JP2822751B2 - 帯状体のエッジ形状計測方法およびエッジ追従装置 - Google Patents
帯状体のエッジ形状計測方法およびエッジ追従装置Info
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- JP2822751B2 JP2822751B2 JP4034243A JP3424392A JP2822751B2 JP 2822751 B2 JP2822751 B2 JP 2822751B2 JP 4034243 A JP4034243 A JP 4034243A JP 3424392 A JP3424392 A JP 3424392A JP 2822751 B2 JP2822751 B2 JP 2822751B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、走行する帯状体のエッ
ジ形状の計測方法および、これを用いて帯状体にメッキ
などの処理をする際のエッジ追随制御装置に関する。
ジ形状の計測方法および、これを用いて帯状体にメッキ
などの処理をする際のエッジ追随制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】鋼板，紙，ゴム，樹脂などの帯状体を製
造工程や加工工程において、搬送される状態で帯状体を
連続的に加工などする場合に帯状体が比較的固く、か
つ、そのエッジ形状が一直線で無い場合には、、帯状体
のエッジの平面形状を知り、その形状に合わせた加工を
することが望まれる。
造工程や加工工程において、搬送される状態で帯状体を
連続的に加工などする場合に帯状体が比較的固く、か
つ、そのエッジ形状が一直線で無い場合には、、帯状体
のエッジの平面形状を知り、その形状に合わせた加工を
することが望まれる。
【０００３】図２は帯状体のエッジの平面形状の一例を
示す図である。鋼板など製造，加工工程における作用に
より（ａ）に示すように全体としてたわんだ状態になっ
ている場合や、（ｂ）に示すように溶接で接続した場合
など「く」の字に折れ曲ることもある。なお、（ａ）の
ようなたわみはキャンバと呼ぶことがある。
示す図である。鋼板など製造，加工工程における作用に
より（ａ）に示すように全体としてたわんだ状態になっ
ている場合や、（ｂ）に示すように溶接で接続した場合
など「く」の字に折れ曲ることもある。なお、（ａ）の
ようなたわみはキャンバと呼ぶことがある。
【０００４】金属等の帯状体を連続メッキラインにおい
て電気メッキする場合、帯状体をメッキ槽中を通しなが
ら、メッキしてゆく。このとき、帯状体のエッジのメッ
キ厚が大きくなりやすいので、絶縁体で構成されたエッ
ジマスクをエッジに被せて、メッキ厚がエッジも他の部
分と同じになるよう制御する必要がある。
て電気メッキする場合、帯状体をメッキ槽中を通しなが
ら、メッキしてゆく。このとき、帯状体のエッジのメッ
キ厚が大きくなりやすいので、絶縁体で構成されたエッ
ジマスクをエッジに被せて、メッキ厚がエッジも他の部
分と同じになるよう制御する必要がある。
【０００５】しかし帯状体は図２で示したようにキャン
バーを有している場合が多いので、この形状に応じて、
エッジマスクが帯状体のエッジを予め設定した量覆うよ
うにしなければならない。このためには、エッジマスク
位置の帯状体のエッジ形状を計測できればよいが、メッ
キ槽中なので、計測できない。
バーを有している場合が多いので、この形状に応じて、
エッジマスクが帯状体のエッジを予め設定した量覆うよ
うにしなければならない。このためには、エッジマスク
位置の帯状体のエッジ形状を計測できればよいが、メッ
キ槽中なので、計測できない。
【０００６】図３はエッジマスク位置の計測方法を示す
図である。一点鎖線で囲まれた範囲がメッキ槽を表わ
す。メッキ槽の入口側のＣで示す位置と出口側のＤで示
す位置にエッジ計測点が設けられこの２点のエッジ計測
点を点線で示すように一直線で結び、エッジはこの線上
にあるとしてエッジマスクの位置制御を行っていた。
図である。一点鎖線で囲まれた範囲がメッキ槽を表わ
す。メッキ槽の入口側のＣで示す位置と出口側のＤで示
