JP2754972B2

JP2754972B2 - Ｉｃの低温ハンドリング装置

Info

Publication number: JP2754972B2
Application number: JP3234069A
Authority: JP
Inventors: 昭人田邉
Original assignee: Nippon Electric Co Ltd
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1991-08-21
Filing date: 1991-08-21
Publication date: 1998-05-20
Anticipated expiration: 2013-05-20
Also published as: JPH0552904A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＩＣ（集積回路）の低
温選別工程において、自動的にＩＣの電気的測定を行う
ためのＩＣテストシステムに関し、特に、低温測定を行
うＩＣのハンドリング装置（以下、低温ハンドラと称
す）に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の低温ハンドラにおいて
は、恒温槽出入口の着霜を防ぐために、恒温槽出入口の
恒温槽内側に物理的シャッターを、恒温槽出入口の中間
位置に窒素ガスシャッターをそれぞれ設置し、更に恒温
槽出入口の中間位置から外側にかけてヒータを敷設する
ことで対応していた。

【０００３】また、恒温槽内の着霜については、先に挙
げた物理的シャッターをＩＣの供給・収納時には開く必
要があり、このときに外気が恒温槽内に流入すると問題
となるが、これに対しては、先の窒素ガスシャッターと
恒温槽内の圧力を外気より高くすることで対応してい
た。

【０００４】次に、従来例の低温ハンドラを図１０の概
略平面図により説明する。まず、供給部ローダ１にＩＣ
の入ったトレー２が収納され、供給・収納トランスファ
５に取付けられたハンド部７のチャッキング部６によ
り、ＩＣを１個チャッキングし供給・収納ステージ８ま
で搬送し、そこに置く。

【０００５】一方、供給部ローダ１の一番上のトレー２
が空となると、供給・収納トランスファ５のチャッキン
グ部６によりチャッキングし、空トレー待機部ローダ・
アンローダ３まで搬送し、そこに収納する。

【０００６】次に、恒温槽トランスファ９に取付けられ
たハンド部１１のチャッキング部１０により供給・収納
ステージ８にあるＩＣをチャッキングし、恒温槽出入口
１２を遮断している恒温槽出入口シャッター１３を開い
た後、先にチャッキングしたＩＣをターンテーブル１５
まで搬送し、そこに置く。

【０００７】この後、中継ステージ２２に測定済のＩＣ
がある場合、恒温槽トランスファ９のチャッキング部１
０により、そこにあるＩＣを吸着し、供給・収納ステー
ジ８まで搬送し、そこに置く。恒温槽トランスファ９の
ハンド部１１が恒温槽４１外に待避すると、恒温槽出入
口シャッター１３が恒温槽出入口１２を再び遮断する。

【０００８】ここで、恒温槽出入口１２の着霜対策の説
明を行うと、恒温槽出入口１２の内側に設けた物理的シ
ャッター１３と恒温槽出入口１２の中間位置に設けた窒
素ガス（露点温度が−６０℃以下であれば、乾燥空気で
代用する場合もある）供給口２９ａ，２９ｂより供給さ
れる窒素ガスによる窒素ガスシャッターにより恒温槽４
１内の冷気と外気とを分離すると共に、恒温槽出入口１
２の中間位置から外側にかけて設けたヒータ１４ａ，１
４ｂによる加熱によって、恒温槽出入口１２の着霜を防
止している。

【０００９】次に、ターンテーブル１５に置かれたＩＣ
は、冷却されながら、図示されていない駆動機構によ
り、インデックス送りされ、元の位置まで戻ってくる。
尚、ＩＣは、テーンテーブル１５上を一周する間に所定
の温度まで冷却される。

【００１０】一方、外部より供給される液体窒素を液体
窒素供給口２７より恒温槽４１内に取り入れ、液体窒素
が気化するときの気化熱を利用し、恒温槽４１内のエア
を冷却し、これを撹拌用ファン３０により撹拌し、恒温
槽４１内を均一に冷却する構造となっている。また、窒
素ガス供給口２８より恒温槽４１内に窒素ガスを取り入
れ、恒温槽４１内の圧力を外気より高くなるようにし
て、恒温槽出入口シャッター１３が開かれたとき、恒温
槽４１内に外気が流入しない構造にし、恒温槽４１内の
着霜防止も行っている。

