JP2837254B2 - N―アルキル―またはn,n―ジアルキル―1,2―ジアミノエタンの製造方法 - Google Patents

N―アルキル―またはn,n―ジアルキル―1,2―ジアミノエタンの製造方法

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JP2837254B2
JP2837254B2 JP2272514A JP27251490A JP2837254B2 JP 2837254 B2 JP2837254 B2 JP 2837254B2 JP 2272514 A JP2272514 A JP 2272514A JP 27251490 A JP27251490 A JP 27251490A JP 2837254 B2 JP2837254 B2 JP 2837254B2
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/60Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by condensation or addition reactions, e.g. Mannich reaction, addition of ammonia or amines to alkenes or to alkynes or addition of compounds containing an active hydrogen atom to Schiff's bases, quinone imines, or aziranes

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は二酸化炭素の存在下でイミンのアミンとの反
応による非対称性N−置換ジアミノエタンを製造する新
規なかつ改良された方法に関する。
〔従来の技術〕
N−アルキル−およびN,N−ジアルキル−ジアミノエ
タンが、例えばフタルイミンをアミノリシスし引き続い
て加水分解してエチレンジアミン誘導体にする(東ドイ
ツ国特許第17068号)明細書、2−クロロエチルアミン
のアミノリシスする(Monatshefte der Chemie84、362
(1953))、第2アミンとアクリルアミドとを反応させ
引き続いてジアミンにホーフマン転位する(Chem.Abst
r.Vol.96、180762P)ならびにアミン、ホルムアルデヒ
ドおよび青酸を反応させてN−置換のグリシンニトリル
にし、水素添加の後同様に所望の非対称の置換のエチレ
ンジアミン誘導体を生じることにより製造することがで
きることは公知である。
相応するアミンをエチレンイミンでアミノエチル化す
ることは酸性触媒を用いて(Itw.Akad.SSSR.Ser.Khim.1
987、4、946−948)また酸性触媒反応なし(米国特許
第2318729号明細書)で行われた。この収率は十分でな
くかつ反応時間は長い。
Chem.Ahstr.Vol.99,157814およびChem.Abstr.Vol.98,
157813ではN−メチルエチレンジアミンおよびN,N−ジ
メチルエチレンジアミンの合成にメチルアミンないしは
ジメチルアミンおよびエチレンイミンと共に塩酸30モル
%ないし3モル%を触媒として使用する。アミン/エチ
レンイミン比は5:1(メチルアミンの場合)ないし3:1
(ジメチルアミンの場合)である。後処理は記載されて
いないが、ガスクロマトグラフイーにより調査した収率
は80および90%の間にある。最後に挙げた方法はとにか
くオートクレーブの使用を必要とする、というのは沸と
うしやすいアミンは前記の反応温度110〜140゜では圧力
8〜12バールになるからである。さらに塩酸の使用はそ
れに結び付く腐食の問題のために不利である。生成物を
完全に遊離させるためには添加した塩酸は後処理の範囲
内で中和しなければならないから、前述の反応の際に一
部かなりの量の、例えば塩化ナトリウムが生じる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従つて本発明の課題は前述の不利を除去する非対称置
換されたジアミノエタン誘導体を製造する方法を見出す
ことであつた。
〔課題を解決するための手段〕
前記課題は本発明により 一般式I: 〔式中R1は水素またはメチル、R2はC1〜C5アルキルおよ
びR3は水素またはC1〜C5アルキルを表し、但し基R2とR3
の炭素原子の和は整数1〜6である〕のN−アルキル−
またはN,N−ジアルキル−1,2−ジアミノエタンを一般式
II: 〔式中R1は前記のものを表す〕のイミンと一般式III: 〔式中R2およびR3は前記のものを表す〕のアミンとの反
応により製造する方法において、該反応を二酸化炭素の
存在下で温度10〜150℃および圧力0.5〜50バール、有利
には1〜10バールで行うことを特徴とするN−アルキル
−またはN,N−ジアルキル−1,2−ジアミノエタンの新規
かつ改良された製造方法で解決される。
化合物Iは以下の方法によれば取得しやすい: 反応させるべきアミン(III)(これは溶剤と一緒に
または溶剤など装入することができる)に二酸化炭素を
加える。CO2の量は反応させるべきアルキルアミン(I
I)に対して0.1〜2.0モル当量である。溶剤としては
水、アルコールおよび反応条件下で不活性のあらゆる液
体である。
二酸化炭素は固形で加えてもガスで入れてもよい。
それから当該反応溶液にアルキルイミン(II)を加え
る。アミン(III)に対するアルキレンイミン(II)の
モル比は1:1および0.1:1の間、有利には1:1および0.25:
1の間にある。多くの場合にこの過剰のアミンは問題な
く反応終了後に回収される。またアミンのようにアルキ
ルイミンも無溶剤または種々の濃度の溶液として使用す
ることもできる。反応バツチの溶剤含有率は0%〜90%
であつてよい。
添加時間は0.25〜10時間である。有利には2〜4時間
の範囲である。
反応温度は10℃〜150゜に保持する。これはバツチの
循環温度により上限が制限される。有利には反応バツチ
の沸とう温度の下すれすれで作業する。反応温度は反応
