JPH08507154A - 相互に嵌合した陰極および陽極を有する電気泳動表示パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ＥＰＩＤ電極構造体は、フェースプレート１０の上に配置された平行でかつ分枝しかつ相互に嵌合した複数個の陽極ライン１４および陰極ライン１２を有する。複数個のガード素子１６が、陽極ライン１４と陰極ライン１２の隣接する対の間に備えられる。第１実施例では、陽極ライン１４と陰極ライン１２とに垂直な方向に配列されたグリッドライン３４が、ＥＰＩＤの後方プレート３０に備えられる。または、二酸化シリコン２４２およびフォトレジスト２４４の中間被覆体の上に、グリッドライン２３４Ｂを堆積することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 相互に嵌合した陰極および陽極を有する電気泳動表示パネル 発明の技術分野 本発明は、電気泳動表示パネル装置とその製造法に関する。さらに詳細にいえ ば、本発明は、電気泳動ディスプレイ装置の陽極ライン、陰極ラインおよびグリ ッドラインの配置に関する。背景技術 電気泳動ディスプレイ装置（ＥＰＩＤＳ）は現在はよく知られた装置である。 種々のディスプレイ方式およびそれらの特徴が、本発明の発明人である、フラン クＪ．デサント（Ｆｒａｎｋ Ｊ．ＤｉＳａｎｔｏ）およびデニスＡ．クルソス （Ｄｅｎｉｓ Ａ．Ｋｒｕｓｏｓ）、の名前で発行され、そしてコピテル・イン ク・オブ・ハンチングトン・ステーション（Ｃｏｐｙｔｅｌｅ，Ｉｎｃ．ｏｆ Ｈｕｎｔｉｎｇｔｏｎ Ｓｔａｔｉｏｎ），ニューヨーク、に譲渡されたいくつ かの特許に開示されている。例えば、名称「電気泳動ディスプレイパネルとその 方法（ＥＬＥＣＴＲＯＰＨＯＲＥＴＩＣ ＤＩＳＰＬＡＹ ＰＡＮＥＬＳ ＡＮ Ｄ ＡＳＳＯＣＩＡＴＥＤ ＭＥＴＨＯＤＳ）」をいづれも有する米国特許第４ ，６５５，８９７号および第４，７３２，８３０号は、電気泳動ディスプレイ装 置の基本的な動作と構造を開示している。名称「電気泳動ディスプレイパネルと そのための方法（ＥＬＥＣＴＲＯＰＨＯＲＥＴＩＣ ＤＩＳＰＬＡＹ ＰＡＮＥ ＬＳ ＡＮＤ ＭＥＴＨＯＤＳ ＴＨＥＲＥＦＯＲ）」の米国特許第４，７４２ ，３４５号は、整合とコントラストの特性が優れたディスプレイ装置を開示して いる。このようなディスプレイ装置に関する他の多くの特許がまた、コピテル・ インク（Ｃｏｐｙｔｅｌｅ，Ｉｎｃ．）に譲渡されている。 前記で述べた特許に開示されているディスプレイパネルは、同じ基本原理に基 づいて動作する、すなわち、もし誘電性流体の中の荷電した顔料粒子の懸濁液が 印加電界の作用を受けるならば、顔料粒子は印加電界に応答してこの流体の中を 移動するであろう。誘電性流体と異なる色の顔料を有する粒子の、実質的に均一 な懸濁液を仮定すると、もし印加された静電界が局存化した場合、局存化した顔 料粒子の目に見える程度の移動が起こるであろう。局存化した顔料粒子のこの移 動により、静電界の極性と方向に応じて、および顔料粒子の荷電に応じて、粒子 濃度が局存化した領域または希薄化した領域が生ずる。前記米国特許に開示され ている電気泳動ディスプレイ装置は、ガラスのビューイングスクリーンの１つの 表面の上に水平に配置された、複数個の独立で平行な陰極行導電体素子または「 ライン」を有する、「トリオード型」ディスプレイ装置である。陰極素子の上に 堆積され、そして陰極素子と直角に配置された複数個の絶縁体ストリップを得る ために、陰極素子に達するまでフォトエッチされた絶縁性フォトレジスト部材の 層が、垂直方向に配列した複数個の独立で平行な列、すなわち、グリッド導電体 素子または「ライン」を形成する。ガラスキャップ部材は、懸濁液が入るための キャップの周縁のエッジに沿って観察窓を有する流体に対し気密な封止体を形成 する。そしてこのガラスキャップ部材はまた、キャップの内側の平坦な表面の上 に堆積された陽極プレートに対する基板としての役割を果たす。キャップが所定 の位置に配置される時、陽極の表面は、陰極素子とグリッド素子との両方に対し 、平行でかつ一定の間隔距離を有する。もし特定の粒子の懸濁液が仮定されるな らば、顔料粒子を吸引または反発する静電荷の符号を知ることができるであろう 。特定の電圧が陰極に印加されそして別の電圧がグリッドに印加される時、それ らが交差する近傍の領域は、誘電性流体の懸濁液の中の顔料粒子を吸引または反 発するのに十分な正味の電荷を引き受けるであろう。多数個の陰極ラインおよび グリッドラインが用いられるから、顔料が集中化および希薄化した局在した目に みえる領域を生ずるために、陰極素子およびグリッド素子の電圧を変えることに より制御することができる、多数個の離散した交差点が存在する。それで本質的 に、陰極とグリッドとの両方の動作電圧は、論理値１と論理値０とに対応する少 なくとも２つの状態を仮定できなければならない。陰極に対する論理値１は、顔 料の吸引または反発のいづれかに対応することができる。典型的には、特定の交 差点において陰極電圧とグリッド電圧との両方が論理値１である時にのみ、顔料 粒子の移動によりディスプレイ装置の上に情報の可視ビットの書き込みが行われ るために、陽極に対する交差点に十分な静電界が存在するように陰極電圧とグ リッド電圧が選定される。このビットを消去することができる。例えば、極性の 反転により、および陽極と陰極との間の消去電圧勾配と整合した交差点で生ずる 論理値ゼロ・ゼロ状態により、このビットを消去することができる。このように 、電気泳動ディスプレイ装置にディジタル化されたデータを表示することができ る。 また別のＥＰＩＤ構造体は、出願中特許第０７／３４５，８２５号で現在名称 「デュアル陽極平坦パネル電気泳動ディスプレイ装置（ＤＵＡＬ ＡＮＯＤＥ ＦＬＡＴ ＰＡＮＥＬ ＥＬＥＣＴＲＯＰＨＯＲＥＴＩＣ ＤＩＳＰＡＹ ＡＰ ＰＡＲＡＴＵＳ）」の米国特許第５，０５３，７６３号に開示されている。この 特許は、陰極／グリッドのマトリックスがトリオード型である電気泳動ディスプ レイ装置に関係し、複数個の独立でかつ個別に呼び出し可能な「ローカル」陽極 ラインによりディスプレイが上に配置される。これらのローカル陽極ラインが、 グリッドラインの上におよびグリッドラインと整合して堆積され、そしてフォト レジストの介在ラインによりそれから絶縁される。ローカル陽極ラインは、「リ モート」陽極に付加される。リモート陽極は、陽極フェースプレートの上または トリオード型ディスプレイのようにキャップの上に、堆積された層である。前記 のデュアル陽極構造体により、フレームの間のディスプレイの明るさの好ましく ない変動を消去することにより、およびディスプレイの速度を増大することによ り、および書込みサイクルおよび保持サイクルの期間中必要な陽極電圧を減少す ることにより、そこですべてが説明されたように、増強された動作が得られる。 