す位置にエッジ計測点が設けられこの２点のエッジ計測
点を点線で示すように一直線で結び、エッジはこの線上
にあるとしてエッジマスクの位置制御を行っていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようにエ
ッジの位置を仮想する場合、図３に実線で示すエッジ位
置とは、矢印で示すようにギャップが生じる。このた
め、エッジマスクによって、エッジのメッキ厚を十分制
御できない。本発明は、上述の問題点に鑑みてなされた
ものであり、キャンバ等を有する帯状体でもエッジ形状
を算出し、エッジ処理制御を精度よく行う方法および装
置を提供することを目的とする。
ッジの位置を仮想する場合、図３に実線で示すエッジ位
置とは、矢印で示すようにギャップが生じる。このた
め、エッジマスクによって、エッジのメッキ厚を十分制
御できない。本発明は、上述の問題点に鑑みてなされた
ものであり、キャンバ等を有する帯状体でもエッジ形状
を算出し、エッジ処理制御を精度よく行う方法および装
置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、帯状体の走行方向に上流側より第１計測点と第２計
測点を距離ΔＬ離して設け、帯状体のエッジを一定走行
長ｐごとに同時に計測することを繰り返して行い、同時
に計測した値の差をＭｉとし、ｘ＝Σｐ，ｙ＝Σ（Ｍｉ
・ｐ／ΔＬ）により帯状体のエッジ形状を表わす。
め、帯状体の走行方向に上流側より第１計測点と第２計
測点を距離ΔＬ離して設け、帯状体のエッジを一定走行
長ｐごとに同時に計測することを繰り返して行い、同時
に計測した値の差をＭｉとし、ｘ＝Σｐ，ｙ＝Σ（Ｍｉ
・ｐ／ΔＬ）により帯状体のエッジ形状を表わす。
【０００９】また、帯状体の走行方向に上流側より第１
計測点と第２計測点を距離ΔＬ離して設け、帯状体のエ
ッジを一定走行長ｐごとに同時に計測することを繰り返
して行い、同時に計測した値の差Ｍｉを算出し、ｘ＝Σ
ｐ，ｙ＝Σ（Ｍｉ・ｐ／ΔＬ）として帯状体のエッジ形
状を計測するエッジ形状検出手段と、帯状体の走行速度
を検出する速度検出手段と、帯状体エッジを追随処理す
るエッジ処理装置の入口側で前記エッジ形状検出手段よ
り距離ｋ１下流に設けられた入口測定点と、この入口測
定点より距離ｋ２下流に設けられた出口測定点を有し、
入口測定点と出口測定点の計測値より帯状体の蛇行量を
検出する蛇行検出部と、前記エッジ形状検出手段の検出
したエッジ形状、前記速度検出手段の検出速度、前記距
離ｋ１，ｋ２，前記蛇行量とから、前記入口測定点およ
び出口測定点間の各エッジ処理位置の帯状体のエッジ形
状を算出する処理位置エッジ形状算出手段と、この処理
位置エッジ形状算出手段の算出にもとづき、前記エッジ
処理装置を制御する制御手段とを備える。
計測点と第２計測点を距離ΔＬ離して設け、帯状体のエ
ッジを一定走行長ｐごとに同時に計測することを繰り返
して行い、同時に計測した値の差Ｍｉを算出し、ｘ＝Σ
ｐ，ｙ＝Σ（Ｍｉ・ｐ／ΔＬ）として帯状体のエッジ形
状を計測するエッジ形状検出手段と、帯状体の走行速度
を検出する速度検出手段と、帯状体エッジを追随処理す
るエッジ処理装置の入口側で前記エッジ形状検出手段よ
り距離ｋ１下流に設けられた入口測定点と、この入口測
定点より距離ｋ２下流に設けられた出口測定点を有し、
入口測定点と出口測定点の計測値より帯状体の蛇行量を
検出する蛇行検出部と、前記エッジ形状検出手段の検出
したエッジ形状、前記速度検出手段の検出速度、前記距
離ｋ１，ｋ２，前記蛇行量とから、前記入口測定点およ
び出口測定点間の各エッジ処理位置の帯状体のエッジ形
状を算出する処理位置エッジ形状算出手段と、この処理
位置エッジ形状算出手段の算出にもとづき、前記エッジ
処理装置を制御する制御手段とを備える。
【００１０】
【作用】図４は端部計測点Ａ，Ｂ間を走行する帯状体の
計測を説明する図である。実線で示す形状が距離ΔＬ走
行すると点線で示す形状となる。Ａ，Ｂに設置されたセ
ンサによりエッジ変化量を測定し、エッジの勾配を検出
する。
計測を説明する図である。実線で示す形状が距離ΔＬ走
行すると点線で示す形状となる。Ａ，Ｂに設置されたセ
