JP2762107B2 - １―置換―３―ヒドロキシピロリジンの製造方法 - Google Patents
１―置換―３―ヒドロキシピロリジンの製造方法Info
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- JP2762107B2 JP2762107B2 JP1080390A JP8039089A JP2762107B2 JP 2762107 B2 JP2762107 B2 JP 2762107B2 JP 1080390 A JP1080390 A JP 1080390A JP 8039089 A JP8039089 A JP 8039089A JP 2762107 B2 JP2762107 B2 JP 2762107B2
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- hydroxypyrrolidine
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は１−置換−３−ヒドロキシピロリジン類の製
造方法に関する。更に詳しくは、１−置換−３−ピロリ
ジノン類を水の存在下、水素化触媒としてラネー触媒を
用いて接触還元することによる１−置換−３−ヒドロキ
シピロリジン類の製造方法に関する。１−置換−３−ヒ
ドロキシピロリジノン類は医薬農薬等の合成原料として
有用な化合物である。
造方法に関する。更に詳しくは、１−置換−３−ピロリ
ジノン類を水の存在下、水素化触媒としてラネー触媒を
用いて接触還元することによる１−置換−３−ヒドロキ
シピロリジン類の製造方法に関する。１−置換−３−ヒ
ドロキシピロリジノン類は医薬農薬等の合成原料として
有用な化合物である。
（従来技術及び発明が解決しようとする問題点） 従来１−置換−３−ヒドロキシピロリジン類の製造方
法としては、例えば１−置換−３−ピロリジノン類をリ
チウムアルミニウムハイドライド又はソディウムボロハ
イドライド等の還元試薬で還元する方法等が知られてい
る（特開昭63−122658）。しかしながらこれらの方法で
は反応時の溶媒量が多く必要であり又後処理として中
和、抽出工程を必要とする。中和時には正確なPH調整を
行わないと蒸留の際、固化等の現象がみられ収率が低下
する。
法としては、例えば１−置換−３−ピロリジノン類をリ
チウムアルミニウムハイドライド又はソディウムボロハ
イドライド等の還元試薬で還元する方法等が知られてい
る（特開昭63−122658）。しかしながらこれらの方法で
は反応時の溶媒量が多く必要であり又後処理として中
和、抽出工程を必要とする。中和時には正確なPH調整を
行わないと蒸留の際、固化等の現象がみられ収率が低下
する。
これらのことよりソディウムボロハイドライド等の還
元試薬による方法は工業的に有利な方法とは言い難い。
元試薬による方法は工業的に有利な方法とは言い難い。
（課題を解決するための手段） 本発明は一般式［１］： ［式中、R1は炭素数１〜10の脂肪族炭化水素基、アラル
キル基、アリール基又は炭素数１〜５の低級アルコキシ
カルボニル基を示す。R2は水素原子又は炭素数１〜４の
低級アルキル基を示す］で示される１−置換−３−ピロ
リジノン類を水の存在下水素化触媒としてラネー触媒を
用い接触還元することを特徴とする一般式［２］： ［式中、R1及びR2は前記に同じ］で示される１−置換−
３−ヒドロキシピロリジン類の製造方法を提供するもの
である。
キル基、アリール基又は炭素数１〜５の低級アルコキシ
カルボニル基を示す。R2は水素原子又は炭素数１〜４の
低級アルキル基を示す］で示される１−置換−３−ピロ
リジノン類を水の存在下水素化触媒としてラネー触媒を
用い接触還元することを特徴とする一般式［２］： ［式中、R1及びR2は前記に同じ］で示される１−置換−
３−ヒドロキシピロリジン類の製造方法を提供するもの
である。
前記式［１］で示される１−置換−３−ピロリジノン
類に於いて、R1が炭素数１〜10の脂肪族炭化水素基を表
わすときにはR1は例えば、メチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R1
がアラルキル基又はアリール基を表わすときにはR1は例
えば、ベンジル基、クロルベンジル基、ブロモベンジル
基、フェネチル基、シンナモイル基等である。R1がアル
コキシカルボニル基を表わすときにはR1は例えば、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、tert−ブト
キシカルボニル基等である。R2が炭素数１〜４の低級ア
ルキル基を表わすときにはR2は例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基等の直鎖状又は分岐状のアルキ
ル基である。
類に於いて、R1が炭素数１〜10の脂肪族炭化水素基を表
わすときにはR1は例えば、メチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R1
がアラルキル基又はアリール基を表わすときにはR1は例
えば、ベンジル基、クロルベンジル基、ブロモベンジル
基、フェネチル基、シンナモイル基等である。R1がアル
コキシカルボニル基を表わすときにはR1は例えば、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、tert−ブト
キシカルボニル基等である。R2が炭素数１〜４の低級ア
ルキル基を表わすときにはR2は例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基等の直鎖状又は分岐状のアルキ
ル基である。
反応時に使用する水の量は１−置換−３−ピロリジノ
ン類に対し0.01−10重量倍、好ましくは0.1−３倍であ
る。反応は無有機溶媒で行なうことが望ましいが有機溶
媒を使用することもできる。この時反応に使用する溶媒
