JP2778832B2 - Gaba−bアンタゴニストとしての2−置換モルホリンおよびチオモルホリン誘導体 - Google Patents
Gaba−bアンタゴニストとしての2−置換モルホリンおよびチオモルホリン誘導体Info
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Description
薬組成物およびそのような誘導体を用いる方法に関す
る。
ターには、GABAAおよびGABABとして同定されている2つ
のクラスがあることがよく知られている。選択的GABAB
アンタゴニスト、例えば(−)−バクロフェンは、公知
であり、筋弛緩剤としての臨床的用途があることが示さ
れている。Kerr,et al.,GABAA Receptors in Mamma
lian Function,Bowery,et al.,eds.,pp.29−45(Chic
hester 1990)は、低親和性GABABアンタゴニスト、例
えばファクロフェンおよび2−ヒドロキシサクロフェン
を報告している。Olpe,et al.,Eur.J.Pharmacol.,187,
27(1990)は、GABABアンタゴニストである3−アミノ
プロピル(ジエトキシメチル)ホスフィン酸(CGP3534
8)を開示する。これは、低いレセプター親和性(2−
ヒドロキシサクロフェンに匹敵する)を有するが、血液
脳関門を通過しうる。さらに、Hills,et al.,Br.J.Pha
rmacol.,102,pp.5−6(1991)は、GABABアンタゴニス
トとしての活性を有するホスフィン酸誘導体を開示す
る。
は、臨床的におよび実験的に独特の種類の発作であり、
典型的には子供に生ずる。多くの動物モデルにおいてGA
BABアンタゴニストが小発作の発生の阻止に有効である
ことが報告されている(Snead III,Pharmacology Com
munications,2(1−2),pp.63−69(1992);Hosford,
et al.,Pharmacology Communications,2(1−2),p
p.123−124(1992)。
(1−2),pp.93−97(1992)は、動物モデルにおい
て、認知的作業(cognitive performance)を改良する
ためのGABABレセプターアンタゴニストの使用を開示す
る。
(1),Nr.2a,pp.215−223(1992)は、GABABレセプタ
ーアンタゴニストの生理学的役割に関する。
ン誘導体は知られている。Loftus,Syn.Comm.,10(1),
59−73(1980)は、次の式の化合物を開示する: [式中、Rはメチルまたはベンジルである]。
る: [式中、XはOまたはSであり;PはC6H5−CH2−またはC
6H5−CH2−O−C(O)−であり;R17はC1−C4アルコキ
シまたはOHであり;Wは反応性脱離基、例えばハロゲンま
たはスルホニルオキシであり;Hetはヘテロアリール基を
表す]。
る: [式中、ZはCl、Br、I、−OSO2CH3または−OSO2−C6H
4−CH3である]。
O2H、−SO3R6、−SO2NHR7、−C(O)−N(OH)−R8
または次の式の基: であり; Rは、H、C1−C8アルキル、C1−C8アルカノイル、C1
−C8アルコキシカルボニル、C3−C8シクロアルキル、C3
−C8シクロアルキル(C1−C8)アルキル、Ar−(C1−
C8)アルキルおよびAr−CH2−O−C(O)−からなる
群より選択され; Arは、C1−C6アルキル、ハロゲノ、−CN、−NO2、−C
F3、−OH、−OR6および−OCF3からなる群より選択され
る、1から3個の置換基により任意に置換されていても
よいフェニルを表し; R1およびR2は、独立して、複素環式環の2位、3位、
5位または6位において結合している置換基であり; R1は、C1−C8アルキルおよびヒドロキシ(C1−C8)ア
ルキルからなる群より選択され;そして R1はまたHを表し、ここで (a) RはHでありかつR7はC1−C6アルキルまたは であり;または (b) XはSであり;または (c) Yは−SO3H、−SO2H、−SO3R6、−SO2NHR7また
は次の式の基: であり; R2は、H、C1−C8アルキルおよびヒドロキシ(C1−
C8)アルキルからなる群より選択され;または R1およびR2が複素環式環の隣接する位置に結合してい
る場合、R1およびR2はこれらが結合する炭素原子と一緒
になって3−8員の融合炭素環式環を形成してもよく、
該環は−OH基により任意に置換されていてもよく;また
は R1およびR2が複素環式環の同一の位置に結合している
場合、R1およびR2はこれらが結合する炭素原子と一緒に
なって3−8員の炭素環式スピロ環を形成してもよく、
該環は−OH基により任意に置換されていてもよく; R3は、H、C1−C8アルキルおよびヒドロキシ(C1−
C8)アルキルであり; R6は、C1−C6アルキルであり; R7は、H、C1−C6アルキルまたは であり; R8は、H、C1−C8アルキル、C3−C8シクロアルキル、
C3−C8シクロアルキル(C1−C8)アルキル、ArまたはAr
−(C1−C8)アルキルである; またはこれらの薬学的に許容される付加塩または溶媒
和物] で表される。
結合している式Iの化合物である。
(O)NHR7または−C(O)−N(OH)−R8である、式
Iの化合物である。
Iの化合物である。
の化合物である。
(O)NHR7または−C(O)−N(OH)−R8である、式
I aの化合物である。
I aの化合物である。
りかつR1が−CH3、−C2H5または−CH2OHである、式I a
の化合物である。
式: の基である、式I aの化合物である。
−CH3、−C2H5および−CH2OHからなる群より選択され
る、式I aの化合物である。
これらが結合している炭素原子と一緒になって3−8員
の炭素環式スピロ環を形成し、該環は−OH基によりに任
意に置換されていてもよい、式I aの化合物である。
り、Yが−CO2Hまたは次の式: の基である、式I aの化合物である。
る: 本発明はまた、有効量の式Iの化合物を薬学的に許容
しうる担体とともに含む医薬組成物に関する。
投与することを含む、補給動物において小発作を治療す
る方法を含む。
を投与することを含む、哺乳動物において認知的疾患を
治療する方法を含む。
に有効量の式Iの化合物を投与することを含む、GABAB
レセプター刺激に伴う呼吸抑制を治療する方法を含む。
用される: 「アルキル」とは、炭素原子数1から8の直鎖または分
枝鎖のアルキル鎖を意味し、「アルコキシ」とは、同様
に炭素原子数1から8のアルコキシ基を表し; 「アルカノイル」とは、「アルキル−C(O)−」を意
味し; 「アルコキシカルボニル」とは、「アルキル−O−C
(O)−」を意味し; 「シクロアルキル」とは、3から8個の環員を有する飽
和炭素環式環を意味し; 「ハロゲノ」とは、フッ素、塩素、臭素またはヨードラ
ジカルを意味し; 「脱離基」とは、Cl、Br、Iまたは式:アルキル−SO3
−のアルキルスルホニル基等の、求核基により容易に除
去しうる基を意味し; 「カウンターイオン」とは、Na+、K+、Li+、Cs+、N
H4 +、Ca++またはMg++等のカチオンを意味する。
した位置は次の環原子の番号付けを表す: 本発明のある種の化合物(例えば、カルボキシル、ス