ンサによりエッジ変化量を測定し、エッジの勾配を検出
する。
【００１１】Ａ点とＢ点の間で帯状物のひねりがないと
すると、 Ｂ点センサで見た変化量 ＝距離ΔＬにおける見かけの変化量 ＝Ａ，Ｂ間の見かけの変化量 ＝ｂ１−ｂ２ Ａ点の距離ΔＬにおける蛇行量 ＝ａ１−ｂ２ Ａ，Ｂ間の実際の変化量 ＝（ｂ１−ｂ２）−（ａ１−ｂ２） ＝ｂ１−ａ１ Ａ，Ｂ間の勾配 ＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ
すると、 Ｂ点センサで見た変化量 ＝距離ΔＬにおける見かけの変化量 ＝Ａ，Ｂ間の見かけの変化量 ＝ｂ１−ｂ２ Ａ点の距離ΔＬにおける蛇行量 ＝ａ１−ｂ２ Ａ，Ｂ間の実際の変化量 ＝（ｂ１−ｂ２）−（ａ１−ｂ２） ＝ｂ１−ａ１ Ａ，Ｂ間の勾配 ＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ
【００１２】図５は帯状体のエッジが変動した場合の勾
配を説明した図である。実線は移動前の帯状体の形状，
破線，一点鎖線，二点鎖線が３つの移動例を示す。 破線位置に移動したとき ａ１＝５，ｂ１＝４，ｂ２＝５ 変化量＝ｂ１−ａ１＝−１ 勾配＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ＝−１／ΔＬ 一点鎖線に移動したとき ａ１＝５，ｂ１＝４，ｂ２＝３ 変化量＝ｂ１−ａ１＝−１ 勾配＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ＝−１／ΔＬ 二点鎖線に移動したとき ａ１＝５，ｂ１＝４，ｂ２＝７ 変化量＝ｂ１−ａ１＝−１ 勾配＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ＝−１／ΔＬ
配を説明した図である。実線は移動前の帯状体の形状，
破線，一点鎖線，二点鎖線が３つの移動例を示す。 破線位置に移動したとき ａ１＝５，ｂ１＝４，ｂ２＝５ 変化量＝ｂ１−ａ１＝−１ 勾配＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ＝−１／ΔＬ 一点鎖線に移動したとき ａ１＝５，ｂ１＝４，ｂ２＝３ 変化量＝ｂ１−ａ１＝−１ 勾配＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ＝−１／ΔＬ 二点鎖線に移動したとき ａ１＝５，ｂ１＝４，ｂ２＝７ 変化量＝ｂ１−ａ１＝−１ 勾配＝（ｂ１−ａ１）／ΔＬ＝−１／ΔＬ
【００１３】以上は、実線で示す形状から、３つの例で
示すような位置に移動した場合でも一定区間の勾配配置
が同じ値として計測できる例である。
示すような位置に移動した場合でも一定区間の勾配配置
が同じ値として計測できる例である。
【００１４】図６はＡ，Ｂを通過する帯状体のエッジを
計測してゆく状態を示す。（ａ）は〜間の変化量
（勾配）を示す。 変化量Ｍ１＝４−５＝−１ （ｂ）は〜間の変化量 変化量Ｍ２＝５−４＝１ （ｃ）は〜間の変化量 変化量Ｍ３＝４−３＝１ （ｄ）は〜間の変化量
計測してゆく状態を示す。（ａ）は〜間の変化量
（勾配）を示す。 変化量Ｍ１＝４−５＝−１ （ｂ）は〜間の変化量 変化量Ｍ２＝５−４＝１ （ｃ）は〜間の変化量 変化量Ｍ３＝４−３＝１ （ｄ）は〜間の変化量
【００１５】図７は計測した帯状体のエッジ形状（平面
形状）を表わす図である。計測開始点を０とし、ｙ軸方
向をΣＭｉ、ｘ軸方向をΣΔＬとすることにより帯状体
のエッジ形状を再現できる。以上の例では計測データを
兼用できる便宜から走行長ΔＬごとにＡＢ両点で同時計
測する例をを示したが、走行長はΔＬに限らず、条件に
応じて適切な一定走行長ｐごとに同時計測するとよい。
この場合にはｘ軸方向の合計はｘ＝Σｐで、ｙ軸方向の
合計はｙ＝Σ（Ｍｉ・ｐ／ΔＬ）である。図６および図
７に示すようにｐ＝ΔＬのときにはｘ＝ΣΔＬ，ｙ＝Σ
Ｍｉになる。以下説明の便宜上ｐ＝ΔＬとして説明す
る。
形状）を表わす図である。計測開始点を０とし、ｙ軸方
向をΣＭｉ、ｘ軸方向をΣΔＬとすることにより帯状体
のエッジ形状を再現できる。以上の例では計測データを
