| US5739243A (en) * | 1996-11-27 | 1998-04-14 | Ppg Industries, Inc. | Polymerizable composition |
| US5965680A (en) * | 1996-11-27 | 1999-10-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Optical resin composition from polyol((meth)acryloyl carbonate) monomer |
| US5973093A (en) * | 1996-11-27 | 1999-10-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polymerizable polyol (allyl carbonate) composition |
| GB9706939D0 (en) * | 1997-04-04 | 1997-05-21 | James Robinson Ltd | Red colouring hyperchromic 3H-naptho[2,1-6]pyrans |
| US5989462A (en) * | 1997-07-31 | 1999-11-23 | Q2100, Inc. | Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses |
| US6478989B1 (en) | 1997-09-19 | 2002-11-12 | Transitions Optical, Inc. | Aromatic substituted naphthopyrans |
| US5808063A (en) * | 1997-10-01 | 1998-09-15 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic spiro(indoline) fluoranthenoxazine compounds |
| US5891368A (en) * | 1997-10-01 | 1999-04-06 | Ppg Industries, Inc. | Fluoranthenopyrans |
| US5783116A (en) * | 1997-10-16 | 1998-07-21 | Ppg Industries, Inc. | Derivatives of carbocyclic fused naphthopyrans |
| US5811034A (en) * | 1997-10-23 | 1998-09-22 | Ppg Industries, Inc. | 7-methylidene-5-oxo-furo fused naphthopyrans |
| US6106744A (en) * | 1997-12-03 | 2000-08-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photochromic pyrano-fused naphthopyrans |
| US5879592A (en) * | 1997-12-10 | 1999-03-09 | Ppg Industries, Inc. | Water soluble photochromic compounds, compositions and optical elements comprising the compounds |
| US5869658A (en) * | 1997-12-15 | 1999-02-09 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic indeno-fused naptho 2,1-b!pyrans |
| US6630597B1 (en) | 1997-12-15 | 2003-10-07 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic 6-aryl substituted 3H-naphtho(2,1-b)pyrans |
| US5917006A (en) * | 1998-01-16 | 1999-06-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Optical resin composition |
| US6106910A (en) * | 1998-06-30 | 2000-08-22 | Ncr Corporation | Print media with near infrared fluorescent sense mark and printer therefor |
| US5976422A (en) * | 1998-03-09 | 1999-11-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Optical resin composition |
| US5942158A (en) * | 1998-03-09 | 1999-08-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | One-component optical resin composition |
| US5932681A (en) * | 1998-03-09 | 1999-08-03 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of preparing an optical polymerizate |
| FR2783249B1 (fr) * | 1998-09-11 | 2001-06-22 | Flamel Tech Sa | Naphtopyranes anneles en c5-c6, leur preparation et les compositions et matrices (co)polymeres les renfermant |
| US6416307B1 (en) | 1998-09-25 | 2002-07-09 | Q2100, Inc. | Plastic lens systems, compositions, and methods |
| US6165937A (en) * | 1998-09-30 | 2000-12-26 | Ncr Corporation | Thermal paper with a near infrared radiation scannable data image |
| CA2318239C (en) * | 1998-11-16 | 2006-05-02 | Optische Werke G. Rodenstock | Neutral-color gray photochromic plastic article |
| US6068797A (en) * | 1998-12-11 | 2000-05-30 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of preparing a shaped article having a photochromic coating thereon |
| US6419873B1 (en) | 1999-03-19 | 2002-07-16 | Q2100, Inc. | Plastic lens systems, compositions, and methods |
| US6669873B1 (en) | 1999-04-22 | 2003-12-30 | Ppc Industries Ohio, Inc. | Optical resin composition comprising thiol-ene prepolymer |
| US6316570B1 (en) | 1999-06-23 | 2001-11-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polymerizable composition of aliphatic polyol (allyl carbonate) |
| US6342571B1 (en) | 1999-08-20 | 2002-01-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | High refractive index optical resin composition |
