JP2764128B2 - 凹凸模様を形成する方法及びその方法に使用する凹凸模様形成用シート - Google Patents

凹凸模様を形成する方法及びその方法に使用する凹凸模様形成用シート

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は凹凸模様を形成する方法及びその方法に使用
する凹凸模様形成用シートに関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕
従来、平滑な表面に設けた絵柄に立体感を持たせるた
めに、模様自体に厚みを持たせることが行われている
が、模様に厚みを持たせるためには特殊な印刷方法を必
要とする上、シャープな盛り上がりを形成することが困
難であり、美麗な立体模様を容易に形成できないという
問題があった。
本発明は上記従来技術の欠点を解決するためになされ
たもので、シャープな立体模様を容易に形成することの
できる凹凸模様を形成する方法及びその方法に使用する
凹凸模様形成用を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、 「(1) 下記(a)〜(d)の工程を順に行うことを
特徴とする凹凸模様を形成する方法。
(a)表面が剥離性を有する電離放射線透過性シートの
剥離性面に、電離放射線硬化性樹脂に対する重合禁止剤
を含有した樹脂からなるパターン層を設けた凹凸模様形
成用シートを準備する工程。
(b)電離放射線硬化性樹脂層を介して、上記凹凸模様
形成用シートと凹凸模様形成用基材とをパターン層が上
記樹脂層と接するように重ね合わせる工程。
(c)電離放射線を照射して上記パターン層のない部分
に相当する電離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。
(d)電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬
化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに
付着させて除去すると共に、硬化部を形成する工程。
(2) 下記(a)〜(d)の工程を順に行うことを特
徴とする凹凸模様を形成する方法。
(a)凹凸模様形成用基材の片面に、電離放射線硬化性
樹脂に対する重合禁止剤を含有した樹脂からなるパター
ン層を設ける工程。
(b)電離放射線硬化性樹脂層を介して、上記凹凸模様
形成用基材と表面が剥離性を有する電離放射線透過性シ
ートからなる凹凸模様形成用シートとを、パターン層が
上記樹脂層と接するように重ね合わせる工程。
(c)電離放射線を照射して上記パターン層のない部分
に相当する電離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。
(d)電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬
化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに
付着させて除去すると共に、硬化部を形成する工程。
(3) 凹凸模様形成用シートにおける電離放射線透過
性シートの剥離性面に着色層を設けて、表面に着色層が
密着した硬化部を形成する請求項1又は2記載の凹凸模
様を形成する方法。
(4) 凹凸模様形成用基材上に残った未硬化の電離放
射線硬化性樹脂を電離放射線照射にて硬化させる請求項
1、2又は3記載の凹凸模様を形成する方法。
(5) 全体に更に透明若しくは半透明の樹脂層を形成
する請求項4記載の凹凸模様を形成する方法。
(6) 全体に更に電離放射線硬化性樹脂層を形成する
請求項1、2又は3記載の凹凸模様を形成する方法。
(7) 電離放射線硬化性樹脂層を凹凸模様形成用シー
ト側又は凹凸模様形成用基材側に設けるか、或いは該シ
ート及び基材の両方に設ける請求項1、2、3、4又は
5記載の凹凸模様を形成する方法。
(8) 表面が剥離性を有する電離放射線透過性シート
の剥離性面に、電離放射線硬化性樹脂に対する重合禁止
剤を含有した樹脂からなるパターン層を設けたことを特
徴とする請求項1記載の凹凸模様を形成する方法に用い
る凹凸模様形成用シート。
(9) 電離放射線透過性シートの剥離性面に着色層を
設け、該着色層上にパターン層を設けた請求項8記載の
凹凸模様形成用シート。」 を要旨とするものである。
〔作用〕
本発明によれば、電離放射線硬化性樹脂に対する重合