米国特許第５，０５３，７６３号を調べてみると、そこで用いられているロー カル陽極構造体は、クロムのような第１金属で作成されたグリッド素子の上に、 フォトレジストの層を作成することにより実現される。このフォトレジスト層の 上に、第２金属の層が作成される。この第２金属は、例えば、ニッケルまたはア ルミニウムであることができる。この第２金属層の上に、さらに別のフォトレジ ストの層が作成される。次に、このさらに別のフォトレジスト層が、グリッド素 子と同じ方式で、マスクされ、露光され、そして現像される。次に、この第２金 属層に対し、適切な溶液でエッチングが行われる。次に、第１金属層と第２金属 層との間のフォトレジストに、プラズマ・エッチングが行われる。次に、得られ た構造体の上に、ＳｉＯ₂の層が堆積される。 本出願の譲渡人であるコピテル・インク（Ｃｏｐｙｔｅｌｅ，Ｉｎｃ．）に譲 渡された１対の出願中特許は本出願と関連を有し、および本出願と共に出願中で ある。名称「相互に嵌合したローカル陽極を備えた電気泳動ディスプレイパネル （ＥＬＥＣＴＲＯＰＨＯＲＥＴＩＣ ＤＩＳＰＬＡＹ ＰＡＮＥＬ ＷＩＴＨ ＩＮＴＥＲＬＥＡＶＥＤ ＬＯＣＡＬ ＡＮＯＤＥ）」の出願中特許第０７／７ ４６，８５４号は、電気泳動ディスプレイ構造体に関する。この構造体では、ロ ーカル陽極素子は、同じ請求項の中のディスプレイ装置のグリッド素子と相互に 嵌合している。ローカル陽極素子とグリッド素子との両方が、ガラスのフェース プレートの上にある陰極素子の上のフォトレジストの上に堆積される。相互嵌合 したローカル陽極素子およびグリッド素子は、１つのマスクを用いることにより 両方が同時に作成される。 名称「電気泳動ディスプレイ装置のための電極構造体（ＥＬＥＣＴＲＯＤＥ ＳＴＲＵＣＴＵＲＥ ＦＯＲ ＡＮ ＥＬＥＣＴＲＯＰＨＯＲＥＴＩＣ ＤＩＳ ＰＬＡＹ ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ）」の出願中特許第０７／７９６，７６１号にお いて、特定の陽極ライン・セグメントに付随して意図された領域を越えて電気泳 動効果が広がるという問題点および漏話の問題点を解決するために、導電体スト リップは、文字ライン素子、特に陽極ライン、と相互に嵌合する。消去モードで は、選定された１個の文字または文字の群を消去するために用いられる陽極ライ ン・セグメントと反対の極性を有する電圧で、相互に嵌合した制御ラインが荷電 される。極性のこの違いにより、選定された陽極ラインに付随する消去が、特定 の陽極ラインに付随する文字に限定されることと、消去されるべきでない隣接す る文字の消去にまで広がらないこととが、確実に得られる。 本発明の１つの目的は、前記特許および応用に示されたよりも特性の優れたま た別の構造体、および陽極／陰極／グリッドのマトリックスを製造する方法を得 ることである。発明の開示 従来の電気泳動ディスプレイ装置に付随する問題点および欠点は、本発明によ り解決される。本発明の電気泳動ディスプレイ装置は、ディスプレイ装置のフェ ースプレートの上で与えられた方向に配列した複数個の平行な陰極ラインと、前 記陰極ラインから絶縁されかつそれらに全体的に垂直に配置された複数個のグリ ッドラインとのＸ−Ｙマトリックスを有し、および複数個の陽極ラインが、陰極 ラインの間でかつ陰極ラインから絶縁されて、フェースプレートの上に配置され るという改良点を有する。複数個の平行で交代する陰極ラインと陽極ラインがＥ ＰＩＤのフェースプレートの上に同時に作成されるという、付随する製造法に従 って、このＥＰＩＤを作成することができる。この陽極ラインと陰極ラインのお のおのは、フェースプレートの上に堆積された導電体部材の第１層と、この第１ 層の上に堆積された第２導電体層とを有する。この第２層が陰極ラインから除去 される。その後、複数個のグリッドラインが、陽極ラインと陰極ラインに垂直に 作成される。次に、流体の入っている容器が形成され、そしてこの容器が電気泳 動流体で満たされる。このＥＰＩＤは、グリッドラインに０ボルトを印加し、陽 極ラインに０ボルトを印加し、および陰極ラインに＋１５ボルトを印加すること により、消去モードで動作することができる。図面の簡単な説明 本発明をさらによく理解するために、添付図面に例示された実施例を参照して 、下記で本発明をさらに詳細に説明する。 第１図は、本発明の例示された１つの実施例に従う電気泳動ディスプレイ装置 のフェースプレートの上で相互に嵌合した陽極ラインおよび陰極ラインの拡大平 面図。 第２図は、第１図の陽極／陰極のマトリックスを作成するためのマスクの拡大 平面図。 第３図は、第１図に示された電気泳動ディスプレイ装置の陽極／陰極フェース プレートの切断線III−IIIに沿っての横断面の一部分を矢印の方向から見た拡大 横断面図。 第４図は、第１図および第３図に示された陽極／陰極フェースプレートを用い た電気泳動ディスプレイ装置の一部分の横断面図。 第５図は、本発明の例示された第２実施例に従う電気泳動ディスプレイ装置の フェースプレートの陽極素子および陰極素子の拡大平面図。 第６図は、第５図に示された陽極素子／陰極素子を作成するために用いられる マスクの拡大平面図。 第７図は、本発明の例示された第２実施例に従う電気泳動ディスプレイ装置の ガード素子を作成するために、第６図に示されたマスクと一緒に用いられる、第 ２マスクの拡大平面図。 第８図は、第５図の切断線VIII−VIIIに沿った横断面の矢印の方向から見た第 ５図に示された陽極素子／陰極素子構造体と共に、第６図および第７図に示され たマスクを用いて作成された本発明の例示された第２実施例に従う電気泳動ディ スプレイ装置の陽極／陰極フェースプレートの一部分の横断面図。 第９図は、第５図に示された陽極／陰極構造体の上にある、本発明の例示され た第３実施例に従うグリッド素子とガード素子の構造体の拡大平面図。 第１０図は、第９図に示された上にあるグリッド素子とガード素子の構造体と 共に、第５図に示された陽極／陰極フェースプレートの一部分の横断面図。本発明を実施するための最適のモード 第１図は、複数個の導電性の陰極素子１２と、複数個の導電性の陽極素子１４ と、複数個の導電性のガード素子１６とがその上に配置された、電気泳動ディス プレイ装置のためのフェースプレート１０を示した図である。陰極素子１２と陽 極素子１４のおのおのはフォーク状の形状を有し、かつフォーク状の歯を有し、 およびこれらの歯が相互に嵌合するように相互に向き合っている。従来、このフ ェースプレートはガラスで作成された。ガード素子１６は、陰極素子と陽極素子 のそれぞれの対の間に配置された、単に直線状の素子である。典型的な電気泳動 ディスプレイ装置は、多数個の陰極／陽極の対を有する。例えば、第１図では、 ７０４個のこのような群が示されている。