兼用できる便宜から走行長ΔＬごとにＡＢ両点で同時計
測する例をを示したが、走行長はΔＬに限らず、条件に
応じて適切な一定走行長ｐごとに同時計測するとよい。
この場合にはｘ軸方向の合計はｘ＝Σｐで、ｙ軸方向の
合計はｙ＝Σ（Ｍｉ・ｐ／ΔＬ）である。図６および図
７に示すようにｐ＝ΔＬのときにはｘ＝ΣΔＬ，ｙ＝Σ
Ｍｉになる。以下説明の便宜上ｐ＝ΔＬとして説明す
る。
【００１６】エッジの形状を計測する場所と、このエッ
ジ形状を必要とする場所と離れている場合が多い。図３
の場合、Ｃ，Ｄ間のエッジ形状が必要であるが、このエ
ッジ形状を計測するのは上流のＡ，Ｂ点である。このた
め、Ｃ，Ｄ点まで帯状体が走行してゆく間に蛇行するこ
とがある。
ジ形状を必要とする場所と離れている場合が多い。図３
の場合、Ｃ，Ｄ間のエッジ形状が必要であるが、このエ
ッジ形状を計測するのは上流のＡ，Ｂ点である。このた
め、Ｃ，Ｄ点まで帯状体が走行してゆく間に蛇行するこ
とがある。
【００１７】図８はＣ，Ｄ間の蛇行を説明する図であ
る。（ａ）において破線は蛇行し、かつエッジ形状が一
直線でない帯状体のＣ点とＤ点のエッジ通過位置を直線
で結んだものであり、一点鎖線は蛇行が生じない場合の
帯状体の形状を示す。ｄが蛇行量である。（ｂ）は蛇行
を補正した帯状体の形状を示す。
る。（ａ）において破線は蛇行し、かつエッジ形状が一
直線でない帯状体のＣ点とＤ点のエッジ通過位置を直線
で結んだものであり、一点鎖線は蛇行が生じない場合の
帯状体の形状を示す。ｄが蛇行量である。（ｂ）は蛇行
を補正した帯状体の形状を示す。
【００１８】図９はＣ，Ｄ間の任意位置の蛇行量を算出
する説明図である。Ｃ点とＤ点でのエッジ計測値から次
のように蛇行量を算出できる。 Ｃ位置でのエッジ位置Ｗ１ Ｄ位置でのエッジ位置Ｗ２ ただしＷ２はＷ１に対してＤ点におけるエッジの形状を
補正済の値 Ｃ点よりｋΔＬ位置における蛇行量ｄｋ ｄｋ＝（Ｗ１−Ｗ２）×ｋΔＬ／Ｌ……（１）
する説明図である。Ｃ点とＤ点でのエッジ計測値から次
のように蛇行量を算出できる。 Ｃ位置でのエッジ位置Ｗ１ Ｄ位置でのエッジ位置Ｗ２ ただしＷ２はＷ１に対してＤ点におけるエッジの形状を
補正済の値 Ｃ点よりｋΔＬ位置における蛇行量ｄｋ ｄｋ＝（Ｗ１−Ｗ２）×ｋΔＬ／Ｌ……（１）
【００１９】故に図８（ｂ）の一点鎖線の形状は次のよ
うにして得られる。Ｃ点におけるエッジ位置を基準とす
ると エッジ形状＝（変化量の和）＋（蛇行量） ＝ΣＭｉ＋ｄｋ……（２）
うにして得られる。Ｃ点におけるエッジ位置を基準とす
ると エッジ形状＝（変化量の和）＋（蛇行量） ＝ΣＭｉ＋ｄｋ……（２）
【００２０】以上によりエッジ形状計測方法と、計測位
置より下流における帯状体の走行によって生じる蛇行量
を補正したエッジ形状再現方法が得られたので、これを
用いてエッジ追随制御装置の動作について説明する。
置より下流における帯状体の走行によって生じる蛇行量
を補正したエッジ形状再現方法が得られたので、これを
用いてエッジ追随制御装置の動作について説明する。
【００２１】端部形状検出手段で帯状体のエッジ形状を
計測し、速度検出手段で帯状体の走行速度を検出し、蛇
行検出部でエッジ処理装置の入口側と出口側間の帯状体
の蛇行量を検出する。処理位置エッジ形状算出手段は計
測したエッジ形状、帯状体走行速度、第１計測点と入口
測定点との距離ｋ１，入口測定点と出口測定点との距離
ｋ２とから入口測定点と出口測定点間の各位置の帯状体
のエッジ形状を、蛇行量で補正して再現する。制御手段
は、この再現したエッジ形状に基づきエッジ処理装置を
制御する。
計測し、速度検出手段で帯状体の走行速度を検出し、蛇
行検出部でエッジ処理装置の入口側と出口側間の帯状体
の蛇行量を検出する。処理位置エッジ形状算出手段は計
測したエッジ形状、帯状体走行速度、第１計測点と入口
測定点との距離ｋ１，入口測定点と出口測定点との距離
ｋ２とから入口測定点と出口測定点間の各位置の帯状体
のエッジ形状を、蛇行量で補正して再現する。制御手段
は、この再現したエッジ形状に基づきエッジ処理装置を
制御する。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本実施例のメッキセル内エッジマスク制御
