JP2800510B2 - 磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/40—Protective measures on heads, e.g. against excessive temperature
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
- G11B5/6011—Control of flying height
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置等の
磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッド及び薄膜磁気
ヘッドに関するものである。
磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッド及び薄膜磁気
ヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１４は従来の磁気ヘッドを示す斜視図
である。図１４において１はスライダーで、スライダー
１はフェライト等の酸化物磁性材料によって構成されて
いる。またスライダー１の媒体対向面には一対の互いに
平行な浮上レール２，３がそれぞれ設けられている。又
浮上レール２と浮上レール３の間には所定のトラック幅
ＴＷを有したセンターレール４が設けられている。５は
フェライト等の酸化物磁性材料によって構成されたＣ字
型のコアで、コア５は磁気ギャップを介してセンターレ
ール４の端面に突き合わされ、接合ガラス６にてスライ
ダー１に接合されている。７はコア５の胴部に巻回され
た巻線である。図１５は図１４図に示した磁気ヘッドの
磁気ギャップ部の拡大側面図である。図１５において、
１はスライダー、５はコア、６は接合ガラスで、これら
は図１４に示すものと同じである。８はコア５のギャッ
プ対向面に形成された金属磁性膜で、金属磁性膜８はＦ
ｅ−ＮｉやＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の金属磁性材料で構成さ
れており、スパッタリング法等の薄膜形成技術によって
形成されている。９は磁気ギャップとなり、ＳｉＯ2等
の非磁性材料によって構成された非磁性膜で、非磁性膜
９はスパッタリング法等の薄膜形成技術でスライダー１
の端面に形成される。
である。図１４において１はスライダーで、スライダー
１はフェライト等の酸化物磁性材料によって構成されて
いる。またスライダー１の媒体対向面には一対の互いに
平行な浮上レール２，３がそれぞれ設けられている。又
浮上レール２と浮上レール３の間には所定のトラック幅
ＴＷを有したセンターレール４が設けられている。５は
フェライト等の酸化物磁性材料によって構成されたＣ字
型のコアで、コア５は磁気ギャップを介してセンターレ
ール４の端面に突き合わされ、接合ガラス６にてスライ
ダー１に接合されている。７はコア５の胴部に巻回され
た巻線である。図１５は図１４図に示した磁気ヘッドの
磁気ギャップ部の拡大側面図である。図１５において、
１はスライダー、５はコア、６は接合ガラスで、これら
は図１４に示すものと同じである。８はコア５のギャッ
プ対向面に形成された金属磁性膜で、金属磁性膜８はＦ
ｅ−ＮｉやＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の金属磁性材料で構成さ
れており、スパッタリング法等の薄膜形成技術によって
形成されている。９は磁気ギャップとなり、ＳｉＯ2等
の非磁性材料によって構成された非磁性膜で、非磁性膜
９はスパッタリング法等の薄膜形成技術でスライダー１
の端面に形成される。
【０００３】以上のように構成された磁気ヘッドにおい
て以下その動作を図１６及び図１７を用いて説明する。
て以下その動作を図１６及び図１７を用いて説明する。
【０００４】図１６及び図１７において１０は図１４に
示した磁気ヘッド、１１は磁気ディスク、１２は空気流
である。磁気ディスク１１が回転していない時は磁気ヘ
ッド１０は磁気ディスク１１に接触した状態となる。磁
気ディスク１１が回転し始めると、磁気ヘッド１０と磁
気ディスク１１は互いに擦れ合うようになる。磁気ディ
スク１１の回転数が一定以上になると、磁気ディスク１
１の表面に強い空気流が発生するようになり、図１７図
に示すように磁気ヘッド１０は磁気ディスク１１から離
れ、磁気ディスク１１から一定の距離を保って浮上する
ようになる。
示した磁気ヘッド、１１は磁気ディスク、１２は空気流
である。磁気ディスク１１が回転していない時は磁気ヘ
ッド１０は磁気ディスク１１に接触した状態となる。磁
気ディスク１１が回転し始めると、磁気ヘッド１０と磁
気ディスク１１は互いに擦れ合うようになる。磁気ディ
スク１１の回転数が一定以上になると、磁気ディスク１
１の表面に強い空気流が発生するようになり、図１７図
に示すように磁気ヘッド１０は磁気ディスク１１から離
れ、磁気ディスク１１から一定の距離を保って浮上する
ようになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の構成では、磁気ディスク１１が回転していないときは
磁気ヘッド１０の媒体対向面は常に磁気ディスク１１表
面に接触している状態となるので、活性な金属で構成さ
れた金属磁性膜８が、磁気ディスク１１表面に塗布して
ある潤滑剤や、磁気ディスク１１表面に結露した水分に
よって変色等を起こし、磁気ヘッドの諸特性が劣化する
という問題点があった。
の構成では、磁気ディスク１１が回転していないときは
磁気ヘッド１０の媒体対向面は常に磁気ディスク１１表
面に接触している状態となるので、活性な金属で構成さ
れた金属磁性膜８が、磁気ディスク１１表面に塗布して
ある潤滑剤や、磁気ディスク１１表面に結露した水分に
よって変色等を起こし、磁気ヘッドの諸特性が劣化する
という問題点があった。
【０００６】本発明は前記従来の問題点を解決するもの
