JP2740048B2 - 相互に嵌合した陰極および陽極を有する電気泳動表示パネル - Google Patents
相互に嵌合した陰極および陽極を有する電気泳動表示パネルInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、電気泳動表示パネル装置とその製造法に関
する。さらに詳細にいえば、本発明は、電気泳動ディス
プレイ装置の陽極ライン、陰極ラインおよびグリッドラ
インの配置に関する。
する。さらに詳細にいえば、本発明は、電気泳動ディス
プレイ装置の陽極ライン、陰極ラインおよびグリッドラ
インの配置に関する。
背景技術 電気泳動ディスプレイ装置（EPIDS）は現在はよく知
られた装置である。種々のディスプレイ方式およびそれ
らの特徴が、本発明の発明人である、フランクJ.デサン
ト（Frank J. DiSanto）およびデニスA.クルソス（De
nis A.Krusos）、の名前で発行され、そしてコピテル
・インク・オブ・ハンチングトン・ステーション（Copy
tele,Inc.of Huntington Station），ニューヨーク、
に譲渡されたいくつかの特許に開示されている。例え
ば、名称「電気泳動ディスプレイパネルとその方法（EL
ECTROPHORETIC DISPLAY PANELS AND ASSOCIATED M
ETHODS）」をいづれも有する米国特許第4,655,897号お
よび第4,732,830号は、電気泳動ディスプレイ装置の基
本的な動作と構造を開示している。名称「電気泳動ディ
スプレイパネルとそのための方法（ELECTROPHORETIC D
ISPLAY PANELS AND METHODS THEREFOR）」の米国特
許第4,742,345号は、整合とコントラストの特性が優れ
たディスプレイ装置を開示している。このようなディス
プレイ装置に関する他の多くの特許がまた、コピテル・
インク（Copytele,Inc.）に譲渡されている。
られた装置である。種々のディスプレイ方式およびそれ
らの特徴が、本発明の発明人である、フランクJ.デサン
ト（Frank J. DiSanto）およびデニスA.クルソス（De
nis A.Krusos）、の名前で発行され、そしてコピテル
・インク・オブ・ハンチングトン・ステーション（Copy
tele,Inc.of Huntington Station），ニューヨーク、
に譲渡されたいくつかの特許に開示されている。例え
ば、名称「電気泳動ディスプレイパネルとその方法（EL
ECTROPHORETIC DISPLAY PANELS AND ASSOCIATED M
ETHODS）」をいづれも有する米国特許第4,655,897号お
よび第4,732,830号は、電気泳動ディスプレイ装置の基
本的な動作と構造を開示している。名称「電気泳動ディ
スプレイパネルとそのための方法（ELECTROPHORETIC D
ISPLAY PANELS AND METHODS THEREFOR）」の米国特
許第4,742,345号は、整合とコントラストの特性が優れ
たディスプレイ装置を開示している。このようなディス
プレイ装置に関する他の多くの特許がまた、コピテル・
インク（Copytele,Inc.）に譲渡されている。
前記で述べた特許に開示されているディスプレイパネ
ルは、同じ基本原理に基づいて動作する、すなわち、も
し誘電性流体の中の荷電した顔料粒子の懸濁液が印加電
界の作用を受けるならば、顔料粒子は印加電界に応答し
てこの流体の中を移動するであろう。誘電性流体と異な
る色の顔料を有する粒子の、実質的に均一な懸濁液を仮
定すると、もし印加された静電界が局存化した場合、局
存化した顔料粒子の目に見える程度の移動が起こるであ
ろう。局存化した顔料粒子のこの移動により、静電界の
極性と方向に応じて、および顔料粒子の荷電に応じて、
粒子濃度が局存化した領域または希薄化した領域が生ず
る。前記米国特許に開示されている電気泳動ディスプレ
イ装置は、ガラスのビューイングスクリーンの１つの表
面の上に水平に配置された、複数個の独立で平行な陰極
行導電体素子または「ライン」を有する、「トリオード
型」ディスプレイ装置である。陰極素子の上に堆積さ
れ、そして陰極素子と直角に配置された複数個の絶縁体
ストリップを得るために、陰極素子に達するまでフォト
エッチされた絶縁性フォトレジスト部材の層が、垂直方
向に配列した複数個の独立で平行な列、すなわち、グリ
ッド導電体素子または「ライン」を形成する。ガラスキ
ャップ部材は、懸濁液が入るためのキャップの周縁のエ
ッジに沿って観察窓を有する流体に対し気密な封止体を
形成する。そしてこのガラスキャップ部材はまた、キャ
ップの内側の平坦な表面の上に堆積された陽極プレート
に対する基板としての役割を果たす。キャップが所定の
位置に配置される時、陽極の表面は、陰極素子とグリッ
ド素子との両方に対し、平行でかつ一定の間隔距離を有
する。もし特定の粒子の懸濁液が仮定されるならば、顔
料粒子を吸引または反発する静電荷の符号を知ることが
できるであろう。特定の電圧が陰極に印加されそして別
の電圧がグリッドに印加される時、それらが交差する近
傍の領域は、誘電性流体の懸濁液の中の顔料粒子を吸引
または反発するのに十分な正味の電荷を引き受けるであ
ろう。多数個の陰極ラインおよびグリッドラインが用い
られるから、顔料が集中化および希薄化した局在した目
にみえる領域を生ずるために、陰極素子およびグリッド
素子の電圧を変えることにより制御することができる、
多数個の離散した交差点が存在する。それで本質的に、
陰極とグリッドとの両方の動作電圧は、理論値１と理論
値０とに対応する少なくとも２つの状態を仮定できなけ
ればならない。陰極に対する理論値１は、顔料の吸引ま
たは反発のいづれかに対応することができる。典型的に
は、特定の交差点において陰極電圧とグリッド電圧との
両方が論理値１である時にのみ、顔料粒子の移動により
ディスプレイ装置の上に情報の可視ビットの書き込みが
行われるために、陽極に対する交差点に十分な静電界が
存在するように陰極電圧とグリッド電圧が選定される。
このビットを消去することができる。例えば、極性の反
転により、および陽極と陰極との間の消去電圧勾配と整
合した交差点で生ずる理論値ゼロ・ゼロ状態により、こ
のビットを消去することができる。このように、電気泳
動ディスプレイ装置にディジタル化されたデータを表示
することができる。
ルは、同じ基本原理に基づいて動作する、すなわち、も
し誘電性流体の中の荷電した顔料粒子の懸濁液が印加電
界の作用を受けるならば、顔料粒子は印加電界に応答し
てこの流体の中を移動するであろう。誘電性流体と異な
る色の顔料を有する粒子の、実質的に均一な懸濁液を仮
定すると、もし印加された静電界が局存化した場合、局
存化した顔料粒子の目に見える程度の移動が起こるであ
ろう。局存化した顔料粒子のこの移動により、静電界の
極性と方向に応じて、および顔料粒子の荷電に応じて、
粒子濃度が局存化した領域または希薄化した領域が生ず
る。前記米国特許に開示されている電気泳動ディスプレ
イ装置は、ガラスのビューイングスクリーンの１つの表
面の上に水平に配置された、複数個の独立で平行な陰極
行導電体素子または「ライン」を有する、「トリオード
型」ディスプレイ装置である。陰極素子の上に堆積さ
れ、そして陰極素子と直角に配置された複数個の絶縁体
ストリップを得るために、陰極素子に達するまでフォト
エッチされた絶縁性フォトレジスト部材の層が、垂直方
向に配列した複数個の独立で平行な列、すなわち、グリ
ッド導電体素子または「ライン」を形成する。ガラスキ
ャップ部材は、懸濁液が入るためのキャップの周縁のエ
ッジに沿って観察窓を有する流体に対し気密な封止体を
形成する。そしてこのガラスキャップ部材はまた、キャ
ップの内側の平坦な表面の上に堆積された陽極プレート
に対する基板としての役割を果たす。キャップが所定の
位置に配置される時、陽極の表面は、陰極素子とグリッ
ド素子との両方に対し、平行でかつ一定の間隔距離を有
する。もし特定の粒子の懸濁液が仮定されるならば、顔
料粒子を吸引または反発する静電荷の符号を知ることが
できるであろう。特定の電圧が陰極に印加されそして別
の電圧がグリッドに印加される時、それらが交差する近
傍の領域は、誘電性流体の懸濁液の中の顔料粒子を吸引
または反発するのに十分な正味の電荷を引き受けるであ
ろう。多数個の陰極ラインおよびグリッドラインが用い
られるから、顔料が集中化および希薄化した局在した目
にみえる領域を生ずるために、陰極素子およびグリッド
素子の電圧を変えることにより制御することができる、
多数個の離散した交差点が存在する。それで本質的に、
陰極とグリッドとの両方の動作電圧は、理論値１と理論
値０とに対応する少なくとも２つの状態を仮定できなけ
ればならない。陰極に対する理論値１は、顔料の吸引ま
たは反発のいづれかに対応することができる。典型的に
は、特定の交差点において陰極電圧とグリッド電圧との
両方が論理値１である時にのみ、顔料粒子の移動により