装置の構成を示すブロック図である。同図において、１
は鋼板で連続的に走行している。２は位置Ａで鋼板１の
両端に設けられた第１計測部、３は位置ＡよりΔＬ下流
の位置Ｂで鋼板１の両端に設けられた第２計測部、４は
上部２本、下部１本のロールよりなるピンチロール、５
はピンチロール４の回転速度に対応したパルスを発信す
るパルス発振器、６は電気メッキセル、７は電気メッキ
セルの入口側の位置Ｃに設けられた第３計測部、８は出
口側の位置Ｄに設けられた第４計測部、９は鋼板１のエ
ッジをマスクするエッジマスク、10はエッジマスクのマ
スク位置を制御するシリンダーである。なお、位置Ａ
（第１計測部）、位置Ｂ（第２計測部）は、鋼板１の走
行方向に対して直角方向の力が鋼板１にかからない場
所、すなわち、鋼板にひねりが生じない所に設置する。
する。図１は本実施例のメッキセル内エッジマスク制御
装置の構成を示すブロック図である。同図において、１
は鋼板で連続的に走行している。２は位置Ａで鋼板１の
両端に設けられた第１計測部、３は位置ＡよりΔＬ下流
の位置Ｂで鋼板１の両端に設けられた第２計測部、４は
上部２本、下部１本のロールよりなるピンチロール、５
はピンチロール４の回転速度に対応したパルスを発信す
るパルス発振器、６は電気メッキセル、７は電気メッキ
セルの入口側の位置Ｃに設けられた第３計測部、８は出
口側の位置Ｄに設けられた第４計測部、９は鋼板１のエ
ッジをマスクするエッジマスク、10はエッジマスクのマ
スク位置を制御するシリンダーである。なお、位置Ａ
（第１計測部）、位置Ｂ（第２計測部）は、鋼板１の走
行方向に対して直角方向の力が鋼板１にかからない場
所、すなわち、鋼板にひねりが生じない所に設置する。
【００２３】形状演算部11は第１計測部２と第２計測部
３の計測値からＡ点とＢ点間の距離ΔＬの鋼板１のエッ
ジ形状の変化量Ｍｉを算出し、ｘ＝ΣΔＬ，ｙ＝ΣＭｉ
としてエッジ形状を算出する。形状記憶部12は形状演算
部11で算出したエッジ形状をパルス発振器５よりのパル
スに対応して記憶する。
３の計測値からＡ点とＢ点間の距離ΔＬの鋼板１のエッ
ジ形状の変化量Ｍｉを算出し、ｘ＝ΣΔＬ，ｙ＝ΣＭｉ
としてエッジ形状を算出する。形状記憶部12は形状演算
部11で算出したエッジ形状をパルス発振器５よりのパル
スに対応して記憶する。
【００２４】つまりパルス発振器５のパルスは走行する
鋼板１の位置のトラッキングをする。トラッキング（tr
acking）とは、鋼板１の位置を鋼板１の流れに合せてあ
らかじめ分っている所定の位置迄追いかけてゆく動作を
いう。
鋼板１の位置のトラッキングをする。トラッキング（tr
acking）とは、鋼板１の位置を鋼板１の流れに合せてあ
らかじめ分っている所定の位置迄追いかけてゆく動作を
いう。
【００２５】１パルス当りの鋼板１の長さが割り当てら
れ、鋼板１を搬送するラインが運転され、鋼板１が走行
すると、走行長さに応じてパルスが発生する。このパル
スにより第１および第２計測部２，３で検出したデータ
を順次記憶し、所定のエッジマスク位置までトラッキン
グしたデータを出力する。
れ、鋼板１を搬送するラインが運転され、鋼板１が走行
すると、走行長さに応じてパルスが発生する。このパル
スにより第１および第２計測部２，３で検出したデータ
を順次記憶し、所定のエッジマスク位置までトラッキン
グしたデータを出力する。
【００２６】セル内形状演算部13は第３計測部７と第４
計測部８での鋼板エッジ計測値から位置Ｃ〜Ｄ間におけ
る鋼板１の蛇行量を算出し、この蛇行量と変化量記憶部
12に記憶されたエッジ形状、位置ＢとＣ間の距離ｋ１，
Ｃ〜Ｄ間の距離ｋ２、メッキセル内の各エッジマスクの
位置、およびパルス発振器５よりのパルスに基づき、各
エッジマスク位置における鋼板エッジ形状を演算する。
計測部８での鋼板エッジ計測値から位置Ｃ〜Ｄ間におけ
る鋼板１の蛇行量を算出し、この蛇行量と変化量記憶部
12に記憶されたエッジ形状、位置ＢとＣ間の距離ｋ１，
Ｃ〜Ｄ間の距離ｋ２、メッキセル内の各エッジマスクの
位置、およびパルス発振器５よりのパルスに基づき、各