陰極素子１２と陽極素子１４のフォー ク体は、それぞれの陰極素子に対する共通領域から出ている３個のフォーク体と 、それぞれの陽極素子１４に対する共通領域から出ている２個のフォーク体と、 ７０４個の陽極／陰極の対とを示すために、Ｋ１−１、Ｋ１−２など、およびＡ １−１、Ａ１−２などと、７０３個の中間の陰極素子を示すためにＧ１−Ｇ７０ ３が記されている。 陰極素子１２および陽極素子１４は、図を分かりやすくするために、フェース プレート１０に対して大幅に拡大されて示されている。けれども、動作可能なデ ィスプレイ装置のための素子の寸法の例が、適切な例を示すために、および第１ 図が第２図にどのように関連しているかを示すために、第１図に示されている。 第１図に示された陽極／陰極とガードの素子１２、１４、１６のパターンは、フ ォトエッチングの分野における当業者には周知であるように、それらを作成する ためのマスクに用いられるパターンと、正確に同じパターンである。フェースプ レートの上に導電体素子を作成するのに用いられる技術、部材、および寸法は、 およびＥＰＩＤＳを作成するのに通常用いられる方法は、米国特許第４，６５５ ，８９７号、第４，７３２，８３０号および第４，７４２，３４５号に開示され ている。前記特許の内容は、参考として本発明の中に取り込まれている。 第１図に示された構成体を製造する１つの代表的な方法は、ガラスのフェース プレート１０を酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）で被覆し、それをクロムの層で 被覆し、そして次にフォトジストの層で被覆する方法である。このフォトレジス トに、第１図に示された電極パターンと同じ構造を有するマスクを用いて、露光 が行われる。このフォトレジストはこの場合にはポジティブ性のフォトレジスト であるので、光に対し露出された面積領域は、現像段階の期間中、容易に溶解可 能になるであろう。露光の後、このフォトレジストが現像され、そして次に、ク ロム・エッチング溶液の中に入れられ、そしてその後、脱イオン水で徹底的に濯 ぎが行われる。そして次に、この濯ぎが行われた基板にＩＴＯエッチングが行わ れ、そしてその後、脱イオン水で再び濯ぎが行われる。 第２図は、第１図および第３図〜第４図に示された陽極／陰極／ガードのマト リックスを作成するのに用いられる第２マスクを示した図である。図に示されて いるように、第２図は、第１図の陽極素子１４に対応する素子を有するマスクを 示している。すなわち、マスク１７の基準マーク２０とフェースプレート１０の 基準マーク２０とが整合する時、陽極マスク素子１８が第１図の陽極素子１４の 上に正確に配置されるような寸法を有する。第１図および第２図に示され選定さ れた特別の寸法はさらに、第１図に示された陽極マスク素子１８と陽極素子１４ との整合を示している。前記で説明された段階により、第２図のマスク１７が基 板と整合した後、基板がマスク１７を通して光で照射される。その後、この基板 に現像が行われ、そして基板がクロム・エッチング溶液の中に入れられる。それ により、陽極素子１４の上に沈着されたクロム以外のすべてのクロムが、基板か ら除去される。 第３図は、前記で説明した方法により得られた構造体の図である。図に示され ているように、陽極素子１４は、ＩＴＯ層２２と、クロム層２４と、その上の保 護用フォトレジスト層２６とで構成される。フォトレジスト層２６は、第２図に 示されたマスク１７が作る影により得られる。クロム層が陰極素子１２からエッ チングにより除去された後、陽極素子１４の上のフォトレジスト層２６を除去す ることができる。そこでは、フォトレジスト層は導電体ではなく、したがって、 ＥＰＩＤ動作の期間中、フォトレジスト層は電気泳動効果に関して重要ではない 。第３図に示されているように、陰極素子１２とガード素子１４との両方が単に ＩＴＯから作成され、クロム層がそれからエッチングで除去される。 第４図は、マイラ・スペーサ３２により、フェースプレート１０に接合された 後方プレート３０を示している。これらのプレート１０および３０と、スペーサ ３２とにより、当業者には周知のように、電気泳動流体の入る容器が形成される 。後方プレート３０は、その上に配置された複数個の平行なＩＴＯまたはクロム のグリッドライン３４を、１インチ当たり約２００ライン（約２００ＬＰＩ）の 密度で有する。グリッドライン３４は、陽極素子１４および陰極素子１２に対し 直角に配置される。正面プレートと後方プレートとの間の間隔は、０．００１イ ンチ〜０．００４インチの間のいづれかの値であることができる。電気泳動ディ スプレイ装置２８を適切な電気泳動流体懸濁液で満たした後、このディスプレイ パネルは下記のように動作する。ディスプレイパネルを消去モードにするために 、黄色の負に表面荷電した顔料粒子を仮定し、およびフェースプレート１０で観 察するとして、グリッドライン３４がゼロボルトにされ、および陽極素子１４が ゼロボルトにされ、そして陰極素子１２が約＋１２ボルトの正電圧にされる。こ のことにより、すべての顔料が陰極素子１２に向かって移動することが起こり、 そしてディスプレイパネルは完全に黄色に見えるであろう。ディスプレイ装置を 保持モードにするために、約１５ボルトの正電圧が陽極素子１４に印加される。 このことは、消去状態にあるＥＰＩＤに実質的に目に見える効果を及ぼさない。 選 定された画素に書き込むために、グリッドライン３４に対し、ゼロ電圧レベルま たは負電圧レベルのいずれかを有するデータでロードが行われる。ゼロ電圧のグ リッドラインは書き込まれるべき画素に対応し、そして負電圧のグリッドライン は書き込まれるべきでない画素に対応する。グリッド素子３４にデータがロード されるならば、その場合、陰極素子１２が順次にゼロボルトにされる（走査され る）。ゼロ電圧を有するグリッドライン３４と呼び出された陰極ラインとの交点 において、顔料は陰極素子から＋１５ボルトにある陽極素子に向かって移動する 。もし呼び出された陰極素子１２により交差するグリッド素子３４が負電圧にあ るならば、この負電荷は顔料粒子が陰極１２から陽極１４に移動するのを防止し 、そしてその画素は書き込まれないままである。 第５図は、第１図に示された配置とは異なるまた別の陰極／陽極のマトリック スの配置を示した図である。この場合には、４個のフォークの歯状の陰極素子１ １２の複数個がフェースプレート１１０の上に配置され、そして３個のフォーク の歯状の陽極素子１１４の複数個と交互に嵌合している。第１図の１６のような ガード素子は、第５図の陰極／陽極のマトリックスの面内には配置されない。第 ５図に示された構造体は、ガラス板がＩＴＯで被覆され、そしてその後、クロム の層およびフォトレジストの層で被覆されることにより製造される。もしポジテ ィブ性のフォトレジストが用いられるならば、第５図に示されたパターンと同じ 構成のマスクを用いて、このフォトレジストに露光が行われる。