JP2739872B2 - 石膏の撥水化含浸法 - Google Patents
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- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/60—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only artificial stone
- C04B41/61—Coating or impregnation
- C04B41/62—Coating or impregnation with organic materials
- C04B41/64—Compounds having one or more carbon-to-metal of carbon-to-silicon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/20—Resistance against chemical, physical or biological attack
- C04B2111/27—Water resistance, i.e. waterproof or water-repellent materials
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- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
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- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｓｉ結合した水素原子
を有するオルガノシロキサンおよびアルカリ金属珪酸塩
で処理することにより石膏を撥水化含浸する方法に関す
る。
を有するオルガノシロキサンおよびアルカリ金属珪酸塩
で処理することにより石膏を撥水化含浸する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第３４５５７１０号明細書か
ら、Ｓｉ結合した水素原子を有するオルガノシロキサン
（Ｈ−シロキサン）を含浸することにより石膏に撥水特
性を付与できることが公知である。この明細書には石膏
および水酸化カルシウムからなる混合物にＨ−シロキサ
ンを含浸することが記載されている。水酸化カルシウム
はＨ−シロキサンの撥水作用を向上する。しかしながら
水酸化カルシウムは水に溶けにくく、従って好ましくな
い大量の水の中でまたは配量しにくいスラリー、すなわ
ち泥状物として使用できるにすぎない。
ら、Ｓｉ結合した水素原子を有するオルガノシロキサン
（Ｈ−シロキサン）を含浸することにより石膏に撥水特
性を付与できることが公知である。この明細書には石膏
および水酸化カルシウムからなる混合物にＨ−シロキサ
ンを含浸することが記載されている。水酸化カルシウム
はＨ−シロキサンの撥水作用を向上する。しかしながら
水酸化カルシウムは水に溶けにくく、従って好ましくな
い大量の水の中でまたは配量しにくいスラリー、すなわ
ち泥状物として使用できるにすぎない。
【０００３】Ｈ−シロキサンの撥水作用はシリコネート
（siliconate）を添加することにより向上することがで
きる。しかしながら多くの量の比較的高価なシリコネー
トが必要である。
（siliconate）を添加することにより向上することがで
きる。しかしながら多くの量の比較的高価なシリコネー
トが必要である。
【０００４】石膏成形体、たとえば石膏ボードもしくは
プラスターボードの大量生産においては一般に石膏を
水、疎水化剤およびほかの添加剤と混合することにより
石膏スラリーを製造し、これを引き続き乾燥する。高い
乾燥温度は連続的な生産ラインにおける走行時間を短縮
する。しかしながら９０℃で乾燥した石膏成形体はこれ
より低い熱で乾燥した石膏成形体に比べて飛躍的に高め
られた水の吸収を有する。Ｈ−シロキサンでの疎水化は
この種の石膏成形体においてはほとんど効果がない。Ｈ
−シロキサンおよび水酸化カルシウムを有する石膏成形
体は９０℃で乾燥すると高い水の吸収を示す。