ルホン、ホスフィンまたはホスホン酸基を有する化合
物)は酸性である。これらの化合物は、無機および有機
塩基とともに薬学的に許容しうる塩を形成する。このよ
うな塩の例としては、ナトリウム素、カリウム塩および
カルシウム塩が上げられる。また、アンモニア、アルキ
ルアミン、ヒドロキシアルキルアミン、N−メチルグル
カミン等の、薬学的に許容しうるアミンとともに形成さ
れる塩も含まれる。
たは媒体中で、1またはそれ以上の当量の適当な塩基と
反応させるか、または水等の溶媒中で反応させた後、こ
れを真空下または凍結乾燥により除去するか、または適
当なイオン交換樹脂上で存在する塩のカチオンを他のカ
チオンと交換することにより、慣習的な方法により形成
することができる。
する化合物は塩基性である。これらの化合物は、有機お
よび無機酸とともに、薬学的に許容される塩を形成す
る。そのような塩の形成に適当な酸の例としては、塩
酸、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、マロン
酸、サリチル酸、リンゴ酸、フマル酸、コハク酸、アス
コルビン酸、マレイン酸、メタンスルホン酸、および当
業者に周知の他の無機およびカルボン酸が挙げられる。
塩は、慣習的な方法にしたがって、遊離塩基型を十分な
量の所望の酸と接触させて塩を生成させることにより製
造する。遊離塩基型は、塩を、希水性NaOH、K2CO3、NH3
およびNaHCO3等の適当な希水性塩基溶液で処理すること
により再生することができる。遊離塩基型は、極性溶媒
に対する溶解性等のある種の物理学的性質においてそれ
ぞれの塩型といくぶん相違するが、それ以外は、本発明
の目的のためには塩はそれぞれの遊離塩基型と均等であ
る。
イオンとして存在しうる。
な溶媒、例えば水と溶媒和物を形成することができる。
このような溶媒和物はまた、上に定義されるように、本
発明の化合物の塩または双性イオンとともに形成するこ
ともできる。
し、このため種々の立体異性体を含む。本発明は、すべ
てのそのような異性体を、純粋な形、およびラセミ形を
含む混合物の形で含む。
媒および試薬は、示される用語または略号により同定さ
れる:ジエチルエーテル(Et2O);酢酸エチル(EtOA
c);メタノール(MeOH);エタノール(EtOH);ジメ
チルホルムアミド(DMF);テトラヒドロフラン(TH
F);酢酸(AcOH);N,N−ジイソプロピルエチルアミン
(ヒニッヒ(Hnig′s)塩基);トリエチルアミン
(NEt3);1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7
−エン(DBU);4−ジメチルアミノピリジン(DMAP);
ジメチルスルホキシド(DMSO);ジシクロヘキシルカル
ボジイミド(DCC);塩酸1−(3−ジメチルアミノプ
ロピル)−3−エチルカルボジイミド(DEC);ボロン
トリフルオリドエテレート(BF3・OEt2);イソプロピ
ルアルコール(IPA);トリフェニルホスフィン(TP
P);m−クロロ過安息香酸(MCPBA)。
ることができる。例えば、式I bの化合物、すなわちX
がOでありYが−CO2R6である式Iの化合物は、反応ス
キームA(式中、R、R1、R2およびR3は上で定義したと
おりであり、LはCl、BrまたはI等の脱離基である)に
示されるように、それぞれ式IIまたはVのアミノアルコ
ールおよび式IIIまたはVIのクロトン酸エステルから製
造することができる。反応は、CH2Cl2等の適当な溶媒中
で、NEt3またはヒニッヒ塩基等の第3アミン塩基の存在
下で実施し、式IIおよびIIIの化合物から式IVの化合物
を、または式VおよびVIの化合物から式VIIの化合物を
形成する。式IVまたはVIIの化合物を、DBU等の適当な塩
基の存在下で、トルエン等の高沸点溶媒中で加熱するこ
とにより環化して、式I bの化合物を得る。
くはHCl、最も好ましくは1Nから6Nの水性HCl)により加
水分解して、式I cの化合物、すなわちYが−CO2Hであ
る式Iの化合物に転化することができる。
式R−L(式中、RはC1−C8アルキル、C1−C8アルカノ
イル、C1−C8アルコキシカルボニル、C3−C8シクロアル
キル、C3−C8シクロアルキル(C1−C8)アルキル、Ar−
(C1−C8)アルキルおよびAr−CH2−O−C(O)−で
あり、Arは上で定義したとおりであり、LはCl、Brまた
はI等の離脱基である)の化合物によりアルキル化また
はアシル化することにより、式I fの化合物、すなわ
ち、Yが−CO2R6であり、RがC1−C8アルキル、C1−C8
アカノイル、C1−C8アルコキシカルボニル、C3−C8シク
ロアルキル、C3−C8シクロアルキル(C1−C8)アルキ
ル、Ar−(C1−C8)アルキルおよびAr−CH2−O−C
(O)−であり、Arは上で定義したとおりである式Iの
化合物に転化することができる。
およびDMAP等の適当な塩基の存在下で、式R7−NH2(式
中、R7は上で定義したとおりである)のアミンまたは式
R8−NH−OH(式中、R8は上で定義したとおりである)の
ヒドキシアミンとカップリングさせることにより、式I
dの化合物、すなわちYが−C(O)NHR7または−C
(O)−N(OH)−R8である式Iの化合物に転化するこ
とができる。RがHである式I cの化合物については、
カップリング反応の前に、適当なアミン保護基によりモ
ルホリン環の窒素を保護し、反応が完了した後に脱保護
することができる。同様に、カップリング反応の前に、
適当なヒドロキシ保護基を用いてヒドロキシルアミンの
ヒドロキシ部分を保護し、反応が完了した後に脱保護す
ることができる。
(式中、R6は上で定義したとおりである)である式Iの
化合物は、反応スキームB(式中、R、R1、R2およびR3
は上で定義したとおりである)に示されるように、それ
ぞれ式VIIIまたはXのチアゾリジンと式VIまたはIIIの
クロトネート誘導体とを反応させることにより製造す
る。反応は、THF等の適当な溶媒中で、NEt3またはヒニ
ッヒ塩基等の第3アミン塩基の存在下で実施し、式VIII
およびVIの化合物から式IXの化合物を、または式Xおよ
びIIIの化合物から式XIの化合物を得る。式IXまたはXI
の化合物を、HCl等の無機強酸(好ましくは6N水性HCl)
の存在下で、メタノール等のアルコール溶媒中で加熱す
ることにより環化させて、式I eの化合物を得る。
スキームC(式中、R、R1、R2およびR3は上で定義した
とおりである)に示されるように、式XIIまたはXIVのア
ジリジンをそれぞれ式VIまたはIIIの化合物と反応させ
る。反応は、THF等の適当な溶媒中で、NEt3またはヒニ
ッヒ塩基等の第3アミン塩基の存在下で実施し、式XII
およびVIの化合物から式XIIIの化合物を、または式XIV
およびIIIの化合物から式XVの化合物を得る。式XIIIま
たはXVの化合物を、チオ酢酸により処理して、それぞれ
式XVIまたはXVIIの化合物を形成し、これをNaOH等の強
塩基(好ましくは1N水性NaOH)で加水分解し、HCl等の
無機強酸(好ましくは約6Nの水性HCl)を用いて酸性化
することにより、式I eの化合物を得る。
おりである)に示されるように、式IIまたはVの化合物
をそれぞれ式XVIIIまたはXIXの化合物と反応させること