【００１１】次に、測定部トランスファ１６に取付けら
れたハンド部１８のチャッキング部１７によりターンテ
ーブル１５にあるＩＣをチャッキングし、ＩＣソケット
（測定部）２１まで搬送し、そこに置く。コンタクト機
構１９に取付けられたプッシャー部２０により、ＩＣソ
ケット２１上のＩＣとＩＣソケット２１（ＩＣソケット
２１は、図示されていない測定器と電気的に接続されて
いる）との接触を取り、この状態で、図示されていない
測定器によりＩＣの電気的測定を行う。

【００１２】測定が終了すると、プッシャー部２０が上
昇し、測定部トランスファ１６のチャッキング部１７に
より、ＩＣソケット２１上の測定済のＩＣをチャッキン
グし、中継ステージ２２まで搬送し、そこに置く。それ
から、測定部トランスファ１６は再び、ターンテーブル
１５上のＩＣをチャッキングし、ＩＣソケット２１まで
搬送し、そこに置く。

【００１３】中継ステージ２２に置かれたＩＣは、恒温
槽トランスファ９のチャッキング部１０が供給・収納ス
テージ８上のＩＣをターンテーブル１５にセットした後
で、中継ステージ２２上にあるＩＣをチャッキングし、
供給・収納ステージ８まで搬送し、そこに置く。

【００１４】次に、供給・収納ステージ８に置かれたＩ
Ｃは、供給・収納トランスファ５のチャッキング部６に
よりチャッキングされ、測定結果に基づき、良品収納部
アンローダ２３上のトレー２４又は不良品収納部アンロ
ーダ２５上のトレー２６に分類収納される。

【００１５】一方、良品収納部アンローダ２３の一番上
のトレー２４、又は不良品収納部アンローダ２５の一番
上のトレーが満杯となると、供給・収納トランスファ５
のチャッキング部６により、空トレー待機部ローダ・ア
ンローダ３の一番上の空トレー４をチャッキングし満杯
となったアンローダ部に空トレーをセットする。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の低温ハ
ンドラで、恒温槽出入口及び恒温槽内の着霜を完全に防
止するためには、高圧力で、かつ多量の窒素ガスが必要
である。

【００１７】これに対応すると、ＩＣの低温測定時に多
量の窒素ガスが消費されると共に、恒温槽内に多量の窒
素ガスが供給されるので、これを冷却するために多量の
液体窒素も必要となり、ＩＣの選別コストが極めて高い
ものになるという欠点がある。

【００１８】また、恒温槽内へのＩＣの供給・収納時に
は、恒温槽出入口の物理的シャッターを開く必要があ
り、このとき、多量の冷気が恒温槽出入口より排出さ
れ、ＩＣのローダ部，アンローダ部にこの冷気が及び、
水滴等の付着が発生し、ローダ部，アンローダ部の動作
異常を引き起こしたり、ＩＣの外観不良を引き起こした
りするという欠点もある。

【００１９】一方、高圧力で、かつ多量の窒素ガスを使
用できない場合（一般には、この条件で使用されてい
る）には、恒温槽出入口が外気の影響を受け、物理的シ
ャッターが着霜により正常に動作しなくなったり、恒温
槽出入口の物理的シャッターが開いているときに外気が
恒温槽内に及び、恒温槽内に着霜が発生し測定不能にな
ったりして、長時間の使用が不可能（−５５℃の低温測
定においては、連続運転で６時間が限度である）とな
り、実際の低温測定においては、恒温槽内の乾燥（恒温
槽内を一旦高温状態にして乾燥させる）が定期的に必要
となり、ロス時間が発生し、低温測定での稼働率が悪く
なり、ひいては生産性が落ちるという欠点があった。