| US6296785B1 (en) | 1999-09-17 | 2001-10-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Indeno-fused photochromic naphthopyrans |
| US6348604B1 (en) | 1999-09-17 | 2002-02-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photochromic naphthopyrans |
| US7473754B1 (en) | 2000-10-17 | 2009-01-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Optical resin composition |
| US7087698B1 (en) | 1999-11-18 | 2006-08-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of preparing an optical polymerizate |
| US7098290B1 (en) | 1999-11-18 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of preparing an optical polymerizate |
| US7214754B2 (en) * | 1999-12-13 | 2007-05-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polymerizable polyol (allyl carbonate) compositions |
| US6631021B2 (en) | 2000-03-20 | 2003-10-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyfunctional thiirane compounds |
| EP1265885B1 (en) * | 2000-03-22 | 2005-06-22 | Transitions Optical, Inc. | Hydroxylated/carboxylated naphthopyrans |
| US6716375B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-04-06 | Q2100, Inc. | Apparatus and method for heating a polymerizable composition |
| US6698708B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-03-02 | Q2100, Inc. | Gasket and mold assembly for producing plastic lenses |
| US6723260B1 (en) | 2000-03-30 | 2004-04-20 | Q2100, Inc. | Method for marking a plastic eyeglass lens using a mold assembly holder |
| US6506864B1 (en) | 2000-04-10 | 2003-01-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polymerizable composition of allyl functional monomers |
| AU774502B2 (en) * | 2000-05-31 | 2004-07-01 | Tokuyama Corporation | Curable composition and photochromic cured article |
| US6632535B1 (en) | 2000-06-08 | 2003-10-14 | Q2100, Inc. | Method of forming antireflective coatings |
| US6433043B1 (en) * | 2000-11-28 | 2002-08-13 | Transitions Optical, Inc. | Removable imbibition composition of photochromic compound and kinetic enhancing additive |
| US6612828B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-09-02 | Q2100, Inc. | Fill system with controller for monitoring use |
| US6676399B1 (en) | 2001-02-20 | 2004-01-13 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having sensors for tracking mold assemblies |
| US6655946B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-12-02 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for conveyor and curing units |
| US6752613B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-06-22 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for initiation of lens curing |
| US6726463B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-04-27 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a dual computer system controller |
| US6790024B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-09-14 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having multiple conveyor systems |
| US7051290B2 (en) * | 2001-02-20 | 2006-05-23 | Q2100, Inc. | Graphical interface for receiving eyeglass prescription information |
| US6840752B2 (en) * | 2001-02-20 | 2005-01-11 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing multiple eyeglass lenses |
| US7083404B2 (en) * | 2001-02-20 | 2006-08-01 | Q2100, Inc. | System for preparing an eyeglass lens using a mold holder |
| US6758663B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-07-06 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglass lenses with a high volume curing unit |
| US6790022B1 (en) | 2001-02-20 | 2004-09-14 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a movable lamp mount |
| US6808381B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-10-26 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller |
| US7124995B2 (en) * | 2001-02-20 | 2006-10-24 | Q2100, Inc. | Holder for mold assemblies and molds |
| US6709257B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-23 | Q2100, Inc. | Eyeglass lens forming apparatus with sensor |
| US6702564B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-09 | Q2100, Inc. | System for preparing an eyeglass lens using colored mold holders |
| US6676398B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-01-13 | Q2100, Inc. | Apparatus for preparing an eyeglass lens having a prescription reader |
| US6712331B2 (en) | 2001-02-20 | 2004-03-30 | Q2100, Inc. | Holder for mold assemblies with indicia |
| US7139636B2 (en) * | 2001-02-20 | 2006-11-21 | Q2100, Inc. | System for preparing eyeglass lenses with bar code reader |
| US6773108B2 (en) * | 2001-03-21 | 2004-08-10 | Invicta Corporation | Lens with photochromic elastomer film and method of making it |
| SE0101702D0 (sv) * | 2001-05-15 | 2001-05-15 | Ardenia Investments Ltd | Novel potentiating compounds |
| US6747145B2 (en) * | 2001-09-04 | 2004-06-08 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Photochromic bis-naphthopyran compounds and methods for their manufacture |
| US6998072B2 (en) * | 2001-11-01 | 2006-02-14 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic polymerizable compositions |
| US8017720B2 (en) * | 2005-12-16 | 2011-09-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Sulfur-containing oligomers and high index polyurethanes prepared therefrom |
| US20070142604A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Nina Bojkova | Polyurethanes and sulfur-containing polyurethanes and methods of preparation |
| US20070142606A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Bojkova Nina V | Polyurethane (ureas) and sulfur-containing polyurethane (ureas) methods of preparation |
| US20070142603A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Rukavina Thomas G | Polyurethane(urea) and sulfur-containing polyurethane(urea) and methods of preparation |
| US20070142602A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Rukavina Thomas G | Polyurethanes and sulfur-containing polyurethanes and methods of preparation |
| US20040138401A1 (en) | 2002-11-05 | 2004-07-15 | Nina Bojkova | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
| US20060241273A1 (en) * | 2001-11-16 | 2006-10-26 | Bojkova Nina V | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
| US20050282991A1 (en) * | 2001-11-16 | 2005-12-22 | Bojkova Nina V | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
| US20030149217A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-08-07 | Bojkova Nina V. | High impact poly (urethane urea) polysulfides |
| US20030096935A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-05-22 | Nagpal Vidhu J. | Impact resistant polyureaurethane and method of preparation |
| US7144969B2 (en) * | 2001-11-16 | 2006-12-05 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Impact resistant polyureaurethane and polyureaurethane prepolymer having low NCO/OH ratio |
| US6803344B2 (en) | 2001-12-21 | 2004-10-12 | Ncr Corporation | Thermal paper with preprinted indicia |
| US7044429B1 (en) * | 2002-03-15 | 2006-05-16 | Q2100, Inc. | Methods and systems for coating eyeglass lens molds |
| US6464484B1 (en) | 2002-03-30 | 2002-10-15 | Q2100, Inc. | Apparatus and system for the production of plastic lenses |
| US20040021133A1 (en) * | 2002-07-31 | 2004-02-05 | Nagpal Vidhu J. | High refractive index polymerizable composition |
| US7009032B2 (en) | 2002-12-20 | 2006-03-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Sulfide-containing polythiols |
| CN100519612C (zh) | 2002-12-20 | 2009-07-29 | Ppg工业俄亥俄公司 | 高冲击强度聚(氨酯-脲)聚硫化物 |
| US20110140056A1 (en) * | 2003-07-01 | 2011-06-16 | Transitions Optical, Inc. | Indeno-fused ring compounds |