で、金属磁性膜が潤滑剤や結露した水分等によって変色
等を起こさず、諸特性の劣化を起こさない磁気ヘッドを
提供することを目的としている。
で、金属磁性膜が潤滑剤や結露した水分等によって変色
等を起こさず、諸特性の劣化を起こさない磁気ヘッドを
提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、金属磁性材料の構成する媒体対向面を他の部材が構
成する媒体対向面より窪ませた。
に、金属磁性材料の構成する媒体対向面を他の部材が構
成する媒体対向面より窪ませた。
【０００８】
【作用】この構成により、磁気ディスク表面に設けられ
た潤滑剤や水分が金属磁性材料に接触しない。
た潤滑剤や水分が金属磁性材料に接触しない。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の第１の実施例における磁気ヘ
ッドを示す斜視図である。図１において１はスライダ
ー、２，３は浮上レール、４はセンターレール、５はコ
ア、６は接合ガラス、７は巻線でこれらは従来の構成と
同じである。図２は図１に示した磁気ヘッドのギャップ
部の拡大側面図である。図２において１３はコア５のギ
ャップ対向面に形成された金属磁性膜で、金属磁性膜１
３はＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金，Ｆｅ
系アモルファス及びＣｏ系アモルファス等の金属磁性材
料で構成されており、スパッタリング法等の薄膜形成技
術によって形成されている。また金属磁性膜１３には媒
体対向面１４からｔだけ窪んだ凹部１５が形成されてい
る。本実施例ではｔは１０ｎｍにした。このように金属
磁性膜１３の媒体対向面側に凹部１５を設けたことによ
り、金属磁性膜１３は磁気ディスクが回転していない時
磁気ディスクと接触しないので、活性な金属磁性膜１３
が磁気ディスク上に塗布された潤滑剤や表面に結露した
水分に接触することはなく、金属磁性膜１３に変色等が
発生せず、磁気ヘッドの諸特性を劣化させることはな
い。
ッドを示す斜視図である。図１において１はスライダ
ー、２，３は浮上レール、４はセンターレール、５はコ
ア、６は接合ガラス、７は巻線でこれらは従来の構成と
同じである。図２は図１に示した磁気ヘッドのギャップ
部の拡大側面図である。図２において１３はコア５のギ
ャップ対向面に形成された金属磁性膜で、金属磁性膜１
３はＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金，Ｆｅ
系アモルファス及びＣｏ系アモルファス等の金属磁性材
料で構成されており、スパッタリング法等の薄膜形成技
術によって形成されている。また金属磁性膜１３には媒
体対向面１４からｔだけ窪んだ凹部１５が形成されてい
る。本実施例ではｔは１０ｎｍにした。このように金属
磁性膜１３の媒体対向面側に凹部１５を設けたことによ
り、金属磁性膜１３は磁気ディスクが回転していない時
磁気ディスクと接触しないので、活性な金属磁性膜１３
が磁気ディスク上に塗布された潤滑剤や表面に結露した
水分に接触することはなく、金属磁性膜１３に変色等が
発生せず、磁気ヘッドの諸特性を劣化させることはな
い。
【００１０】次に凹部１５の窪み量ｔと磁気ヘッドの相
対出力との関係を説明する。本実施例の磁気ヘッドにお
いてギャップ長が０．５μｍのものと０．３μｍのもの
を用いて測定を行った。浮上量は１００ｎｍとし、測定
結果を図３にまとめた。図３から判るように両者とも窪
み量ｔが２０ｎｍを超えると相対出力が急激に低下して
いることが判る。従って窪み量ｔが２０ｎｍを超えない
ように凹部１５を形成しなければならないことが判る。
また磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の厚さが２ｎ
ｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２０ｎｍが好まし
い。
対出力との関係を説明する。本実施例の磁気ヘッドにお
いてギャップ長が０．５μｍのものと０．３μｍのもの
を用いて測定を行った。浮上量は１００ｎｍとし、測定
結果を図３にまとめた。図３から判るように両者とも窪
み量ｔが２０ｎｍを超えると相対出力が急激に低下して
いることが判る。従って窪み量ｔが２０ｎｍを超えない
ように凹部１５を形成しなければならないことが判る。
また磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の厚さが２ｎ
ｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２０ｎｍが好まし
い。
【００１１】次に金属磁性膜１３に凹部１５を形成する
方法の一実施例を説明する。磁気ヘッドが完成した状態
で、フェライトがエッチングされずに、金属磁性膜１３
がエッチングされるアルカリ性のエッチング液に５〜１
０分間浸漬し、その後に流水にてエッチング液を十分洗
い流す。すると金属磁性膜１３のみがエッチングされ、
金属磁性膜１３の媒体対向面１４側に凹部１５が形成さ
れる。この時エッチング液のＰＨは１２〜１３が好まし
い。
方法の一実施例を説明する。磁気ヘッドが完成した状態
で、フェライトがエッチングされずに、金属磁性膜１３
がエッチングされるアルカリ性のエッチング液に５〜１
０分間浸漬し、その後に流水にてエッチング液を十分洗
い流す。すると金属磁性膜１３のみがエッチングされ、
金属磁性膜１３の媒体対向面１４側に凹部１５が形成さ
れる。この時エッチング液のＰＨは１２〜１３が好まし
い。
【００１２】以上のように本実施例によれば、コア５の
ギャップ対向面に形成した金属磁性膜１３を媒体対向面
１４から窪ませて、凹部１５を設けることによって、磁
気ディスクが回転していないとき、直接磁気ディスク表
面に塗布された潤滑剤や、磁気ディスク表面に結露した
水分等に金属磁性膜１３が接触していないので、金属磁
性膜１３に変色等が発生せず、磁気ヘッドの諸特性を劣
化させることはない。