【００２０】本発明の目的は、前記課題を解決したＩＣ
の低温ハンドリング装置を提供することにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係るＩＣの低温ハンドリング装置において
は、恒温槽内への製品の供給・収納を行う恒温槽出入口
を遮断するシャッター機構をもつＩＣの低温ハンドリン
グ装置であって、前記恒温槽出入口を遮断する恒温槽の
内側に設けた第１のシャッター機構と、前記恒温槽出入
口を遮断する恒温槽の外側に設けた第２のシャッター機
構と、恒温槽内への製品の供給・収納を行うハンド部に
設けた前記出入口を遮断可能な遮断ブロックと、前記恒
温槽出入口に接続して設け該出入口の断面形状と同一の
中空をもつ中空ブロックと、第１のシャッター機構と第
２のシャッター機構と恒温槽出入口とにより形成される
第１の閉空間に対する窒素ガス供給機能及び窒素ガス排
出機能をもつ手段と、第２のシャッター機構と前記ハン
ド部の遮断ブロックと前記中空ブロックとにより形成さ
れる第２の閉空間に対する窒素ガス供給機能及び窒素ガ
ス排出機能をもつ手段と、恒温槽内の圧力を一定に保つ
機能をもつ手段とを有するものである。

【００２２】また、前記第１の閉空間に対する窒素ガス
供給機能をもつ手段は、供給する窒素ガスを高温窒素ガ
スと低温窒素ガスとに切換え可能な機能を有するもので
ある。

【００２３】また、第１のシャッター機構と第２のシャ
ッター機構との開閉動作を、第１の閉空間と第２の閉空
間をそれぞれ形成するときの恒温槽内への製品の供給・
収納を行うハンド部の停止位置の検出機能により行うも
のである。

【００２４】

【作用】本発明では、恒温槽と外部とが常に遮断される
構造とし、恒温槽内への製品・収納時における恒温槽内
への外気の流入及び恒温槽内から冷気が外部に直接排出
されることがない構造としたものである。

【００２５】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面により説明す
る。

【００２６】（実施例１）図１は、本発明の実施例１の
概略平面図である。

【００２７】図において、本実施例では、従来の低温ハ
ンドラに対して異なる点は、恒温槽出入口１２の物理的
シャッターを恒温槽出入口１２の内側だけでなく、外側
にも設けた点、恒温槽トランスファ９のハンド部１１に
恒温槽出入口１２を遮断できる遮断ブロック１１ａを設
けた点、恒温槽出入口１２に接続して恒温槽出入口１２
の断面形状と同一の中空を持つ中空ブロック４２を設け
た点、恒温槽出入口１２に対する窒素ガスの供給を低温
窒素ガス（冷却ユニット３１より得る）と高温窒素ガス
（加熱ユニット３２より得る）とに切換える電磁弁３４
を設けた点、中空ブロック４２内に対する窒素ガス供給
口２９ａを設けた点、恒温槽出入口１２内又は中空ブロ
ック１１ａ内に閉空間が形成されたときに閉空間内が所
定圧力以上となると外部に対してリークできるリーク弁
を設けた点及び恒温槽４１内を一定圧力に保つ圧力調整
ユニットを設けた点にある。

【００２８】図２は、図１中の恒温槽４１内に設けた冷
却ユニット３１内の概略図を示し、配管６１ａ，６１ｂ
がスパイラル状に設けられており、外部より供給される
窒素ガスをこの中に流すことにより、低温の窒素ガスを
得ることができる。

【００２９】また、冷却ユニット３１内には２本の配管
６１ａ，６１ｂがあるが、この内の右側の１本が恒温槽
出入口１２内に対する低温窒素ガスの供給用配管６１
ｂ、左側の１本が恒温槽４１内の圧力を高めるための低
温窒素ガス供給用配管６１ａである。

【００３０】恒温槽４１内に供給する窒素ガスを低温と
するのは、外部より供給する窒素ガスによって、恒温槽
４１内の温度が上がり、恒温槽４１内に対する液体窒素
の供給量が増えるのを防ぐためである。