ディスプレイ装置の上に情報の可視ビットの書き込みが
行われるために、陽極に対する交差点に十分な静電界が
存在するように陰極電圧とグリッド電圧が選定される。
このビットを消去することができる。例えば、極性の反
転により、および陽極と陰極との間の消去電圧勾配と整
合した交差点で生ずる理論値ゼロ・ゼロ状態により、こ
のビットを消去することができる。このように、電気泳
動ディスプレイ装置にディジタル化されたデータを表示
することができる。
また別のEPID構造体は、出願中特許第07/345,825号で
現在名称「デュアル陽極平坦パネル電気泳動ディスプレ
イ装置（DUAL ANODE FLAT PANEL ELECTROPHORETIC
DISPAY APPARATUS）」の米国特許第5,053,763号に開
示されている。この特許は、陰極／グリッドのマトリッ
クスがトリオード型である電気泳動ディスプレイ装置に
関係し、複数個の独立でかつ個別に呼び出し可能な「ロ
ーカル」陽極ラインによりディスプレイが上に配置され
る。これらのローカル陽極ラインが、グリッドラインの
上におよびグリッドラインと整合して堆積され、そして
フォトレジストの介在ラインによりそれから絶縁され
る。ローカル陽極ラインは、「リモート」陽極に付加さ
れる。リモート陽極は、陽極フェースプレートの上また
はトリオード型ディスプレイのようにキャップの上に、
堆積された層である。前記のデュアル陽極構造体によ
り、フレームの間のディスプレイの明るさの好ましくな
い変動を消去することにより、およびディスプレイの速
度を増大することにより、および書込みサイクルおよび
保持サイクルの期間中必要な陽極電圧を減少することに
より、そこですべてが説明されたように、増強された動
作が得られる。
現在名称「デュアル陽極平坦パネル電気泳動ディスプレ
イ装置（DUAL ANODE FLAT PANEL ELECTROPHORETIC
DISPAY APPARATUS）」の米国特許第5,053,763号に開
示されている。この特許は、陰極／グリッドのマトリッ
クスがトリオード型である電気泳動ディスプレイ装置に
関係し、複数個の独立でかつ個別に呼び出し可能な「ロ
ーカル」陽極ラインによりディスプレイが上に配置され
る。これらのローカル陽極ラインが、グリッドラインの
上におよびグリッドラインと整合して堆積され、そして
フォトレジストの介在ラインによりそれから絶縁され
る。ローカル陽極ラインは、「リモート」陽極に付加さ
れる。リモート陽極は、陽極フェースプレートの上また
はトリオード型ディスプレイのようにキャップの上に、
堆積された層である。前記のデュアル陽極構造体によ
り、フレームの間のディスプレイの明るさの好ましくな
い変動を消去することにより、およびディスプレイの速
度を増大することにより、および書込みサイクルおよび
保持サイクルの期間中必要な陽極電圧を減少することに
より、そこですべてが説明されたように、増強された動
作が得られる。
米国特許第5,053,763号を調べてみると、そこで用い
られているローカル陽極構造体は、クロムのような第１
金属で作成されたグリッド素子の上に、フォトレジスト
の層を作成することにより実現される。このフォトレジ
スト層の上に、第２金属の層が作成される。この第２金
属は、例えば、ニッケルまたはアルミニウムであること
ができる。この第２金属層の上に、さらに別のフォトレ
ジストの層が作成される。次に、このさらに別のフォト
レジスト層が、グリッド素子と同じ方式で、マスクさ
れ、露光され、そして現像される。次に、この第２金属
層に対し、適切な溶液でエッチングが行われる。次に、
第１金属層と第２金属層との間のフォトレジストに、プ
ラズマ・エッチングが行われる。次に、得られた構造体
の上に、SiO2の層が堆積される。
られているローカル陽極構造体は、クロムのような第１
金属で作成されたグリッド素子の上に、フォトレジスト
の層を作成することにより実現される。このフォトレジ
スト層の上に、第２金属の層が作成される。この第２金
属は、例えば、ニッケルまたはアルミニウムであること
ができる。この第２金属層の上に、さらに別のフォトレ
ジストの層が作成される。次に、このさらに別のフォト
レジスト層が、グリッド素子と同じ方式で、マスクさ
れ、露光され、そして現像される。次に、この第２金属
層に対し、適切な溶液でエッチングが行われる。次に、
第１金属層と第２金属層との間のフォトレジストに、プ
ラズマ・エッチングが行われる。次に、得られた構造体
の上に、SiO2の層が堆積される。
本出願の譲渡人であるコピテル・インク（Copytele,I
nc.）に譲渡された１対の出願中特許は本出願と関連を
有し、および本出願と共に出願中である。名称「相互に
嵌合したローカル陽極を備えた電気泳動ディスプレイパ
ネル（ELECTROPHORETIC DISPLAY PANEL WITH INTER
LEAVED LOCAL ANODE）」の出願中特許第07/746,854号
は、電気泳動ディスプレイ構造体に関する。この構造体
では、ローカル陽極素子は、同じ請求項の中のディスプ
レイ装置のグリッド素子と相互に嵌合している。ローカ
ル陽極素子とグリッド素子との両方が、ガラスのフェー
スプレートの上にある陰極素子の上のフォトレジストの
上に堆積される。相互嵌合したローカル陽極素子および
グリッド素子は、１つのマスクを用いることにより両方
が同時に作成される。
nc.）に譲渡された１対の出願中特許は本出願と関連を
有し、および本出願と共に出願中である。名称「相互に
嵌合したローカル陽極を備えた電気泳動ディスプレイパ
ネル（ELECTROPHORETIC DISPLAY PANEL WITH INTER
LEAVED LOCAL ANODE）」の出願中特許第07/746,854号
は、電気泳動ディスプレイ構造体に関する。この構造体
では、ローカル陽極素子は、同じ請求項の中のディスプ
レイ装置のグリッド素子と相互に嵌合している。ローカ
ル陽極素子とグリッド素子との両方が、ガラスのフェー
スプレートの上にある陰極素子の上のフォトレジストの
上に堆積される。相互嵌合したローカル陽極素子および
グリッド素子は、１つのマスクを用いることにより両方
が同時に作成される。
名称「電気泳動ディスプレイ装置のための電極構造体
（ELECTRODE STRUCTURE FOR AN ELECTROPHORETIC
DISPLAY APPARATUS）」の出願中特許第07/796,761号に
おいて、特定の陽極ライン・セグメントに付随して意図
された領域を越えて電気泳動効果が広がるという問題点
および漏話の問題点を解決するために、導電体ストリッ
プは、文字ライン素子、特に陽極ライン、と相互に嵌合
する。消去モードでは、選定された１個の文字または文
字の群を消去するために用いられる陽極ライン・セグメ
ントと反対の極性を有する電圧で、相互に嵌合した制御
ラインが荷電される。極性のこの違いにより、選定され
た陽極ラインに付随する消去が、特定の陽極ラインに付
随する文字に限定されることと、消去されるべきでない
隣接する文字の消去にまで広がらないこととが、確実に
得られる。
（ELECTRODE STRUCTURE FOR AN ELECTROPHORETIC
DISPLAY APPARATUS）」の出願中特許第07/796,761号に
おいて、特定の陽極ライン・セグメントに付随して意図
された領域を越えて電気泳動効果が広がるという問題点
および漏話の問題点を解決するために、導電体ストリッ
プは、文字ライン素子、特に陽極ライン、と相互に嵌合
する。消去モードでは、選定された１個の文字または文
字の群を消去するために用いられる陽極ライン・セグメ
ントと反対の極性を有する電圧で、相互に嵌合した制御
ラインが荷電される。極性のこの違いにより、選定され
た陽極ラインに付随する消去が、特定の陽極ラインに付
随する文字に限定されることと、消去されるべきでない
隣接する文字の消去にまで広がらないこととが、確実に
得られる。
本発明の１つの目的は、前記特許および応用に示され
たよりも特性の優れたまた別の構造体、および陽極／陰
極／グリッドのマトリックスを製造する方法を得ること
である。
たよりも特性の優れたまた別の構造体、および陽極／陰
極／グリッドのマトリックスを製造する方法を得ること
である。
発明の開示 従来の電気泳動ディスプレイ装置に付随する問題点お
よび欠点は、本発明により解決される。本発明の電気泳
動ディスプレイ装置は、ディスプレイ装置のフェースプ
レートの上で与えられた方向に配列した複数個の平行な
陰極ラインと、前記陰極ラインから絶縁されかつそれら
に全体的に垂直に配置された複数個のグリッドラインと
のＸ−Ｙマトリックスを有し、および複数個の陽極ライ
ンが、陰極ラインの間でかつ陰極ラインから絶縁され
て、フェースプレートの上に配置されるという改良点を
有する。複数個の平行で交代する陰極ラインと陽極ライ
ンがEPIDのフェースプレートの上に同時に作成されると
いう、付随する製造法に従って、このEPIDを作成するこ