禁止剤を含有した樹脂からなるパターン層のある部分で
は、電離放射線が照射されても重合禁止剤の作用により
電離放射線硬化性樹脂が硬化せずに電離放射線透過性シ
ートの剥離によって除去され、パターン層がない部分で
は電離放射線硬化性樹脂が硬化して凹凸模様成型用基材
上に残り、その結果、凹凸模様形成用基材上にシャープ
な凹凸模様が形成される。
また本発明によれば、凹凸模様形成用シートにおける
電離放射線透過性シートの剥離性面に着色層を設けた場
合、転写作用により硬化部表面のみに該着色層を密着形
成させて着色を施した凹凸模様を得ることができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面に基き説明する。
本発明で使用する凹凸模様形成用シートは、後述する
パターン層を該シート側に設ける場合、第1図に示すよ
うに電離放射線透過性シート2上に電離放射線硬化性樹
脂に対する重合禁止剤を含有した樹脂からなるパターン
層3を設けて構成され、また上記パターン層を凹凸模様
形成用基材側に設ける場合、基本的に電離放射線透過性
シート2のみで構成される。さらに、凹凸模様形成用シ
ート1はパターン層3の形成位置に係わらず、電離放射
線透過性シート2に着色層4を設けて構成することもで
きる。
電離放射線透過性シート2は、電離放射線透過性を有
するシート又はフィルムよりなり、電離放射線が紫外線
の場合には、例えばポリエステル、ポリアミド(ナイロ
ン等)、ポリプロピレン、フッ素系樹脂のシート又はフ
ィルム等が挙げられるが、紫外線透過性に影響のある顔
料等を含まないものが好ましい。電離放射線が電子線の
場合には、電子線の透過性が高いのであまり制約がな
く、上記した紫外線を透過する性質のあるシート又はフ
ィルムは原則的に使用でき、更に紙等も使用できる。
電離放射線透過性シート2は、少なくともパターン層
3や着色層4を設ける側の面が剥離性を有する剥離性面
である必要があり、素材自体が剥離性を有さない場合に
は剥離性の樹脂もしくは組成物を塗布する等して表面剥
離性として使用する。シート2の厚みは5〜200μm、
特に25〜100μmが好ましい。
パターン層3は、電離放射線を照射した際に該パター
ン層3に接する部分に相当する後述の電離放射線硬化性
樹脂層の硬化を阻害して、該樹脂を硬化させない機能を
有するものである。その意味でパターン層3を設ける位
置は、少なくとも電離放射線硬化性樹脂層に当接可能な
箇所であればよく、凹凸模様形成用シート1上(第1
図)か、或いは凹凸模様形成用基材6上(第5図)の何
れかの位置である。
パターン層3における重合禁止剤は、周知の紫外線硬
化性樹脂や電子線硬化性樹脂に対する重合禁止剤を使用
することができる。例えば、その具体例としては第4級
アンモニウムクロライド(例えばベンジルトリメチルア
ンモニウムクロライド)、ジエチルヒドロキシアミン、
環状アミド、ニトリル化合物、置換尿素、ベンゾチアゾ
ール、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ニル)セパケート、 有機酸(例えば乳酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、安
息香酸)、ハイドロキノン、およびそのメチルエーテ
ル、tert−ブチルピロカテコール、(RO33Pと銅化合
物、有機ホスフィンP(R)および亜リン酸塩、銅化
合物(例えばナフテン酸銅、亜リン酸トリクロロエチル
と塩化第一銅の付加物)、可溶の鉄およびマンガン化合
物(例えばカプリル酸塩、ナフテン酸塩、スルホキサイ
ド)等が挙げられる。
パターン層3は上記の如き重合禁止剤を樹脂に含有さ
せてインキを調製して通常の印刷法により形成される。
上記樹脂としてはインキを構成するために使用されてい
る周知の樹脂でよいが、電離放射線硬化性樹脂の硬化阻
害を有効に行うことを考慮した場合、パターン層形成後
に溶剤、モノマーに対する溶解性が高い樹脂が好まし
く、そのような樹脂を用いることによりパターン層中の
重合禁止剤が電離放射線硬化性樹脂中にブリードするた
めより硬化阻害機能が発揮される。そのような樹脂とし
てはアクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ビニル系樹脂が挙げ
られる。
重合禁止剤の含有量は1〜90重量%、好ましくは10〜
70重量%である。
着色層4は、凹凸形成用基材上に着色層を転写形成す
るためのものであり、用途に応じて種々の塗料若しくは