【００３１】図３は、図１中の恒温槽４１外に設けた加
熱ユニット３２内の概略図を示し、配管６２がスパイラ
ル状に設けられており、この配管６２の表面を面ヒータ
６３が覆い、加熱を行っている。

【００３２】加熱ユニット３２に対して外部より窒素ガ
スを供給すると、高温窒素ガスを得ることができ、これ
を恒温槽出入口１２内に対する高温窒素ガス供給用に用
いる。

【００３３】図４は、図１中の圧力調整ユニット３３の
概略図を示し、恒温槽４１内の圧力を検出する圧力メー
タ６４、恒温槽４１内の圧力が所定以上となると、外部
に対してリークするリーク弁６５、リークした冷気をス
パイラル配管６６（配管の表面を面ヒータ６７で覆うこ
とにより、冷気を室温に戻してから外部へ排出する［排
出部が着霜しないようにするため］）。このユニット３
３内で冷気が流れる配管類は着霜対策として断熱剤６８
で覆われている。

【００３４】図５は、図１中のリーク弁３５，３６を示
し、恒温槽出入口１２内と中空ブロック４２内の圧力が
閉空間を形成したときに所定圧力以上になると、外部に
対してリークできるリーク弁６９を内蔵している。

【００３５】そして、恒温槽出入口１２用に使用するも
のには、リーク弁６９の周りをヒータブロック７０が覆
い、恒温槽出入口１２内より冷気が排出される場合、室
温に戻してから外部へ排出する（排出部が着霜しないよ
うにするため）。

【００３６】図６は、恒温槽出入口１２の周り及び恒温
槽４１内の圧力を一定に保つ制御ブロック図である。

【００３７】図７は、恒温槽出入口１２の周りを示し、
恒温槽トランスファ９が、恒温槽出入口シャッター１３
ｂと中空ブロック４２と恒温槽トランスファ９ハンド部
１１の遮断ブロック１１ａとで閉空間を形成したときの
停止位置を示し（図６において、恒温槽トランスファ９
の停止位置検出センサー７２ｂがＯＮされる）、図８は
恒温槽トランスファ９が、恒温槽出入口シャッター１３
ａと恒温槽出入口１２と恒温槽トランスファ９のハンド
部１１の遮断ブロック１１ａとで閉空間を形成したとき
の停止位置を示す（図６において、恒温槽トランスファ
９の停止位置検出センサー７２ａがＯＮされる）。

【００３８】次に、本低温のハンドラの動作説明を行
う。まず、供給部ローダ１にＩＣの入ったトレー２が収
納され、供給・収納トランスファ５に取付けられたハン
ド部７のチャッキング部６により、ＩＣを１個チャッキ
ングし、供給・収納ステージ８まで搬送し、そこに置
く。

【００３９】一方、供給部ローダ１の一番上のトレー２
が空になると、供給・収納トランスファ５のチャッキン
グ部６によりチャッキングし、空トレー待機部ローダ・
アンローダ３まで搬送し、そこに収納する。

【００４０】次に、恒温槽トランスファ９に取付けられ
たハンド部１１のチャッキング部１０により供給・収納
ステージ８にあるＩＣをチャッキングし、図７に示す位
置まで恒温槽トランスファ９が移動する。

【００４１】このとき、中空ブロック４２内に閉空間が
形成されると共に、恒温槽トランスファ９の停止位置検
出センサー７２ｂがＯＮされ、これにより窒素ガスＯＮ
／ＯＦＦ電磁弁７４がＯＮされ、窒素ガス供給口２９ａ
より、窒素ガスが中空ブロック４２内の閉空間に対して
供給され、この閉空間内を窒素ガスに置き換えると共に
ＩＣ１００の乾燥も併せて行う。

【００４２】そして、この閉空間内の湿度検出センサー
７８が所定湿度を検出すると、窒素ガスの供給が停止さ
れ、次いで、シャッター駆動用シリンダー用電磁弁７３
ｂがＯＮすることにより、恒温槽出入口シャッター１３
ｂが開かれる。