プラスターボードの大量生産においては一般に石膏を
水、疎水化剤およびほかの添加剤と混合することにより
石膏スラリーを製造し、これを引き続き乾燥する。高い
乾燥温度は連続的な生産ラインにおける走行時間を短縮
する。しかしながら９０℃で乾燥した石膏成形体はこれ
より低い熱で乾燥した石膏成形体に比べて飛躍的に高め
られた水の吸収を有する。Ｈ−シロキサンでの疎水化は
この種の石膏成形体においてはほとんど効果がない。Ｈ
−シロキサンおよび水酸化カルシウムを有する石膏成形
体は９０℃で乾燥すると高い水の吸収を示す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の欠点を有しない石膏の撥水化含浸法を提供することで
あった。
の欠点を有しない石膏の撥水化含浸法を提供することで
あった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題は、石膏に、 （Ａ）Ｓｉ結合した水素原子を有するオルガノシロキサ
ン（Ｈ−シロキサン）を添加する石膏の撥水化含浸法に
おいて、 （Ｂ）石膏１００重量部に対してアルカリ金属珪酸塩
０．０５〜５重量部を添加することにより解決される。
ン（Ｈ−シロキサン）を添加する石膏の撥水化含浸法に
おいて、 （Ｂ）石膏１００重量部に対してアルカリ金属珪酸塩
０．０５〜５重量部を添加することにより解決される。
【０００７】Ｈ−シロキサンの撥水作用はアルカリ金属
珪酸塩を添加することにより著しく向上する。高い乾燥
温度で処理した石膏成形体においては撥水作用が特に優
れている。
珪酸塩を添加することにより著しく向上する。高い乾燥
温度で処理した石膏成形体においては撥水作用が特に優
れている。
【０００８】本発明による含浸法はＨ−シロキサンまた
は２種以上のＨ−シロキサンの混合物を用いて行うこと
ができる。Ｈ−シロキサンはたとえば油状物または樹脂
であってもよい。一般式１：
は２種以上のＨ−シロキサンの混合物を用いて行うこと
ができる。Ｈ−シロキサンはたとえば油状物または樹脂
であってもよい。一般式１：
【０００９】
【化２】
【００１０】で示される単位からなるＨ−シロキサンが
特に適しており、上記式中、Ｒ1は同じかまたは異なる
１価の、ハロゲン置換されていてもよいＣ1〜Ｃ15−炭
化水素基または炭化水素オキシ基またはヒドロキシル基
を表し、ａは０、１、２または３、平均して０．０１〜
１．２、特に０．１〜１であり、 ｂは０、１、２また
は３、平均して１．０〜２．０、特に１．４〜１．８で
あり、ただし分子当たり少なくとも１つのＳｉ結合した
水素原子が存在する。
特に適しており、上記式中、Ｒ1は同じかまたは異なる
１価の、ハロゲン置換されていてもよいＣ1〜Ｃ15−炭
化水素基または炭化水素オキシ基またはヒドロキシル基
を表し、ａは０、１、２または３、平均して０．０１〜
１．２、特に０．１〜１であり、 ｂは０、１、２また
は３、平均して１．０〜２．０、特に１．４〜１．８で
あり、ただし分子当たり少なくとも１つのＳｉ結合した
水素原子が存在する。
【００１１】Ｃ1〜Ｃ15−炭化水素基の例は、アルキル
基、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、たとえばｎ−ヘキシ
ル基、ヘプチル基、たとえばｎ−ヘプチル基、オクチル
基、たとえばｎ−オクチル基およびイソオクチル基、た
とえば２，２，４−トリメチルペンチル基、ノニル基、
たとえばｎ−ノニル基、デシル基、たとえばｎ−デシル
基、ドデシル基、たとえばｎ−ドデシル基、アルケニル
基、たとえばビニル基およびアリル基、シクロアルキル
基、たとえばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基、アリー
ル基、たとえばフェニル基、ナフチル基、アントリル基
およびフェナントリル基、アルカリール基、たとえばｏ
−，ｍ−，ｐ−トリル基、キシリル基およびエチルフェ
ニル基、アラルキル基、たとえばベンジル基、α−およ
びβ−フェニルエチル基である。
基、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、たとえばｎ−ヘキシ
ル基、ヘプチル基、たとえばｎ−ヘプチル基、オクチル