このフォトレジ ストに現像が行われた後、基板がクロム・エッチング溶液の中に入れられ、そし てその後、脱イオン水で濯ぎが行われる。次に、得られた基板がＩＴＯエッチン グ溶液の中に入れられ、そしてその後、脱イオン水で濯ぎが行われる。第６図に 示された形式のマスクを用い、マスク１１７の基準マーク１２０が、第５図に示 されたフェースプレート１１０の基準マーク１２０と整合される。この位置にお いて、陽極素子１１８は、陽極／陰極のマトリックスの陽極素子１１４と整合す る。その後、この基板に露光が行われ、そして現像が行われる。露光の後、基板 がクロム・エッチング溶液の中に入れられ、それにより、陰極素子クロムがＩＴ Ｏのみを残して除去される。清浄化の後、チップ領域１３６および１３８以外の 表面全体に、二酸化シリコンが作成される。次に、厚さが約３マイクロメートル のフォトレジスト層が、この二酸化シリコン層の上に作成される。このフォトレ ジス層がチップ領域から除去され、そしてこの基板に事後焼き出しが行われる。 次に、約３，０００オングストロームのクロム層が、基板全体に対し作成される 。フォトレジストの層がクロム層に対して作成され、そして事前焼き出しが行わ れる。第７図に示されたガード・マスク素子１４２と共にマスク１４０を用いて 、前に作成されたクロム層からガード素子を作成することができる。被覆された 基板の上およびマスク１４０の上の基準マーク１２０を用いて、マスク１４０の 整合が行われる。露光と現像の後、クロム層にエッチングが行われ、そしてこの 基板に対し脱イオン水で濯ぎが行われる。その後、このようにして得られたパネ ルが、第４図に示されたようにその上にグリッド素子を有する後方プレートに対 して組み立てを行うことができる。 第８図は、前記の工程で得られた結果の横断面図である。前記で説明した実施 例と同じように、陰極素子１１２の全体がＩＴＯで構成され、一方、陽極素子１ １４はＩＴＯ層１２２およびクロム層１２４を有する。前記の実施例とは異なっ て、第８図に示された実施例は、陽極／陰極のマトリックスの表面全体の上に作 成された二酸化シリコンの層１４２と、事後焼き出された硬化したフォトレジス トの層１４４とを有する。厚さが３，００００オングストロームのクロム層が作 成されそしてガード・マスク１４２により被覆された領域以外がエッチングによ り除去されることにより、相互に嵌合した陽極素子１１４および陰極素子１１２ の群の間に、ガード部品１１６が配置される。次に、陰極と陽極を被覆している フォトレジストが、乾式エッチング技術を用いて除去される。 第１０図は、本発明のさらに別の実施例を示した図である。この実施例では、 陰極／陽極のマトリックス２１２、２１４と、ガード２１６およびグリッドライ ン２３４はすべて、フェースプレート２１０の上に作成される。第２実施例を製 造する従来の方法が用いられるが、ただし、厚さが３，００００オングストロー ムのクロム層をエッチングするために、第７図に示されたマスク１４０の代わり に、第９図に示されたマスク２４０が用いられる点が異なる。第９図に示された マスク２４０は、グリッド・マスク素子２４６のおのおのが、幹部分２４６Ｔと 複数個の垂直な分枝部分２４６Ｂとで構成されることを示している。同様に、ガ ード・マスク素子２４８のおのおのは、幹部分２４８Ｔと分枝部分２４８Ｂとで 構成される。マスク２４０のグリッドとガードの幹部分および分枝部分は、第１ ０図を調べると分かるように、電気泳動ディスプレイ装置のグリッド２３４およ びガード２１６の中の付随する幹部分と分枝部分に対応する。 第１０図は、第８図と同じように、ＩＴＯ層２２２とその上のクロム層２２４ とで構成される陽極素子２１４と、それらに交互嵌合したＩＴＯ陰極素子２１２ とを有するフェースプレート２１０の図である。交互嵌合した陽極素子２１４お よび陰極素子２１２は、二酸化シリコン層２４２および硬化したフォトレジスト 層２４４により被覆される。前記で説明したように、この第２実施例では、ガー ド１１６を作成する工程において、クロム層がその上のフォトレジスト層と共に 作成され、そしてその後、第９図に示されたマスクを用いてフォトレジスト層に 露光が行われる。このことにより、陽極／陰極のマトリックスの上に、第９図に 示されたパターンが作成される。グリッド素子の分枝部分２３４Ｂが交互嵌合し た陽極素子２１４と陰極素子２１２の中間に配置されるように、第９図のマスク が基板と整合される。中間にあるグリッド素子分枝部分２３４Ｂと幹部分２３４ Ｔが、第１０図に示されている。さらに、第９図のマスクを用いることにより、 隣接する陽極／陰極２１４、２１２の対の中間に配置された分枝２１６を有する ガード素子２１６が作成される。ガード２１６の幹部分２１６Ｔがこの図には示 されていないが、グリッド素子の幹部分２３４Ｔと同様の構造を有するであろう 。３０００オングストロームのクロム層をエッチンクしてガードとグリッドを作 成した後、陰極と陽極の上のフォトレジストが乾式エッチング技術を用いて除去 される。陽極２１４と、陰極２１２と、ガード２１６と、グリッド２３４とはす べて、最後の実施例においてフェースプレート２１０の上に作成されるから、電 気泳動容器を形成するための後方プレートはすべての導電体ラインをその上に有 する必要はなく、その代わり、透明なガラス板であることができる。第３実施例 で達成されるものは、単一の平面トリオードである。前記で説明された実施例に より、一定の利点が得られる。すなわち、陰極と陽極との間に最小の間隔距離が 存在するから、そして第３実施例ではグリッドとの間に最小の間隔距離が存在す るから、比較的小さな電圧を用いて顔料粒子を移動させることができる。これら の 構成体によりまたいずれの方向にも書き込みを行うことができ、そしてそれによ り、１個の画素の書き込みおよび消去を行うことができる。前記で説明したＥＰ ＩＤによりまた、提示される情報の急速な変更を行うことができる。 前記で説明された実施例は、単に例示された実施例であることを断っておく。 本発明の範囲内において種々に変更された実施例および修正された実施例の可能 であることは、当業者にはすぐに分かるであろう。