【００４３】次に、恒温槽トランスファ９は、図８に示
す位置まで移動する。このとき、恒温槽出入口１２内に
閉空間が形成されると共に、恒温槽トランスファ９の停
止位置検出センサー７２ａがＯＮされ、これにより高温
／低温窒素ガス切換え電磁弁３４がＯＮされ、冷却ユニ
ット３１より供給される低温窒素ガスを恒温槽出入口１
２内の閉空間に対して供給され、この閉空間内を低窒素
ガスに置き換える。

【００４４】そして、この閉空間内の温度検出センサー
の検出温度及び湿度検出センサーの検出湿度が所定温度
及び湿度に達すると、低温窒素ガスの供給が停止され、
シャッター駆動用シリンダー用電磁弁７３ａがＯＮする
ことにより、恒温槽出入口シャッター１３ａが開かれる
（恒温槽出入口シャッター１３ａが開かれている間は、
常に恒温槽出入口１２が恒温槽トランスファ９のハンド
部１１の遮断ブロック１１ａにより遮断されている）。

【００４５】それから、恒温槽トランスファ９のチャッ
キング部１０がチャッキングしているＩＣをターンテー
ブル１５まで搬送し、そこに置く。この後、中継ステー
ジ２２に測定済のＩＣがある場合、恒温槽トランスファ
９のチャッキング部１０により、そこにあるＩＣを吸着
し、図８に示す位置まで恒温槽トランスファ９が移動す
る。

【００４６】このとき、恒温槽トランスファ９の停止位
置検出センサー７２ａがＯＮされ、これにより恒温槽出
入口シャッター１３ａが閉じられ、高温／低温窒素ガス
切換え電磁弁３４がＯＮされ、加熱ユニット３２より供
給される高温窒素ガスが恒温槽出入口１２内の閉空間に
対して供給され、この閉空間内を高温窒素ガスに置き換
えると共にＩＣ１００の乾燥も併せて行う。

【００４７】そして、この閉空間内の温度検出センサー
の検出温度及び湿度検出センサーの検出湿度が所定温度
及び湿度に達すると、高温窒素ガスの供給が停止され
る。

【００４８】次に、恒温槽トランスファ９が図７の位置
まで移動する。このとき、恒温槽トランスファ９の停止
位置検出センサー７２ｂがＯＮされ、これにより恒温槽
出入口シャッター１３ｂが閉じられ、中空ブロック４２
内に閉空間が形成される。

【００４９】それから、窒素ガスＯＮ／ＯＦＦ電磁弁７
４がＯＮされ、窒素ガス供給口２９ａより、窒素ガスが
中空ブロック４２内の閉空間に対して供給され、この閉
空間内を窒素ガスに置き換える。

【００５０】そして、この閉空間内の湿度検出センサー
７８が所定湿度を検出すると、窒素ガスの供給が停止さ
れ、恒温槽トランスファ９のチャッキング部１０がチャ
ッキングしているＩＣを供給・収納ステージ８まで搬送
し、そこに置く。

【００５１】次に、ターンテーブル１５に置かれたＩＣ
は、冷却しながら、図示されていない駆動機構により、
インデックス送りされ、元の位置まで戻ってくる。尚、
ＩＣは、ターンテーブル１５上を一周する間に所定の温
度まで冷却される。

【００５２】一方、外部より供給される液体窒素を液体
窒素供給口２７より恒温槽４１内に取り入れ、液体窒素
が気化するときの気化熱を利用し、恒温槽４１内のエア
を冷却し、これを撹拌用ファン３０により撹拌し、恒温
槽４１内を均一に冷却する構造となっている。

【００５３】また、恒温槽トランスファ９のハンド部１
１の遮断ブロック１１ａが恒温槽４１内に出入りすると
きに恒温槽４１内の圧力が変化するが、圧力が上昇した
場合は、圧力調整ユニット３３内のリーク弁６５が外気
に対して、余分な圧力分をリークし、所定圧力を保つ。

【００５４】一方、圧力が低下した場合は、圧力調整ユ
ニット３３内の圧力メータ６４により低下した圧力を検
出し、これにより、窒素ガス供給ＯＮ／ＯＦＦ電磁弁７
９をＯＮし、冷却ユニット３１より低温窒素ガスが恒温
槽４１内に供給され低下した圧力分を補うと、再び、低
温窒素ガスの供給は停止される。