ギャップ対向面に形成した金属磁性膜１３を媒体対向面
１４から窪ませて、凹部１５を設けることによって、磁
気ディスクが回転していないとき、直接磁気ディスク表
面に塗布された潤滑剤や、磁気ディスク表面に結露した
水分等に金属磁性膜１３が接触していないので、金属磁
性膜１３に変色等が発生せず、磁気ヘッドの諸特性を劣
化させることはない。
【００１３】次に第２の実施例について説明する。図
４，図５，図６はそれぞれ本発明の第２の実施例におけ
る磁気ヘッドを示す斜視図及び部分拡大図及び部分拡大
断面図である。図４，図５，図６において１６はスライ
ダー部で、スライダー部１６の媒体対向面には互いに平
行な一対の浮上レール１７，１８がそれぞれ設けられて
いる。またスライダー部１６はセラミック等の非磁性材
で作成された基板１６ａ，１６ｂと、基板１６ａと基板
１６ｂとの間に設けられた積層コア１９によって構成さ
れている。更にスライダー部１６の端面には巻線溝１６
ｃが設けられている。２０，２１はそれぞれコアで、コ
ア２０は巻線溝１６ｃを設けた端面に磁気ギャップとな
る非磁性物を介して当接しており、しかもその当接位置
は浮上レール１８の端面となっている。またコア２１も
巻線溝１６ｃを設けた端面に磁気ギャップとなる非磁性
物を介して当接しており、しかもその当接位置は浮上レ
ール１７の端面となっている。本実施例では１トラック
対応の磁気ヘッドであるので、コア２１はセラミック等
の非磁性材のみで構成されており、コア２０はセラミッ
ク等の非磁性材料でできた基板２０ａ，２０ｂで積層コ
ア１９を挟んだ構成となっている。図５は図４のＨ部を
拡大した図である。図５において２２は磁気ギャップで
ある。積層コア１９はこの図から判るように金属磁性膜
１９ａと絶縁膜１９ｂを交互に積層して構成されてい
る。本実施例の場合、金属磁性膜１９ａ及び絶縁膜１９
ｂはそれぞれ３層及び２層であるが、それぞれもっと数
を増やしたり減らしたりしてもよい。また金属磁性膜１
９ａはＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金，Ｆ
ｅ系アモルファス及びＣｏ系アモルファス等の金属磁性
材料を用い、絶縁膜１９ｂはＳｉＯ2等の絶縁材料を用
いる。このように構成された積層コア１９は以下のよう
に作成される。基板１６ａの上にスパッタリングや蒸着
等の薄膜形成技術で金属磁性膜１９ａを形成し、その上
に同様な手法で絶縁膜１９ｂを形成する。このように交
互に金属磁性膜１９ａと絶縁膜１９ｂを積層していき、
所定の厚さ（トラック幅）になったら、ガラス等の接着
剤１９ｃによって基板１６ｂを接合して作成される。積
層コア１９を有したコア２０の方も同様に構成される。
図６は図５の線ＡＢで切断した断面図である。図５から
判るように金属磁性膜１９ａの媒体対向面２３側には基
板１６ａと絶縁膜１９ｂが構成する媒体対向面２３から
ｔだけ窪んだ凹部１９ｄが設けられている。本実施例で
は窪み量ｔは１０ｎｍとした。このように金属磁性膜１
９ａに凹部１９ｄを設けたことにより金属磁性膜１９ａ
は磁気ディスクが回転していない時磁気ディスクと接触
しないので、活性な金属磁性膜１９ａが磁気ディスク上
に塗布された潤滑剤や表面に結露した水分に接触するこ
とはなく、金属磁性膜１９ａに変色等が発生せず、磁気
ヘッドの諸特性を劣化させることはない。
４，図５，図６はそれぞれ本発明の第２の実施例におけ
る磁気ヘッドを示す斜視図及び部分拡大図及び部分拡大
断面図である。図４，図５，図６において１６はスライ
ダー部で、スライダー部１６の媒体対向面には互いに平
行な一対の浮上レール１７，１８がそれぞれ設けられて
いる。またスライダー部１６はセラミック等の非磁性材
で作成された基板１６ａ，１６ｂと、基板１６ａと基板
１６ｂとの間に設けられた積層コア１９によって構成さ
れている。更にスライダー部１６の端面には巻線溝１６
ｃが設けられている。２０，２１はそれぞれコアで、コ
ア２０は巻線溝１６ｃを設けた端面に磁気ギャップとな
る非磁性物を介して当接しており、しかもその当接位置
は浮上レール１８の端面となっている。またコア２１も
巻線溝１６ｃを設けた端面に磁気ギャップとなる非磁性
物を介して当接しており、しかもその当接位置は浮上レ
ール１７の端面となっている。本実施例では１トラック
対応の磁気ヘッドであるので、コア２１はセラミック等
の非磁性材のみで構成されており、コア２０はセラミッ
ク等の非磁性材料でできた基板２０ａ，２０ｂで積層コ
ア１９を挟んだ構成となっている。図５は図４のＨ部を
拡大した図である。図５において２２は磁気ギャップで
ある。積層コア１９はこの図から判るように金属磁性膜
１９ａと絶縁膜１９ｂを交互に積層して構成されてい
る。本実施例の場合、金属磁性膜１９ａ及び絶縁膜１９
ｂはそれぞれ３層及び２層であるが、それぞれもっと数
を増やしたり減らしたりしてもよい。また金属磁性膜１
９ａはＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金，Ｆ
ｅ系アモルファス及びＣｏ系アモルファス等の金属磁性
材料を用い、絶縁膜１９ｂはＳｉＯ2等の絶縁材料を用
いる。このように構成された積層コア１９は以下のよう
に作成される。基板１６ａの上にスパッタリングや蒸着
等の薄膜形成技術で金属磁性膜１９ａを形成し、その上
に同様な手法で絶縁膜１９ｂを形成する。このように交
互に金属磁性膜１９ａと絶縁膜１９ｂを積層していき、
所定の厚さ（トラック幅）になったら、ガラス等の接着
剤１９ｃによって基板１６ｂを接合して作成される。積
層コア１９を有したコア２０の方も同様に構成される。
図６は図５の線ＡＢで切断した断面図である。図５から
判るように金属磁性膜１９ａの媒体対向面２３側には基
板１６ａと絶縁膜１９ｂが構成する媒体対向面２３から
ｔだけ窪んだ凹部１９ｄが設けられている。本実施例で
は窪み量ｔは１０ｎｍとした。このように金属磁性膜１
９ａに凹部１９ｄを設けたことにより金属磁性膜１９ａ
は磁気ディスクが回転していない時磁気ディスクと接触