| US8698117B2 (en) | 2003-07-01 | 2014-04-15 | Transitions Optical, Inc. | Indeno-fused ring compounds |
| US8211338B2 (en) | 2003-07-01 | 2012-07-03 | Transitions Optical, Inc | Photochromic compounds |
| US20050168689A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-04 | Knox Carol L. | Photochromic optical element |
| US20070159594A9 (en) * | 2004-05-13 | 2007-07-12 | Jani Dharmendra M | Photochromic blue light filtering materials and ophthalmic devices |
| US8349986B2 (en) * | 2004-09-01 | 2013-01-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US20070173601A1 (en) * | 2004-09-01 | 2007-07-26 | Rukavina Thomas G | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US8399559B2 (en) * | 2004-09-01 | 2013-03-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US11008418B2 (en) | 2004-09-01 | 2021-05-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US20070251421A1 (en) * | 2004-09-01 | 2007-11-01 | Rukavina Thomas G | Powder coatings prepared from polyurethanes and poly(ureaurethane)s, coated articles and methods of making the same |
| US20090280329A1 (en) | 2004-09-01 | 2009-11-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same |
| US8207286B2 (en) * | 2004-09-01 | 2012-06-26 | Ppg Industries Ohio, Inc | Methods for preparing polyurethanes |
| US8889815B2 (en) * | 2004-09-01 | 2014-11-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Reinforced polyurethanes and poly(ureaurethane)s, methods of making the same and articles prepared therefrom |
| US8927675B2 (en) * | 2004-09-01 | 2015-01-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US8734951B2 (en) * | 2004-09-01 | 2014-05-27 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US9464169B2 (en) | 2004-09-01 | 2016-10-11 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US20070225468A1 (en) * | 2004-09-01 | 2007-09-27 | Rukavina Thomas G | Polyurethanes prepared from polyester polyols and/or polycaprolactone polyols, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US8604153B2 (en) * | 2004-09-01 | 2013-12-10 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US20070149749A1 (en) * | 2004-09-01 | 2007-06-28 | Rukavina Thomas G | Polyurethanes prepared from polycarbonate polyols, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US20070167600A1 (en) * | 2004-09-01 | 2007-07-19 | Rukavina Thomas G | Polyurethanes prepared from polycaprolactone polyols, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US8933166B2 (en) * | 2004-09-01 | 2015-01-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US20090280709A1 (en) | 2004-09-01 | 2009-11-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same |
| US20070167601A1 (en) * | 2004-09-01 | 2007-07-19 | Rukavina Thomas G | Polyurethanes prepared from polycarbonate polyols, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US9598527B2 (en) * | 2004-09-01 | 2017-03-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US8399094B2 (en) * | 2004-09-01 | 2013-03-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multilayer laminated articles including polyurethane and/or poly(ureaurethane) layers and methods of making the same |
| US11591436B2 (en) | 2004-09-01 | 2023-02-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethane article and methods of making the same |
| US8859680B2 (en) * | 2004-09-01 | 2014-10-14 | Ppg Industries Ohio, Inc | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US20070148471A1 (en) * | 2004-09-01 | 2007-06-28 | Rukavina Thomas G | Impact resistant polyurethane and poly(ureaurethane) articles and methods of making the same |
| US11149107B2 (en) | 2004-09-01 | 2021-10-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| WO2014153054A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US11248083B2 (en) | 2004-09-01 | 2022-02-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Aircraft windows |