基、たとえばｎ−オクチル基およびイソオクチル基、た
とえば２，２，４−トリメチルペンチル基、ノニル基、
たとえばｎ−ノニル基、デシル基、たとえばｎ−デシル
基、ドデシル基、たとえばｎ−ドデシル基、アルケニル
基、たとえばビニル基およびアリル基、シクロアルキル
基、たとえばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基、アリー
ル基、たとえばフェニル基、ナフチル基、アントリル基
およびフェナントリル基、アルカリール基、たとえばｏ
−，ｍ−，ｐ−トリル基、キシリル基およびエチルフェ
ニル基、アラルキル基、たとえばベンジル基、α−およ
びβ−フェニルエチル基である。
【００１２】ハロゲン置換されたＣ1〜Ｃ15−炭化水素
基の例は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ
素原子で置換されたアルキル基、たとえば３，３，３−
トリフルオロ−ｎ−プロピル基、２，２，２，２′，
２′，２′−ヘキサフルオロイソプロピル基、ヘプタフ
ルオロイソプロピル基およびハロゲンアリール基、たと
えばｏ−，ｍ−，ｐ−クロロフェニル基である。
基の例は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ
素原子で置換されたアルキル基、たとえば３，３，３−
トリフルオロ−ｎ−プロピル基、２，２，２，２′，
２′，２′−ヘキサフルオロイソプロピル基、ヘプタフ
ルオロイソプロピル基およびハロゲンアリール基、たと
えばｏ−，ｍ−，ｐ−クロロフェニル基である。
【００１３】特に非置換のＣ1〜Ｃ6−アルキル基、特に
メチル基およびフェニル基が有利である。
メチル基およびフェニル基が有利である。
【００１４】Ｃ1〜Ｃ15−炭化水素オキシ基の例は、二
価の酸素原子を介して珪素原子に結合している前記のＣ
1〜Ｃ15−炭化水素基である。基Ｒ1、炭化水素オキシ基
またはヒドロキシル基は有利には最大５％であり、特に
０％である。
価の酸素原子を介して珪素原子に結合している前記のＣ
1〜Ｃ15−炭化水素基である。基Ｒ1、炭化水素オキシ基
またはヒドロキシル基は有利には最大５％であり、特に
０％である。
【００１５】Ｈ−シロキサンは有利には２５℃で最大３
００ｍｍ2／ｓ、特に５〜１００ｍｍ2／ｓの粘度を有す
る。線状のＨ−シロキサンが有利である。水素含量は有
利には０．０５〜５．０重量％である。
００ｍｍ2／ｓ、特に５〜１００ｍｍ2／ｓの粘度を有す
る。線状のＨ−シロキサンが有利である。水素含量は有
利には０．０５〜５．０重量％である。
【００１６】Ｈ−シロキサンは有機溶剤とともにまたは
有機溶剤なしで使用することができる。有利にはＨ−シ
ロキサンを界面活性剤と一緒に水性エマルジョンまたは
水性フォームとして使用する。
有機溶剤なしで使用することができる。有利にはＨ−シ
ロキサンを界面活性剤と一緒に水性エマルジョンまたは
水性フォームとして使用する。
【００１７】石膏１００重量部に対してＨ−シロキサン
を有利には０．１〜５重量部、特に０．２〜２重量部使
用する。
を有利には０．１〜５重量部、特に０．２〜２重量部使
用する。
【００１８】アルカリ金属珪酸塩として有利には水ガラ
スと呼ばれる珪酸のナトリウム塩およびカリウム塩を使
用する。
スと呼ばれる珪酸のナトリウム塩およびカリウム塩を使
用する。
【００１９】アルカリ金属珪酸塩は有利にはＳｉＯ2：
Ｍ2Ｏのモル比８．０〜０．５、特に５．０〜１．５を
有し、この場合にＭはアルカリ金属イオンである。
Ｍ2Ｏのモル比８．０〜０．５、特に５．０〜１．５を
有し、この場合にＭはアルカリ金属イオンである。
【００２０】石膏１００重量部に対してアルカリ金属珪
酸塩を有利には０．０５〜５重量部、特に０．１〜２重
量部使用する。
酸塩を有利には０．０５〜５重量部、特に０．１〜２重
量部使用する。
【００２１】石膏の種類のなかでたとえば建築用石膏、
彫刻用石膏または断熱用石膏（isoliergips）の形のプ
ラスター（ＣａＳＯ4・Ｈ2Ｏ）が有利である。しかしな
がら本発明による方法はほかの石膏種類、たとえばエス
トリヒ石膏、大理石セメントおよび無水石膏の含浸にも
適している。煙道ガス脱硫の際に生じる硫酸カルシウム