【００５５】次に、測定部トランスファ１６に取付けら
れたハンド部１８のチャッキング部１７によりターンテ
ーブル１５にあるＩＣをチャッキングし、ＩＣソケット
（測定部）２１まで搬送し、そこに置く。そして、コン
タクト機構１９に取付けられたプッシャー部２０によ
り、ＩＣソケット２１上のＩＣとＩＣソケット２１（Ｉ
Ｃソケット２１は、図示されていない測定器と電気的に
接続されている）との接触を取り、この状態で、図示さ
れていない測定器によりＩＣの電気的測定を行う。

【００５６】測定が終了すると、プッシャー部２０が上
昇し、測定部トランスファ１６のチャッキング部１７に
より、ＩＣソケット２１上の測定済のＩＣをチャッキン
グし、中継ステージ２２まで搬送し、そこに置く。それ
から、測定部トランスファ１６は再び、ターンテーブル
１５上のＩＣをチャッキングし、ＩＣソケット２１まで
搬送し、そこに置く。

【００５７】中継ステージ２２に置かれたＩＣは、恒温
槽トランスファ９のチャッキング部１０が供給・収納ス
テージ８上のＩＣをターンテーブル１５にセットした後
で、中継ステージ２２上にあるＩＣをチャッキングし、
供給・収納ステージ８まで搬送し、そこに置く。

【００５８】次に、供給・収納ステージ８に置かれたＩ
Ｃは、供給・収納トランスファ５のチャッキング部６に
よりチャッキングされ、測定結果に基づき、良品収納部
アンローダ２３上のトレー２４又は不良品収納部アンロ
ーダ２５上のトレー２６に分類収納される。

【００５９】一方、良品収納部アンローダ２３の一番上
のトレー２４、又は不良品収納部アンローダ２５の一番
上のトレー２６が満杯となると、供給・収納トランスフ
ァ５のチャッキング部６により、空トレー待機部ローダ
・アンローダ３の一番上の空トレー４をチャッキングし
満杯となったアンローダ部に空トレーをセットする。

【００６０】（実施例２）図９は、本発明の実施例２に
おける恒温槽出入口１２の周り及び恒温槽４１内の圧力
を一定に保つ制御ブロック図である。

【００６１】本実施例において、実施例１との違いは、
恒温槽出入口シャッター１３ａ，１３ｂの開閉タイミン
グを温度センサーと湿度センサーにより行っていた所を
恒温槽トランスファ９の停止位置センサー７２ａ，７２
ｂがＯＮされてからの時間により、制御するようにした
ものである。

【００６２】

【発明の効果】以上のように本発明は、恒温槽と外部と
が常に遮断される構造とし、恒温槽内への製品の供給・
収納時における恒温槽内への外気の流入及び恒温槽内か
らの冷気が外部に直接排出されることがない構造とする
ことにより、恒温槽内及び恒温槽出入口の着霜を完全に
防止することができ、長時間安定した低温測定ができる
ので、低温測定における稼働率が上がり、低温測定の生
産性を向上させることができるという効果がある。

【００６３】また、恒温槽内への製品供給時の製品の乾
燥及び恒温槽内からの製品の収納時の製品の乾燥を行う
ことにより、低温測定した製品の露結を防止できるの
で、低温測定した製品の外観不良を防止できるという効
果もある。

【００６４】更に、恒温槽出入口の恒温槽内と外部とに
囲まれた閉空間の容積を小さくすると共に恒温槽内の圧
力を上げる窒素ガスを低温にして供給することにより、
恒温槽出入口と恒温槽内に対して供給する窒素ガスの使
用量及び恒温槽内の冷却を行う液体窒素の使用量を少な
くすることができるので、低温測定での生産コストを低
く押さえることができるという効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１を示す概略平面図である。