塗料を使用して形成したものである。電離放射線透過性
を有する層として構成することが好ましい。電離放射線
が紫外線であるときは紫外線透過性を確保するために、
紫外線透過性を妨げる顔料、充填剤の多用は避けた方が
よく、染料により着色するか粒子径の極く小さい顔料を
使用するとよい。着色層4は均一な層(いわゆるベタ
層)として形成しても、或いは模様状に設けてもよい。
また着色層は1色の印刷層であっても2色以上の印刷層
であってもよい。
次に、以上の如き構成からなる凹凸模様形成用シート
を使用する凹凸模様を形成する方法について詳述する。
まず、パターン層3を凹凸模様形成用シート1側に設
ける場合は、第1図に示されるようにパターン層3を設
けたシート1(着色層4は必ずしも設けなくともよい)
を、第2図に示すように別に準備した電離放射線硬化性
樹脂層5を塗布して設けた凹凸模様形成用基材6の上に
重ねて、シート1のパターン層3と電離放射線硬化性樹
脂層5とを接触させるようにして、密着させる(第3
図)。
また、パターン層3を凹凸模様形成用基材6に設ける
場合は、第5図に示すようにパターン層3を設け、電離
放射線硬化性樹脂層5を塗布した凹凸模様形成用基材6
を、別に用意した電離放射線透過性シート2からなる凹
凸模様形成用シート1(図示の如く着色層4を設けたも
のであってもよい)と重ねて、基材6上のパターン層3
と樹脂層5とを接触させるようにして、密着させる(第
6図)。
尚、電離放射線硬化性樹脂層5は、上記の如く予め凹
凸模様形成用基材6側のみに設ける場合の他、特に図示
しないが凹凸模様形成用シート1側に塗布して設けて
も、該シート1と基材6の両方に塗布して設けてもよ
い。特に、パターン層3を基材6側に設ける際に上記樹
脂層5も基材6側に設けた場合、製造工程上、簡便に形
成することができ有利である。
凹凸模様形成用基材6は、どのようなものでもよい
が、例えばステンレス鋼、鋼、アルミニウム、もしく
は銅等の金属の板または成形品、ガラス、大理石、陶
磁器、石膏ボード、石綿セメント板、珪酸カルシウム
板、GRC(ガラス繊維強化セメント)等の無機質の板ま
たは成形品、ポリエステル、メラミン、ポリ塩化ビニ
ル、ジアリルフタレート等の有機ポリマーの板、成形
品、あるいはこれらのシート、フィルム、木、合板、
パーチクルボード等の木質の板または成形品、等が例示
される。これら被転写基材6には目止め処理やプライマ
ー処理等の下地処理、接着性向上のための処理等を行っ
てもよい。
電離放射線硬化性樹脂層5は、構造中にラジカル重合
性の二重結合を有するポリマー、オリゴマー、モノマー
等を主成分とし、光重合開始剤や増感剤、そのほか必要
に応じて非反応性のポリマー、有機溶剤、ワックスその
他の添加剤を含有するもので、種々のグレードのものが
市場から容易に入手でき、本発明に使用できる、電離放
射線硬化性樹脂層5はグラビアコート、ロールコート、
フローコートもしくはスプレーコート等の公知の方法に
より形成することができる。樹脂層5の厚さは3μm〜
1mm、特に30〜200μmが好ましい。
凹凸模様形成用シート1と凹凸模様形成用基材6とを
電離放射線硬化性樹脂層5を介して重ね合わせて両者を
密着させた後、シート1の基材である電離放射線透過性
シート2側より電離放射線7を照射する(第3図又は第
6図)。電離放射線7の代表的なものは紫外線と電子線
であるが、その他のものも利用でき、また電離放射線の
照射は、電離放射線透過性樹脂シート2側からの照射の
場合に限らず、凹凸模様形成用基材6側からの照射も可
能であり、但し、紫外線照射を基材6側から行う場合は
基材6が紫外線透過性である必要がある。
電離放射線7の照射により、パターン層3のない部分
では電離放射線硬化性樹脂層5は硬化して、基材6およ
び硬化した電子放射線硬化性樹脂層5の樹脂部(および
着色層4)の2者(3者)が硬化して一体化し、一方、
パターン層3のある部分では電離放射線硬化性樹脂層5
は未硬化のままに置かれる。
電離放射線7の照射後に電離放射線透過性シート2を
剥離すると、上記の硬化して一体化した部分は凹凸模様
形成用基材6側に残り、電離放射線硬化性樹脂層5の未
硬化部分では、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が電離放
射線透過性シート2に付着した状態でシート2の剥離と
ともに除去され、結果として、少量の未硬化の電離放射
線硬化性樹脂5aが残留した凹部8と(尚、パターン層3
を基材6側に設ける場合は該層3も残留する)、硬化し
