JP2747462B2 - 結晶質窒化珪素粉末の製造法 - Google Patents
結晶質窒化珪素粉末の製造法Info
- Publication number
- JP2747462B2 JP2747462B2 JP3335546A JP33554691A JP2747462B2 JP 2747462 B2 JP2747462 B2 JP 2747462B2 JP 3335546 A JP3335546 A JP 3335546A JP 33554691 A JP33554691 A JP 33554691A JP 2747462 B2 JP2747462 B2 JP 2747462B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon nitride
- nitride powder
- nitrogen
- crystalline silicon
- amorphous silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Description
用な窒化珪素質焼結体の製造用原料として好適な粒状結
晶のみから成る高純度な結晶質窒化珪素粉末の製造法に
関するものである。
又は含窒素シラン化合物を不活性ガス雰囲気下又は還元
性ガス雰囲気下に焼成して、結晶質窒化珪素粉末を製造
する方法は、既に知られている。例えば、セラミック・
ブレティン57巻6号 (1978年) の 579〜 586頁には、モ
ノシラン−アンモニア系気相反応により生成した非晶質
窒化珪素粉末を加熱処理して結晶質窒化珪素粉末を合成
する方法が記載されている。同文献によれば、窒化珪素
の結晶化は非常に大きな発熱を伴う反応であって、非晶
質窒化珪素の圧粉体を加熱すると、1450℃付近から結晶
化熱によって赤熱状態となり、急激な温度上昇と共に結
晶化が数秒以内に完了してしまうことが報告されてい
る。その際、圧粉体はバラバラに砕けて粉化してしま
う。
には、四塩化ケイ素−アンモニア系気相反応により合成
した非晶質窒化珪素粉末を圧縮成形した後、1550〜
1750℃に焼成するという、繊維状結晶質窒化珪素よ
り成る物品の製造方法が開示されている。同公報によれ
ば非晶質窒化珪素の圧密成形物の嵩密度は0.1〜0.
8g/cm3 である。更に、米国ナショナル・テクニカル
・インフォーメイション・サービスのファイナル・アニ
ュアル・レポートA−C3316号報告書(1974年)には、
シリコンジイミドの熱分解により合成した非晶質窒化珪
素粉末をホットプレス焼結した場合の、緻密化及び結晶
化挙動が記載されている。同文献によれば、窒化珪素の
結晶化温度は含有不純物の影響で大幅に変動し、非晶質
窒化珪素の純度が高い程、結晶化温度は高くなってゆ
く。例えば、高純度な非晶質窒化珪素は1490℃で結
晶化したのに対して、塩素の残存した非晶質窒化珪素の
結晶化温度は1200℃にまで低下した。
の焼成により得られる結晶質窒化珪素粉末には、結晶化
時に針状結晶又は柱状結晶が多数生成する為に、充填密
度が低いという欠点があった。したがって、これを焼結
体原料として用いた場合には、嵩密度の低い成形体しか
得られないという問題があった。そこで、このような欠
点を解消すべく、微細な粒状結晶から成る結晶質窒化珪
素粉末を製造する方法が、種々提案されている。
イ素として0.1g/cm3 以上の粉体嵩密度を有する含
窒素シラン化合物を、1350〜1550℃の温度範囲
全域における昇温速度を15℃/分以上に制御して15
50℃以上1700℃未満にまで加熱することを特徴と
する窒化珪素粉末の製造方法が開示されている。この発
明によれば、針状結晶を含まない粒状結晶のみから成る
窒化珪素粉末を製造することができる。
うに、この発明は小規模な焼成実験の結果に基づくもの
であり、量産規模での粉末焼成を考えた場合には、解決
すべき問題点が残されている。即ち、窒化珪素の結晶化
の進行すると考えられる1350℃付近に非晶質窒化珪
素粉末を加熱すると、結晶化熱の発生により粉体層の温
度は著しく上昇して、昇温速度が数十〜数千℃/分とな
ってしまい、これを制御するには、種々の工夫を凝らさ
ねばならない。しかし、前記公報には、この問題点を解
決するための技術的手段については全く記載されていな
い。
の製造においては、結晶化時の発熱とその放散の制御方
法こそが、粒子形状及びサイズの制御された結晶質窒化
珪素粉末を得る上で、真に重要な技術的要件である。
し、結晶化時の伝熱制御を考慮した非晶質窒化珪素の焼
成条件を設定することにより、粒子形状及びサイズの一
定した高品質の結晶質窒化珪素粉末を低コストで大量に
生産できる新規な製造法を提供することにある。
珪素粉末及び/又は含窒素シラン化合物を窒素含有不活
性ガス雰囲気下又は窒素含有還元性ガス雰囲気下に連続
焼成炉を用いて焼成して、結晶質窒化珪素粉末を製造す
るに際し、非晶質窒化珪素粉末及び/又は含窒素シラン
化合物の充填率を焼成炉内容積の30%以下とし、14
00〜1700℃の温度で焼成することを特徴とする結
晶質窒化珪素粉末の製造法に関するものである。
は、シリコンジイミド、シリコンテトラアミド、シリコ
ンニトロゲンイミド、シリコンクロルイミド等が用いら
れる。これらは、公知方法、例えば、四塩化ケイ素、四
臭化ケイ素、四沃化ケイ素等のハロゲン化ケイ素とアン
モニアとを気相で反応させる方法、液状の前記ハロゲン
化ケイ素と液体アンモニアとを反応させる方法などによ
って製造される。また、非晶質窒化珪素粉末は、公知方
法、例えば、前記含窒素シラン化合物を窒素又はアンモ
ニアガス雰囲気下に600〜1200℃の範囲の温度で
加熱分解する方法、四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四沃
化ケイ素等のハロゲン化ケイ素とアンモニアとを高温で
反応させる方法などによって製造されたものが用いられ
る。非晶質窒化珪素粉末及び含窒素シラン化合物の平均
粒子径は、通常、0.005〜0.05μmである。
素とアルゴン、ヘリウム等の混合ガスが挙げられる。ま
た、窒素含有還元性ガスとしては、アンモニア、ヒドラ
ジン等の高温での熱分解により窒素ガスを放出するもの
又は窒素と水素、一酸化炭素等の混合ガスが挙げられ
る。
の最も大きな問題は、粉体層の伝熱が著しく悪くて、そ
の温度分布を制御することが困難であるという点にあっ
た。従来から行われてきた粉末を静置した坩堝内で焼成
する固定床焼成においては、この問題を解消するため
に、粉末層の厚みを薄くして、均熱を確保するなどの方
法が採られてきたが、生産性が悪くて焼成工程のコスト
アップの要因となるという難点があった。そこで、この
ような粉体層の伝熱状態自体を改善する方策を種々検討
した結果、原料粉末を顆粒状に成形して輻射伝熱による
熱伝達を増大させること、及び粉体層の流動化による顆
粒間の接触伝熱、顆粒と炉壁間との接触伝熱を有効に利
用することなどにより、粉体層の熱伝達を大幅に向上さ
せることが可能となることを見い出した。
び/又は含窒素シラン化合物(以下、被焼成物という)
をロータリーキルン炉、シャフトキルン炉、流動化焼成
炉等の連続焼成炉を用いて焼成する。このような連続焼
成炉は非晶質窒化珪素の結晶化反応に伴う発熱の効率的
な放散に対して、有効な手段である。特に、被焼成物の
充填率を焼成炉内容積の30%以下、好ましくは10〜
30%とすることが重要である。充填率が30%を越え
ると、粉体層の攪拌が十分起こらず、熱の移動が十分で
ないため、粉体層の温度が均一にならない。そのため、
粉体層の一部の焼成物が1400℃を超えると急激な結
晶化反応が進行するため、柱状結晶や棒状結晶を多数含
む結晶質窒化珪素粉末が生成するので好ましくない。
成形して、嵩密度0.3〜0.8g/cm3 、短軸径1mm
以上、かつ長軸径20mm以下の顆粒状物とすることが好
ましい。顆粒状物の寸法(例えば短軸径)が1mmよりも
小さくなると、顆粒間の隙間が小さくなり過ぎ、顆粒状
物集合体の伝熱が悪くなり、焼成時の顆粒間の温度分布
が拡大して、急激な発熱により針状結晶が生成し易くな
るので好ましくない。短軸径1mm以上、長軸径20mm以
下、好ましくは短軸径2.5mm以上、長軸径18mm以下
という適度な寸法の顆粒を使用すれば、伝熱状態が良好
で、結晶化熱の系外への放出もスムーズであり、発熱に
よる顆粒状物の急速昇温を最小限に止めることができ
る。その結果、微細な粒状結晶のみから成る結晶質窒化
珪素粉末が得られる。更に、顆粒状物の寸法(例えば長
軸径)が20mmよりも大きくなると、個々の顆粒状物内
部の温度分布が問題となってくる。即ち、結晶化熱によ
る顆粒状物内部の蓄熱が大きくなり過ぎる為に、温度が
上がり過ぎて、柱状結晶又は棒状結晶を多数含む結晶質
窒化珪素粉末が生成し、好ましくない。また、高温安定
相であるβ型窒化珪素の生成割合も増大してしまう。
g/cm3 である。顆粒状物の嵩密度が0.3g/cm3 よ
りも低くなると、顆粒の強度が弱く、崩壊して粉化し易
い為に、取扱い難いばかりでなく、焼成時に針状結晶が
生成し易くなるので好ましくない。また、嵩密度が0.
8g/cm3 を越える顆粒を成形する為には、5ton /cm
2以上の高圧力を必要とするので、実用的でない。
は、粉末をゴム型内に充填して等方的圧力を印加するラ
バープレス成形、金型に粉末を充填してピストンで加圧
するプレス成形又は打錠成形、穴付きロールで粉末を圧
縮して押し固めるブリケット成形など、種々の成形方法
を採用することができる。
度を0.15〜0.52g/cm3 とすること、及び顆粒
状物1個当りの圧壊強度を1〜50kg/cm2 とすること
が、本発明の効果をより顕著なものとする。本発明にお
いては、種々の形状の顆粒を使用する為に、その圧壊強
度を一義的に定式化することには無理がある。そこで本
発明においては、顆粒状物1個当りの圧壊荷重を、荷圧
軸に垂直な断面のうち最大断面積で除した値を顆粒1個
当りの圧壊強度と定義した。顆粒状物1個当りの圧壊強
度が1kg/cm2 より小さいと顆粒の強度が弱く、連続焼
成炉への供給時の機械的衝撃や充填荷重、高温焼成によ
り崩壊して粉化し易い為に取り扱いが困難となる。逆に
圧壊強度が50kg/cm2 以上だと焼成後に顆粒が強固に
固結してしまい均質な結晶質窒化珪素粉末が得られな
い、また、固着物の粉砕に手間がかかる、粉砕により不
純物が混入するなどの問題があり好ましくない。
るみ見掛け密度ともいい、サンプルをシュートを通じて
ゆっくりと測定用容器に落下させて、その重さと体積か
ら算出した値である。測定用容器は、通常50φ×50
Hmmのメスシリンダーが用いられるが、サンプルが大き
い場合には、それに応じて測定用容器も大きいものを用
いればよい。本発明における顆粒状物の軽装密度は0.
15〜0.52g/cm3 である。軽装密度0.15g/
cm3 は、顆粒単位の空間占有率として50%以下の充填
状態に対応する。軽装密度が0.15g/cm3 よりも小
さいと、伝熱状態は良好となるものの、生産性が低下す
る。また、実際上このような低密度な充填を行うことは
困難である。また、軽装密度0.52g/cm3 は、顆粒
単位の空間占有率として65%以上の充填状態に相当す
る。軽装密度が0.52g/cm3 よりも大きいと、充填
量が多くなるので、顆粒状物集合体の熱容量が大き過ぎ
るばかりでなく、密充填により顆粒間の隙間が小さくな
って、輻射による熱伝導度は低下する。したがって、熱
容量と熱伝導度とのバランスが崩れ、結晶化時の発熱が
大きくなって、柱状結晶又は棒状結晶を多数含む結晶質
窒化珪素粉末が生成するので好ましくない。
にあたり、その装置の最高温度は1400〜1700℃
である。最高温度が1500℃以下の場合には、同温度
領域に15〜60分間保持して、結晶化を完了させるこ
とが望ましい。最高温度が1400℃以下の場合には、
結晶化の進行が十分ではなく、焼成後の粉末中に多量の
非晶質窒化珪素が残存するので好ましくない。また、最
高温度が1700℃を越えると、粗大結晶が成長するば
かりでなく、生成した結晶質窒化珪素粉末の分解が始ま
るので好ましくない。
らに具体的に説明する。実施例及び比較例において、結
晶質窒化珪素粉末の結晶化度は、窯業協会誌93巻4号
(1985年)の 394〜397 頁に記載の加水分解試験によ
り、α型結晶含有率は、セラミック・ブレティン56巻9
号(1977年)の 777〜780 頁に記載のX線回折法に従っ
て算出し、比表面積は窒素ガス吸着法によるBET法で
測定した。また、プレス密度は、直径13mmの金型に粉
末0.65gを充填し、2ton/cm2 で加圧成形した後の
体積より求めた。
比表面積320m2/g、酸素量0.8wt%の非晶質窒
化珪素粉末を、ロータリーキルンの原料ホッパーに充填
した。
r以下に真空脱気後、窒素ガスを導入し、窒素ガス流通
下で炉内を加熱した。ロータリーキルン内の最高温度が
1550℃に達したところで、原料供給スクリューフィ
ーダーを回転させ、表1記載の充填率になるように所定
量の割合で供給した。キルンの傾斜角度2度、回転1r
pmとし最高温度での保持時間を10minとした。得
られた窒化珪素粉末の化学組成、結晶化度、α相含有
率、比表面積、プレス密度、粒子形状などの特性値を表
1に示す。
粒子からなり、充填特性、焼結特性等に優れた結晶質窒
化珪素粉末を生産性良く大量に製造することができ、コ
ストダウンが可能となる。
Claims (4)
- 【請求項1】 非晶質窒化珪素粉末及び/又は含窒素シ
ラン化合物を窒素含有不活性ガス雰囲気下又は窒素含有
還元性ガス雰囲気下に連続焼成炉を用いて焼成して、結
晶質窒化珪素粉末を製造するに際し、非晶質窒化珪素粉
末及び/又は含窒素シラン化合物の充填率を焼成炉内容
積の30%以下とし、1400〜1700℃の温度で焼
成することを特徴とする結晶質窒化珪素粉末の製造法。 - 【請求項2】 非晶質窒化珪素粉末及び/又は含窒素シ
ラン化合物を圧縮成形して、嵩密度0.3〜0.8g/
cm3 、短軸径1mm以上、かつ長軸径20mm以下の顆粒状
物とすることを特徴とする請求項1の結晶質窒化珪素粉
末の製造法。 - 【請求項3】 顆粒状物の軽装密度が0.15〜0.5
2g/cm3 であることを特徴とする請求項2の結晶質窒
化珪素粉末の製造法。 - 【請求項4】 顆粒状物1個当たりの圧壊強度が1〜5
0kg/cm2 であることを特徴とする請求項2の結晶質窒
化珪素粉末の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3335546A JP2747462B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3335546A JP2747462B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05148033A JPH05148033A (ja) | 1993-06-15 |
JP2747462B2 true JP2747462B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=18289789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3335546A Expired - Lifetime JP2747462B2 (ja) | 1991-11-26 | 1991-11-26 | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2747462B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6179288B2 (ja) * | 2013-09-10 | 2017-08-16 | 宇部興産株式会社 | 窒化ケイ素粉末の製造方法 |
-
1991
- 1991-11-26 JP JP3335546A patent/JP2747462B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05148033A (ja) | 1993-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4117096A (en) | Process for producing powder of β-type silicon carbide | |
JPS638041B2 (ja) | ||
TWI779371B (zh) | 具有改善的堆積密度的氯氧化鉬 | |
JP2696733B2 (ja) | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 | |
JP2578022B2 (ja) | 結晶質窒化ケイ素粉末の製造法 | |
US4992253A (en) | Process for producing an ultrafine powder of aluminum nitride | |
JP2747462B2 (ja) | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 | |
US4716028A (en) | Process for preparation of high-type silicon nitride powder | |
JPS6111886B2 (ja) | ||
JP5407999B2 (ja) | 結晶質窒化ケイ素粉末の製造方法 | |
JP2696732B2 (ja) | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 | |
KR100386510B1 (ko) | 자전고온 합성법을 이용한 질화 알루미늄 분말 제조방법 | |
JP2525432B2 (ja) | 常圧焼結窒化硼素系成形体 | |
JPH0583482B2 (ja) | ||
JPH0455142B2 (ja) | ||
US5382554A (en) | High-packing silicon nitride powder and method for making | |
JP2585335B2 (ja) | 立方晶窒化ほう素の製造方法 | |
JP3900695B2 (ja) | 窒化ケイ素粉末焼成用るつぼ | |
JPS59207813A (ja) | 結晶質窒化ケイ素粉末の製法 | |
JPH0610105B2 (ja) | 窒化ホウ素焼結体の製造方法 | |
JPH0323484B2 (ja) | ||
JPS6311514A (ja) | 焼結用β晶炭化ケイ素粉末 | |
JPS5891016A (ja) | 高密度易焼結性窒化ケイ素粉末の製法 | |
JP3439604B2 (ja) | 窒化珪素の製造方法 | |
JPS63297205A (ja) | 窒化物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 14 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 14 |