により製造する。反応は、IIとXVIIIとの混合物または
VとXIXの混合物を、DBU等の有機強塩基の存在下で、ト
ルエン等の適当な溶媒中で加熱することにより実施す
る。RがHである式I gの化合物については、カップリ
ング反応の前に、適当なアミン保護基によりモルホリン
環の窒素を保護し、反応が完了した後に脱保護すること
ができる。
定義したとおりである)は、式P(R8)(OR6)2また
はP(OR6)3(ここでR6およびR8は上で定義したとお
りである)の化合物と反応させることにより、それぞれ
式XXおよびXXIのジブロミドから製造する。
水分解することにより、式I h(式中、Zは−OHまたは
−R8であり、R8は上で定義したとおりである)の化合
物、すなわちXがOまたはSでありYが である式Iの化合物に転化することができる。
ましくはIである脱離基であり、R、R1、R2およびR3は
上で定義したとおりである)を、式P(R8)(OR6)2
またはP(OR6)3(式中、R6およびR8は上で定義した
とおりである)の化合物と反応させることにより製造す
る。
であり、Lが脱離基であり、R、R1、R2およびR3が上で
定義したとおりである式Iの化合物は、反応スキームE
に示される方法により、式XXIIの化合物から製造する。
式XXIIの化合物を、市販の式:Pr−SHのチオール(式
中、Prは、ベンジル等の適当なイオウ保護基である)と
反応させ、式XXIIIのスルフィドを形成する。スルフィ
ドXXIIIを脱保護し、得られるチオールXXIVを酸化し
て、式I hの化合物を得る。
R1、R2およびR3は上で定義したとおりである)に示され
るように、式XXIIの化物から製造する。式XXIIの化合物
を、NaCNまたはKCN等のシアニド塩と反応させて、式XXV
の化合物を形成する。式XXVの化合物をアジ化ナトリウ
ムおよび塩化アンモニウムで処理して、式I iの化合物
を形成する。
の化合物は、式I hの化合物から既知の方法により製造
する。
R1、R2、R3およびR6は上で定義したとおりである)に示
されるように、式I eまたはI f(式中、XはSである)
の化合物から製造する。式I eまたはI fの化合物をアン
モニアと反応させて、式XXVIの第1アミドを形成する。
アミドXXVIを脱水して、式XXVIIのニトリルを形成し、
これをアジ化ナトリウムおよび塩化アンモニウムで処理
することにより、式I kの化合物に転化する。反応スキ
ームGにおいて式I eの化合物を用いる場合には、アン
モニアによる処理の前に、チオモルホリン環の窒素を、
ベンジルまたはベンジルオキシカルボニル等の適当なア
ミン保護基で保護することができる。次に、テトラゾー
ル形成の後に脱保護することにより、RがHである式I
kの化合物を得る。
R1、R2、R3、R6およびR8は上で定義したとおりである)
に示されるように、式XIIまたはXIVのアジリジンを、そ
れぞれ式XXVIIIまたはXXXの化合物と反応させることに
より製造する。反応は、NEt3またはヒニッヒ塩基等の第
3アミン塩基の存在下で実施し、式XIIおよびXXVIIIの
化合物から式XXIXの化合物を、または式XIVおよびXXXの
化合物から式XXXIの化合物を得る。式XXIXまたはXXXIの
化合物を、任意にBF3・OEt2等のルイス酸の存在下でチ
オール酢酸で処理して、それぞれ式XXXIIまたはXXXIII
のチオールアセテートを形成する。XXXIIまたはXXXIII
を、適当な溶媒中で、1Nから2N NaOH(水性)等の希塩
基で処理することにより環化させて、式XXXIVの化合物
を得る。式XXXIVの化合物を式R−L(上で定義したと
おりである)の化合物と反応させて、式XXXVの化合物を
形成する。HBr、HIまたは無水トリフルオロメタンスル
ホン酸で処理することにより、XXXVの水酸基を、−Br、
−Iおよび−OSO2CF3から選択される脱離基LGに転化
し、得られる化合物XXXVIを式P(R8)(OR6)2または
P(OR6)3(式中、R6およびR8は上で定義したとおり
である)の化合物で処理して、式I m(式中、Qは上で
定義したとおりである)の化合物を形成する。RがHで
ある式I mの化合物については、化合物XXXIVのチオモル
ホリン環の窒素を、適当なアミン保護基で保護すること
ができ、この場合、R−Lとの反応は実施しない。反応
スキームの完了後に脱保護して、RがHである式I mの
化合物を形成する。
たは−SO3Hである式Iの化合物は、反応スキームJに示
されるように、式XLI(式中、R、R1、R2およびR3は上
で定義したとおりである)の塩化物を、2−メルカプト
ベンゾトリアゾール(XLII)(式中、 である)と反応させることにより製造する。反応は、K2
CO3またはCs2CO3等の塩基の存在下で、DMF等の適当な溶
媒中で加熱することにより実施し、生成物XLIIIを得
る。生成物XLIIIを、MCPBA等の適当な酸化剤で酸化し
て、スルホニル誘導体XLIVを形成する。次に、スルホニ
ル誘導体XLIVを、NaBH4等の適当な還元剤で処理するこ
とにより還元して、式XLV(式中、M+はNa+またはNH4 +等
の適当なカウンターイオンである)のスルフィネートを
形成する。さらに、スルフィネートXLVは、MCPBA等の適
当な酸化剤で処理することにより、類似のスルホネート
XLVIに酸化することができる。次に、スルフィネートXL
VまたはスルホネートXLVIをTPPで処理して、式I nの化
合物を形成する。RがHである式I nの化合物は、5%
または10%Pd/C等の適当な触媒の存在下でRがベンジル
である式I nの化合物を水素化することにより製造する
ことができる。反応スキームJに示されるように、式I
nの化合物は一般に双性イオンとして単離される。
示されるように、知られているか、または反応スキーム
Kに示されるように、式IIまたはVの化合物を、それぞ
れ臭化アリルXXXVIIまたはXXXVIIIと反応させて、式II
およびXXXVIIの化合物から式XXXIXの化合物を、または
式VおよびXXXVIIIの化合物から式XLの化合物を形成す
ることにより製造することができる。式XXXIXおよびXL
の化合物を、適当な塩基の存在下にヨードで処理するこ
とにより、式XXIIの化合物に転化する。
II、XXX、XXXVII、XXXVIII、XLIおよびXLIIの出発物質
は、市販されているか、または市販の出発物質から既知
の方法により製造することができる。
基により反応の間保護し、反応後に標準的な方法により
除去することができる。以下の表は、いくつかの典型的
な保護基を示す。
を有する。したがって、本発明の化合物は、GABABレセ
プターの刺激が疾病または疾患の因子である場合に有用
である。これには、不安、抑うつ、全般欠神または小発
作、および認知的作業の増強を必要とする状態を含む中
枢神経系疾患、およびGABABレセプター刺激に伴う呼吸
抑制、例えばバクロフェン治療の間に生ずるものの治療
および予防が含まれる。
性は、以下のインビトロアッセイ方法を用いて示され
る。
([3H]−GABA)の結合の程度を決定することにより、
GABABレセプターに対するGABAの結合の阻害のパーセン
テージを測定する。ウサギ脳シナプトゾームをGABABレ
セプター源として用いる。インキュベーション培地は、