がきわめて適している。石膏は石膏成形体の製造を容易
にするかまたは石膏成形体の特性を向上する添加剤を含
有することができる。添加剤は、たとえばアルカリ土類
金属酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物、充填剤、
たとえば二酸化珪素およびセルロース繊維、促進剤、た
とえば硫酸カリウムおよび硫酸アルミニウム、遅延剤、
たとえばタンパク質または酒石酸塩、石膏スラリーのた
めの可塑剤、たとえばリグニンスルホネートおよびボー
ドのための定着剤、たとえば澱粉である。
彫刻用石膏または断熱用石膏（isoliergips）の形のプ
ラスター（ＣａＳＯ4・Ｈ2Ｏ）が有利である。しかしな
がら本発明による方法はほかの石膏種類、たとえばエス
トリヒ石膏、大理石セメントおよび無水石膏の含浸にも
適している。煙道ガス脱硫の際に生じる硫酸カルシウム
がきわめて適している。石膏は石膏成形体の製造を容易
にするかまたは石膏成形体の特性を向上する添加剤を含
有することができる。添加剤は、たとえばアルカリ土類
金属酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物、充填剤、
たとえば二酸化珪素およびセルロース繊維、促進剤、た
とえば硫酸カリウムおよび硫酸アルミニウム、遅延剤、
たとえばタンパク質または酒石酸塩、石膏スラリーのた
めの可塑剤、たとえばリグニンスルホネートおよびボー
ドのための定着剤、たとえば澱粉である。
【００２２】石膏の含浸は原料含浸で行うことができ
る、すなわちＨ−シロキサンおよびアルカリ金属珪酸塩
を成形体を成形する前に石膏スラリーに、場合によりほ
かの添加剤と一緒に配合する。アルカリ金属珪酸塩は水
溶性に優れ、従って原料含浸する際に乾燥した石膏また
は石膏スラリーに粉末としてまたは有利には水溶液とし
て添加することができる。原料含浸の場合は石膏として
有利にはＣａＳＯ4・１／２Ｈ2Ｏを使用する。
る、すなわちＨ−シロキサンおよびアルカリ金属珪酸塩
を成形体を成形する前に石膏スラリーに、場合によりほ
かの添加剤と一緒に配合する。アルカリ金属珪酸塩は水
溶性に優れ、従って原料含浸する際に乾燥した石膏また
は石膏スラリーに粉末としてまたは有利には水溶液とし
て添加することができる。原料含浸の場合は石膏として
有利にはＣａＳＯ4・１／２Ｈ2Ｏを使用する。
【００２３】Ｈ−シロキサンエマルジョンおよび珪酸カ
リウム溶液を加えた石膏を硬化する工程において水が再
び浸出する。十分に多くの重量を有する成形体において
はこの水がパール状に表面に流出する。成形体の機械的
特性も硬化時間も実質的に影響されない。流出する水量
は使用される水の約５〜２０重量％である。この水は機
械的に除去し、有利には別のバッチの混和水に供給する
ことができる、それというのもこの水はなおＨ−シロキ
サン、ほかのオルガノシロキサン、アルカリ金属珪酸塩
および場合によりほかの添加剤を含有することができる
からである。
リウム溶液を加えた石膏を硬化する工程において水が再
び浸出する。十分に多くの重量を有する成形体において
はこの水がパール状に表面に流出する。成形体の機械的
特性も硬化時間も実質的に影響されない。流出する水量
は使用される水の約５〜２０重量％である。この水は機
械的に除去し、有利には別のバッチの混和水に供給する
ことができる、それというのもこの水はなおＨ−シロキ
サン、ほかのオルガノシロキサン、アルカリ金属珪酸塩
および場合によりほかの添加剤を含有することができる
からである。
【００２４】浸出した水は成形体中の余分の水の一部で
あり、これは一般に乾燥により除去する。機械的に除去
可能な水は熱処理により乾燥しなくてよい。このことは
明らかなエネルギの節約を生じる。
あり、これは一般に乾燥により除去する。機械的に除去
可能な水は熱処理により乾燥しなくてよい。このことは
明らかなエネルギの節約を生じる。
【００２５】石膏の含浸は成形体の成形後に、硬化後に
または乾燥の直後に行うことができる。この含浸はたと
えば浸漬、噴霧または塗布により施すことができる。
または乾燥の直後に行うことができる。この含浸はたと
えば浸漬、噴霧または塗布により施すことができる。
【００２６】本発明による方法においてはＨ−シロキサ
ンとアルカリ金属珪酸塩の重量比は有利には２０：１〜