【手続補正書】特許法第１８４条の７第１項 【提出日】１９９４年５月１８日 【補正内容】 補正された請求の範囲 ［１９９４年５月１８日（１８．０５．９４）にインタナショナル・ビューロに より受理。オリジナル請求項２９は取消。オリジナル請求項１、３〜６、８、１ ５、２０〜２３、２５、２７および２８が補正される。その他の請求項には変更 はない。］ １．溶液の中に懸濁した複数個の電気泳動粒子を含有することができ、かつ少 なくとも１つの全体的に透明なフェースプレートを有する、ハウジングと、 前記フェースプレートの上に配置された全体的に平行な複数個の陰極ラインと 、 前記フェースプレートの上の前記陰極ラインの間に配置され、かつ前記陰極ラ インに全体的に平行に配置された、複数個の陽極ラインと、 前記陰極ラインと前記陽極ラインとに全体的に垂直な方向に配置された複数個 のグリッドラインであって、前記陰極ラインと前記陽極ラインと前記グリッドラ インとに電気ポテンシャルを選択的に印加することにより、前記陰極ラインと前 記陽極ラインとの間の前記電気泳動粒子の流れが制御される、前記複数個のグリ ッドラインと、 を有する電気泳動ディスプレイ装置。 ２．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインが前記 陰極ラインよりも前記フェースプレートから離れた位置にまで延長されるように 、前記陽極ラインの厚さが記陰極ラインの厚さよりも大きい、前記電気泳動ディ スプレイ装置。 ３．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインおよび 前記陰極ラインのおのおのがフォークの歯状の形状を有し、かつ前記陰極ライン の前記歯が前記陽極ラインの前記歯と相互に嵌合している、前記電気泳動ディス プレイ装置。 ４．第３項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインのおの おのが２個の前記陰極ラインの間に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置 。 ５．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記フェースプレート の上に配置された複数個のガードラインをさらに有し、かつ前記陽極ラインと前 記陰極ラインとの間の前記電気泳動粒子の流れの範囲を前記ガードラインが制御 する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ６．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陰極ラインおよび 前記陽極ラインの上に半導体の被覆体をさらに有する、前記電気泳動ディスプレ イ装置。 ７．第６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記半導体被覆体の上 に堆積された絶縁体部材の層をさらに有する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ８．第７項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、複数個のガードライン が前記絶縁体部材の上に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ９．第８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドラインが 前記絶縁体部材の上に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 10． 第９項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドライン のおのおのが前記陰極ラインに垂直に配列した幹部分を有し、かつ前記幹部分か ら延長されかつ前記陰極ラインに平行な少なくとも１つの分枝を備えた、前記電 気泳動ディスプレイ装置。 11． 第１０項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記少なくとも１ つのグリッドライン分枝が前記陽極ラインおよび前記陰極ラインの相互に嵌合し た歯の全体的に中間に配置された複数個の分枝である、前記電気泳動ディスプレ イ装置。 12． 第８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記ガードラインの おのおのが前記陰極ラインに垂直に配列した幹部分を有し、かつ前記幹部分から 延長されかつ前記陰極ラインに平行な少なくとも１つの分枝を備えた、前記電気 泳動ディスプレイ装置。 13． 第１２項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記少なくとも１ つのガードライン分枝が前記陽極ラインと前記陰極ラインの隣接する対の全体的 に中間に配置された複数個の分枝である、前記電気泳動ディスプレイ装置。 14． 第６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記半導体が二酸化 シリコンである、前記電気泳動ディスプレイ装置。 15． 第７項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記絶縁体がフォト レジストである、前記電気泳動ディスプレイ装置。 16． 第５項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記ガードラインの 少なくとも１つが前記陽極ラインと前記陰極ラインの隣接する対のおのおのの間 に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 17． 第１６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドライ ンが前記フェースプレートから離れた位置にある後方プレートの上に配置される 、前記電気泳動ディスプレイ装置。 18． 第２項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陰極ラインが導 電体部材の単一の層で作成され、かつ前記陽極ラインが導電体部材の少なくとも ２つの層を有する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 19． 第１８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記単一層が酸化 インジウム・スズであり、かつ前記少なくとも２つの層が酸化インジウム・スズ の層およびクロムの層である、前記電気泳動ディスプレイ装置。 20． フェースプレートを備える段階と、 前記陰極ラインに全体的に平行であり、かつ前記フェースプレートの上の前記 陰極ラインの間に配置された、全体的に平行な複数個の陽極ラインを作成する段 階と、 前記陽極ラインおよび前記陰極ラインに全体的に垂直であり、かつ前記フェー スプレートから離れた位置に配置された、複数個のグリッドラインを作成する段 階と、 前記フェースプレートを用いて流体の入る容器を作成する段階と、 前記容器を電気泳動流体で満たす段階と、 を有する、ＥＰＩＤの製造法。 21． 第２０項記載の製造法において、半導体部材の被覆体で前記陰極ライン および前記陽極ラインを被覆する段階をさらに有する、前記製造法。 22． 第２０項記載の製造法において、前記フェースプレートの上に複数個の ガード素子を作成する段階をさらに有する、前記製造法。 23． 第２２項記載の製造法において、前記絶縁体部材の上に前記ガードライ ンを作成する段階をさらに有する、前記製造法。 24． 第２１項記載の製造法において、前記グリッドラインが前記絶縁体部材 の上に作成される、前記製造法。 25． 第２３項記載の製造法において、前記グリッドＥＰＩＤが後方プレート を有し、かつ前記グリッドラインが前記ＥＰＩＤの前記後方プレートの上に作成 される、前記製造法。 26． 第２０項記載の製造法において、前記陽極ラインおよび前記陰極ライン が 前記フェースプレートの１つの側面を酸化インジウム・スズで被覆する段階と 、 前記酸化インジウム・スズをクロムの層で被覆する段階と、 前記クロム層をフォトレジストで被覆する段階と、 その上に陽極ライン・パターンおよび陰極ライン・パターンを有するマスクを 通して前記フォトレジストを露光する段階と、 前記フォトレジストを現像する段階と、 前記クロム層をエッチングする段階と、 前記酸化インジウム・スズ層をエッチングする段階と、 前記陽極素子のみの影を作るマスクを通して得られた基板を再露光する段階と 、 前記フォトレジストを現像する段階と、 前記クロム層をエッチングする段階と、 により作成される、前記製造法。 27． 第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記複数個のグリッ ドラインが前記フェースプレートから所定の距離の位置に配置される、前記電気 泳動ディスプレイ装置。 28． 第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記複数個のグリッ ドラインが前記フェースプレートの上に配置される、前記電気泳動ディスプレイ 装置。 【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９４年６月２７日 【補正内容】 請求の範囲 １．溶液の中に懸濁した複数個の電気泳動粒子を含有することができ、かつ少 なくとも１つの全体的に透明なフェースプレートを有する、ハウジングと、 前記フェースプレートの上に配置された全体的に平行な複数個の陰極ラインと 、 前記フェースプレートの上の前記陰極ラインの間に配置され、かつ前記陰極ラ インに全体的に平行に配置された、複数個の陽極ラインと、 前記陰極ラインと前記陽極ラインとに全体的に垂直な方向に配置された複数個 のグリッドラインであって、前記陰極ラインと前記陽極ラインと前記グリッドラ インとに電気ポテンシャルを選択的に印加することにより、前記陰極ラインと前 記陽極ラインとの間の前記電気泳動粒子の流れが制御される、前記複数個のグリ ッドラインと、 を有する電気泳動ディスプレイ装置。 ２．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインが前記 陰極ラインよりも前記フェースプレートから離れた位置にまで延長されるように 、前記陽極ラインの厚さが記陰極ラインの厚さよりも大きい、前記電気泳動ディ スプレイ装置。 ３．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインおよび 前記陰極ラインのおのおのがフォークの歯状の形状を有し、かつ前記陰極ライン の前記歯が前記陽極ラインの前記歯と相互に嵌合している、前記電気泳動ディス プレイ装置。 ４．第３項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインのおの おのが２個の前記陰極ラインの間に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置 。 ５．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記フェースプレート の上に配置された複数個のガードラインをさらに有し、かつ前記陽極ラインと前 記陰極ラインとの間の前記電気泳動粒子の流れの範囲を前記ガードラインが制御 する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ６．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陰極ラインおよび 前記陽極ラインの上に半導体の被覆体をさらに有する、前記電気泳動ディスプレ イ装置。 ７．第６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記半導体被覆体の上 に堆積された絶縁体部材の層をさらに有する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ８．第７項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、複数個のガードライン が前記絶縁体部材の上に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ９．第８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドラインが 前記絶縁体部材の上に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 10． 第９項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドライン のおのおのが前記陰極ラインに垂直に配列した幹部分を有し、かつ前記幹部分か ら延長されかつ前記陰極ラインに平行な少なくとも１つの分枝を備えた、前記電 気泳動ディスプレイ装置。 11． 第１０項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記少なくとも１ つのグリッドライン分枝が前記陽極ラインおよび前記陰極ラインの相互に嵌合し た歯の全体的に中間に配置された複数個の分枝である、前記電気泳動ディスプレ イ装置。 12． 第８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記ガードラインの おのおのが前記陰極ラインに垂直に配列した幹部分を有し、かつ前記幹部分から 延長されかつ前記陰極ラインに平行な少なくとも１つの分枝を備えた、前記電気 泳動ディスプレイ装置。 13． 第１２項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記少なくとも１ つのガードライン分枝が前記陽極ラインと前記陰極ラインの隣接する対の全体的 に中間に配置された複数個の分枝である、前記電気泳動ディスプレイ装置。 14． 第６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記半導体が二酸化 シリコンである、前記電気泳動ディスプレイ装置。 15． 第７項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記絶縁体がフォト レジストである、前記電気泳動ディスプレイ装置。 16． 第５項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記ガードラインの 少なくとも１つが前記陽極ラインと前記陰極ラインの隣接する対のおのおのの間 に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 17． 第１６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドライ ンが前記フェースプレートから離れた位置にある後方プレートの上に配置される 、前記電気泳動ディスプレイ装置。 18． 第２項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陰極ラインが導 電体部材の単一の層で作成され、かつ前記陽極ラインが導電体部材の少なくとも ２つの層を有する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 19． 第１８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記単一層が酸化 インジウム・スズであり、かつ前記少なくとも２つの層が酸化インジウム・スズ の層およびクロムの層である、前記電気泳動ディスプレイ装置。 20． フェースプレートを備える段階と、 前記陰極ラインに全体的に平行であり、かつ前記フェースプレートの上の前記 陰極ラインの間に配置された、全体的に平行な複数個の陽極ラインを作成する段 階と、 前記陽極ラインおよび前記陰極ラインに全体的に垂直であり、かつ前記フェー スプレートから離れた位置に配置された、複数個のグリッドラインを作成する段 階と、 前記フェースプレートを用いて流体の入る容器を作成する段階と、 前記容器を電気泳動流体で満たす段階と、 を有する、ＥＰＩＤの製造法。 21． 第２０項記載の製造法において、半導体部材の被覆体で前記陰極ライン および前記陽極ラインを被覆する段階をさらに有する、前記製造法。 22． 第２０項記載の製造法において、前記フェースプレートの上に複数個の ガード素子を作成する段階をさらに有する、前記製造法。 23． 第２２項記載の製造法において、前記絶縁体部材の上に前記ガードライ ンを作成する段階をさらに有する、前記製造法。 24． 第２１項記載の製造法において、前記グリッドラインが前記絶縁体部材 の上に作成される、前記製造法。 25． 第２３項記載の製造法において、前記グリッドＥＰＩＤが後方プレート を有し、かつ前記グリッドラインが前記ＥＰＩＤの前記後方プレートの上に作成 される、前記製造法。 26． 第２０項記載の製造法において、前記陽極ラインおよび前記陰極ライン が 前記フェースプレートの１つの側面を酸化インジウム・スズで被覆する段階と 、 前記酸化インジウム・スズをクロムの層で被覆する段階と、 前記クロム層をフォトレジストで被覆する段階と、 その上に陽極ライン・パターンおよび陰極ライン・パターンを有するマスクを 通して前記フォトレジストを露光する段階と、 前記フォトレジストを現像する段階と、 前記クロム層をエッチングする段階と、 前記酸化インジウム・スズ層をエッチングする段階と、 前記陽極素子のみの影を作るマスクを通して得られた基板を再露光する段階と 、 前記フォトレジストを現像する段階と、 前記クロム層をエッチングする段階と、 により作成される、前記製造法。 27． 第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記複数個のグリッ ドラインが前記フェースプレートから所定の距離の位置に配置される、前記電気 泳動ディスプレイ装置。 28． 第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記複数個のグリッ ドラインが前記フェースプレートの上に配置される、前記電気泳動ディスプレイ 装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．電気泳動ディスプレイ装置のフェースプレートの上において与えられた方 向に配列された複数個の平行な陰極ラインと、前記陰極ラインから絶縁されかつ 前記陰極ラインに対し全体的に垂直に配列された複数個のグリッドラインと、の Ｘ−Ｙマトリックスを有する電気泳動ディスプレイ装置であって、 前記フェースプレートの上に配列されおよび前記陰極ラインの間に配置されか つ前記陰極ラインから絶縁された複数個の陽極ラインを有する、 ことを特徴とする前記電気泳動ディスプレイ装置。 ２．第１項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインが前記 陰極ラインよりも前記フェースプレートから離れた位置にまで延長されるように 、前記陽極ラインの厚さが記陰極ラインの厚さよりも大きい、前記電気泳動ディ スプレイ装置。 ３．第２項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインおよび 前記陰極ラインのおのおのがフォークの歯状の形状を有し、かつ前記陰極ライン の前記歯が前記陽極ラインの前記歯と相互に嵌合している、前記電気泳動ディス プレイ装置。 ４．第３項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインのおの おのが対応する前記陰極ラインと対を形成する、前記電気泳動ディスプレイ装置 。 ５．第４項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陽極ラインおよび 前記陰極ラインによる電気泳動効果の範囲を制御するために複数個のガードライ ンをさらに有する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ６．第５項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陰極ラインおよび 前記陽極ラインの上に半導体の被覆体をさらに有する、前記電気泳動ディスプレ イ装置。 ７．第６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記半導体被覆体の上 に堆積された絶縁体部材の層をさらに有する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ８．