エッジマスク位置における鋼板エッジ形状を演算する。
【００２７】マスク位置制御部14はセル内形状演算部13
の演算値に基づき、各エッジマスクのマスク範囲を制御
するシリンダー10の操作量を決定する。マスク操作部15
はマスク位置制御部14の決定した操作量に基づきシリン
ダー10を操作し、エッジマスクのマスク内を通過する鋼
板１のエッジ形状に合せて制御し、エッジにおけるメッ
キ厚を調整する。
の演算値に基づき、各エッジマスクのマスク範囲を制御
するシリンダー10の操作量を決定する。マスク操作部15
はマスク位置制御部14の決定した操作量に基づきシリン
ダー10を操作し、エッジマスクのマスク内を通過する鋼
板１のエッジ形状に合せて制御し、エッジにおけるメッ
キ厚を調整する。
【００２８】図１において、シリンダー10、およびマス
ク操作部15は鋼板１の両側エッジに設けられているもの
とする。なお、本実施例では形状演算部11，形状記憶部
12およびセル内形状演算部13はコンピュータでソフトウ
ェア的に実現しているが、ハードウェア的に構成しても
よい。
ク操作部15は鋼板１の両側エッジに設けられているもの
とする。なお、本実施例では形状演算部11，形状記憶部
12およびセル内形状演算部13はコンピュータでソフトウ
ェア的に実現しているが、ハードウェア的に構成しても
よい。
【００２９】次にメッキセル内の各エッジマスク位置に
おける鋼板エッジの形状算出についてさらに詳細に説明
する。位置Ａ，Ｂにおける第１計測部２と第２計測部３
で計測された値はＡＢ間の距離ΔＬにおけるエッジの変
化量Ｍｉであり、これは勾配を表わす。図７に示したよ
うに、ｘ軸にΣΔＬ，ｙ軸にΣＭｉをとるとエッジ形状
を表わす。この曲線はの位置を０としたものであり、
このようにエッジ形状を確定するには基準点を設け、そ
の点からの変化を表わすようにする必要がある。
おける鋼板エッジの形状算出についてさらに詳細に説明
する。位置Ａ，Ｂにおける第１計測部２と第２計測部３
で計測された値はＡＢ間の距離ΔＬにおけるエッジの変
化量Ｍｉであり、これは勾配を表わす。図７に示したよ
うに、ｘ軸にΣΔＬ，ｙ軸にΣＭｉをとるとエッジ形状
を表わす。この曲線はの位置を０としたものであり、
このようにエッジ形状を確定するには基準点を設け、そ
の点からの変化を表わすようにする必要がある。
【００３０】本実施例ではメッキセル６の入口側である
第３測定部７の位置Ｃを基準点とし、位置Ｃにおける変
化量および蛇行量を０とする。このため各エッジマスク
位置におけるエッジ変化量による補正値ｍｉを次のよう
に定め、この補正値ｍｉに、蛇行量による補正値ｄｋを
加算して各エッジマスク位置におけるエッジ形状を再現
する。
第３測定部７の位置Ｃを基準点とし、位置Ｃにおける変
化量および蛇行量を０とする。このため各エッジマスク
位置におけるエッジ変化量による補正値ｍｉを次のよう
に定め、この補正値ｍｉに、蛇行量による補正値ｄｋを
加算して各エッジマスク位置におけるエッジ形状を再現
する。
【００３１】１番目の変化量データＭ′１が位置Ｃにく
るとｍ０を強制的に０とする。同様にｎ番目の変化量デ
ータＭ′ｎが位置Ｃにくるとｍｎを強制的に０にする。
このようにすると各エッジマスク位置における変化量補
正値ｍｉは次のようになる。
るとｍ０を強制的に０とする。同様にｎ番目の変化量デ
ータＭ′ｎが位置Ｃにくるとｍｎを強制的に０にする。
このようにすると各エッジマスク位置における変化量補
正値ｍｉは次のようになる。
【００３２】 位置Ｃにおける変化量補正値 ｍ０＝Ｍ′n −
Ｍ′n ＝０ ＮＯ．１マスクにおける変化量補正値 ｍ１＝Ｍ′n-1
＋ｍ０ ＮＯ．２マスクにおける変化量補正値 ｍ２＝Ｍ′n-2
＋ｍ１ ＮＯ．３マスクにおける変化量補正値 ｍ３＝Ｍ′n-3
＋ｍ２ ＮＯ．ｉマスクにおける変化量補正値 ｍｉ＝Ｍ′n-i
＋ｍi-1 ＮＯ．ｎマスクにおける変化量補正値 ｍｎ＝Ｍ′1 ＋
ｍn-1
Ｍ′n ＝０ ＮＯ．１マスクにおける変化量補正値 ｍ１＝Ｍ′n-1
＋ｍ０ ＮＯ．２マスクにおける変化量補正値 ｍ２＝Ｍ′n-2
＋ｍ１ ＮＯ．３マスクにおける変化量補正値 ｍ３＝Ｍ′n-3