としてはメタノール、エタノール、イソプロパノール等
のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、シク
ロヘキサン等の炭化水素類を用いることができる。
ン類に対し0.01−10重量倍、好ましくは0.1−３倍であ
る。反応は無有機溶媒で行なうことが望ましいが有機溶
媒を使用することもできる。この時反応に使用する溶媒
としてはメタノール、エタノール、イソプロパノール等
のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、シク
ロヘキサン等の炭化水素類を用いることができる。
使用する溶媒が例えばベンゼン、トルエン等の炭化水
素類又は無溶媒のときには、反応系は有機層と水の分液
状態となっている。この状態でも反応はすみやかに進行
し目的物を収率良く与える。
素類又は無溶媒のときには、反応系は有機層と水の分液
状態となっている。この状態でも反応はすみやかに進行
し目的物を収率良く与える。
反応時に水を使用しない場合、例えばメタノール溶媒
のみで反応を行うと水素吸収速度は遅くさらに副反応
（目的物の脱水反応、縮合（２量化）反応）により高沸
生成物を生じ、目的物の収率は低いものとなる。この高
沸生成物は、反応系内に水が存在しないため、１度生成
した１−置換−３−ヒドロキシピロリジンが脱水、縮合
等を起こして生じたものと推定される。
のみで反応を行うと水素吸収速度は遅くさらに副反応
（目的物の脱水反応、縮合（２量化）反応）により高沸
生成物を生じ、目的物の収率は低いものとなる。この高
沸生成物は、反応系内に水が存在しないため、１度生成
した１−置換−３−ヒドロキシピロリジンが脱水、縮合
等を起こして生じたものと推定される。
本発明に於いて、水はケトンの還元反応を促進しさら
に生成した目的物の副反応を抑制するという２つの重要
な役割を担っている。
に生成した目的物の副反応を抑制するという２つの重要
な役割を担っている。
本反応に使用するラネー触媒としては好ましくはラネ
ーニッケル，ラネーコバルトである。ラネー触媒の量は
１−置換−３−ピロリジノン類に対し１ー50重量％，好
ましくは５ー30重量％である。
ーニッケル，ラネーコバルトである。ラネー触媒の量は
１−置換−３−ピロリジノン類に対し１ー50重量％，好
ましくは５ー30重量％である。
本反応における水素圧は常圧〜150kg/cm2好ましくは
５−60Kg/cm2である。
５−60Kg/cm2である。
次に反応温度は０ー150℃好ましくは20ー100℃であ
り、反応時間は反応温度、水の使用量、触媒量により適
宜選択することができるが通常0.5〜４時間である。
り、反応時間は反応温度、水の使用量、触媒量により適
宜選択することができるが通常0.5〜４時間である。
本発明方法において生成した１−置換−３−ヒドロキ
シピロリジン類の単離、精製は、反応終了後触媒のろ
別、溶媒及び水の留去を行なった後蒸留により容易に行
なうことができる。
シピロリジン類の単離、精製は、反応終了後触媒のろ
別、溶媒及び水の留去を行なった後蒸留により容易に行
なうことができる。
（実施例） 以下に実施例を示しさらに詳細に本発明を説明するが
本発明はそれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はそれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１ 容量１リッターの電磁攪拌式オートクレーブに１−ベ
ンジル−３−ピロリジノン175g、ラネーニッケル17.5g
を仕込みさらに水175gを加えた後、これに水素を導入お
よび加熱して50℃、40kg/cm2に昇温昇圧し、ついで当該
温度，該圧力を保ちながら水素の導入を続け接触還元反
応を行なった。水素吸収は水素導入開始後１時間で終了
した。
ンジル−３−ピロリジノン175g、ラネーニッケル17.5g
を仕込みさらに水175gを加えた後、これに水素を導入お
よび加熱して50℃、40kg/cm2に昇温昇圧し、ついで当該
温度，該圧力を保ちながら水素の導入を続け接触還元反
応を行なった。水素吸収は水素導入開始後１時間で終了
した。
反応終了後オートクレーブを室温まで冷却し、反応液
から触媒をろ別したのち、水を留去し残液を蒸留して１
−ベンジル−３−ヒドロキシピロリジン165.5g（収率9
3.4％）を得た。このものをガスクロマトグラフィーに
より分析したところ99.5％の純度であった。沸点:144〜
148℃/4mmHg 実施例２ 触媒をラネーコバルトとした他は実施例１と同様に反
応及び後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒドロキシピ
ロリジンを161.3g（収率91.0％）得た。
から触媒をろ別したのち、水を留去し残液を蒸留して１
−ベンジル−３−ヒドロキシピロリジン165.5g（収率9
3.4％）を得た。このものをガスクロマトグラフィーに
より分析したところ99.5％の純度であった。沸点:144〜
148℃/4mmHg 実施例２ 触媒をラネーコバルトとした他は実施例１と同様に反
応及び後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒドロキシピ
ロリジンを161.3g（収率91.0％）得た。
実施例３ 水の量を17.5gとした他は実施例１と同様に反応およ
び後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒドロキシピロリ
ジンを160.4g（収率90.5％）得た。
び後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒドロキシピロリ
ジンを160.4g（収率90.5％）得た。
実施例４ 溶媒としてメタノール87gを加えた他は実施例１と同
様に反応および後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒド
ロキシピロリジン152.1g（収率85.8％）を得た。
様に反応および後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒド
ロキシピロリジン152.1g（収率85.8％）を得た。
実施例５ 溶媒としてトルエン87gを加えた他は実施例１と同様
に反応および後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒドロ
キシピロリジン144.8g（収率85.8％）を得た。
に反応および後処理を行ない１−ベンジル−３−ヒドロ
キシピロリジン144.8g（収率85.8％）を得た。
実施例６ １−ベンジル−３−ピロリジノンのかわりに１−ブチ
ル−３−ピロリジノン141g（１モル）を用いラネーニッ
ケル14.1g、水141gとした他は実施例１と同様に反応お
よび後処理を行なった。目的物である１−ブチル−３−
ヒドロキシピロリジンを121.6g（収率85％）で得た。
ル−３−ピロリジノン141g（１モル）を用いラネーニッ
ケル14.1g、水141gとした他は実施例１と同様に反応お
よび後処理を行なった。目的物である１−ブチル−３−
ヒドロキシピロリジンを121.6g（収率85％）で得た。
実施例７ １−ベンジル−３−ピロリジノンのかわりに１−カル
ボエトキシ−３−ピロリジノン157g（１モル）を用いラ
ネーニッケル15.7g、水157gとした他は実施例１と同様
に反応および後処理を行なった。目的物である１−カル
ボエトキシ−３−ヒドロキシピロリジンを130.5g（収率
85％）で得た。
ボエトキシ−３−ピロリジノン157g（１モル）を用いラ
ネーニッケル15.7g、水157gとした他は実施例１と同様
に反応および後処理を行なった。目的物である１−カル
ボエトキシ−３−ヒドロキシピロリジンを130.5g（収率
85％）で得た。
比較例１ 溶媒としてメタノール177gを用い、水を共存させない
条件にしたほかは実施例１と同様に反応および後処理を
行なった。水素吸収は３時間程度継続したが終点は明確
ではなかった。１−ベンジル−３−ヒドロキシピロリジ
ン81.1g（収率45.7％）を得た他に高沸生成物43.9gと若
干の原料を回収した。
条件にしたほかは実施例１と同様に反応および後処理を
行なった。水素吸収は３時間程度継続したが終点は明確
ではなかった。１−ベンジル−３−ヒドロキシピロリジ
ン81.1g（収率45.7％）を得た他に高沸生成物43.9gと若
干の原料を回収した。
比較例２ 溶媒をトルエンにかえた他は比較例１と同様に反応お
よび後処理を行なったが、水素の吸収はみられず原料を
回収した。
よび後処理を行なったが、水素の吸収はみられず原料を
回収した。
（発明の効果） 本発明によれば、医薬、農薬等の原体、中間体の合成
原料として有用な１−置換−３−ヒドロキシピロリジン
類を煩雑な後処理をすることなく容易に、高純度かつ収
率よく製造することができる。
原料として有用な１−置換−３−ヒドロキシピロリジン
類を煩雑な後処理をすることなく容易に、高純度かつ収
率よく製造することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式［１］： ［式中、R1は炭素数１〜10の脂肪族炭化水素基、アラル
キル基、アリール基又は炭素数１〜５の低級アルコキシ
カルボニル基を示す。R2は水素原子又は炭素数１〜４の
低級アルキル基を示す］で示される１−置換−３−ピロ
リジノン類を水の存在下水素化触媒としてラネー触媒を
用いて接触還元することを特徴とする 一般式［２］： ［式中、R1及びR2は前記に同じ］で示される１−置換−
３−ヒドロキシピロリジン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1080390A JP2762107B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | １―置換―３―ヒドロキシピロリジンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1080390A JP2762107B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | １―置換―３―ヒドロキシピロリジンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02258763A JPH02258763A (ja) | 1990-10-19 |
| JP2762107B2 true JP2762107B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=13716962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1080390A Expired - Fee Related JP2762107B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | １―置換―３―ヒドロキシピロリジンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2762107B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-30 JP JP1080390A patent/JP2762107B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02258763A (ja) | 1990-10-19 |
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Legal Events
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