以下のようにして調整する:1%DMSO/水柱の溶液として2
0μg/mlの試験化合物;5nM[H3]−GABA;50mMTris緩衝液
(pH7.5);および2.5mMCaCl2。GABAAレセプターへの結
合を選択的に遮断するため、培地はまた40μMイソグバ
シン(isoguvacine)を含む。シナプトゾーム(200μg/
ml)をインキュベーション培地に加え、20℃において30
分間インキュベートする。濾過によりインキュベーショ
ンを終了させ、計数して、[3H]−GABA結合の阻害のパ
ーセンテージを決定する。[3H]−GABA結合を>50%阻
害する化合物について、結果をIC50値として表す。
気絶させて殺し、気管分岐部近位の気管を除去し、5mm
のセグメントに切断する。セグメントを等力変位変換器
(モデルFT03:Grass Instruments)に取り付け、グル
コース5.6mmol/l、コリン30μmol/lおよびインドメタシ
ン2μmol/lを補充した低Ca2+(0.6mmol/l)タイロード
緩衝液(pH7.4)で見たした臓器浴(organ bath)15ml
に懸濁させる。溶液を95%O2+5%CO2の混合物でバブ
リングし、37℃に維持する。気管セグメントを0.5gの休
止張力(resting tension)下に90分間平衡化させる。
(モデルS−88:Grass Instruments)から電場刺激(E
FS)(20V,8Hz,0.5msパルス、5秒間)を毎秒発生さ
せ、刺激分配装置(Buxco Electronics)を通して電極
を運ぶ。前接合(prejunctional)のGABABのレセプター
において作用する化合物の阻害効果に感受性の気管のコ
リン作動性収縮を生じさせるのに適当なように刺激パラ
メーターを選択する。収縮性応答をポリグラフ(Harvar
d Apparatus)に記憶する。試験化合物を浴に加え、10
分後にバクロフェン30μmol/lを加える。試験化合物の
存在または不在下のバクロフェンの効果を、EFS誘導性
収縮の阻害のパーセンテージとして表す。バクロフェン
30μmol/lに対する応答を30%より高く阻害する化合物
について、結果をIC30値として表す。
方法を用いて示される。
は、γ−ブチロラクトン(GBL)またはペンチレンテト
ラゾール(PTZ)をラットに腹腔内(ip)投与すること
により誘導される発作の防止におけるGABABアンタゴニ
ストの有効性を試験するための薬学的モデルを教示す
る。動物を試験化合物で処置し、次に、発作を誘導する
のに十分な用量のGBLまたはPTZを与えた後にモニターす
る。ここに記載される方法を用いて、本発明の化合物の
インビボ活性を示すことができる。
日、1992)は、試験化合物を嗜眠性(1h/1h)マウス
(自発性発作を有する変異系統)に投与することによ
り、欠神発作の治療のための抗痙攣剤としてのGABABア
ンタゴニストの有効性を試験するための薬学的モデルを
教示する。ここに記載される方法を用いて、本発明の化
合物のインビボ活性を示すことができる。
out)プレチスモグラフに置き、CO2富化ガス混合物(10
%CO2、21%O2、69%N2)に10分間さらす(Danko,et a
l.,J.Pharm.Methods,19,165−173(1988)を参照のこ
と)。チャート記録計に接続した変換器を用いてプレチ
スモグラフ圧を検出する。1回換気量と呼吸頻度との積
として毎分換気量を計算する。試験化合物を経口、皮下
(sc)、腹腔内(ip)または脳室内経路を介して(ic
v)投与する。CO2富化ガスにさらす30分前にバクロフェ
ン(3mg/kg,sc)を与える。経口経路により与える場合
には、CO2富化ガスにさらす1、3、5または7時間前
に化合物を投与する。皮下および腹腔内経路の場合に
は、それぞれ40分間または30分前の前処理を用いる。経
口、scまたはip投与用のベヒクルは食塩水である。icv
投与の場合には、単一のicvカニューレを、麻酔したモ
ルモットの側脳室(lateral vetrical)に置く(McLea
d,et al.,Eur.J.Pharmacol.,209,141−142(1988)を
参照のこと)。換気実験に用いる前に約1週間動物を回
復させる。icv投与用のベヒクルは人工脳脊髄液(CSF)
である。
する場合には、不活性の薬学的に許容される担体は、固
体であっても液体であってもよい。固体調製物には、粉
剤、錠剤、分散性顆粒剤、カプセル剤、カシェ剤、およ
び座剤が含まれる。粉剤および錠剤は、約5から約70%
の活性成分を含むことができる。適当な固体担体は、当
該技術分野において知られており、例えば、炭酸マグネ
シウム、ステアリン酸マグネシウム、タルク、糖、ラク
トース等が挙げられる。錠剤、粉剤、カシェ剤およびカ
プセル剤は、経口投与に適当な固体用量形態として用い
ることができる。
はココアバターの混合物等の低融点ワックスを溶融さ
せ、活性成分を攪拌等によりその中に均一に分散させ
る。次に溶融した均一混合物を便利な大きさの型に注
ぎ、冷却させて固化させる。
れる。例としては、非経口注入のための水または水−プ
ロピレングリコール溶液が挙げられる。
る。
形調製物に転化するための固形調製物も含まれる。この
ような液体形には、溶液、懸濁液および乳濁液が含まれ
る。
る。経皮組成物は、クリーム、ローション、エアロゾ
ル、および/または乳濁液の形態をとることができ、ま
た、この目的のために当該技術分野において慣用的なも
ののようなマトリックスまたは貯蔵器タイプの経皮パッ
チに含ませることもできる。
ような形態においては、調製物は、適当な量、例えば所
望の目的を達成するために有効な量の活性成分を含む単
位用量に分割される。
にしたがって、約10mgから3000mg、より好ましくは約30
mgから1000mgまで変化または調整することができる。適
当な用量は、化合物の活性をCGP35348等の既知のGABAB
アンタゴニストの活性と比較することにより決定するこ
とができる。
き状態の重篤度に依存して変化しうる。特定の状況のた
めの正確な用量の決定は、当業者の技術の範囲内であ
る。一般に、治療は化合物の最適用量より少ない用量で
開始される。その後、その状況下における最適の効果が
達成されるため、用量を少しずつ増加させる。便宜上、
所望ならば、1日総用量を分割し、1日の間に一部分ず
つ投与することができる。
は溶媒和物の投与の量および頻度は、患者の年齢、状態
および大きさ、ならびに治療すべき症状の重篤度を考慮
して、担当の臨床医の判断にしたがって調節されるであ
ろう。典型的な推奨用量養生は、症状の軽減が達成され
るまで、10mgから3000mg/日、好ましくは30から1000mg/
日、1から4分割用量の経口投与である。この用量範囲
内で投与する場合、化合物は無毒性である。
2−メチル−1−プロパノール1.8gおよびエチル4−ブ
ロモクロトネート3.3mlの溶液に加える。この溶液を室
温において24時間攪拌し、次に減圧下に濃縮して残渣を
得る。残渣をEtOAc60mlに懸濁し、0.5時間攪拌し、次に
濾過する。濾液を減圧下に濃縮して粗生成物を得る。生
成物をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、9
5:5 CH2Cl2:MeOH/NH3)により精製して、表題化合物2.