しないので、活性な金属磁性膜１９ａが磁気ディスク上
に塗布された潤滑剤や表面に結露した水分に接触するこ
とはなく、金属磁性膜１９ａに変色等が発生せず、磁気
ヘッドの諸特性を劣化させることはない。
【００１４】次に凹部１９ｄの窪み量ｔと磁気ヘッドの
相対出力との関係を説明する。本実施例の磁気ヘッドに
おいてギャップ長が０．５μｍのものと０．３μｍのも
のを用いて測定を行った。浮上量は１００ｎｍとし、測
定結果を図７にまとめた。図７から判るように両者とも
窪み量ｔが２０ｎｍを超えると相対出力が急激に低下し
ていることが判る。従って窪み量ｔが２０ｎｍを超えな
いように凹部１９ｄを形成しなければならないことが判
る。また磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の厚さが
２ｎｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２０ｎｍが好ま
しい。
相対出力との関係を説明する。本実施例の磁気ヘッドに
おいてギャップ長が０．５μｍのものと０．３μｍのも
のを用いて測定を行った。浮上量は１００ｎｍとし、測
定結果を図７にまとめた。図７から判るように両者とも
窪み量ｔが２０ｎｍを超えると相対出力が急激に低下し
ていることが判る。従って窪み量ｔが２０ｎｍを超えな
いように凹部１９ｄを形成しなければならないことが判
る。また磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の厚さが
２ｎｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２０ｎｍが好ま
しい。
【００１５】次に金属磁性膜１６ａに凹部１９ｄを形成
する方法の一実施例を説明する。磁気ヘッドが完成した
状態で、基板等がエッチングされずに、金属磁性膜１９
ａがエッチングされるアルカリ性のエッチング液に５〜
１０分間浸漬し、その後に流水にてエッチング液を十分
洗い流す。すると金属磁性膜１６ａのみがエッチングさ
れ、基板１６ａと絶縁膜１９ｂが構成する媒体対向面２
３に対して金属磁性膜１６ａの媒体対向面２３側に凹部
１６ｄが形成される。この時エッチング液のＰＨは１２
〜１３が好ましい。
する方法の一実施例を説明する。磁気ヘッドが完成した
状態で、基板等がエッチングされずに、金属磁性膜１９
ａがエッチングされるアルカリ性のエッチング液に５〜
１０分間浸漬し、その後に流水にてエッチング液を十分
洗い流す。すると金属磁性膜１６ａのみがエッチングさ
れ、基板１６ａと絶縁膜１９ｂが構成する媒体対向面２
３に対して金属磁性膜１６ａの媒体対向面２３側に凹部
１６ｄが形成される。この時エッチング液のＰＨは１２
〜１３が好ましい。
【００１６】図８は第２の実施例の他の実施例であり、
図８において１６ａは基板、１６ｂは基板、１９は積層
コア、１９ａは金属磁性膜、１９ｂは絶縁膜、１９ｃは
接着剤であり、これらは図６に示す構成と同じである。
１９ｅは積層コア１９の媒体対向面２３側に設けられた
媒体対向面２３からｔだけ窪んだ凹部である。この様に
構成された磁気ヘッドにおいても第２の実施例と同様の
効果を得ることができる。また窪み量ｔも２ｎｍ〜２０
ｎｍが好ましい。
図８において１６ａは基板、１６ｂは基板、１９は積層
コア、１９ａは金属磁性膜、１９ｂは絶縁膜、１９ｃは
接着剤であり、これらは図６に示す構成と同じである。
１９ｅは積層コア１９の媒体対向面２３側に設けられた
媒体対向面２３からｔだけ窪んだ凹部である。この様に
構成された磁気ヘッドにおいても第２の実施例と同様の
効果を得ることができる。また窪み量ｔも２ｎｍ〜２０
ｎｍが好ましい。
【００１７】次に第３の実施例を説明する。図９，図１
０，図１１はそれぞれ本発明の第３の実施例を示す斜視
図及び部分拡大平面図及び部分拡大断面図である。図
９，図１０，図１１において、２４はセラミック等の非
磁性材料によって構成されたスライダーで、スライダー
２４には互いに平行な一対の浮上レール２５，２６が設
けられている。浮上レール２５，２６それぞれの端面に
は薄膜磁気ヘッド２７、２８がそれぞれ設けられてお
り、薄膜磁気ヘッド２７にはコイル層に電流を流した
り、コイル層の電流を取り出したりするリード２９，３
０が設けられている。又、薄膜磁気ヘッド２８にも同様
なリード３１，３２が設けられている。図１０は薄膜磁
気ヘッド２７を示す透視拡大図である。図１０におい
て、３３は銅等の導電性材料で構成されたスパイラル状
のコイル層で、コイル層３３には端部３４，３５がそれ
ぞれ設けられており、端部３５にはリード２９が接続さ
れており、端部３４にはリード３０が接続されている。
３６はコイル層３３の上に設けられた上部磁性層であ
る。薄膜磁気ヘッドを図１１を用いて更に詳細に説明す
る。図１１は図１０の線ＥＦによって切断した断面図で
ある。まず基板を兼ねたスライダー２４の上にＳｉＯ2
等の絶縁材 料によって構成された絶縁層３７を形成す
る。次に絶縁層の上に薄膜技術によって下部磁性層３８
を形成し、その上にＳｉＯ2等の非磁性材料によって構
成され たギャップ層３９を形成する。このギャップ層
３９は磁気ギャップの役目をする。ギャップ層３９の上
にコイル層３３を形成する。コイル層３３はまず蒸着等
の薄膜技術によってギャップ層３９の上に導電膜を形成
し、導電膜をスパイラル状にリフトオフして作成され
る。次にコイル層３３を覆うようにフォトレジスト等の
絶縁材料で絶縁層４０を形成する。次に絶縁層４０の上
に下部磁性層３８とともに磁気回路を構成する様に上部
磁性層３６を形成する。次に上部磁性層３６及び上部磁
性層３６からはみ出したコイル層３３を覆うように保護
層４１を形成する。保護層４１はスパッタリング法等の
薄膜形成技術を用いて作成され、その構成材料は一般的
にＳｉＯ2等の耐候性の良い材料が用いられる。この様
に構成された 薄膜磁気ヘッドの上部磁性層３６及び下
部磁性層３８には金属磁性材料が用いられる。例えば上