た電離放射線硬化性樹脂よりなる硬化部(凸部)9とが
形成され、よって、第3図又は第6図に示す如き凹凸模
様が形成された凹凸模様形成物10が得られる。また、着
色層4を有する凹凸模様形成用シート1を使用した場
合、表面に着色層4が密着した硬化部9が得られる。
本発明の方法ではシート2を剥離後、更に電離放射線
を照射して凹部8に残留する未硬化の電離放射線硬化性
樹脂5aを硬化せしめてもよい。また凹凸模様の表面保護
の目的のため、樹脂5aを硬化させた後、全体に更に透明
若しくは半透明の樹脂層を形成してもよい。更に、凹凸
模様の表面保護の目的のため、シート2を剥離後、全体
に更に電離放射線硬化性樹脂層を形成することができ
る。
以下、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明する。
実施例1 厚さ38μmのポリエステルフィルム(東レ(株)製)
を基材シートとし、この表面に着色パールインキ(諸星
インキ(株)製)を乾燥後の厚みが3μmとなるようグ
ラビア印刷方式にてベタ印刷し、次いで、その印刷面に
紫外線重合禁止剤を含有する下記組成のパターン層形成
用インキを用い、模様部の版深60μmのグラビア版にて
抽象柄を印刷し、凹凸模様形成用シートとした。
パターン層形成用インキ組成物 アクリル樹脂 12重量% ハイドロキノン 18重量% 溶剤 70重量% (酢酸エチル/トルエン/メチルエチルケトン) 一方、片面にアルカリ止めシーラー処理を施した珪酸
カルシウム板の処理面に、紫外線硬化性塗料(日本ペイ
ント(株)製)を厚みが100μmとなるようにフローコ
ートした。
次いで、上記凹凸形成用シートを、紫外線硬化性塗料
を塗布した珪酸カルシウム板面に印刷面が接するように
重ね合わせ、凹凸模様形成用シート側から出力80w/cmの
オゾンレス型紫外線ランプ5灯設置した照射装置中を20
m/分の速度で通過させながら照射し、照射後、基材シー
トを剥離した。
基材シートの剥離によって、該シートに設けたパター
ン層のない部分に相当する紫外線硬化性塗料が硬化して
紫外線硬化性塗料による凸部が形成され、該凸部表面は
着色が施され、一方、パターン層のある部分に相当する
部分では未硬化の紫外線硬化性塗料の一部が転写シート
の基材シートに付着して該シートの剥離の際に除去され
て凹部が形成された。
この後、着色凹凸模様面に更に紫外線硬化性塗料をス
プレーコートにより厚みが5μmになるように塗布し、
前記したと同じ紫外線照射装置を用いて照射して硬化さ
せた。
得られた凹凸模様は模様がシャープであり、しかも着
色ベタ層の存在により有色の外観美麗なものであった。
実施例2 実施例1において用いた同様のアルカリ止めシーラー
処理を施した珪酸カルシウム板の処理面に、実施例1と
同様にパターン層形成用インキ組成物を用いてパターン
層を印刷形成し、しかる後、紫外線硬化性塗料をフロー
コートした。
次いで、別途用意した実施例1と同様の着色パールイ
ンキをベタ印刷したポリエステルフィルムを、上記珪酸
カルシウム板上に重ね合わせ、以後同様にして紫外線照
射を行った後、基材シートを剥離した。
その結果、実施例1と同様にシャープで有色の外観美
麗な凹凸模様が得られた。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明方法によれば凹凸模様形
成用基材と、電離放射線硬化性樹脂に対する重合禁止剤
を含有した樹脂からなるパターン層および凹凸模様形成
用シートを電離放射線硬化性樹脂層を介して重ね合わせ
て電離放射線を照射し、次いで凹凸模様形成用シートの
電離放射線透過性シートを剥離して未硬化の電離放射線
硬化性樹脂を該透過性シートに付着せしめて除去して凹
部を形成し、一方,硬化した電離放射線硬化性樹脂層よ
りなる凸部を形成し、該凹部および凸部からなる凹凸模
様を形成する方法を採用したことにより、シャープで美
麗な凹凸模様を容易に形成することができる。
また本発明によれば、凹凸模様形成用シートに着色層
を設けることにより着色を施した美麗な凸部を得ること
ができる。さらに、凹部に残留した未硬化の電離放射線
硬化性樹脂を硬化させて堅牢な凹凸模様を得ることがで
き、しかも透明又は半透明の樹脂層を設けて凹凸模様の
表面保護を図ることができ、この表面保護として凹凸模
様形成後に更に電離放射線硬化性樹脂を塗布形成するこ
とによっても同様の効果が得られる。
さらに本発明は上記の如き凹凸模様の形成を、電離放
射線硬化性樹脂に対する重合禁止剤を含有した樹脂から