１：５、特に６：１〜１：１である。
ンとアルカリ金属珪酸塩の重量比は有利には２０：１〜
１：５、特に６：１〜１：１である。
【００２７】
【実施例】以下の例においてはほかにことわりのない限
り ａ）すべての量表示は重量に関するものであり、 ｂ）すべての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対）であり、 ｃ）すべての温度は２５℃である。
り ａ）すべての量表示は重量に関するものであり、 ｂ）すべての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対）であり、 ｃ）すべての温度は２５℃である。
【００２８】例 例１ ａ）試験材料の製造 天然の石膏（ＣａＳＯ4・１／２Ｈ2Ｏ）１００重量部、
水８０重量部および場合により以下の添加剤から石膏ス
ラリーを製造し、円形の型に流し込み、直径８５ｍｍお
よび高さ６ｍｍを有する試験材料に成形した。３０分後
硬化した試験材料を取り出し、空気循環乾燥棚内で第１
表に記載の温度で５時間乾燥した。
水８０重量部および場合により以下の添加剤から石膏ス
ラリーを製造し、円形の型に流し込み、直径８５ｍｍお
よび高さ６ｍｍを有する試験材料に成形した。３０分後
硬化した試験材料を取り出し、空気循環乾燥棚内で第１
表に記載の温度で５時間乾燥した。
【００２９】添加剤として以下のものを使用した。
【００３０】Ｈ−シロキサンエマルジョン：水４７．５
重量部中の式：（ＣＨ3）3ＳｉＯ［ＳｉＨ（ＣＨ3）
Ｏ］xＳｉ（ＣＨ3）3で示され、ｘが４５〜９０である
トリメチルシリル−末端ブロック化したポリメチルヒド
ロゲンシロキサン混合物５０重量部および乳化剤として
ポリビニルアルコール２．５重量部のエマルジョン。
重量部中の式：（ＣＨ3）3ＳｉＯ［ＳｉＨ（ＣＨ3）
Ｏ］xＳｉ（ＣＨ3）3で示され、ｘが４５〜９０である
トリメチルシリル−末端ブロック化したポリメチルヒド
ロゲンシロキサン混合物５０重量部および乳化剤として
ポリビニルアルコール２．５重量部のエマルジョン。
【００３１】珪酸カリウム溶液：水７２重量部中のＳｉ
Ｏ2とＫ2Ｏのモル比３．８を有する珪酸カリウム２８重
量部の溶液。
Ｏ2とＫ2Ｏのモル比３．８を有する珪酸カリウム２８重
量部の溶液。
【００３２】粉末として水酸化カルシウム。
【００３３】ｂ）ＤＩＮ１８１８０に類似の水の吸収 試験材料を水平に、試料表面上の水が５０ｍｍになるよ
うに２３℃の水に浸漬した。２時間水に浸した後で試験
材料を水から取り出し、表面に付着する水を除去し、計
量により重量の増加を測定した。水の吸収を重量割合と
して％で第１表に記載した。
うに２３℃の水に浸漬した。２時間水に浸した後で試験
材料を水から取り出し、表面に付着する水を除去し、計
量により重量の増加を測定した。水の吸収を重量割合と
して％で第１表に記載した。
【００３４】 第１表 乾燥 水の吸収（％） 温度 添加剤 Ｈ−シロキサン 水酸化カルシウム 珪酸カリウム （℃） 使用せず エマルジョン １重量部＋ 溶液１重量部＋ １重量部 Ｈ−シロキサン Ｈ−シロキサン エマルジョン エマルジョン １重量部 １重量部 ４０ ４４．９ １４．２ ２．０ １．８ ５０ ４６．２ ２５．５ １．９ １．６ ６０ ４５．１ ２４．２ ３．５ ２．０ ７０ ４４．１ ２４．９ １．９ ２．１ ８０ ４５．８ ２９．２ ２．０ １．７ ９０ ７０．７ ７０．３ １０．７ ２．３ Ｈ−シロキサンエマルジョンおよび珪酸カリウム溶液を
用いて製造した試験材料の水の吸収は９０℃で乾燥後き
わめて低かった。
用いて製造した試験材料の水の吸収は９０℃で乾燥後き
わめて低かった。
【００３５】例２ ａ）試験材料の製造 天然の石膏（ＣａＳＯ4・１／２Ｈ2Ｏ）１００重量部、
水８０重量部および場合により添加剤から石膏スラリー
を製造し、型に流し込み、４０ｍｍ×４０ｍｍ×１６０
ｍｍの寸法を有する直方体状の試験材料に成形した。３
０分後硬化した試験材料を取り出した。添加剤および試
験材料の硬化特性を第２表に記載した。添加剤は例１に
記載されている。
水８０重量部および場合により添加剤から石膏スラリー
を製造し、型に流し込み、４０ｍｍ×４０ｍｍ×１６０
ｍｍの寸法を有する直方体状の試験材料に成形した。３