＋ｍ２ ＮＯ．ｉマスクにおける変化量補正値 ｍｉ＝Ｍ′n-i
＋ｍi-1 ＮＯ．ｎマスクにおける変化量補正値 ｍｎ＝Ｍ′1 ＋
ｍn-1
【００３３】図10はエッジマスクの各位置における上述
した変化量補正値をわかりやすいよう表にしたものであ
る。（ａ）は形状記憶部12におけるメモリがパルス発振
器５のパルスに対応して、サイクリックに移動する状態
を示す。（ｂ）は各マスク位置の変化量補正値を示す。
した変化量補正値をわかりやすいよう表にしたものであ
る。（ａ）は形状記憶部12におけるメモリがパルス発振
器５のパルスに対応して、サイクリックに移動する状態
を示す。（ｂ）は各マスク位置の変化量補正値を示す。
【００３４】図11は蛇行量補正値とメッキセル入口側に
おけるエッジ位置と変化量補正値とから、各エッジマス
ク位置におけるエッジ位置を表わす説明図である。蛇行
量補正値ｄｋは図９において説明した式（１）によって
表わされるｄｋである。位置Ｃにおける値Ｗ１は第３計
測部７によって計測された鋼板１のエッジ位置である。
故にマスク制御目標値は次のように表わされる。 （位置Ｃの第３計測部の計測値）＋（変化量補正値）＋
（蛇行量補正値）＝Ｗ１＋ｍｋ＋ｄｋ……（３）
おけるエッジ位置と変化量補正値とから、各エッジマス
ク位置におけるエッジ位置を表わす説明図である。蛇行
量補正値ｄｋは図９において説明した式（１）によって
表わされるｄｋである。位置Ｃにおける値Ｗ１は第３計
測部７によって計測された鋼板１のエッジ位置である。
故にマスク制御目標値は次のように表わされる。 （位置Ｃの第３計測部の計測値）＋（変化量補正値）＋
（蛇行量補正値）＝Ｗ１＋ｍｋ＋ｄｋ……（３）
【００３５】本実施例はエッジマスクの場合につき説明
したが、本発明はこれに限定されることなく、帯状体の
エッジ形状に対応した処理を行う作業に適用することが
できる。
したが、本発明はこれに限定されることなく、帯状体の
エッジ形状に対応した処理を行う作業に適用することが
できる。
【００３６】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
はまず２点で帯状体のエッジ形状を検出し、エッジ形状
を必要とする範囲の両端のエッジ位置を検出して蛇行量
を算出し、エッジ形状を蛇行量で修正するので、直接エ
ッジ位置を計測できな場合でもエッジ形状を精度より算
出することができる。
はまず２点で帯状体のエッジ形状を検出し、エッジ形状
を必要とする範囲の両端のエッジ位置を検出して蛇行量
を算出し、エッジ形状を蛇行量で修正するので、直接エ
ッジ位置を計測できな場合でもエッジ形状を精度より算
出することができる。
【図１】本発明の実施例の構成図である。
【図２】帯状体の曲り説明図である。
【図３】従来のエッジマスク位置計測方法を説明する図
である。
である。
【図４】帯状体のエッジ形状を計測する説明図である。
【図５】帯状体のエッジが変動した場合の勾配の変化を
説明する図である。
説明する図である。
【図６】エッジ形状計測点を通過する帯状体のエッジ計
測状態を示す図である。
測状態を示す図である。
【図７】計測したエッジ形状の再現を説明する図であ
る。
る。
【図８】位置Ｃ，Ｄ間の帯状体の蛇行量を説明する図で
ある。
ある。
【図９】蛇行量を算出する説明図である。
【図１０】各エッジマスク位置における変化量補正値を
表わした図である。
表わした図である。
【図１１】メッキセル内におけるエッジマスク位置の算
出方法説明図である。
出方法説明図である。
１ 鋼板 ２ 第１計測部 ３ 第２計測部 ４ ピンチロール ５ パルス発振器 ６ 電気メッキセル ７ 第３計測部 ８ 第４計測部 ９ エッジマスク 10 シリンダー 11 形状演算部 12 形状記憶部 13 セル内形状算出部 14 マスク位置制御部 15 マスク操作部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 誠一 岡山県倉敷市水島川崎通１丁目（番地な し）川崎製鉄株式会社水島製鉄所内 (56)参考文献 特開 昭49−121556（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−27965（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−148407（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01B 21/20 C25D 7/00