とができる。この陽極ラインと陰極ラインのおのおの
は、フェースプレートの上に堆積された導電体部材の第
１層と、この第１層の上に堆積された第２導電体層とを
有する。この第２層が陰極ラインから除去される。その
後、複数個のグリッドラインが、陽極ラインと陰極ライ
ンに垂直に作成される。次に、流体の入っている容器が
形成され、そしてこの容器が電気泳動流体で満たされ
る。このEPIDは、グリッドラインに０ボルトを印加し、
陽極ラインに０ボルトを印加し、および陰極ラインに＋
15ボルトを印加することにより、消去モードで動作する
ことができる。
よび欠点は、本発明により解決される。本発明の電気泳
動ディスプレイ装置は、ディスプレイ装置のフェースプ
レートの上で与えられた方向に配列した複数個の平行な
陰極ラインと、前記陰極ラインから絶縁されかつそれら
に全体的に垂直に配置された複数個のグリッドラインと
のＸ−Ｙマトリックスを有し、および複数個の陽極ライ
ンが、陰極ラインの間でかつ陰極ラインから絶縁され
て、フェースプレートの上に配置されるという改良点を
有する。複数個の平行で交代する陰極ラインと陽極ライ
ンがEPIDのフェースプレートの上に同時に作成されると
いう、付随する製造法に従って、このEPIDを作成するこ
とができる。この陽極ラインと陰極ラインのおのおの
は、フェースプレートの上に堆積された導電体部材の第
１層と、この第１層の上に堆積された第２導電体層とを
有する。この第２層が陰極ラインから除去される。その
後、複数個のグリッドラインが、陽極ラインと陰極ライ
ンに垂直に作成される。次に、流体の入っている容器が
形成され、そしてこの容器が電気泳動流体で満たされ
る。このEPIDは、グリッドラインに０ボルトを印加し、
陽極ラインに０ボルトを印加し、および陰極ラインに＋
15ボルトを印加することにより、消去モードで動作する
ことができる。
図面の簡単な説明 本発明をさらによく理解するために、添付図面に例示
された実施例を参照して、下記で本発明をさらに詳細に
説明する。
された実施例を参照して、下記で本発明をさらに詳細に
説明する。
第１図は、本発明の例示された１つの実施例に従う電
気泳動ディスプレイ装置のフェースプレートの上で相互
に嵌合した陽極ラインおよび陰極ラインの拡大平面図。
気泳動ディスプレイ装置のフェースプレートの上で相互
に嵌合した陽極ラインおよび陰極ラインの拡大平面図。
第２図は、第１図の陽極／陰極のマトリックスを作成
するためのマスクの拡大平面図。
するためのマスクの拡大平面図。
第３図は、第１図に示された電気泳動ディスプレイ装
置の陽極／陰極フェースプレートの切断線III−IIIに沿
っての横断面の一部分を矢印の方向から見た拡大横断面
図。
置の陽極／陰極フェースプレートの切断線III−IIIに沿
っての横断面の一部分を矢印の方向から見た拡大横断面
図。
第４図は、第１図および第３図に示された陽極／陰極
フェースプレートを用いた電気泳動ディスプレイ装置の
一部分の横断面図。
フェースプレートを用いた電気泳動ディスプレイ装置の
一部分の横断面図。
第５図は、本発明の例示された第２実施例に従う電気
泳動ディスプレイ装置のフェースプレートの陽極素子お
よび陰極素子の拡大平面図。
泳動ディスプレイ装置のフェースプレートの陽極素子お
よび陰極素子の拡大平面図。
第６図は、第５図に示された陽極素子／陰極素子を作
成するために用いられるマスクの拡大平面図。
成するために用いられるマスクの拡大平面図。
第７図は、本発明の例示された第２実施例に従う電気
泳動ディスプレイ装置のガード素子を作成するために、
第６図に示されたマスクと一緒に用いられる、第２マス
クの拡大平面図。
泳動ディスプレイ装置のガード素子を作成するために、
第６図に示されたマスクと一緒に用いられる、第２マス
クの拡大平面図。
第８図は、第５図の切断線VIII−VIIIに沿った横断面
の矢印の方向から見た第５図に示された陽極素子／陰極
素子構造体と共に、第６図および第７図に示されたマス
クを用いて作成された本発明の例示された第２実施例に
従う電気泳動ディスプレイ装置の陽極／陰極フェースプ
レートの一部分の横断面図。
の矢印の方向から見た第５図に示された陽極素子／陰極
素子構造体と共に、第６図および第７図に示されたマス
クを用いて作成された本発明の例示された第２実施例に
従う電気泳動ディスプレイ装置の陽極／陰極フェースプ
レートの一部分の横断面図。
第９図は、第５図に示された陽極／陰極構造体の上に
ある、本発明の例示された第３実施例に従うグリッド素
子とガード素子の構造体の拡大平面図。
ある、本発明の例示された第３実施例に従うグリッド素
子とガード素子の構造体の拡大平面図。
第10図は、第９図に示された上にあるグリッド素子と
ガード素子の構造体と共に、第５図に示された陽極／陰
極フェースプレートの一部分の横断面図。
ガード素子の構造体と共に、第５図に示された陽極／陰
極フェースプレートの一部分の横断面図。
本発明を実施するための最適のモード 第１図は、複数個の導電性の陰極素子12と、複数個の
導電性の陽極素子14と、複数個の導電性のガード素子16
とがその上に配置された、電気泳動ディスプレイ装置の
ためのフェースプレート10を示した図である。陰極素子
12と陽極素子14のおのおのはフォーク状の形状を有し、
かつフォーク状の歯を有し、およびこれらの歯が相互に
嵌合するように相互に向き合っている。従来、このフェ
ースプレートはガラスで作成された。ガード素子16は、
陰極素子と陽極素子のそれぞれの対の間に配置された、
単に直線状の素子である。典型的な電気泳動ディスプレ
イ装置は、多数個の陰極／陽極の対を有する。例えば、
第１図では、704個のこのような群が示されている。陰
極素子12と陽極素子14のフォーク体は、それぞれの陰極
素子に対する共通領域から出ている３個のフォーク体
と、それぞれの陽極素子14に対する共通領域から出てい
る２個のフォーク体と、704個の陽極／陰極の対とを示
すために、K1−１、K1−２など、およびA1−１、A1−２
などと、703個の中間の陰極素子を示すためにG1−G703
が記されている。
導電性の陽極素子14と、複数個の導電性のガード素子16
とがその上に配置された、電気泳動ディスプレイ装置の
ためのフェースプレート10を示した図である。陰極素子
12と陽極素子14のおのおのはフォーク状の形状を有し、
かつフォーク状の歯を有し、およびこれらの歯が相互に
嵌合するように相互に向き合っている。従来、このフェ
ースプレートはガラスで作成された。ガード素子16は、
陰極素子と陽極素子のそれぞれの対の間に配置された、
単に直線状の素子である。典型的な電気泳動ディスプレ
イ装置は、多数個の陰極／陽極の対を有する。例えば、
第１図では、704個のこのような群が示されている。陰
極素子12と陽極素子14のフォーク体は、それぞれの陰極
素子に対する共通領域から出ている３個のフォーク体
と、それぞれの陽極素子14に対する共通領域から出てい
る２個のフォーク体と、704個の陽極／陰極の対とを示
すために、K1−１、K1−２など、およびA1−１、A1−２
などと、703個の中間の陰極素子を示すためにG1−G703
が記されている。
陰極素子12および陽極素子14は、図を分かりやすくす
るために、フェースプレート10に対して大幅に拡大され
て示されている。けれども、動作可能なディスプレイ装
置のための素子の寸法の例が、適切な例を示すために、
および第１図が第２図にどのように関連しているかを示
すために、第１図に示されている。第１図に示された陽
極／陰極とガードの素子12、14、16のパターンは、フォ
トエッチングの分野における当業者には周知であるよう
に、それらを作成するためのマスクに用いられるパター
ンと、正確に同じパターンである。フェースプレートの
上に導電体素子を作成するのに用いられる技術、部材、
および寸法は、およびEPIDSを作成するのに通常用いら
れる方法は、米国特許第4,655,897号、第4,732,830号お
よび第4,742,345号に開示されている。前記特許の内容
は、参考として本発明の中に取り込まれている。
るために、フェースプレート10に対して大幅に拡大され
て示されている。けれども、動作可能なディスプレイ装
置のための素子の寸法の例が、適切な例を示すために、
および第１図が第２図にどのように関連しているかを示
すために、第１図に示されている。第１図に示された陽
極／陰極とガードの素子12、14、16のパターンは、フォ
トエッチングの分野における当業者には周知であるよう
に、それらを作成するためのマスクに用いられるパター
ンと、正確に同じパターンである。フェースプレートの
上に導電体素子を作成するのに用いられる技術、部材、
および寸法は、およびEPIDSを作成するのに通常用いら
れる方法は、米国特許第4,655,897号、第4,732,830号お
よび第4,742,345号に開示されている。前記特許の内容
は、参考として本発明の中に取り込まれている。
第１図に示された構成体を製造する１つの代表的な方
法は、ガラスのフェースプレート10を酸化インジウム・
スズ（ITO）で被覆し、それをクロムの層で被覆し、そ
して次にフォトジストの層で被覆する方法である。この
フォトレジストに、第１図に示された電極パターンと同
じ構造を有するマスクを用いて、露光が行われる。この
フォトレジストはこの場合にはポジティブ性のフォトレ
ジストであるので、光に対し露出された面積領域は、現
像段階の期間中、容易に溶解可能になるであろう。露光
の後、このフォトレジストが現像され、そして次に、ク
ロム・エッチング溶液の中に入れられ、そしてその後、
脱イオン水で徹底的に濯ぎが行われる。そして次に、こ
の濯ぎが行われた基板にITOエッチングが行われ、そし
てその後、脱イオン水で再び濯ぎが行われる。
法は、ガラスのフェースプレート10を酸化インジウム・
スズ（ITO）で被覆し、それをクロムの層で被覆し、そ
して次にフォトジストの層で被覆する方法である。この
フォトレジストに、第１図に示された電極パターンと同
じ構造を有するマスクを用いて、露光が行われる。この
フォトレジストはこの場合にはポジティブ性のフォトレ
ジストであるので、光に対し露出された面積領域は、現
像段階の期間中、容易に溶解可能になるであろう。露光
の後、このフォトレジストが現像され、そして次に、ク
ロム・エッチング溶液の中に入れられ、そしてその後、
脱イオン水で徹底的に濯ぎが行われる。そして次に、こ
の濯ぎが行われた基板にITOエッチングが行われ、そし
てその後、脱イオン水で再び濯ぎが行われる。
第２図は、第１図および第３図〜第４図に示された陽
極／陰極／ガードのマトリックスを作成するのに用いら
れる第２マスクを示した図である。図に示されているよ
うに、第２図は、第１図の陽極素子14に対応する素子を
有するマスクを示している。すなわち、マスク17の基準
マーク20とフェースプレート10の基準マーク20とが整合
する時、陽極マスク素子18が第１図の陽極素子14の上に
正確に配置されるような寸法を有する。第１図および第
２図に示され選定された特別の寸法はさらに、第１図に
示された陽極マスク素子18と陽極素子14との整合を示し
ている。前記で説明された段階により、第２図のマスク
17が基板と整合した後、基板がマスク17を通して光で照
射される。その後、この基板に現像が行われ、そして基
板がクロム・エッチング溶液の中に入れられる。それに
より、陽極素子14の上に沈着されたクロム以外のすべて
のクロムが、基板から除去される。
極／陰極／ガードのマトリックスを作成するのに用いら
れる第２マスクを示した図である。図に示されているよ
うに、第２図は、第１図の陽極素子14に対応する素子を
有するマスクを示している。すなわち、マスク17の基準
マーク20とフェースプレート10の基準マーク20とが整合
する時、陽極マスク素子18が第１図の陽極素子14の上に
正確に配置されるような寸法を有する。第１図および第
２図に示され選定された特別の寸法はさらに、第１図に
示された陽極マスク素子18と陽極素子14との整合を示し
ている。前記で説明された段階により、第２図のマスク
17が基板と整合した後、基板がマスク17を通して光で照
射される。その後、この基板に現像が行われ、そして基
板がクロム・エッチング溶液の中に入れられる。それに
より、陽極素子14の上に沈着されたクロム以外のすべて
のクロムが、基板から除去される。
第３図は、前記で説明した方法により得られた構造体
の図である。図に示されているように、陽極素子14は、
ITO層22と、クロム層24と、その上の保護用フォトレジ
スト層26とで構成される。フォトレジスト層26は、第２
図に示されたマスク17が作る影により得られる。クロム
層が陰極素子12からエッチングにより除去された後、陽
極素子14の上のフォトレジスト層26を除去することがで
きる。そこでは、フォトレジスト層は導電体ではなく、
したがって、EPID動作の期間中、フォトレジスト層は電
気泳動効果に関して重要ではない。第３図に示されてい
るように陰極素子12とガード素子14との両方が単にITO
から作成され、クロム層がそれからエッチングで除去さ
れる。
の図である。図に示されているように、陽極素子14は、
ITO層22と、クロム層24と、その上の保護用フォトレジ
スト層26とで構成される。フォトレジスト層26は、第２
図に示されたマスク17が作る影により得られる。クロム
層が陰極素子12からエッチングにより除去された後、陽
極素子14の上のフォトレジスト層26を除去することがで
きる。そこでは、フォトレジスト層は導電体ではなく、
したがって、EPID動作の期間中、フォトレジスト層は電
気泳動効果に関して重要ではない。第３図に示されてい
るように陰極素子12とガード素子14との両方が単にITO
から作成され、クロム層がそれからエッチングで除去さ
れる。
第４図は、マイラ・スペーサ32により、フェースプレ
ート10に接合された後方プレート30を示している。これ
らのプレート10および30と、スペーサ32とにより、当業
者には周知のように、電気泳動流体の入る容器が形成さ
れる。後方プレート30は、その上に配置された複数個の
平行なITOまたはクロムのグリッドライン34を、１イン
チ当たり約200ライン（約200LPI）の密度で有する。グ
リッドライン34は、陽極素子14および陰極素子12に対し
直角に配置される。正面プレートと後方プレートとの間
の間隔は、0.001インチ〜0.004インチの間のいづれかの
値であることができる。電気泳動ディスプレイ装置28を
適切な電気泳動流体懸濁液で満たした後、このディスプ
レイパネルは下記のように動作する。ディスプレイパネ
ルを消去モードにするために、黄色の負に表面荷電した
顔料粒子を仮定し、およびフェースプレート10で観察す
るとして、グリッドライン34がゼロボルトにされ、およ
び陽極素子14がゼロボルトにされ、そして陰極素子12が
約＋12ボルトの正電圧にされる。このことにより、すべ
ての顔料が陰極素子12に向かって移動することが起こ
り、そしてディスプレイパネルは完全に黄色に見えるで
あろう。ディスプレイ装置を保持モードにするために、
約15ボルトの正電圧が陽極素子14に印加される。このこ
とは、消去状態にあるEPIDに実質的に目に見える効果を
及ぼさない。選定された画素に書き込むために、グリッ
ドライン34に対し、ゼロ電圧レベルまたは負電圧レベル
のいずれかを有するデータでロードが行われる。ゼロ電
圧のグリッドラインは書き込まれるべき画素に対応し、
そして負電圧のグリッドラインは書き込まれるべきでな
い画素に対応する。グリッド素子34にデータがロードさ
れるならば、その場合、陰極素子12が順次にゼロボルト
にされる（走査される）。ゼロ電圧を有するグリッドラ
イン34と呼び出された陰極ラインとの交点において、顔
料は陰極素子から＋15ボルトにある陽極素子に向かって
移動する。もし呼び出された陰極素子12により交差する
グリッド素子34が負電圧にあるならば、この負電荷は顔
料粒子が陰極12から陽極14に移動するのを防止し、そし
てその画素は書き込まれないままである。
ート10に接合された後方プレート30を示している。これ
らのプレート10および30と、スペーサ32とにより、当業
者には周知のように、電気泳動流体の入る容器が形成さ
れる。後方プレート30は、その上に配置された複数個の
平行なITOまたはクロムのグリッドライン34を、１イン
チ当たり約200ライン（約200LPI）の密度で有する。グ
リッドライン34は、陽極素子14および陰極素子12に対し
直角に配置される。正面プレートと後方プレートとの間
の間隔は、0.001インチ〜0.004インチの間のいづれかの
値であることができる。電気泳動ディスプレイ装置28を
適切な電気泳動流体懸濁液で満たした後、このディスプ
レイパネルは下記のように動作する。ディスプレイパネ
ルを消去モードにするために、黄色の負に表面荷電した
顔料粒子を仮定し、およびフェースプレート10で観察す
るとして、グリッドライン34がゼロボルトにされ、およ
び陽極素子14がゼロボルトにされ、そして陰極素子12が
約＋12ボルトの正電圧にされる。このことにより、すべ
ての顔料が陰極素子12に向かって移動することが起こ
り、そしてディスプレイパネルは完全に黄色に見えるで
あろう。ディスプレイ装置を保持モードにするために、
約15ボルトの正電圧が陽極素子14に印加される。このこ
とは、消去状態にあるEPIDに実質的に目に見える効果を
及ぼさない。選定された画素に書き込むために、グリッ
ドライン34に対し、ゼロ電圧レベルまたは負電圧レベル
のいずれかを有するデータでロードが行われる。ゼロ電
圧のグリッドラインは書き込まれるべき画素に対応し、
そして負電圧のグリッドラインは書き込まれるべきでな
い画素に対応する。グリッド素子34にデータがロードさ
れるならば、その場合、陰極素子12が順次にゼロボルト
にされる（走査される）。ゼロ電圧を有するグリッドラ
イン34と呼び出された陰極ラインとの交点において、顔
料は陰極素子から＋15ボルトにある陽極素子に向かって
移動する。もし呼び出された陰極素子12により交差する
グリッド素子34が負電圧にあるならば、この負電荷は顔
料粒子が陰極12から陽極14に移動するのを防止し、そし
てその画素は書き込まれないままである。
第５図は、第１図に示された配置とは異なるまた別の
陰極／陽極のマトリックスの配置を示した図である。こ
の場合には、４個のフォークの歯状の陰極素子112の複
数個がフェースプレート110の上に配置され、そして３
個のフォークの歯状の陽極素子114の複数個と交互に嵌
合している。第１図の16のようなガード素子は、第５図
の陰極／陽極のマトリックスの面内には配置されない。
第５図に示された構造体は、ガラス板がITOで被覆さ
れ、そしてその後、クロムの層およびフォトレジストの
層で被覆されることにより製造される。もしポジティブ
性のフォトレジストが用いられるならば、第５図に示さ
れたパターンと同じ構成のマスクを用いて、このフォト
レジストに露光が行われる。このフォトレジストに現像
が行われた後、基板がクロム・エッチング溶液の中に入
れられ、そしてその後、脱イオン水で濯ぎが行われる。
次に、得られた基板がITOエッチング溶液の中に入れら
れ、そしてその後、脱イオン水で濯ぎが行われる。第６
図に示された形式のマスクを用い、マスク117の基準マ
ーク120が、第５図に示されたフェースプレート110の基
準マーク120と整合される。この位置において、陽極素
子118は、陽極／陰極のマトリックスの陽極素子114と整
合する。その後、この基板に露光が行われ、そして現像
が行われる。露光の後、基板がクロム・エッチング溶液
の中に入れられ、それにより、陰極素子クロムがITOの
みを残して除去される。清浄化の後、チップ領域136お
よび138以外の表面全体に、二酸化シリコンが作成され
る。次に、厚さが約３マイクロメートルのフォトレジス
ト層が、この二酸化シリコン層の上に作成される。この
フォトレジス層がチップ領域から除去され、そしてこの
基板に事後焼き出しが行われる。次に、約3,000オング
ストロームのクロム層が、基板全体に対し作成される。
フォトレジストの層がクロム層に対して作成され、そし
て事前焼き出しが行われる。第７図に示されたガード・
マスク素子142と共にマスク140を用いて、前に作成され
たクロム層からガード素子を作成することができる。被
覆された基板の上およびマスク140の上の基準マーク120
を用いて、マスク140の整合が行われる。露光と現像の
後、クロム層にエッチングが行われ、そしてこの基板に
対し脱イオン水で濯ぎが行われる。その後、このように
して得られたパネルが、第４図に示されたようにその上
にグリッド素子を有する後方プレートに対して組み立て
を行うことができる。
陰極／陽極のマトリックスの配置を示した図である。こ
の場合には、４個のフォークの歯状の陰極素子112の複
数個がフェースプレート110の上に配置され、そして３
個のフォークの歯状の陽極素子114の複数個と交互に嵌
合している。第１図の16のようなガード素子は、第５図
の陰極／陽極のマトリックスの面内には配置されない。
第５図に示された構造体は、ガラス板がITOで被覆さ
れ、そしてその後、クロムの層およびフォトレジストの
層で被覆されることにより製造される。もしポジティブ
性のフォトレジストが用いられるならば、第５図に示さ
れたパターンと同じ構成のマスクを用いて、このフォト
レジストに露光が行われる。このフォトレジストに現像
が行われた後、基板がクロム・エッチング溶液の中に入
れられ、そしてその後、脱イオン水で濯ぎが行われる。
次に、得られた基板がITOエッチング溶液の中に入れら
れ、そしてその後、脱イオン水で濯ぎが行われる。第６
図に示された形式のマスクを用い、マスク117の基準マ
ーク120が、第５図に示されたフェースプレート110の基
準マーク120と整合される。この位置において、陽極素
子118は、陽極／陰極のマトリックスの陽極素子114と整
合する。その後、この基板に露光が行われ、そして現像
が行われる。露光の後、基板がクロム・エッチング溶液
の中に入れられ、それにより、陰極素子クロムがITOの
みを残して除去される。清浄化の後、チップ領域136お
よび138以外の表面全体に、二酸化シリコンが作成され
る。次に、厚さが約３マイクロメートルのフォトレジス
ト層が、この二酸化シリコン層の上に作成される。この
フォトレジス層がチップ領域から除去され、そしてこの
基板に事後焼き出しが行われる。次に、約3,000オング
ストロームのクロム層が、基板全体に対し作成される。
フォトレジストの層がクロム層に対して作成され、そし
て事前焼き出しが行われる。第７図に示されたガード・
マスク素子142と共にマスク140を用いて、前に作成され
たクロム層からガード素子を作成することができる。被
覆された基板の上およびマスク140の上の基準マーク120
を用いて、マスク140の整合が行われる。露光と現像の
後、クロム層にエッチングが行われ、そしてこの基板に
対し脱イオン水で濯ぎが行われる。その後、このように
して得られたパネルが、第４図に示されたようにその上
にグリッド素子を有する後方プレートに対して組み立て
を行うことができる。
第８図は、前記の工程で得られた結果の横断面図であ
る。前記で説明した実施例と同じように、陰極素子112
の全体がITOで構成され、一方、陽極素子114はITO層122
およびクロム層124を有する。前記の実施例とは異なっ
て、第８図に示された実施例は、陽極／陰極のマトリッ
クスの表面全体の上に作成された二酸化シリコンの層14
2と、事後焼き出された硬化したフォトレジストの層144
とを有する。厚さが3,0000オングストロームのクロム層
が作成されそしてガード・マスク142により被覆された
領域以外がエッチングにより除去されることにより、相
互に嵌合した陽極素子114および陰極素子112の群の間
に、ガード部品116が配置される。次に、陰極と陽極を
被覆しているフォトレジストが、乾式エッチング技術を
用いて除去される。
る。前記で説明した実施例と同じように、陰極素子112
の全体がITOで構成され、一方、陽極素子114はITO層122
およびクロム層124を有する。前記の実施例とは異なっ
て、第８図に示された実施例は、陽極／陰極のマトリッ
クスの表面全体の上に作成された二酸化シリコンの層14
2と、事後焼き出された硬化したフォトレジストの層144
とを有する。厚さが3,0000オングストロームのクロム層
が作成されそしてガード・マスク142により被覆された
領域以外がエッチングにより除去されることにより、相
互に嵌合した陽極素子114および陰極素子112の群の間
に、ガード部品116が配置される。次に、陰極と陽極を
被覆しているフォトレジストが、乾式エッチング技術を
用いて除去される。
第10図は、本発明のさらに別の実施例を示した図であ
る。この実施例では、陰極／陽極のマトリックス212、2
14と、ガード216およびグリッドライン234はすべて、フ
ェースプレート210の上に作成される。第２実施例を製
造する従来の方法が用いられるが、ただし、厚さが3,00
00オングストロームのクロム層をエッチングするため
に、第７図に示されたマスク140の代わりに、第９図に
示されたマスク240が用いられる点が異なる。第９図に
示されたマスク240は、グリッド・マスク素子246のおの
おのが、幹部分246Tと複数個の垂直な分枝部分246Bとで
構成されることを示している。同様に、カード・マスク
素子248のおのおのは、幹部分248Tと分枝部分248Bとで
構成される。マスク240のグリッドとガードの幹部分お
よび分枝部分は、第10図を調べると分かるように、電気
泳動ディスプレイ装置のグリッド234およびガード216の
中の付随する幹部分と分枝部分に対応する。
る。この実施例では、陰極／陽極のマトリックス212、2
14と、ガード216およびグリッドライン234はすべて、フ
ェースプレート210の上に作成される。第２実施例を製
造する従来の方法が用いられるが、ただし、厚さが3,00
00オングストロームのクロム層をエッチングするため
に、第７図に示されたマスク140の代わりに、第９図に
示されたマスク240が用いられる点が異なる。第９図に
示されたマスク240は、グリッド・マスク素子246のおの
おのが、幹部分246Tと複数個の垂直な分枝部分246Bとで
構成されることを示している。同様に、カード・マスク
素子248のおのおのは、幹部分248Tと分枝部分248Bとで
構成される。マスク240のグリッドとガードの幹部分お
よび分枝部分は、第10図を調べると分かるように、電気
泳動ディスプレイ装置のグリッド234およびガード216の
中の付随する幹部分と分枝部分に対応する。
第10図は、第８図と同じように、ITO層222とその上の
クロム層224とで構成される陽極素子214と、それらに交
互嵌合したITO陰極素子212とを有するフェースプレート
210の図である。交互嵌合した陽極素子214および陰極素
子212は、二酸化シリコン層242および硬化したフォトレ
ジスト層244により被覆される。前記で説明したよう
に、この第２実施例では、ガード116を作成する工程に
おいて、クロム層がその上のフォトレジスト層と共に作
成され、そしてその後、第９図に示されたマスクを用い
てフォトレジスト層に露光が行われる。このことによ
り、陽極／陰極のマトリックスの上に、第９図に示され
たパターンが作成される。グリッド素子の分枝部分234B
が交互嵌合した陽極素子214と陰極素子212の中間に配置
されるように、第９図のマスクが基板と整合される。中
間にあるグリッド素子分枝部分234Bと幹部分234Tが、第
10図に示されている。さらに、第９図のマスクを用いる
ことにより、隣接する陽極／陰極214、212の対の中間に
配置された分枝126を有するガード素子216が作成され
る。ガード216の幹部分216Tがこの図には示されていな
いが、グリッド素子の幹部分234Tと同様の構造を有する
であろう。3000オングストロームのクロム層をエッチン
グしてガードとグリッドを作成した後、陰極と陽極の上
のフォトレジストが乾式エッチング技術を用いて除去さ
れる。陽極214と、陰極212と、ガード216と、グリッド2
34とはすべて、最後の実施例においてフェースプレート
210の上に作成されるから、電気泳動容器を形成するた
めの後方プレートはすべての導電体ラインをその上に有
する必要はなく、その代わり、透明なガラス板であるこ
とができる。第３実施例で達成されるものは、単一の平
面トリオードである。前記で説明された実施例により、
一定の利点が得られる。すなわち、陰極と陽極との間に
最小の間隔距離が存在するから、そして第３実施例では
グリッドとの間に最小の間隔距離が存在するから、比較
的小さな電圧を用いて顔料粒子を移動させることができ
る。これらの構成体によりまたいずれの方向にも書き込
みを行うことができ、そしてそれにより、１個の画素の
書き込みおよび消去を行うことができる。前記で説明し
たEPIDによりまた、提示される情報の急速な変更を行う
ことができる。
クロム層224とで構成される陽極素子214と、それらに交
互嵌合したITO陰極素子212とを有するフェースプレート
210の図である。交互嵌合した陽極素子214および陰極素
子212は、二酸化シリコン層242および硬化したフォトレ
ジスト層244により被覆される。前記で説明したよう
に、この第２実施例では、ガード116を作成する工程に
おいて、クロム層がその上のフォトレジスト層と共に作
成され、そしてその後、第９図に示されたマスクを用い
てフォトレジスト層に露光が行われる。このことによ
り、陽極／陰極のマトリックスの上に、第９図に示され
たパターンが作成される。グリッド素子の分枝部分234B
が交互嵌合した陽極素子214と陰極素子212の中間に配置
されるように、第９図のマスクが基板と整合される。中
間にあるグリッド素子分枝部分234Bと幹部分234Tが、第
10図に示されている。さらに、第９図のマスクを用いる
ことにより、隣接する陽極／陰極214、212の対の中間に
配置された分枝126を有するガード素子216が作成され
る。ガード216の幹部分216Tがこの図には示されていな
いが、グリッド素子の幹部分234Tと同様の構造を有する
であろう。3000オングストロームのクロム層をエッチン
グしてガードとグリッドを作成した後、陰極と陽極の上
のフォトレジストが乾式エッチング技術を用いて除去さ
れる。陽極214と、陰極212と、ガード216と、グリッド2
34とはすべて、最後の実施例においてフェースプレート
210の上に作成されるから、電気泳動容器を形成するた
めの後方プレートはすべての導電体ラインをその上に有
する必要はなく、その代わり、透明なガラス板であるこ
とができる。第３実施例で達成されるものは、単一の平
面トリオードである。前記で説明された実施例により、
一定の利点が得られる。すなわち、陰極と陽極との間に
最小の間隔距離が存在するから、そして第３実施例では
グリッドとの間に最小の間隔距離が存在するから、比較
的小さな電圧を用いて顔料粒子を移動させることができ
る。これらの構成体によりまたいずれの方向にも書き込
みを行うことができ、そしてそれにより、１個の画素の
書き込みおよび消去を行うことができる。前記で説明し
たEPIDによりまた、提示される情報の急速な変更を行う
ことができる。
前記で説明された実施例は、単に例示された実施例で
あることを断っておく。本発明の範囲内において種々に
変更された実施例および修正された実施例の可能である
ことは、当業者にはすぐに分かるであろう。
あることを断っておく。本発明の範囲内において種々に
変更された実施例および修正された実施例の可能である
ことは、当業者にはすぐに分かるであろう。
Claims (5)
- 【請求項１】少なくとも１つの全体的に透明なフェース
プレートを有するハウジングであり、浮いた状態の複数
の電気泳動粒子をその中に含有する溶液を収容するため
のハウジングと、 前記フェースプレートの上に配置された陰極ラインと、 前記フェースプレートの上に配置され、前記陰極ライン
に概して並行に配置された陽極ラインと 前記陰極ラインと陽極ラインとに垂直に配置されたグリ
ッドライン とを含むことを特徴とした電気泳動ディスプレイ装置。 - 【請求項２】請求項１の電気泳動ディスプレイ装置に於
いて、 前記ハウジング内に収容され、浮いた状態の複数の電気
泳動粒子をその中に含有する溶液と、 前記陰極ラインと陽極ライン間の前記電気泳動粒子の流
れを制御する為に、前記陰極ラインと陽極ラインとグリ
ッドラインとに電気ポテンシャルを選択的に印加する手
段 とを更に含むことを特徴とした電気泳動ディスプレイ装
置。 - 【請求項３】請求項２の電気泳動ディスプレイ装置に於
いて、前記フェースプレートの上に配置され、前記陰極
ラインと陽極ライン間の前記電気泳動粒子の流れの範囲
を制御するガードラインを更に含むことを特徴とした電
気泳動ディスプレイ装置。 - 【請求項４】請求項１の電気泳動ディスプレイ装置に於
いて、前記陰極ラインと陽極ラインの上に半導体の被覆
体を更に有することを特徴とした電気泳動ディスプレイ
装置。 - 【請求項５】請求項４の電気泳動ディスプレイ装置に於
いて、前記半導体の被覆体の上に絶縁体部材の層を更に
有することを特徴とした電気泳動ディスプレイ装置。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6741385B2 (en) | 2001-06-26 | 2004-05-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophoretic display device |
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Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6664944B1 (en) | 1995-07-20 | 2003-12-16 | E-Ink Corporation | Rear electrode structures for electrophoretic displays |
| US7106296B1 (en) | 1995-07-20 | 2006-09-12 | E Ink Corporation | Electronic book with multiple page displays |
| US7352353B2 (en) * | 1995-07-20 | 2008-04-01 | E Ink Corporation | Electrostatically addressable electrophoretic display |
| US7583251B2 (en) | 1995-07-20 | 2009-09-01 | E Ink Corporation | Dielectrophoretic displays |
| US6710540B1 (en) | 1995-07-20 | 2004-03-23 | E Ink Corporation | Electrostatically-addressable electrophoretic display |
| US6124851A (en) | 1995-07-20 | 2000-09-26 | E Ink Corporation | Electronic book with multiple page displays |
| US8139050B2 (en) | 1995-07-20 | 2012-03-20 | E Ink Corporation | Addressing schemes for electronic displays |
| US7304634B2 (en) * | 1995-07-20 | 2007-12-04 | E Ink Corporation | Rear electrode structures for electrophoretic displays |
| US6177921B1 (en) | 1997-08-28 | 2001-01-23 | E Ink Corporation | Printable electrode structures for displays |
| US6232950B1 (en) | 1997-08-28 | 2001-05-15 | E Ink Corporation | Rear electrode structures for displays |
| EP0924551A1 (en) * | 1997-12-18 | 1999-06-23 | The Technology Partnership Public Limited Company | Method and apparatus for matrix addressing of an electrophoretic display device |
| US6704133B2 (en) | 1998-03-18 | 2004-03-09 | E-Ink Corporation | Electro-optic display overlays and systems for addressing such displays |
| CA2320788A1 (en) | 1998-03-18 | 1999-09-23 | Joseph M. Jacobson | Electrophoretic displays and systems for addressing such displays |
| US7075502B1 (en) | 1998-04-10 | 2006-07-11 | E Ink Corporation | Full color reflective display with multichromatic sub-pixels |
| US6473072B1 (en) | 1998-05-12 | 2002-10-29 | E Ink Corporation | Microencapsulated electrophoretic electrostatically-addressed media for drawing device applications |
| ATE276536T1 (de) | 1998-07-08 | 2004-10-15 | E Ink Corp | Verfahren zur verbesserung der farbwiedergabe in elektrophoretischen vorrichtungen, welche mikrokapseln verwenden |
| US7256766B2 (en) | 1998-08-27 | 2007-08-14 | E Ink Corporation | Electrophoretic display comprising optical biasing element |
| US6312304B1 (en) | 1998-12-15 | 2001-11-06 | E Ink Corporation | Assembly of microencapsulated electronic displays |
| US6724519B1 (en) | 1998-12-21 | 2004-04-20 | E-Ink Corporation | Protective electrodes for electrophoretic displays |
| US6611100B1 (en) | 1999-04-26 | 2003-08-26 | Chad Byron Moore | Reflective electro-optic fiber-based displays with barriers |
| US6504524B1 (en) | 2000-03-08 | 2003-01-07 | E Ink Corporation | Addressing methods for displays having zero time-average field |
| US6531997B1 (en) | 1999-04-30 | 2003-03-11 | E Ink Corporation | Methods for addressing electrophoretic displays |
| US7030412B1 (en) | 1999-05-05 | 2006-04-18 | E Ink Corporation | Minimally-patterned semiconductor devices for display applications |
| EP1192504B1 (en) | 1999-07-01 | 2011-03-16 | E Ink Corporation | Electrophoretic medium provided with spacers |
| JP4744757B2 (ja) | 1999-07-21 | 2011-08-10 | イー インク コーポレイション | アクティブマトリクス駆動電子ディスプレイの性能を高めるための蓄電キャパシタの使用 |
| JP3592184B2 (ja) * | 2000-03-03 | 2004-11-24 | キヤノン株式会社 | 電気泳動表示装置およびその駆動方法 |
| US6639580B1 (en) * | 1999-11-08 | 2003-10-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophoretic display device and method for addressing display device |
| US6885495B2 (en) * | 2000-03-03 | 2005-04-26 | Sipix Imaging Inc. | Electrophoretic display with in-plane switching |
| JP3667242B2 (ja) | 2000-04-13 | 2005-07-06 | キヤノン株式会社 | 電気泳動表示方法及び電気泳動表示装置 |
| US7893435B2 (en) | 2000-04-18 | 2011-02-22 | E Ink Corporation | Flexible electronic circuits and displays including a backplane comprising a patterned metal foil having a plurality of apertures extending therethrough |
| ATE438927T1 (de) | 2000-04-18 | 2009-08-15 | E Ink Corp | Prozess zur herstellung von dünnfilmtransistoren |
| US6683333B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-01-27 | E Ink Corporation | Fabrication of electronic circuit elements using unpatterned semiconductor layers |
| US7236290B1 (en) | 2000-07-25 | 2007-06-26 | E Ink Corporation | Electrophoretic medium with improved stability |
| US6816147B2 (en) * | 2000-08-17 | 2004-11-09 | E Ink Corporation | Bistable electro-optic display, and method for addressing same |
| AU2002230520A1 (en) * | 2000-11-29 | 2002-06-11 | E-Ink Corporation | Addressing circuitry for large electronic displays |
| JP3667257B2 (ja) | 2000-12-01 | 2005-07-06 | キヤノン株式会社 | 電気泳動表示装置 |
| US6800256B2 (en) * | 2000-12-18 | 2004-10-05 | Delphi Technologies, Inc. | Scaleable inter-digitized tine non-thermal plasma reactor |
| US6967640B2 (en) | 2001-07-27 | 2005-11-22 | E Ink Corporation | Microencapsulated electrophoretic display with integrated driver |
| TW550529B (en) * | 2001-08-17 | 2003-09-01 | Sipix Imaging Inc | An improved electrophoretic display with dual-mode switching |
| US7038670B2 (en) * | 2002-08-16 | 2006-05-02 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display with dual mode switching |
| US7492505B2 (en) | 2001-08-17 | 2009-02-17 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display with dual mode switching |
| TW573204B (en) * | 2001-09-12 | 2004-01-21 | Sipix Imaging Inc | An improved electrophoretic display with gating electrodes |
| JP2003186065A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Canon Inc | 電気泳動表示装置及びその駆動方法 |
| US6900851B2 (en) | 2002-02-08 | 2005-05-31 | E Ink Corporation | Electro-optic displays and optical systems for addressing such displays |
| DE60302360T2 (de) * | 2002-06-24 | 2006-08-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Elektrochrome anzeigetafel mit elektroden zur einstellung des übersprechens |
| US7271947B2 (en) * | 2002-08-16 | 2007-09-18 | Sipix Imaging, Inc. | Electrophoretic display with dual-mode switching |
| JP2005536773A (ja) * | 2002-08-26 | 2005-12-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 電気泳動表示パネル |
| US20130063333A1 (en) | 2002-10-16 | 2013-03-14 | E Ink Corporation | Electrophoretic displays |
| US11250794B2 (en) | 2004-07-27 | 2022-02-15 | E Ink Corporation | Methods for driving electrophoretic displays using dielectrophoretic forces |
| US20080220685A1 (en) * | 2005-01-07 | 2008-09-11 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Interleaved Electrodes In A Passive Matrix Display |
| JPWO2008012934A1 (ja) * | 2006-07-24 | 2009-12-17 | 太田 勲夫 | 表示装置とその製造法 |
| JP4269187B2 (ja) * | 2007-01-25 | 2009-05-27 | セイコーエプソン株式会社 | 電気泳動装置、電気泳動装置の駆動方法、電子機器 |
| US7957054B1 (en) | 2009-12-21 | 2011-06-07 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Electro-optical display systems |
| US8089687B2 (en) * | 2009-12-21 | 2012-01-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Electro-optical display systems |
| JP5477179B2 (ja) * | 2010-06-09 | 2014-04-23 | セイコーエプソン株式会社 | 電気泳動表示装置および電子機器 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE28360E (en) * | 1969-10-03 | 1975-03-04 | Electrophoretic color display device | |
| US4554537A (en) * | 1982-10-27 | 1985-11-19 | At&T Bell Laboratories | Gas plasma display |
| US4648956A (en) * | 1984-12-31 | 1987-03-10 | North American Philips Corporation | Electrode configurations for an electrophoretic display device |
| US4686524A (en) * | 1985-11-04 | 1987-08-11 | North American Philips Corporation | Photosensitive electrophoretic displays |
| US5053763A (en) * | 1989-05-01 | 1991-10-01 | Copytele, Inc. | Dual anode flat panel electrophoretic display apparatus |
| US5077157A (en) * | 1989-11-24 | 1991-12-31 | Copytele, Inc. | Methods of fabricating dual anode, flat panel electrophoretic displays |
| US5187609A (en) * | 1991-03-27 | 1993-02-16 | Disanto Frank J | Electrophoretic display panel with semiconductor coated elements |
| US5174882A (en) * | 1991-11-25 | 1992-12-29 | Copytele, Inc. | Electrode structure for an electrophoretic display apparatus |
-
1993
- 1993-01-11 US US08/002,623 patent/US5345251A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-01-06 WO PCT/US1994/000209 patent/WO1994016427A1/en active IP Right Grant
- 1994-01-06 EP EP94905600A patent/EP0679284B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 1994-01-06 DE DE69418027T patent/DE69418027T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6741385B2 (en) | 2001-06-26 | 2004-05-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophoretic display device |
| US6822783B2 (en) | 2001-06-26 | 2004-11-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophoretic display unit, and driving method thereof |
Also Published As
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| DE69418027D1 (de) | 1999-05-27 |
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