部磁性層３６としてＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ系合金，Ｆｅ系アモルファス及びＣｏ系アモルファス
等の金属磁性材料が用いられ、下部磁性層３８も同様な
磁性材料が用いられる。また、上部磁性層３６と下部磁
性層３８の媒体対向面４２側には基板２４及びギャップ
層３９が構成する媒体対向面４２からｔだけ窪んだ凹部
４３，４４がそれぞれ設けられている。本実施例では窪
み量ｔは１０ｎｍとした。このように上部磁性層３６及
び下部磁性層３８に凹部４３，４４をそれぞれ設けたこ
とにより、上部磁性層３６及び下部磁性層３８は磁気デ
ィスクが回転していない時磁気ディスクと非接触とする
ことができるので、活性な金属磁性材料でできた上部磁
性層３６及び下部磁性層３８が磁気ディスク上に塗布さ
れた潤滑剤や表面に結露した水分に接触することはな
く、上部磁性層３６及び下部磁性層３８に変色等が発生
せず、磁気ヘッドの諸特性を劣化させることはない。
０，図１１はそれぞれ本発明の第３の実施例を示す斜視
図及び部分拡大平面図及び部分拡大断面図である。図
９，図１０，図１１において、２４はセラミック等の非
磁性材料によって構成されたスライダーで、スライダー
２４には互いに平行な一対の浮上レール２５，２６が設
けられている。浮上レール２５，２６それぞれの端面に
は薄膜磁気ヘッド２７、２８がそれぞれ設けられてお
り、薄膜磁気ヘッド２７にはコイル層に電流を流した
り、コイル層の電流を取り出したりするリード２９，３
０が設けられている。又、薄膜磁気ヘッド２８にも同様
なリード３１，３２が設けられている。図１０は薄膜磁
気ヘッド２７を示す透視拡大図である。図１０におい
て、３３は銅等の導電性材料で構成されたスパイラル状
のコイル層で、コイル層３３には端部３４，３５がそれ
ぞれ設けられており、端部３５にはリード２９が接続さ
れており、端部３４にはリード３０が接続されている。
３６はコイル層３３の上に設けられた上部磁性層であ
る。薄膜磁気ヘッドを図１１を用いて更に詳細に説明す
る。図１１は図１０の線ＥＦによって切断した断面図で
ある。まず基板を兼ねたスライダー２４の上にＳｉＯ2
等の絶縁材 料によって構成された絶縁層３７を形成す
る。次に絶縁層の上に薄膜技術によって下部磁性層３８
を形成し、その上にＳｉＯ2等の非磁性材料によって構
成され たギャップ層３９を形成する。このギャップ層
３９は磁気ギャップの役目をする。ギャップ層３９の上
にコイル層３３を形成する。コイル層３３はまず蒸着等
の薄膜技術によってギャップ層３９の上に導電膜を形成
し、導電膜をスパイラル状にリフトオフして作成され
る。次にコイル層３３を覆うようにフォトレジスト等の
絶縁材料で絶縁層４０を形成する。次に絶縁層４０の上
に下部磁性層３８とともに磁気回路を構成する様に上部
磁性層３６を形成する。次に上部磁性層３６及び上部磁
性層３６からはみ出したコイル層３３を覆うように保護
層４１を形成する。保護層４１はスパッタリング法等の
薄膜形成技術を用いて作成され、その構成材料は一般的
にＳｉＯ2等の耐候性の良い材料が用いられる。この様
に構成された 薄膜磁気ヘッドの上部磁性層３６及び下
部磁性層３８には金属磁性材料が用いられる。例えば上
部磁性層３６としてＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−Ｓ
ｉ系合金，Ｆｅ系アモルファス及びＣｏ系アモルファス
等の金属磁性材料が用いられ、下部磁性層３８も同様な
磁性材料が用いられる。また、上部磁性層３６と下部磁
性層３８の媒体対向面４２側には基板２４及びギャップ
層３９が構成する媒体対向面４２からｔだけ窪んだ凹部
４３，４４がそれぞれ設けられている。本実施例では窪
み量ｔは１０ｎｍとした。このように上部磁性層３６及
び下部磁性層３８に凹部４３，４４をそれぞれ設けたこ
とにより、上部磁性層３６及び下部磁性層３８は磁気デ
ィスクが回転していない時磁気ディスクと非接触とする
ことができるので、活性な金属磁性材料でできた上部磁
性層３６及び下部磁性層３８が磁気ディスク上に塗布さ
れた潤滑剤や表面に結露した水分に接触することはな
く、上部磁性層３６及び下部磁性層３８に変色等が発生
せず、磁気ヘッドの諸特性を劣化させることはない。
【００１８】次に凹部４３，４４の窪み量ｔと磁気ヘッ
ドの相対出力との関係を説明する。本実施例の磁気ヘッ
ドにおいてギャップ長が０．５μｍのものと０．３μｍ
のものを用いて測定を行った。浮上量は１００ｎｍと
し、測定結果を図１２にまとめた。図１２から判るよう
に窪み量ｔが２０ｎｍまでは窪みが無い薄膜磁気ヘッド
と相対出力にほとんど差が無い。窪み量ｔが２０ｎｍを
超えると相対出力が臨界的に変化し、急激に低下してい
ることが判る。従って窪み量ｔが２０ｎｍを超えないよ
うに凹部４３，４４を形成しなければならないことが判
る。また磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の厚さが
２ｎｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２０ｎｍが好ま
しい。
ドの相対出力との関係を説明する。本実施例の磁気ヘッ
ドにおいてギャップ長が０．５μｍのものと０．３μｍ
のものを用いて測定を行った。浮上量は１００ｎｍと
し、測定結果を図１２にまとめた。図１２から判るよう
に窪み量ｔが２０ｎｍまでは窪みが無い薄膜磁気ヘッド
と相対出力にほとんど差が無い。窪み量ｔが２０ｎｍを
超えると相対出力が臨界的に変化し、急激に低下してい
ることが判る。従って窪み量ｔが２０ｎｍを超えないよ
うに凹部４３，４４を形成しなければならないことが判
る。また磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の厚さが
２ｎｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２０ｎｍが好ま
しい。
【００１９】次に上部磁性層３６及び下部磁性層３８そ