5gを得る。m.p.71−73℃。
tOH60ml中の1−アミノシクロペンタンメタノール2gの
溶液に加える。溶液を還流温度において18時間加熱し、
次に室温まで冷却し、真空下に濃縮して残渣を得る。残
渣を水150mlに溶解し、CH2Cl2 4×50mlで抽出する。
合わせた有機中物を水で、つぎにブラインで洗浄する。
有機抽出物をMgSO4を用いて乾燥し、濾過し、濾液を減
圧下に蒸発させて、粗組成物1.85gを得る。フラッシュ
クロマトグラフィー(シリカゲル、CH2Cl2/10%MeOH)
により精製して、表題化合物0.67gを得る。
mlに懸濁する。NEt310mlを加え、混合物を室温において
0.5時間攪拌する。エチル4−ブロモロトネート8gを加
え、18時間攪拌する。真空下に濃縮して残渣を得る。残
渣を水150mlに溶解し、CH2Cl2 4×50mlで抽出する。
合わせた有機抽出物をブラインで洗浄し、MgSO4上で乾
燥し、次に濾過し、真空下に濃縮し、粗組成物4.5gを得
る。フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、EtOA
c)により精製して、表題化合物2.1gを得る。1H−NMR
は、約δ=0.55および0.75ppmにシクロプロピルプロト
ンを、約δ=6.04および7.05ppmにビニルプロトンを示
した。
アミノ−1−ブタノール5gおよびエチル4−ブロモクロ
トネート13gに加える。溶液を室温において4時間攪拌
する。総量が250mlとなるようにCH2Cl2を加え、ブライ
ン3×100mlで洗浄する。CH2Cl2溶液を真空下に濃縮
し、粗組成物6.2gを得る。フラッシュクロマトグラフィ
ー(シリカゲル、30:1 EtOAc:MeOH)により精製して、
表題化合物2.2gを得る。1H−NMR(CDCl3)のδ値(pp
m):7.06(tのd,1H);6.07(tのd,1H);4.26(q,2
H);3.34−3.75(m,4H):1.55(m,2H);1.34(t,3H);
0.97(t,3H)。
パノール3.3g、エチル−4−ブロモクロトネート4mlお
よびDBU25mMolを合わせ、混合物を24時間加熱還流す
る。真空下に濃縮して残渣を得、残渣をCH2Cl2/H2O(10
0ml/400ml)に溶解する。水層を分離し、CH2Cl2 3×1
00mlで抽出する。有機層を合わせ、ブラインで洗浄す
る。合わせた有機層をMgSO4上で乾燥し、濾過し、次に
真空下に濃縮して、粗組成物4.2gを得る。フラッシュク
ロマトグラフィー(シリカゲル、1:1 ヘキサン/EtOA
c)により精製して、表題化合物2.4gを得る。
を調製する。溶液を攪拌し、エチル4−ブロモクロトネ
ート4.5mlを加え、得られる混合物を室温において60時
間攪拌する。反応混合物をEtOAc300mlで希釈し、水で、
次にブラインで洗浄し、MgSO4上で乾燥する。有機溶液
を真空下に濃縮し、粗組成物5.4gを得る。フラッシュク
ロマトグラフィー(シリカゲル、2:1 ヘキサン/EtOA
c)により精製し、表題化合物4gを得る。これを、さら
に精製すことなく次の段階において用いる(実施例1
8)。
および2−メチルアジリジン4mlの溶液にNEt310mlを加
える。60時間攪拌し、この間に白色析出物が生ずる。Et
OAc300mlで反応混合物を希釈し、水で、次にブラインで
洗浄する。有機溶液をMgSO4上で乾燥し、濾過し、真空
下に濃縮して、粗組成物6.7gを得る。フラッシュクロマ
トグラフィー(シリカゲル、1:4 ヘキサン/EtOAc)に
より精製して、E−4−(2−メチル−1−アジリジニ
ル)−2−ブテン酸エチルエステル5.2gを得る。
理し(J.Am.Chem.Soc.,77,5144(1995)に記載のよう
に)、混合物を18時間攪拌する。1H−NMRにより反応の
完了を確認する。混合物を直接フラッシュクロマトグラ
フィー(シリカゲル、EtOAc)により精製して、表題化
合物1gを得る。
およびエチル4−ブロモクロトネート9gをTHF60mlに溶
解する。NEt315mlを加え、室温において70時間攪拌す
る。反応混合物を水300mlで希釈し、CH2Cl2 3×150ml
で抽出し、ブラインで洗浄し、MgSO4上で乾燥する。合
わせた抽出物を真空下に濃縮して、粗組成物5.5gを得
る。フラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、95:5
EtOAc/MeOH)により精製して、表題化合物2.2gを得
る。
ル−1,3−プロパンジオールを次の化合物に転化する
(製造例8A): マススペクトル(FAB)m/e 218(M+1)+=100% 元素分析:C10H19NO4として、計算値;C55.28;H8.81;N6.4
5:実測値;C54.83;H8.58;N6.40。
次にE−およびZ−1,3−ジブロモプロペンの混合物1ml
をゆっくり(滴下)加える。混合物を0℃において30分
間攪拌し、次に混合物を室温に暖まらせ、3時間攪拌す
る。ジエチルメチルホスホナイト0.7mlを加え、室温に
おいて18時間攪拌する。減圧下に濃縮して、残渣として
表題化合物を得る。
mmol)およびDMF10mlを合わせ、2−メルカプトベンゾ
チアゾール0.84gおよびCs2CO33gを加え、室温において
短時間攪拌する。混合物を100℃−105℃に加熱し、反応
をTLC(シリカゲル、80:20 ヘキサン/EtOAc)によりモ
ニターする。反応が完了したときに混合物を室温に冷却
し、Et2O100mlを加え、濾過し、固体残渣をEt2Oで洗浄
する。濾液をH2Oで洗浄し、濃縮して残渣を得る。残渣
をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、85:15 ヘ
キサン/EtOAc)により精製して、精製物を得る。