の間変化し得るがまた一定に保持することもできる。圧
力0.5〜50バールで作業するが、有利には0.1〜5バール
で、特に有利には大気圧である。
アルキルアミンの添加後は1〜10時間再撹拌する。温
度は上記の通りである。
反応終了後では反応バツチにアルカリ金属またはアル
カリ土類金属水酸化物を加える。投入量は二酸化炭素1
モル当り水酸化物1〜20、有利には2〜4モルである。
こうして調製したバツチを引き続いて蒸留後処理す
る。水性系のものがある場合は該水分はまたあらかじめ
アルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物またはそ
の濃縮した水溶液を加えて除去し、必要な場合は脱水し
たバツチを粗生成物を精製のため引き続いて蒸留するこ
とができる。
本発明による方法によればエチレンイミンまたはプロ
ピレンイミンとの反応にはR2とR3の和として炭素原子1
から6を有するアミン、例えばメチルアミン、エチルア
ミン、プロピルアミン、ジメチルアミン、メチルエチル
アミン、メチルプロピルアミン、ジエチルアミン、エチ
ルプロピルアミンおよびジプロピルアミンが特に適して
いる。
N−アルキル−およびN,N−ジアルキル−1,2−ジアミ
ノエタンは製薬学上の作用物質のために需要の多い中間
体である。
〔実施例〕
例 1 還流冷却器(ブライン<−10℃)撹拌器、滴下漏斗お
よび内部温度計を備えたフラスコに59.2%のメチルアミ
ン水溶液912g(12モル)をとつた。引き続いてこの溶液
に二酸化炭素88g(2モル)を圧入した。全二酸化炭素
を圧入した後、60%エチレンイミン水溶液287g(4モ
ル)を2時間内に一様に加えた。バツチは38℃〜40℃に
保持した。
エチレンイミン添加に続いて48℃で6時間再撹拌し
た。その後で後処理のため冷却器のブライン冷却を冷却
水に置き換えた。引き続いて50%苛性カリ溶液448gを反
応混合物に導入し、添加終つた後バツチを還流温度(約
107℃)に加熱し、この温度で0.25時間保持した。バツ
チを50℃に冷却し透明の無色の下相を分離除去した。引
き続いて上相を苛性ソーダ300gと混ぜ合せた。バツチを
70℃で0.5時間撹拌し、相分離を行つた後下相を分離除
去した。
上部相は二段階で各苛性ソーダ15gと混ぜ合せ、70〜8
0℃で0.25時間撹拌した。引き続いて粗生成物を真空で
蒸留した。受器で無色の留出物275gを捕集した。
収量:N,N−ジメチルアミノエチルアミン275g(エチレン
イミンに対して78%) 含有率:98.6%(GC) アミン価:22.40ミリモル/g(理論値の99%) 水分:0.3% 第三窒素:11.19ミリモル/g(理論値の98.4%) 屈折率(25℃):1.4251(文献:25℃で1.4250) 元素分析: 計算値C=54.56 H=13.72 N=31.78 実測値C=54.4 H=13.4 N=31.5 例 2 例1に記載した装置で64%DMA水溶液282g(4モル)
をガス状二酸化炭素66g(1.5モル)と混合し60〜66℃で
2時間以内に60%エチレンイミン水溶液143g(2モル)
を滴加し、1時間再撹拌し、50%苛性ソーダ480gを滴加
しその後で90℃で1時間撹拌した。その際に過剰DMAは
蒸発した。
二相物を相別した後反応バツチの上相を苛性ソーダ73
gと混合し50〜60℃で真空蒸留した。
収量:N,N−ジメチルアミノエチルアミン74g(エチレン
イミンに対して42%) 含有率:99% 水分:0.6% 例 3 例1に記載した装置で60%第三ブチルアミン水溶液87
6g(6モル)をガス状二酸化炭素44g(1モル)と混合
し70℃で2時間以内に60%エチレンイミン水溶液143g
(2モル)を滴加し、70℃で5時間再撹拌し、50%苛性
ソーダ溶液320gを滴加し、該バツチを110℃に加熱し
た。その際第三ブチルアミン/水−混合物が留出した。
過渡温度100℃で蒸留は終り、二相のバツチの下相を分
離して除き、上相を通例どおり50%苛性ソーダ溶液3×
40mlで90℃で脱水した。
粗生成物(155g)のガスクロマトグラフイーは第三ブ
チルアミノエチルアミン含有率77%を示した。
例 4 例1に記載した装置に60%ジエチルアミン水溶液730g
(6モル)をとり、二酸化炭素44g(1モル)と混合
し、内部温度38℃で2時間以内に60%エチレンイミン水
溶液143g(2モル)を導入した。
引き続いて70℃で4時間再撹拌し、該バツチと50%苛
性カリ溶液247gと混合し、過剰のジエチルアミンを内部
温度98℃まで留出せしめ、二相の反応バツチを50%に冷
却し下相を分離除去した。
上相を苛性ソーダで乾燥し続いて相分離の後粗生成物
を過渡温度45〜60℃で苛性ソーダ上で真空蒸留した。
収量:N,N−ジメチルアミノエチルアミン117g(エチレン
イミンに対して50%) 含有率:97%(GC) 例 5 例1に記載した装置で71%エチルアミン水溶液383g
(6モル)をとり、二酸化炭素44g(1モル)と混合
し、内部温度40〜50℃で2時間以内に60%エチレンイミ
ン水溶液143g(2モル)を導入した。
その後で55℃で6時間再撹拌し、該バツチを50%苛性
カリ溶液244gと混合し、内部温度107℃に加熱しその際
過剰のジエチルアミンを除去した。二相の反応バツチを
50℃に冷却し下相を分離除去した。
上相は苛性ソーダ105gと混合し、引き続いて下相を分
離除去した。この粗生成物(123g、水分2%)はエチル
アミノエチレンアミン含有率71%(GC)であつた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヴエルナー・ボヒニチエク ドイツ連邦共和国ルートヴイツヒスハー フエン・ジンスハイマー・シユトラーセ 49 (56)参考文献 特開 昭63−122652(JP,A) 特開 昭63−122653(JP,A) 特開 昭58−46041(JP,A) 特開 昭58−46042(JP,A) 特開 昭48−8713(JP,A) 米国特許2318729(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 209/00 - 211/65

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式I: 〔式中R1は水素またはメチル、R2はC1〜C5アルキルおよ
    びR3は水素またはC1〜C5アルキルを表し、但し基R2とR3
    基の炭素原子の和は整数1〜6である〕のN−アルキル
    −またはN,N−ジアルキル−1,2−ジアミノエタンを一般
    式II: 〔式中R1は前記のものを表す〕のイミンと一般式III: 〔式中R2およびR3は前記のものを表す〕のアミンとの反
    応により製造する方法において、該反応を温度10〜150
    ゜および圧力0.5〜50バールで二酸化炭素の存在下で行
    うことを特徴とするN−アルキル−またはN,N−ジアル
    キル−1,2−ジアミノエタンの製造方法。
  2. 【請求項2】該イミンIIおよび該アミンIIIをモル比1:1
    〜0.1:1で使用する請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】該イミンIIおよび該アミンIIIをモル比1:1
    〜0.25:1で使用する請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】使用したイミンに対して二酸化炭素0.1〜
    2モル当量を使用する請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】該反応を1〜10バールで行う請求項1記載
    の方法。
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EP0422534B1 (de) 1994-01-19
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DE59004312D1 (de) 1994-03-03
JPH03133945A (ja) 1991-06-07
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ATE100435T1 (de) 1994-02-15
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ES2047796T3 (es) 1994-03-01

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