なるパターン層を設け、また必要に応じて着色を設けた
凹凸模様形成用シートを用いることにより容易に成し得
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の凹凸模様形成用シートの一例を示す縦
断面図、第2図〜第4図、第5図〜第7図は本発明方法
のそれぞれの各工程を示す縦断面図である。 1……凹凸模様形成用シート 2……電離放射線透過性シート 3……パターン層 4……着色層 5……電離放射線硬化性樹脂層 6……凹凸模様形成用基材 7……電離放射線 9……硬化部

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記(a)〜(d)の工程を順に行うこと
    を特徴とする凹凸模様を形成する方法。 (a)表面が剥離性を有する電離放射線透過性シートの
    剥離性面に、電離放射線硬化性樹脂に対する重合禁止剤
    を含有した樹脂からなるパターン層を設けた凹凸模様形
    成用シートを準備する工程。 (b)電離放射線硬化性樹脂層を介して、上記凹凸模様
    形成用シートと凹凸模様形成用基材とをパターン層が上
    記樹脂層と接するように重ね合わせる工程。 (c)電離放射線を照射して上記パターン層のない部分
    に相当する電離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。 (d)電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬
    化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに
    付着させて除去すると共に、硬化部を形成する工程。
  2. 【請求項2】下記(a)〜(d)の工程を順に行うこと
    を特徴とする凹凸模様を形成する方法。 (a)凹凸模様形成用基材の片面に、電離放射線硬化性
    樹脂に対する重合禁止剤を含有した樹脂からなるパター
    ン層を設ける工程。 (b)電離放射線硬化性樹脂層を介して、上記凹凸模様
    形成用基材と表面が剥離性を有する電離放射線透過性シ
    ートからなる凹凸模様形成用シートとを、パターン層が
    上記樹脂層と接するように重ね合わせる工程。 (c)電離放射線を照射して上記パターン層のない部分
    に相当する電離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。 (d)電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬
    化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに
    付着させて除去すると共に、硬化部を形成する工程。
  3. 【請求項3】凹凸模様形成用シートにおける電離放射線
    透過性シートの剥離性面に着色層を設けて、表面に着色
    層が密着した硬化部を形成する請求項1又は2記載の凹
    凸模様を形成する方法。
  4. 【請求項4】凹凸模様形成用基材上に残った未硬化の電
    離放射線硬化性樹脂を電離放射線照射にて硬化させる請
    求項1、2又は3記載の凹凸模様を形成する方法。
  5. 【請求項5】全体に更に透明若しくは半透明の樹脂層を
    形成する請求項4記載の凹凸模様を形成する方法。
  6. 【請求項6】全体に更に電離放射線硬化性樹脂層を形成
    する請求項1、2又は3記載の凹凸模様を形成する方
    法。
  7. 【請求項7】電離放射線硬化性樹脂層を凹凸模様形成用
    シート側又は凹凸模様形成用基材側に設けるか、或いは
    該シート及び基材の両方に設ける請求項1、2、3、4
    又は5記載の凹凸模様を形成する方法。
  8. 【請求項8】表面が剥離性を有する電離放射線透過性シ
    ートの剥離性面に、電離放射線硬化性樹脂に対する重合
    禁止剤を含有した樹脂からなるパターン層を設けたこと
    を特徴とする請求項1記載の凹凸模様を形成する方法に
    用いる凹凸模様形成用シート。
  9. 【請求項9】電離放射線透過性シートの剥離性面に着色
    層を設け、該着色層上にパターン層を設けた請求項8記
    載の凹凸模様形成用シート。
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