ら−15℃に冷却しながら攪拌し、MCPBA1.27gを加える。
反応をTLC(シリカゲル、91.5:7.5:1 CH2Cl2/MeOH/NH3
(水性))によりモニターする。さらにMCPBA0.13gを加
え、TLCにより反応が完了するるまで、0℃において攪
拌する。
(水性)100ml、およびブラインで順次洗浄し、次にNa2
SO4上で乾燥する。得られる有機溶液を真空下に濃縮し
て残渣を得、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、
CH2Cl2中の2%−10%MeOH+NH3(水性)数滴)により
精製して、次式の酸化生成物を得る。
を室温において攪拌し、NaBH40.195gを加える。2日間
攪拌し、次に真空下に濃縮して残渣を得、カラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル、67%CH2Cl2:30%MeOH:3%N
H3(水性)、次に56%CH2Cl2:40%MeOH:4%NH3(水
性))により精製して、生成物を得る。生成物を脱イオ
ン化H2Oに溶解し、NH4 +形において強酸イオン交換カラ
ムを通す。得られる溶液を真空下に濃縮して、表題化合
物を得る。m.p.95−99℃。マススペクトル(FAB):
(M+1)+m/z=272。
lに溶解し、溶液を18時間加熱還流する。反応混合物を
冷却し、減圧下に溶媒を除去する。得られる残渣をフラ
ッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、95:5 CH2C
l2:MeOH/NH3)により精製して、表題化合物1.2gを得
る。
ことができる。
する。溶液を18時間加熱還流し、次に真空下に濃縮し
て、表題化合物0.5gを得る。m.p.204−206℃。元素分
析:C8H15NO3・HClとして、計算値;C45.82;H7.69;N6.68:
実測値;C45.73;H7.62;N6.41。
ロロホルメート10mlをCH2Cl2200mlに溶解する。溶液を
攪拌し、NEt310mlを約10分間かけてゆっくり加える。反
応混合物を室温において6時間攪拌し、次に、CH2Cl230
0mlで希釈する。水2×100mlおよびブライン150mlで洗
浄する。有機層を乾燥(MgSO4)し、次に真空下に濃縮
して粗生成物14.5gを得る。フラッシュクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、80:20 ヘキサン:EtOAc)により精
製して、表題化合物9.1gを得る、m.p.45.5−46.5℃。元
素分析:C18H25NO5として、計算値;C64.45;H7.51;N4.17:
実測値;C64.51;H7.44;N4.29。
溶解する。CH2Cl2約3ml中のジ−t−ブチル−ジカルボ
ネート1.2gの溶液を加える。約0.5時間後にヒニッヒ塩
基数滴を加え、反応混合物を室温で一夜放置する。真空
下に濃縮して残渣を得、残渣をEtOAcに溶解し、ブライ
ンで洗浄する。有機層を濃縮して表題化合物を得る。m.
p.36−38℃。元素分析:C15H27NO5として、計算値;C59.7
8;H9.03;N4.65:実測値;C60.00;H9.01;N5.37。
れのエナンチオマーに分離する。実施例3の生成物の、
95:5 ヘキサン:イソプロパノール中の10%溶液2−4m
lを50×500mmダイセルキラルセル(Daicel Chiralce
l)OD(登録商標)調製用HPLCカラムに注入し、95:5
ヘキサン:イソプロパノールで溶出する。注入が少量の
場合にはエナンチオマーは完全に分離するが、注入量が
より多い場合には2つのエナンチオマーのピークの間に
幾分かの混合分画が得られる。同一の溶媒を用いてダイ
セルキラルセルOD(登録商標)分析用HPLCカラムで測定
したところ、分離のα値は約1.38である。純粋な分画を
合わせ、溶媒を蒸発させて、次の2つのエナンチオマー
を得る:エナンチオマー1、実施例5A(カラムから最初
に溶出);エナンチオマー2、実施例5B(カラムから2
番目に溶出)。
よびTHFの混合物(20:5:5)15mlに溶解し、混合物を室
温において18時間攪拌する。十分量の1N HCl(水性)
を加えて、pHを3より低くし、次にEtOHで希釈する。有
機層を分離し、水10ml、次にブライン20mlで洗浄する。
有機溶液をMgSO4上で乾燥し、濾過し、蒸発させて、粗
生成物0.35gを得る。
/C 100mgを加え、混合物をH2雰囲気下に18時間激しく
攪拌する。1N HCl(水性)4mlを加え、濾過し、濾液を
真空下に濃縮して、粗生成物0.25gを得る。1:9 アセト
ン/EtOAc中で砕くことにより精製して、表題化合物の
(+)−エナンチオマー0.08gを得る(実施例6A)。m.
p.142−144℃。元素分析:C8H15NO3・HClとして、計算
値;C45.83;H7.69;N6.68:実測値;C45.92;H7.58;N6.48。
[α]D=+17.3゜(21.5℃、H2O)。
物を表題化合物の(−)−エナンチオマーに転化した: 実施例4のラセミ体生成物は、次の方法によりそれぞ
れのエナンチオマーに分離することができる。実施例4
の生成物の95:5 ヘキサン:イソプロパノール中の10%
溶液を調製する。この溶液2.5から5.0ml(化合物250か
ら500mgを含む)を、50×500mmダイセルキラルセルOD
(登録商法)調製用HPLCカラムに注入し、99:1 ヘキサ
ン:イソプロパノールで溶出する。この条件下で、2つ
のエナンチオマーは流速50ml/minでちょうど1時間で完
全に分離する。この分離のα値は約1.54である。純粋な
分画を合わせ、溶媒を蒸発させて、下記のように、表題
化合物の2つのエナンチオマーを得る: 実施例7A (+)−エナンチオマー(最初に溶出):m.