れぞれに凹部４３，４４を形成する方法の一実施例を説
明する。
れぞれに凹部４３，４４を形成する方法の一実施例を説
明する。
【００２０】完成した状態で、基板等がエッチングされ
ずに、金属磁性材料で構成された上部磁性層３６及び下
部磁性層３８がエッチングされるアルカリ性のエッチン
グ液に５〜１０分間浸漬し、その後に流水にてエッチン
グ液を十分洗い流す。すると金属磁性材料でできた上部
磁性層３６及び下部磁性層３８のみがエッチングされ、
媒体対向面４２側に凹部４３，４４がそれぞれ形成され
る。この時エッチング液のＰＨは１２〜１３が好まし
い。
ずに、金属磁性材料で構成された上部磁性層３６及び下
部磁性層３８がエッチングされるアルカリ性のエッチン
グ液に５〜１０分間浸漬し、その後に流水にてエッチン
グ液を十分洗い流す。すると金属磁性材料でできた上部
磁性層３６及び下部磁性層３８のみがエッチングされ、
媒体対向面４２側に凹部４３，４４がそれぞれ形成され
る。この時エッチング液のＰＨは１２〜１３が好まし
い。
【００２１】次に第４の実施例について説明する。図１
３は本発明の第４の実施例における磁気ヘッドを示す側
面図である。
３は本発明の第４の実施例における磁気ヘッドを示す側
面図である。
【００２２】図１３において４５はフェライト等の酸化
物磁性材料によって構成されたＩ型のコアで、コア４５
のギャップ対向面には金属磁性膜４６が設けられてい
る。金属磁性膜４６はＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系合金，Ｆｅ系アモルファス及びＣｏ系アモルファ
ス等の金属磁性材料によって構成される。また金属磁性
膜４６はスパッタリング法等の薄膜形成技術や鍍金法等
によって作成される。４７はフェライト等の酸化物磁性
材料によって構成されたＣ型のコアで、コア４７にはギ
ャップ対向面には金属磁性膜４８が設けられている。金
属磁性膜４８は金属磁性膜４６と同様な材料でしかも同
様な方法で作成される。またコア４７にはギャップ対向
面に開口した巻線溝４９が形成されている。コア４５と
コア４７は金属磁性膜４６と金属磁性膜４８が対向する
ように磁気ギャップとなる非磁性膜５０を介して突き合
わされ接合ガラス５１にて接合されている。また金属磁
性膜４６，４８それぞれには媒体対向面５２側に媒体対
向面５２からｔだけ窪んだ凹部５３，５４が設けられて
いる。本実施例では窪み量ｔは１０ｎｍとした。このよ
うに金属磁性膜４６，４８に凹部５３，５４を設けたこ
とにより金属磁性膜４６，４８が磁気ディスクが回転し
ていない時磁気ディスクと接触しないようにすることが
できるので、活性な金属磁性膜４６，４８が磁気ディス
ク上に塗布された潤滑剤や表面に結露した水分に接触す
ることはなくなるので、変色によって金属磁性膜４６，
４８に変色等が発生せず、磁気ヘッドの諸特性を劣化さ
せることはない。
物磁性材料によって構成されたＩ型のコアで、コア４５
のギャップ対向面には金属磁性膜４６が設けられてい
る。金属磁性膜４６はＦｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系合金，Ｆｅ系アモルファス及びＣｏ系アモルファ
ス等の金属磁性材料によって構成される。また金属磁性
膜４６はスパッタリング法等の薄膜形成技術や鍍金法等
によって作成される。４７はフェライト等の酸化物磁性
材料によって構成されたＣ型のコアで、コア４７にはギ
ャップ対向面には金属磁性膜４８が設けられている。金
属磁性膜４８は金属磁性膜４６と同様な材料でしかも同
様な方法で作成される。またコア４７にはギャップ対向
面に開口した巻線溝４９が形成されている。コア４５と
コア４７は金属磁性膜４６と金属磁性膜４８が対向する
ように磁気ギャップとなる非磁性膜５０を介して突き合
わされ接合ガラス５１にて接合されている。また金属磁
性膜４６，４８それぞれには媒体対向面５２側に媒体対
向面５２からｔだけ窪んだ凹部５３，５４が設けられて
いる。本実施例では窪み量ｔは１０ｎｍとした。このよ
うに金属磁性膜４６，４８に凹部５３，５４を設けたこ
とにより金属磁性膜４６，４８が磁気ディスクが回転し
ていない時磁気ディスクと接触しないようにすることが
できるので、活性な金属磁性膜４６，４８が磁気ディス
ク上に塗布された潤滑剤や表面に結露した水分に接触す
ることはなくなるので、変色によって金属磁性膜４６，
４８に変色等が発生せず、磁気ヘッドの諸特性を劣化さ
せることはない。
【００２３】凹部５３，５４の窪み量ｔと磁気ヘッドの
相対出力との関係はほぼ図３と同じである。従って凹部
５３，５４の窪み量ｔが２０ｎｍを越えると急激に相対
出力が低下する。また磁気ディスク表面に塗布された潤
滑剤の厚さが２ｎｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２
０ｎｍが好ましい。
相対出力との関係はほぼ図３と同じである。従って凹部
５３，５４の窪み量ｔが２０ｎｍを越えると急激に相対
出力が低下する。また磁気ディスク表面に塗布された潤
滑剤の厚さが２ｎｍ程度なので、窪み量ｔは２ｎｍ〜２
０ｎｍが好ましい。
【００２４】次に金属磁性膜４６，４８にそれぞれ凹部
５３，５４を形成する方法の一実施例を説明する。
５３，５４を形成する方法の一実施例を説明する。
【００２５】磁気ヘッドが完成した状態で、フェライト
がエッチングされずに、金属磁性膜４６，４８がエッチ
ングされるアルカリ性のエッチング液に５〜１０分間浸
漬し、その後に流水にてエッチング液を十分洗い流す。
すると金属磁性膜４６，４８のみがエッチングされ、金
属磁性膜４６，４８の媒体対向面５２側に凹部５３，５
４が形成される。この時エッチング液のＰＨは１２〜１
３が好ましい。
がエッチングされずに、金属磁性膜４６，４８がエッチ
ングされるアルカリ性のエッチング液に５〜１０分間浸
漬し、その後に流水にてエッチング液を十分洗い流す。
すると金属磁性膜４６，４８のみがエッチングされ、金