【図２】図１中の冷却ユニットの概略図である。

【図３】図１中の加熱ユニットの概略図である。

【図４】図１中の圧力調整ユニットの概略図である。

【図５】図１中のリーク弁を示す図である。

【図６】恒温槽出入口の周りと恒温槽内の圧力を一定に
保つ制御ブロック図である。

【図７】第２の閉空間が中空ブロック内で形成される概
略平面図である。

【図８】第１の閉空間が恒温槽出入口内で形成される概
略平面図である。

【図９】本発明の実施例２における恒温槽出入口の周り
と恒温槽内の圧力を一定に保つ制御ブロック図である。

【図１０】従来例の概略平面図である。

【符号の説明】

１供給部ローダ２トレー３空トレー待機部ローダ・アンローダ４トレー５供給・収納トランスファ６チャッキング部７ハンド部８供給・収納ステージ９恒温槽トランスファ１０チャッキング部１１ハンド部１１ｂ遮蔽ブロック１２恒温槽出入口１３恒温槽出入口シャッター１３ａ恒温槽出入口シャッター１３ｂ恒温槽出入口シャッター１４ａ，１４ｂヒータ１５ターンテーブル１６測定トランスファ１７チャッキング部１８ハンド部１９コンタクト機構２０プッシャー部２１ＩＣソケット２２中継ステージ２３良品収納部アンローダ２４トレー２５不良品収納部アンローダ２６トレー２７液体窒素供給口２８，２９ａ，２９ｂ，２９ｃ窒素ガス供給口３０撹拌用ファン３１冷却ユニット３２加熱ユニット３３圧力調整ユニット３４高温／低温窒素ガス切換え電磁弁３５，３６リーク弁４０ハンドラベース４１恒温槽４２中空ブロック６１ａ，６１ｂ，６２配管６３面ヒータ６４圧力メータ６５リーク弁６６配管６７面ヒータ６８断熱材６９リーク弁７０加熱ブロック（又はブロック）７１制御部７２ａ，７２ｂ停止位置検出センサー７３ａ，７３ｂシャッター駆動用シリンダー７４ａ，７４ｂシリンダー用電磁弁７５，７９膣素ガスＯＮ／ＯＦＦ電磁弁７６温度検出センサー７７，７８湿度検出センサー１００ＩＣ

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】恒温槽内への製品の供給・収納を行う恒
温槽出入口を遮断するシャッター機構をもつＩＣの低温
ハンドリング装置であって、前記恒温槽出入口を遮断する恒温槽の内側に設けた第１
のシャッター機構と、前記恒温槽出入口を遮断する恒温槽の外側に設けた第２
のシャッター機構と、恒温槽内への製品の供給・収納を行うハンド部に設けた
前記出入口を遮断可能な遮断ブロックと、前記恒温槽出入口に接続して設け該出入口の断面形状と
同一の中空をもつ中空ブロックと、第１のシャッター機構と第２のシャッター機構と恒温槽
出入口とにより形成される第１の閉空間に対する窒素ガ
ス供給機能及び窒素ガス排出機能をもつ手段と、第２の
シャッター機構と前記ハンド部の遮断ブロックと前記中
空ブロックとにより形成される第２の閉空間に対する窒
素ガス供給機能及び窒素ガス排出機能をもつ手段と、恒温槽内の圧力を一定に保つ機能をもつ手段とを有する
ことを特徴とするＩＣの低温ハンドリング装置。
【請求項２】前記請求項１に記載のＩＣの低温ハンド
リング装置において、前記第１の閉空間に対する窒素ガス供給機能をもつ手段
は、供給する窒素ガスを高温窒素ガスと低温窒素ガスと
に切換え可能な機能を有することを特徴とするＩＣの低
温ハンドリング装置。
【請求項３】前記請求項１，２に記載のＩＣの低温ハ
ンドリング装置において、第１のシャッター機構と第２のシャッター機構との開閉
動作を、第１の閉空間と第２の閉空間をそれぞれ形成す
るときの恒温槽内への製品の供給・収納を行うハンド部
の停止位置の検出機能により行うことを特徴とするＩＣ
の低温ハンドリング装置。