Claims (2)
- 【請求項１】 帯状体の走行方向に上流側より第１計測
点と第２計測点を距離ΔＬ離して設け、帯状体のエッジ
を一定走行長ｐごとに同時に計測することを繰り返して
行い、同時に計測した値の差をＭｉとし、ｘ＝Σｐ，ｙ
＝Σ（Ｍｉ・ｐ／ΔＬ）により帯状体のエッジ形状を表
わすことを特徴とする帯状体のエッジ形状計測方法。 - 【請求項２】 帯状体の走行方向に上流側より第１計測
点と第２計測点を距離ΔＬ離して設け、帯状体のエッジ
を一定走行長ｐごとに同時に計測することを繰り返して
行い、同時に計測した値の差Ｍｉを算出し、ｘ＝Σｐ，
ｙ＝Σ（Ｍｉ・ｐ／ΔＬ）として帯状体のエッジ形状を
計測するエッジ形状検出手段と、帯状体の走行速度を検
出する速度検出手段と、帯状体エッジを追随処理するエ
ッジ処理装置の入口側で前記エッジ形状検出手段より距
離ｋ１下流に設けられた入口測定点と、この入口測定点
より距離ｋ２下流に設けられた出口測定点を有し、入口
測定点と出口測定点の計測値より帯状体の蛇行量を検出
する蛇行検出部と、前記エッジ形状検出手段の検出した
エッジ形状、前記速度検出手段の検出速度、前記距離ｋ
１，ｋ２，前記蛇行量とから、前記入口測定点および出
口測定点間の各エッジ処理位置の帯状体のエッジ形状を
算出する処理位置エッジ形状算出手段と、この処理位置
エッジ形状算出手段の算出にもとづき、前記エッジ処理
装置を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする帯
状体のエッジ追随装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4034243A JP2822751B2 (ja) | 1992-01-24 | 1992-01-24 | 帯状体のエッジ形状計測方法およびエッジ追従装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4034243A JP2822751B2 (ja) | 1992-01-24 | 1992-01-24 | 帯状体のエッジ形状計測方法およびエッジ追従装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05203440A JPH05203440A (ja) | 1993-08-10 |
| JP2822751B2 true JP2822751B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=12408723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4034243A Expired - Fee Related JP2822751B2 (ja) | 1992-01-24 | 1992-01-24 | 帯状体のエッジ形状計測方法およびエッジ追従装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2822751B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49121556A (ja) * | 1973-03-22 | 1974-11-20 | ||
| JPH02148407U (ja) * | 1989-05-22 | 1990-12-17 |
-
1992
- 1992-01-24 JP JP4034243A patent/JP2822751B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05203440A (ja) | 1993-08-10 |
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