属磁性膜４６，４８の媒体対向面５２側に凹部５３，５
４が形成される。この時エッチング液のＰＨは１２〜１
３が好ましい。
【００２６】
【発明の効果】本発明は、金属磁性材料の構成する媒体
対向面を他の部材が構成する媒体対向面より窪ませたこ
とにより、磁気ディスク表面に設けられた潤滑剤や水分
が金属磁性材料に接触しないので、金属磁性膜が潤滑剤
や結露した水分等によって変色等を起こさず、諸特性の
劣化を起こさない。さらに、図６に示す積層型磁気ヘッ
ドにおいては積層膜を構成する絶縁膜が金属磁性膜に対
して突出しているために、磁気ディスクとヘッドが接触
・摺動するコンタクトスタートストップ時や、ヘッドク
ラッシュ時にも、突出した絶縁膜が金属磁性膜を保護
し、金属磁性膜が削れてしまい、ヘッド特性が劣化して
しまうのを防ぐという効果を有する。また、図１２に示
すグラフで明らかなように、薄膜磁気ヘッドの場合は磁
性層の窪み量ｔとヘッドの相対出力は臨界的な関係を有
し、それゆえ磁性層の窪み量ｔを２ｎｍ〜２０ｎｍとす
ることにより、薄膜磁気ヘッドにおいて相対出力を低下
させることなく、その磁性層は磁気ディスクが回転して
いない時でも磁気ディスクと非接触とすることができる
ので、活性な金属磁性材料でできた磁性層が磁気ディス
ク上に塗布された潤滑剤や表面に結露した水分に接触す
ることはなく、磁性層に変色などが発生せず、磁気ヘッ
ドの諸特性を劣化させることがないという効果を有す
る。さらに、薄膜磁気ヘッドの場合、基板及びギャップ
層が構成する媒体対向面が磁性層が構成する媒体対向面
よりも突出しているために、磁性層は突出した基板及び
ギャップ層により磁気ディスク表面から保護されること
になり、特にギャップ層は磁性層の中間に位置するため
に磁性層を狭い間隔で保護することが出来る。その結
果、磁性層はヘッドと磁気ディスクとが接触・摺動する
コンタクトスタートストップ時やヘッドクラッシュ時に
も削れる事なく、ヘッドの初期の良好な特性を長時間維
持することができるという効果を有する。
対向面を他の部材が構成する媒体対向面より窪ませたこ
とにより、磁気ディスク表面に設けられた潤滑剤や水分
が金属磁性材料に接触しないので、金属磁性膜が潤滑剤
や結露した水分等によって変色等を起こさず、諸特性の
劣化を起こさない。さらに、図６に示す積層型磁気ヘッ
ドにおいては積層膜を構成する絶縁膜が金属磁性膜に対
して突出しているために、磁気ディスクとヘッドが接触
・摺動するコンタクトスタートストップ時や、ヘッドク
ラッシュ時にも、突出した絶縁膜が金属磁性膜を保護
し、金属磁性膜が削れてしまい、ヘッド特性が劣化して
しまうのを防ぐという効果を有する。また、図１２に示
すグラフで明らかなように、薄膜磁気ヘッドの場合は磁
性層の窪み量ｔとヘッドの相対出力は臨界的な関係を有
し、それゆえ磁性層の窪み量ｔを２ｎｍ〜２０ｎｍとす
ることにより、薄膜磁気ヘッドにおいて相対出力を低下
させることなく、その磁性層は磁気ディスクが回転して
いない時でも磁気ディスクと非接触とすることができる
ので、活性な金属磁性材料でできた磁性層が磁気ディス
ク上に塗布された潤滑剤や表面に結露した水分に接触す
ることはなく、磁性層に変色などが発生せず、磁気ヘッ
ドの諸特性を劣化させることがないという効果を有す
る。さらに、薄膜磁気ヘッドの場合、基板及びギャップ
層が構成する媒体対向面が磁性層が構成する媒体対向面
よりも突出しているために、磁性層は突出した基板及び
ギャップ層により磁気ディスク表面から保護されること
になり、特にギャップ層は磁性層の中間に位置するため
に磁性層を狭い間隔で保護することが出来る。その結
果、磁性層はヘッドと磁気ディスクとが接触・摺動する
コンタクトスタートストップ時やヘッドクラッシュ時に
も削れる事なく、ヘッドの初期の良好な特性を長時間維
持することができるという効果を有する。
【図１】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドを示
す斜視図
す斜視図
【図２】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドを示
す拡大側面図
す拡大側面図
【図３】金属磁性膜の窪み量と相対出力の関係を示すグ
ラフ
ラフ
【図４】本発明の第２の実施例における磁気ヘッドを示
す斜視図
す斜視図
【図５】本発明の第２の実施例における磁気ヘッドを示
す部分拡大図
す部分拡大図
【図６】本発明の第２の実施例における磁気ヘッドを示
す部分拡大断面図
す部分拡大断面図
【図７】金属磁性膜の窪み量と相対出力の関係を示すグ
ラフ
ラフ
【図８】本発明の第２の実施例の他の実施例を示す部分
拡大断面図
拡大断面図
【図９】本発明の第３の実施例における磁気ヘッドを示
す斜視図
す斜視図
【図１０】本発明の第３の実施例における磁気ヘッドを
示す部分拡大平面図
示す部分拡大平面図
【図１１】本発明の第３の実施例における磁気ヘッドを
示す部分拡大断面図
示す部分拡大断面図
【図１２】上部磁性層及び下部磁性層の窪み量と相対出
力の関係を示すグラフ
力の関係を示すグラフ
【図１３】本発明の第４の実施例における磁気ヘッドを
示す側面図
示す側面図
【図１４】従来の磁気ヘッドを示す斜視図
【図１５】従来の磁気ヘッドを示す部分拡大側面図
【図１６】磁気ヘッドの浮上方法を示す側面図
【図１７】磁気ヘッドの浮上方法を示す側面図
１ スライダー ５ コア ９ 非磁性膜 １３ 金属磁性膜 １４ 媒体対向面 １５ 凹部 １９ 積層コア １９ａ 金属磁性膜 １９ｂ 絶縁膜 １９ｄ 凹部 １９ｅ 凹部 ２２ 磁気ギャップ ２３ 媒体対向面 ３６ 上部磁性層 ３８ 下部磁性層 ３９ ギャップ層 ４３ 凹部 ４４ 凹部 ４５ コア ４６ 金属磁性膜 ４７ コア ４８ 金属磁性膜 ５０ 非磁性膜 ５３ 凹部 ５４ 凹部