第７項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記ガードラインが前 記陽極ラインと前記陰極ラインの隣接する対のほぼ中間の前記絶縁体部材の上に 配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 ９．第８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドラインが 前記絶縁体部材の上に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 10． 第９項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドライン のおのおのが前記陰極ラインに垂直に配列した幹部分を有し、かつ前記幹部分か ら延長され前記陰極ラインに平行な少なくとも１つの分枝を備えた、前記電気泳 動ディスプレイ装置。 11． 第１０項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記少なくとも１ つのグリッドライン分枝が前記陽極ラインおよび前記陰極ラインの相互に嵌合し た歯の全体的に中間に配置された複数個の分枝である、前記電気泳動ディスプレ イ装置。 12． 第８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記ガードラインの おのおのが前記陰極ラインに垂直に配列した幹部分を有し、かつ前記幹部分から 延長され前記陰極ラインに平行な少なくとも１つの分枝を備えた、前記電気泳動 ディスプレイ装置。 13． 第１２項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記少なくとも１ つのガードライン分枝が前記陽極ラインと前記陰極ラインの隣接する対の全体的 に中間に配置された複数個の分枝である、前記電気泳動ディスプレイ装置。 14． 第６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記半導体が二酸化 シリコンである、前記電気泳動ディスプレイ装置。 15． 第７項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記絶縁体がフォト レジストである、前記電気泳動ディスプレイ装置。 16． 第５項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記ガードラインの 少なくとも１つが前記陽極ラインと前記陰極ラインの隣接する対のおのおのの間 に配置される、前記電気泳動ディスプレイ装置。 17． 第１６項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記グリッドライ ンが前記フェースプレートから離れた位置にある後方プレートの上に配置される 、前記電気泳動ディスプレイ装置。 18． 第２項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記陰極ラインが導 電体部材の単一の層で作成され、かつ前記陽極ラインが導電体部材の少なくとも ２つの層を有する、前記電気泳動ディスプレイ装置。 19． 第１８項記載の電気泳動ディスプレイ装置において、前記単一層が酸化 インジウム・スズであり、かつ前記少なくとも２つの層が酸化インジウム・スズ の層およびクロムの層である、前記電気泳動ディスプレイ装置。 20． （イ） フェースプレートの上に堆積された導電体部材の第１層と前記 第１層の上に堆積された第２導電体層とをおのおのが有する複数個の交代する平 行な陰極ラインおよび陽極ラインをＥＰＩＤのフェースプレートの上に同時に作 成する段階と、 （ロ） 前記陰極ラインから前記第２層を除去する段階と、 （ハ） 前記陽極ラインおよび前記陰極ラインに垂直な複数個のグリッドライ ンを作成する段階と、 （ニ） 流体の入る容器を作成する段階と、 （ホ） 前記容器を電気泳動流体で満たす段階と、 を有する、ＥＰＩＤの製造法。 21． 第２０項記載の製造法において、前記除去段階の後半導体部材の被覆体 で前記陰極ラインおよび前記陽極ラインを被覆する段階と、前記半導体を絶縁体 部材で被覆する段階とをさらに有する、前記製造法。 22． 第２０項記載の製造法において、前記陰極ラインおよび前記陽極ライン の対の中間の複数個のガード素子がそれらと同時に作成される、前記製造法。 23． 第２２項記載の製造法において、前記ガードラインが前記絶縁体部材の 上に作成される、前記製造法。 24． 第２１項記載の製造法において、前記グリッドラインが前記絶縁体部材 の上に作成される、前記製造法。 25． 第２３項記載の製造法において、前記グリッドラインが前記ＥＰＩＤの 後方プレートの上に作成される、前記製造法。 26． 第２０項記載の製造法において、前記陽極ラインおよび前記陰極ライン が 前記フェースプレートの１つの側面を酸化インジウム・スズで被覆する段階と 、 前記酸化インジウム・スズをクロムの層で被覆する段階と、 前記クロム層をフォトレジストで被覆する段階と、 その上に陽極ライン・パターンおよび陰極ライン・パターンを有するマスクを 通して前記フォトレジストを露光する段階と、 前記フォトレジストを現像する段階と、 前記クロム層をエッチングする段階と、 前記酸化インジウム・スズ層をエッチングする段階と、 前記陽極素子のみの影を作るマスクを通して得られた基板を再露光する段階と 、 前記フォトレジストを現像する段階と、 前記クロム層をエッチングする段階と、 により作成される、前記製造法。 27． 陽極ラインおよび陰極ラインから絶縁されかつ間隔を有して配置された グリッドと共にフェースプレートの上に配置された平行な前記陽極ラインおよび 前記陰極ラインを有し、かつ負に表面荷電した顔料粒子を有する、ＥＰＩＤの動 作方法であって、 （イ） 前記グリッドラインに０ボルトを印加し、 （ロ） 前記陽極ラインに０ボルトを印加し、 （ハ） 前記陰極ラインに＋１５ボルトを印加する、 ことにより前記ＥＰＩＤを消去モードにする段階を有する、前記動作方法。 28． 第２７項記載の動作方法において、前記陽極ラインに＋１５ボルトを印 加することにより消去モードに置かれた後、前記EＰＩＤを保持モードに置く段 階をさらに有する、前記動作方法。 29． 第２８項記載の動作方法において、 （イ） 書き込みに対してイネーブルにされるラインに対応して０ボルトをグ リッドラインに印加しそして書き込みに対してディスエーブルにされるラインに 対応してグリッドラインに負電圧を印加して、書き込まれるべき画素を指定する ために前記グリッドラインにデータをロードする段階と、 （ロ） 陰極ラインのおのおのに０ボルトを順次に印加し、それにより０ボル トのグリッドラインと０ボルトの陰極ラインとの交点に画素の書き込みが行われ る段階と、 により保持モードにある前記ＥＰＩＤに選択的書き込みを行う段階をさらに有す る、前記動作方法。