p.56−58℃。元素分析:C15H27NO5として、計算値;C59.7
8;H9.03;N4.65:実測値;C59.91;H8.78;N4.65。[α]D
=+21.8゜(23℃、MeOH)。
m.p.56−58℃。[α]D=−20.6゜(23℃、MeOH)。元
素分析:C15H27NO5として、計算値;C59.78;H9.03;N4.65:
実測値;C59.79;H8.73;N4.64。
の通りである。実施例7Bの生成物を、実施例6、段階A
に記載の方法に従って加水分解して、(−)−エナンチ
オマーを得る(実施例6B)。m.p.154.5−157℃。元素分
析:C8H15NO3・HClとして計算値;C45.83;H7.69;N6.68:実
測値;C45.76;H7.46;N6.61。[α]D=−18.7゜(23
℃、H2O)。
て、(+)−エナンチオマーを得る(実施例6A)。m.p.
154.5−157℃。元素分析:C8H15NO3・HClとして、計算
値;C45.83;H7.69;N6.68:実測値;C45.71;H7.62;N6.61。
[α]D=+16.5゜(25℃、H2O)。
液を24時間加熱還流する。室温に冷却し、80℃において
活性炭素で30分間処理する。濾過し、濾液を真空下に濃
縮して、粗組成物0.75gを得る。アセトン中で砕き、表
題化合物0.56gを得る。m.p.186−188℃。元素分析:C10H
17NO3・HCl・0.3H2Oとして、計算値;C49.81;H7.77;N5.8
0;Cl;14.70:実測値;C49.51;H7.47;N5.79;Cl;14.86。
下の化合物に転化する。
として、計算値;C45.87;H6.83;N6.69;Cl;16.93:実測値;
C45.68,45.74;H6.71,6.65;N6.78,6.69;Cl;16.99。
lに溶解し、溶液を還流温度において6時間加熱する。
真空下に濃縮して残渣を得る。残渣をフラッシュクロマ
トグラフィー(シリカゲル、97:3 CH2Cl2:MeOH/NH3)
により精製して、表題化合物の2つのジアステレオマー
を得る。
混合物を18時間加熱還流する。真空下に濃縮し、得られ
る残渣をアセトン中で砕いて、表題化合物を得る。1N
HCl20mlに溶解し、この溶液をCH2Cl2 3×10mlにより
洗浄し、次に水層を活性炭素で処理することにより精製
する。濾過し、次に濾液を真空下に濃縮して、部分精製
された表題化合物0.45gを得る。上記のように、1N HCl
に溶解し、炭素処理し、蒸発させることによりさらに精
製して、精製表題化合物0.25gを得る。m.p.140−144
℃。
100mgの溶液を18時間加熱還流する。真空下に濃縮して
残渣を得、これをフラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲル、60:40 ヘキサン/EtOAc)により精製して、表
題化合物のcis異性体0.93g(実施例13A)およびtrans異
性体0.9g(実施例13B)を得る。(異性体は、カップリ
ング定数およびNOE実測の組み合わせを用いて、1H−NMR
により同定する。) 実質的に同一の方法を用いて、製造例8の化合物を次
の化合物に転化し、 製造例8Aの化合物を次の化合物に転化する。
の混合物を18時間加熱還流する。溶媒を除去して粗生成
物0.87gを得る。MeOH中で砕いて、ラセミ体の表題化合
物0.7gを得る。m.p.211−213℃。
を、表題化合物のtrans異性体に転化し、 実施例17Bの化合物を次の化合物に転化し、 m.p.134−137℃。元素分析:C7H13NO2S・HClとして、
計算値;C39.71;H6.67;N6.62:実測値;C39.88,39.82;H6.7
6,6.62;N6.49,6.59。
HCl 20mlに加える。混合物を60psiのH2雰囲気下に18
時間水素添加する。濾過し、濾液を真空下に濃縮して、
ラセミ体表題化合物0.45gを得る。m.p.165−168℃。
を、表題化合物のtrans異性体に転化する。
算値;C42.97;H7.21;N7.16;Cl18.12:実測値;C42.79;H7.3
6;N6.95;Cl18.19。
混合物を24時間加熱還流する。真空下に濃縮して残渣を
得る。残渣をMeOH100mlに溶解し、活性炭素により処理
する。濾過し、濾液を真空下に濃縮して、粗生成物3.5g
を得る。生成物をEtOAc100mlに懸濁し、0℃から10℃に
おいて2週間放置する。濾過し、固体をEtOAc、イソプ
ロパノール、次にMeOHにより洗浄し、乾燥させて、表題
化合物0.85gを得る。m.p.139−141℃。マススペクトル
(Cl)m/e176(M+1)。
混合物を室温において18時間攪拌する。真空下に濃縮
し、残渣をMeOH中のHCl(濃)4mlで処理する。濾過し、
濾液を真空下に濃縮して残渣を得る。残渣をMeOH2mlお
よびCH2Cl210mlで処理し、濾過し、次に濾液を真空下に
濃縮して、表題化合物50mgを得る。m.p.192−194℃。元
素分析:C6H11NO2S・HClとして、計算値;C36.45;H6.12;N
7.09:実測値;C36.17;H5.89;N6.81。
MeOH5mlを合わせ、室温において18時間攪拌する。反応
混合物を6N HCl4mlにより急冷し、真空下に濃縮して残
渣を得る。残渣をMeOHで処理し、濾過し、濾液を真空下
に濃縮して、粗生成物1.03gを得る。粗生成物をHCl/MeO
Hで60時間処理し、次に溶媒を蒸発させて、表題化合物
を得る。
0:80 CH3CN/水)によりcisおよびtrans異性体に分離し
て、次の化合物を得ることができる。
間加熱還流する。真空下に濃縮して、粗生成物0.7gを得
る。アセトン中で砕いて、表題化合物0.65gを製造す
る。m.p.146−149℃。元素分析:実測値;C44.37;H7.58;
N5.67:計算値;C9H17NO4・HCl・0.25H2Oとして、C44.27;
H7.64;N5.74。
間加熱還流する。反応混合物を冷却し、真空下に濃縮し
て、粗生成物0.69gを得る。EtOHに溶解し、0℃におい
て過剰のプロピレンオキシドで18時間処理する。真空下
に濃縮して残渣を得、残渣をエーテル3×5ml中で砕
く。残渣を水15mlに溶解し、活性炭素を加え、5分間加
熱し、濾過し、真空下に濃縮して、表題化合物0.18gを
得る。
解し、室温において3日間攪拌する。濃縮して残渣を
得、次に残渣をEtOAc中で砕いて、表題化合物2.92gを得
る。元素分析:C8H15NO4・HCl・2/3H2Oとして、計算値;C
40.43;H7.35;N5.89:実測値;C40.30;H7.29;N5.81。