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−125320（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−28429（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−135906（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/187 G11B 5/31
Claims (7)
- 【請求項１】基板上に金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積
層した積層コアを設け、少なくとも一方に巻線溝を形成
した一対のコア構成体を設け、前記一対のコア構成体を
磁気ギャップを介して突合せ、接合した磁気ヘッドであ
って、積層コアの金属磁性膜が構成する媒体対向面を、
前記基板及び前記積層コア中の絶縁膜が構成する媒体対
向面よりも窪ませたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】金属磁性膜が構成する媒体対向面を非磁性
基板が構成する媒体対向面よりも２ｎｍ〜２０ｎｍ窪ま
せたことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】絶縁膜をＳｉＯ２で、金属磁性膜をＦｅ−
Ｎｉ系合金，Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ系アモルフ
ァス及びＣｏ系アモルファスにて構成したことを特徴と
する請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】基板上に金属磁性膜と絶縁膜を交互に積層
した積層コアを設け、少なくとも一方に巻線溝を形成し
た一対のコア構成体を設け、前記一対のコア構成体を磁
気ギャップを介して突合せ、接合した磁気ヘッドであっ
て、前記基板及び前記積層コア中の絶縁膜が構成する媒
体対向面が、前記金属磁性膜の媒体対向面よりも突出し
ていることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項５】基板の上に金属磁性材料で構成された一対
の磁性層をギャップ層を介して積層するとともに前記一
対の磁性層の間にコイル層を設けた薄膜磁気ヘッドであ
って、磁性層が構成する媒体対向面を、基板とギャップ
層とが構成する媒体対向面よりもその断面が基板側とギ
ャップ層側近傍は浅く、その中間部は深くなるように滑
らかに窪ませるとともに、その窪みの深さを２〜２０ｎ
ｍとしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項６】前記基板及び前記ギャップ層が構成する媒
体対向面が、前記磁性層が構成する媒体対向面よりも突
出していることを特徴とする請求項５記載の薄膜磁気ヘ
ッド。 - 【請求項７】一対の磁性層の少なくとも一方をＦｅ−Ｎ
ｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ系アモルファ
ス及びＣｏ系アモルファスにて構成したことを特徴とす
る請求項５記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3317697A JP2800510B2 (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | 磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッド |
| US08/330,237 US5729412A (en) | 1991-12-02 | 1994-10-27 | Magnetic head including a recessed magnetic metal film |
| US08/691,658 US5726840A (en) | 1991-12-02 | 1996-08-02 | Magnetic head apparatus having multiple recessed magnetic metal films |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3317697A JP2800510B2 (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | 磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05159217A JPH05159217A (ja) | 1993-06-25 |
| JP2800510B2 true JP2800510B2 (ja) | 1998-09-21 |
Family
ID=18091021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3317697A Expired - Lifetime JP2800510B2 (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | 磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5729412A (ja) |
| JP (1) | JP2800510B2 (ja) |
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-
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-
1996
- 1996-08-02 US US08/691,658 patent/US5726840A/en not_active Expired - Fee Related
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| US5726840A (en) | 1998-03-10 |
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