０分後硬化した試験材料を取り出した。添加剤および試
験材料の硬化特性を第２表に記載した。添加剤は例１に
記載されている。
【００３６】Ｈ−シロキサンエマルジョンおよび珪酸カ
リウム溶液を加えた石膏の硬化工程において水が再び浸
出した。この水はパール状に表面に流出した。
リウム溶液を加えた石膏の硬化工程において水が再び浸
出した。この水はパール状に表面に流出した。
【００３７】試験材料を空気循環乾燥棚内で４０℃で１
００時間乾燥した。
００時間乾燥した。
【００３８】ｂ）ＤＩＮ１８１８０に類似の水の吸収 試験材料を例１と同様に水中に浸漬し、表面に付着する
水を除去した。水の吸収を重量割合として％で第２表に
記載した。
水を除去した。水の吸収を重量割合として％で第２表に
記載した。
【００３９】 第２表 水の吸収（％） 硬化特性 添加剤使用せず ４４．８ 水浸出せず Ｈ−シロキサン ２．０ 水浸出せず エマルジョン１重量部 珪酸カリウム溶液 ０．８ 水８．２重量部が浸出した １重量部＋Ｈ−シロキサン これは使用した水 エマルジョン１重量部 １０重量％に相当する
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 83/04 ＬＲＸ Ｃ０８Ｌ 83/04 ＬＲＸ Ｃ０９Ｋ 3/18 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/18 １０４ // Ｃ０４Ｂ 111:27 (72)発明者 ヨハネス ミッターマイアー ドイツ連邦共和国 アルトエッティング コンフェントシュトラーセ ９ (56)参考文献 特開 平２−160651（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−41867（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】 石膏に、 （Ａ）Ｓｉ結合した水素原子を有するオルガノシロキサ
ン（Ｈ−シロキサン）を添加する石膏の撥水化含浸法に
おいて、 （Ｂ）石膏１００重量部に対してアルカリ金属珪酸塩
０．０５〜５重量部を添加することを特徴とする、石膏
の撥水化含浸法。 - 【請求項２】 Ｈ−シロキサンが一般式１： 【化１】 で示される単位から構成されており、上記式中、 Ｒ１は同じかまたは異なる１価の、ハロゲン置換されて
いてもよいＣ１〜Ｃ１５−炭化水素基または炭化水素オ
キシ基またはヒドロキシル基を表し、 ａは０、１、２または３、平均して０．０１〜１．２で
あり、かつ ｂは０、１、２または３、平均して１．０〜２．０であ
り、ただし分子当たり少なくとも１つのＳｉ結合した水
素原子が存在する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 アルカリ金属珪酸塩として珪酸のナトリ
ウム塩およびカリウム塩を使用する請求項１または２記
載の方法。 - 【請求項４】 石膏１００重量部に対してＨ−シロキサ
ン０．１〜５重量部を使用する請求項１から３までのい
ずれか１項記載の方法。 - 【請求項５】 Ｈ−シロキサンおよびアルカリ金属珪酸
塩を、成形体を成形する前に石膏スラリーに配合する請
求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4419257.6 | 1994-06-01 | ||
| DE4419257A DE4419257A1 (de) | 1994-06-01 | 1994-06-01 | Verfahren zur wasserabweisenden Imprägnierung von Gips |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07330413A JPH07330413A (ja) | 1995-12-19 |
| JP2739872B2 true JP2739872B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=6519592
Family Applications (1)
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