において3日間攪拌する。濃縮して残渣を得、残渣をク
ロマトグラフィー(シリカゲル、80:19:1 CH3CN/H2O/1
N HCl)にかける。精製した生成物をIPA中で砕き、表
題化合物0.74gを得る。MS(Cl)m/e190(M+1)+。
元素分析:C8H15NO4・HCl・1/2H2Oとして、計算値;C40.9
4;H7.30;N5.97:実測値;C40.59;H6.70;N5.89。
エタノール3.3gおよびトルエン30mlを合わせ、混合物を
18時間加熱還流する。混合物を水100mlおよび飽和NaHCO
3(水性)50mlで希釈する。EtOAc 4×70mlで抽出し、
有機抽出物を合わせ、ブラインで洗浄する。有機抽出物
をMgSO4上で乾燥し、濾過し、真空下に濃縮して、粗生
成物3.2gを得る。フラッシュクロマトグフィー(シリカ
ゲル、CH2Cl2中7%MeOH)により精製して、表題化合物
1.6gを得る。
混合物を18時間加熱還流する。混合物を冷却し、真空下
に濃縮して、粗生成物1.08gを得る。熱アセトン中で砕
き、表題化合物0.88gを得る。m.p.190−192℃。FAB M
S:m/e270(M+1)+。
0%Pd/C 50mgを合わせ、パール(Parr)シェーカー中
で18時間水素添加する。濾過し、濾液を真空下に濃縮し
て、粗生成物0.21gを得る。EtOAcで砕き、固体を真空下
に乾燥させて、表題化合物0.2gを得る。元素分析:C6H14
NO3P・HCl・H2Oとして、計算値;C30.85;H7.33;N6.00:実
測値;C30.90;H6.63;N5.76;C30.88;H6.64;N5.77。
PP 1.1当量を加え、75℃に暖める。TLCにより出発化合
物が消失したとき、室温に冷却し、真空下に濃縮して残
渣を得、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、CH2C
l2/30%−40%MeOH/3%−4%NH3(水性))により精製
して、表題化合物を得る。
するのに十分なMeOHを合わせる。MCPBAを加え、室温に
おいて攪拌する。真空下に濃縮して残渣を得、次にカラ
ムクロマトグラフィー(シリカゲル、CH2Cl2/MeOH/NH3
(水性))により精製して、スルホネート生成物を得
る。
同一の方法により表題化合物に転化する。
50mgを合わせる。混合物をH2雰囲気下に激しく攪拌し、
次に濾過し、濾液を真空下に濃縮して残渣を得る。残渣
をカラムクロマトグラフィーにより精製して、表題化合
物を得る。
次式: の化合物に転化する。
タを得た。
を試験化合物として用いて、以下の結果(表A、B、
C、DおよびE)を得た。
る。ここで用いる場合、用語「活性化合物」とは、式: の化合物を称するために用いられる。
えることができるため、医薬組成物の観点における本発
明の範囲は、与えられる例に限定されるものではない。
混合する。混合物を成分3とともに顆粒化する。必要な
らば、湿顆粒を粗いふるい(例えば1/4″、0.63cm)を
通してふるう。湿顆粒を乾燥させる。必要ならば、乾燥
した顆粒をふるい、成分番号4とともに10−15分間混合
する。成分番号5を加え、1−3分間混合する。混合物
を適当な大きさに圧縮し、適当な錠剤成形機で秤量す
る。
15分間混合する。成分番号4を加え、1−3分間混合す
る。混合物を適当なカプセル成型機で適当な2片ハード
ゼラチンカプセルに封入する。
が、当業者にはこれらの多くの変更、改変および変化が
明らかであろう。そのような変更、改変および変化のす
べてが本発明の精神および範囲内に含まれることを意図
するものである。
Claims (3)
- 【請求項1】式I: [式中、 XはOまたはSであり; Yは−CO2H、−CO2R6、−C(O)NHR7、−SO3H、−SO2
H、−SO3R6、−SO2NHR7、−C(O)−N(OH)−R8ま
たは次の式の基: であり; Rは、H、C1−C8アルキル、C1−C8アルカノイル、C1−
C8アルコキシカルボニル、C3−C8シクロアルキル、C3−
C8シクロアルキル(C1−C8)アルキル、Ar−(C1−C8)
アルキルおよびAr−CH2−O−C(O)−からなる群よ
り選択され; Arは、C1−C6アルキル、ハロゲノ、−CN、−NO2、−C
F3、−OH、−OR6および−OCF3からなる群より選択され
る、1から3個の置換基により任意に置換されていても
よいフェニルを表し; R1およびR2は、独立して、該複素環の2位、3位、5位
または6位において結合している置換基であり; R1は、H、C1−C8アルキルおよびヒドロキシ(C1−C8)
アルキルからなる群より選択され;そしてR1がHを表す
場合、 (a)RはHであり、Yは−C(O)NHR7であって、R7
はC1−C6アルキルまたは であり;または (b)XはSであり;または (c)Yは−SO3H、−SO2H、−SO3R6、−SO2NHR7または
次の式の基: であり; R2は、H、C1−C8アルキルおよびヒドロキシ(C1−C8)
アルキルからなる群より選択され;または R1およびR2が該複素環の隣接する位置に結合している場
合、R1およびR2はこれらが結合する炭素原子と一緒にな
って3−8員の炭素縮合環を形成してもよく、該環は−
OH基により任意に置換されていてもよく;または R1およびR2が該複素環の同一の位置に結合している場
合、R1およびR2はこれらが結合する炭素原子と一緒にな
って3−8員の炭素環式スピロ環を形成してもよく、該
環は−OH基により任意に置換されていてもよく; R3は、H、C1−C8アルキルまたはヒドロキシ(C1−C8)
アルキルであり; R6は、C1−C6アルキルであり; R7は、H、C1−C6アルキルまたは であり; R8は、H、C1−C8アルキル、C3−C8シクロアルキル、C3
−C8シクロアルキル(C1−C8)アルキル、ArまたはAr−
(C1−C8)アルキルである] で表される化合物、またはその薬学的に許容しうる付加
塩または溶媒和物。 - 【請求項2】有効量の請求項1記載の化合物を薬学的に
許容しうる担体とともに含む、中枢神経系疾患;GABABレ
セプター刺激に伴う呼吸抑制;を治療または防止する、
または認知的作業を増強するための医薬組成物。 - 【請求項3】中枢神経系疾患;GABABレセブター刺激に伴
う呼吸抑制;を治療または防止する、または認知的作業
を増強する方法であって、そのような処置を必要とする
ヒトを除く補乳動物に治療的有効量の請求項1記載の化
合物を投与することを含む方法。
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