| US8653220B2 (en) * | 2004-09-01 | 2014-02-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| US7645719B2 (en) * | 2004-10-13 | 2010-01-12 | Ncr Corporation | Thermal paper with security features |
| WO2007139586A2 (en) | 2005-12-16 | 2007-12-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Poly(ureaurethane)s, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| EP2004720B1 (en) | 2005-12-16 | 2012-06-27 | PPG Industries Ohio, Inc. | Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same |
| KR100855215B1 (ko) | 2006-03-31 | 2008-09-01 | 주식회사 엘지화학 | 반응형 나프토피란 화합물, 이를 포함하는 광변색성폴리우레탄 코팅액 조성물, 광변색성 폴리우레탄 및 이를포함하는 광변색성 광학제품 |
| KR100855216B1 (ko) | 2006-04-03 | 2008-09-01 | 주식회사 엘지화학 | 반응형 나프토피란 화합물, 이를 포함하는 광변색성폴리아크릴 코팅액 조성물, 광변색성 폴리아크릴 및 이를포함하는 광변색성 광학제품 |
| CN101437875B (zh) * | 2006-05-05 | 2011-05-11 | Ppg工业俄亥俄公司 | 硫醚官能的低聚多硫醇以及由其制备的制品 |
| US20080071016A1 (en) * | 2006-09-14 | 2008-03-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyureaurethane composition having improved color stability |
| US20080187749A1 (en) * | 2007-01-11 | 2008-08-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Optical element having light influencing property |
| CN101974002B (zh) * | 2010-10-21 | 2012-07-18 | 华东理工大学 | 含亚酰胺基团的萘并吡喃衍生物 |
| US9139571B2 (en) | 2010-12-16 | 2015-09-22 | Transitions Optical, Inc. | Methods of making fused ring compounds |
| US8779168B2 (en) | 2010-12-16 | 2014-07-15 | Transitions Optical, Inc. | Lactone compounds and materials made therefrom |
| US8765978B2 (en) | 2010-12-16 | 2014-07-01 | Transitions Optical, Inc. | Method of making indeno-fused naphthol materials |
| US20120154906A1 (en) * | 2010-12-17 | 2012-06-21 | Pallavi Tatapudy | Glaraser |
| US9334345B2 (en) | 2011-09-08 | 2016-05-10 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polymerizable compositions containing (meth)acrylate monomers having sulfide linkages |
| US8691915B2 (en) | 2012-04-23 | 2014-04-08 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Copolymers and polymer blends having improved refractive indices |
| KR20140026252A (ko) * | 2012-08-22 | 2014-03-05 | 동우 화인켐 주식회사 | 포인팅 표시장치 |
| US9568643B2 (en) | 2012-12-13 | 2017-02-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Polyurethane urea-containing compositions and optical articles and methods for preparing them |
| CN108250174B (zh) * | 2018-02-07 | 2021-09-10 | 中国科学院兰州化学物理研究所苏州研究院 | 萘并吡喃类化合物及其制备方法 |
| WO2021181307A1 (en) | 2020-03-11 | 2021-09-16 | Alcon Inc. | Photochromic polydiorganosiloxane vinylic crosslinkers |
| TWI785630B (zh) | 2020-06-02 | 2022-12-01 | 瑞士商愛爾康公司 | 光致變色矽酮水凝膠接觸鏡片及可聚合組合物及製造彼等之方法 |
| WO2022090967A1 (en) | 2020-10-28 | 2022-05-05 | Alcon Inc. | Method for making photochromic contact lenses |
| WO2022097049A1 (en) | 2020-11-04 | 2022-05-12 | Alcon Inc. | Method for making photochromic contact lenses |
| EP4240578A1 (en) | 2020-11-04 | 2023-09-13 | Alcon Inc. | Method for making photochromic contact lenses |
| TWI817375B (zh) | 2021-03-08 | 2023-10-01 | 瑞士商愛爾康公司 | 用於生產水凝膠接觸鏡片之方法及由其獲得之水凝膠接觸鏡片 |
| US11833771B2 (en) | 2021-04-01 | 2023-12-05 | Alcon Inc. | Method for making photochromic contact lenses |
| TW202406726A (zh) | 2022-04-28 | 2024-02-16 | 瑞士商愛爾康公司 | 用於製造ｕｖ吸收性和ｈｅｖｌ吸收性眼科鏡片之方法 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3567605A (en) * | 1966-03-30 | 1971-03-02 | Ralph S Becker | Photochemical process |
| GB1186987A (en) * | 1967-08-30 | 1970-04-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photochromic Compounds |
| JPS4948631B1 (ja) * | 1968-10-28 | 1974-12-23 | ||
| US3627690A (en) * | 1969-10-01 | 1971-12-14 | Itek Corp | Photochromic naphthopyran compositions |
| US4342668A (en) * | 1978-09-08 | 1982-08-03 | American Optical Corporation | Photochromic compounds |
| US4215010A (en) * | 1978-09-08 | 1980-07-29 | American Optical Corporation | Photochromic compounds |
| US4720356A (en) * | 1982-03-22 | 1988-01-19 | American Optical Corporation | Photochromic composition resistant to fatigue |
| US4637698A (en) * | 1983-11-04 | 1987-01-20 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic compound and articles containing the same |
| GB8611837D0 (en) * | 1986-05-15 | 1986-06-25 | Plessey Co Plc | Photochromic spiropyran compounds |
| GB8614680D0 (en) * | 1986-06-17 | 1986-07-23 | Plessey Co Plc | Photoreactive lenses |
| US4816584A (en) * | 1986-11-12 | 1989-03-28 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic spiro(indoline)benzoxazines |
| US5066818A (en) * | 1990-03-07 | 1991-11-19 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic naphthopyran compounds |
| US5200116A (en) * | 1990-07-23 | 1993-04-06 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic chromene compounds |
| US5244602A (en) * | 1990-12-03 | 1993-09-14 | Ppg Industries, Inc. | Photochromic naphthopyrans |
| US5238981A (en) * | 1992-02-24 | 1993-08-24 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic naphthopyrans |
| US5274132A (en) * | 1992-09-30 | 1993-12-28 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic naphthopyran compounds |
-
1993
- 1993-06-21 US US08/080,250 patent/US5384077A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-06-13 DE DE69427859T patent/DE69427859T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-13 WO PCT/US1994/006725 patent/WO1995000866A1/en active IP Right Grant
- 1994-06-13 EP EP94920739A patent/EP0704067B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-13 KR KR1019950705809A patent/KR100267063B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-06-13 AU AU71732/94A patent/AU672126B2/en not_active Ceased
- 1994-06-13 SG SG1996005923A patent/SG50593A1/en unknown
- 1994-06-13 CN CN94192531A patent/CN1053445C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-13 CA CA002164949A patent/CA2164949C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-13 JP JP7502913A patent/JP2839716B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-13 BR BR9407267A patent/BR9407267A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-09-08 US US08/302,292 patent/US5458815A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SG50593A1 (en) | 1998-07-20 |
| CA2164949A1 (en) | 1995-01-05 |
| EP0704067A4 (en) | 1996-02-02 |
| DE69427859D1 (de) | 2001-09-06 |
| EP0704067A1 (en) | 1996-04-03 |
| CN1053445C (zh) | 2000-06-14 |
| AU7173294A (en) | 1995-01-17 |
| WO1995000866A1 (en) | 1995-01-05 |
| BR9407267A (pt) | 1996-10-01 |
| CA2164949C (en) | 1999-06-15 |
| EP0704067B1 (en) | 2001-08-01 |
| US5458815A (en) | 1995-10-17 |
| AU672126B2 (en) | 1996-09-19 |
| CN1125985A (zh) | 1996-07-03 |
| KR960703238A (ko) | 1996-06-19 |
| US5384077A (en) | 1995-01-24 |
| JPH08512031A (ja) | 1996-12-17 |
| DE69427859T2 (de) | 2002-04-11 |
| KR100267063B1 (ko) | 2000-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2839716B2 (ja) | フォトクロミックナフトピラン化合物 | |
| AU683181B2 (en) | Novel substituted phenanthropyrans | |
| JP2948320B2 (ja) | 光互変性ナフトピラン化合物 | |
| JP4383544B2 (ja) | 新規ホトクロミック複素環縮合インデノナフトピラン | |
| US5658501A (en) | Substituted naphthopyrans | |
| US5650098A (en) | Substituted naphthopyrans | |
| US5573712A (en) | Substituted naphthopyrans | |
| AU698170B2 (en) | Novel substituted naphthopyrans | |
| JP2941061B2 (ja) | フォトクロミック置換ナフトピラン化合物 | |
| JP3553085B2 (ja) | 新規の置換ナフトピラン類 | |
| US5066818A (en) | Photochromic naphthopyran compounds | |
| JPH11514669A (ja) | 新規ホトクロミックインデノ縮合ナフトピラン | |
| JP4216344B2 (ja) | 新規置換ナフトピラン | |
| JP3029460B6 (ja) | 新規フォトクロミックインデノ縮合ナフトピラン | |
| JP2002502418A (ja) | 置換ナフトピラン類 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |