JP2736678B2 - ベンゾフエノン誘導体 - Google Patents

ベンゾフエノン誘導体

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JP2736678B2
JP2736678B2 JP1062373A JP6237389A JP2736678B2 JP 2736678 B2 JP2736678 B2 JP 2736678B2 JP 1062373 A JP1062373 A JP 1062373A JP 6237389 A JP6237389 A JP 6237389A JP 2736678 B2 JP2736678 B2 JP 2736678B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はベンゾフェノン誘導体および特にUV−硬化し
たラッカーの製造における光開始剤としてその使用に関
するものである。
〔従来の技術〕
金属、木材、紙、ボードおよびプラスチック材などの
広範囲の基板は、一般にUV−硬化したラッカーフィルム
で被覆される。周知の被覆物品の例は色沢のある雑誌、
書籍、食品包装物および飲料缶を包含する。一般にラッ
カーは、光開始剤を含有した重合しうる組成物で基板を
被覆し、次いで被覆された組成物を紫外光に露出して硬
化させることにより形成される。
一般にUV−硬化するラッカーを製造するための組成物
は脂質可溶性プレポリマーと脂質可溶性モノマーと脂質
可溶性光開始剤との混合物を含有する。たとえばＮ−メ
チルジエタノールアミンのような補助開始剤をも、しば
しば存在させる。この種の組成物の詳細は、R.ホルマン
により編集されかつ英国SITA−テクノロジー社により19
86年に出版された「印刷インキ、コーティングおよび塗
料のためのUV−およびEB硬化性組成物」に示されてい
る。この種の組成物は各種の基板に対し優秀なUV−硬化
したフィルムを形成しうるが、用いるモノマーはしばし
ば皮膚刺戟性であって、或る場合には有機溶剤を用いず
に所望の組成物粘度を得るのが困難である。これらの問
題は水性組成物を用いれば克服しうるが、この種の組成
物に使用するのに適することが知られた光開始剤は極め
て僅かである。
UV−硬化するラッカーを製造するための水性組成物に
好適に使用するには、開始剤は広範囲のpHにわたる高度
の水溶液、急速作用、無色およひ好ましくは無臭性を持
たねばならない。
公知の水溶性光開始剤を用いて作成されたUV−硬化し
たコーティングを任意の時間にわたり水に接触させ続け
ると、相当量の光開始剤が水中に放出される。この現象
は、たとえばコーティングが食品と接触する場合には極
めて望ましくない。
1986年９月８〜11日に米国・バルチモアで行われかつ
W.ホイマー、M.ケラーおよびJ.オーンゲマッハにより提
出されたラドーキュア（1986）の論文には、或る種の新
規な脂質可溶性の共重合しうる光開始剤およびUV−硬化
したラッカーの製造におけるその使用が開示される。有
機溶剤（アセトニトリル）を用いてUV−硬化したコーテ
ィングから抽出しうる未反応光開始剤の量は、これらの
共重合しうる光開始剤を用いる場合、極めて少ないこと
が示されている。この論文は、水溶性の光開始剤につき
言及していない。
〔発明の要点〕
今回、UV−硬化したコーティングを製造するための水
溶性光開始剤とて極めて適しかつこの種のコーティング
から水中へ極く少量しか放出されないような或る種のベ
ンゾフェノン誘導体が見出された。
したがって本発明は、一般式： 〔式中、X-は１当量のアニオンを示し;R5は水素原子も
しくはメチル基を示し；各R4は独立してメチルもしくは
エチル基を示しかつR1,R2およびR3のそれぞれは独立し
て水素もしくはハロゲン原子、１〜４個の炭素原子を有
するアルキル、アルコキシもしくはアルキルチオ基、ア
リールチオ基または式： （ここでR4,R5およびX-は上記の意味を有する）の基
を示す〕 を有する化合物を提供する。
アリールチオ基はたとえばｐ−トルイルチオ基とする
ことができる。
好ましくはR1,R2およびR3のそれぞれは独立して水素
原子、ハロゲン原子、１〜４個の炭素原子を有するアル
キルもしくはアルコキシ基または式： の基を示す。
より好ましくはR2およびR3は両者とも水素原子を示し
かつR1は水素原子、ハロゲン原子、１〜４個の炭素原子
を有するアルキルもしくはアルコキシ基または式： の基を示す。
特に好ましくはR2およびR3は水素原子を示しかつR1は
水素原子、塩素原子、メトキシ基又は第三ブチル基を示
す。
好ましくは各R4はメチル基を示す。
好ましくはR5は水素原子を示す。
好ましくはX-はハロゲンイオン、たとえば塩素イオン
またはより好ましくは臭素イオンを示す。
式Ｉの化合物において基： は、ベンゾイル基に対しオルト、メタもしくはパラ位置
に存在することができる。好ましくは、この基はパラ位
置に存在する。
好ましくは基R1はベンゾイルカルボニル基に対しパラ
位置に存在する。
さらに本発明は、一般式： 〔式中、R6,R7およびR8のそれぞれは独立して水素原
子、ハロゲン原子、１〜４個の炭素原子を有するアルキ
ル、アルコキシもしくはアルキルチオ基、アリールチオ
基または基CH2X1を示しかつX1は離脱原子もしくは基を
示す〕 の化合物を一般式： 〔式中、R4およびR5は上記の意味を有する〕 の化合物と反応させることを特徴とする一般式Ｉの化合
物の製造方法をも提供する。
X1により示される離脱原子もしくは基はたとえばハロ
ゲン原子（たとえば塩素もしくは臭素）またはヒドロカ
ルビルスルホニルオキシ基（たとえばメタンスルホニル
オキシもしくはｐ−トルエンスルホニルオキシ）とする
ことができる。
反応は便利には適する溶剤、たとえばアセトンもしく
はメチルエチルケトンのようなケトン或るいはたとえば
酢酸エチルのようなエステルの存在下に行われる。反応
温度は便利には20〜100℃、好ましくは40〜60℃の範囲
であり、還流温度がしばしば便利である。
一般式IIの化合物は、容易に入手しうる出発物質から
公知方法により便利に製造することができる。一般式II
Iの化合物は容易に入手することができる。
さらに本発明によれば、少なくとも１種の重合しうる
プレポリマーの水溶液と、光開始剤としての式Ｉの化合
物とからなることを特徴とする光重合しうる水性組成物
が提供される。便利には、組成物は0.5〜10重量％光開
始剤を含む。さらに本発明は、光硬化したラッカーフィ
ルムを製造するためのこの種の組成物の使用およびこの
種のフィルムにより被覆された基板にも関するものであ
る。
したがって本発明は、上記組成物を基板の表面に施し
かつこれを紫外線に露出することを特徴とするUV−硬化
したラッカーフィルムで被覆された基板の製造方法を提
供する。
本発明による化合物の格別の利点は、これらを用いて
水と接触した際に極く少量の化合物しか放出しないよう
なUV−硬化したコーティングを製造しうることにある。
本発明による化合物の他の利点は、これらが水溶性かつ
無色であって無臭のUV−硬化したコーティングをもたら
すことにある。
適する光重合性プレポリマーはアクリル化ポリウレタ
ン、ポリエステルおよびエポキシド、たとえば英国エッ
クルス在、ランクロ・ケミカルス・リミテッド社により
製造されるものを包含し、さらにその水希釈しうるアク
リル化ポリウレタンプレポリマーRCP2702（登録商標）
が特に推奨される。
さらに本発明による光重合性組成物は所望に応じて水
溶性の補助用開始剤を含有することもできる。特に適す
る補助開始剤は水溶性第三アミン、たとえばトリエタノ
ールアミン、N,N−ジメチル−エタノールアミンまたは
Ｎ−メチル−ジエタノールアミンである。この種の補助
開始剤は便利には全組成物に対し0.5〜10重量％の濃度
で存在させることができる。
〔実 施 例〕
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１ ４−ベンゾイル−N,N−ジメチル−Ｎ−（２−（１−オ
キソ−２−プロペニルオキシ）−エチル）ベンゼンメタ
ンアミニウムブロマイド アクリル酸ジメチルアミノエチル（9.11ml）をアセト
ン（50ml）中の４−ブロモメチルベンゾフェノン（13.7
5g）の撹拌溶液へ55℃にて添加し、かつ混合物をて60±
２℃にて２時間撹拌した。室温まで冷却した後、撹拌混
合物をさらに氷浴中で２時間冷却した後、濾過した。残
留物をアセトン（×１）で洗浄し、次いでイソプロピル
エーテル（×２）で洗浄した後、固体を室温にて減圧下
に乾燥した。粗製の標記化合物が白色結晶固体（14.48
g,m.p.121〜123℃）として得られ、これをアセトン（15
0ml）から再結晶化させた。濾過に続いてアセトン（×
１）で洗浄し、次いでイソプロピルエーテル（×１）で
洗浄しかつ室温にて減圧乾燥することにより、標記化合
物（10.26g,収率＝49.04％）を122〜124℃に等しい融点
を有する白色微粒結晶として得た。
分析値:C21H24NBrO3に対する計算値： C60.29;H5.78;N3.35;Br19.10 実測値:C60.32;H5.77;N3.33;Br19.12。
この化合物の水溶液は258nmに吸収最大を有し、かつ4
61.8の吸光係数（１％,1cm）を有した。
実施例２ ４−ベンゾイル−N,N−ジメチル−Ｎ−（２−（２−メ
チル−１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル）ベ
ンゼンメタンアミニウムクロライド メタクリル酸ジメチルアミノエチル（10.13ml）をア
セトン（50ml）における４−クロルメチルベンゾフェノ
ン（11.52g）の撹拌溶液へ48℃にて添加し、かつ混合物
を48±２℃にて15時間撹拌した。この撹拌混合物を氷浴
中で２時間冷却した後に濾過し、アセトン（×２）で洗
浄しかつ室温にて減圧乾燥した。粗製の標記化合物が白
色結晶固体（16.82g,m.p.163〜166℃）として得られ、
これをアセトン（30ml）とイソプロパノール（30ml）と
の混液から再結晶化させた。
濾過に続いて洗浄し〔50/50のアセトン／イソプロパ
ノール（×２）、次いでアセトン（×１）〕で洗浄しか
つ室温で減圧乾燥して標記化合物（16.50g,収率＝85
％）を167.5〜168.5℃に等しい融点の白色結晶として得
た。
分析値:C22H26NClO3に対する計算値： C68.12:H6.75;N3.61;C19.14 実測値:C68.12;H6.75;N3.65;C19.20。
この化合物の水溶液は260nmに吸収最大を有し、かつ4
62の吸光係数（１％,1cm）を有した。
実施例３ ３−ベンゾイル−N,N−ジメチル−Ｎ−（２−（１−オ
キソ−２−プロペニルオキシ）−エチル）ベンゼンメタ
ンアミニウムブロマイド アクリル酸ジメチルアミノエチル（11.4ml）を酢酸エ
チル（100ml）における３−ブロモメチルベンゾフェノ
ン（20.6g）の撹拌溶液へ60℃にて添加し、かつ混合物
を60℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した後、混合物
を１時間撹拌し、次いで濾過した。残留物を酢酸エチル
（×３）で洗浄した後、固体を室温にて減圧乾燥した。
粗製の標記化合物がクリーム色固体（27.3g,m.p.165〜1
68℃）として得られ、これをプロパン−２−オール／イ
ソプロピルエーテルから再結晶化させた。濾過に続いて
イソプロピルエーテルで洗浄し、次いで室温にて減圧乾
燥することにより、標記化合物を淡クリーム色結晶（2
0.2g,収率＝64.5％,m.p.168〜169℃）として得た。
分析値:C21H24NBrO3に対する計算値： C60.29;H5.78;N3.35;Br19.10 実測値:C60.21;H5.80;N3.34;Br19.16。
この化合物の水溶液は251nmに吸収最大を有し、かつ4
19の吸光係数（１％,1cm）を有した。
実施例４ ４−（４−クロルベンゾイル）−N,N−ジメチル−Ｎ−
（２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル）
ベンゼンメタンアミニウムブロマイド アクリル酸ジメチルアミノエチル（7.4ml）を酢酸エ
チル（60ml）における４−ブロモメチル−４′−クロル
ベンゾフェノン（20.6g）の撹拌溶液へ60℃にて添加
し、かつ混合物を60℃で１時間撹拌した。室温まで冷却
した後、混合物を１時間撹拌し、次いで濾過した。残留
物を酢酸エチル（×３）で洗浄し、次いで室温にて減圧
乾燥した。粗製の標記化合物が白色固体（13.7g,m.p.14
3〜145℃）として得られ、これをプロパン−２−オール
／イソプロピルエーテルから再結晶化させ、次いで室温
で減圧乾燥して標記化合物を白色結晶（13.0g,収率＝5
7.5％,m.p.143〜145℃）として得た。
分析値:C21H23NBrClNO3に対する計算値： C55.70:H5.12;N3.09;Br17.65;C17.83 実測値:C55.71;H5.11;N3.06;Br17.71;C17.78。
この化合物の水溶液は257nmに吸収最大を有し、かつ4
21の吸光係数（１％,1cm）を有した。
実施例５ ４−（４−メトキシベンゾイル）−N,N−ジメチル−Ｎ
−（２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチ
ル）ベンゼンメタンアミニウムブロマイド アクリル酸ジメチルアミノエチル（7.6ml）を酢酸エ
チル（50ml）における４−ブロモメチル−４′−メトキ
シベンゾフェノンの撹拌溶液へ60℃にて添加し、かつ混
合物を60℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した後、混
合物をさらに１時間撹拌し、次いで濾過した。残留物を
酢酸エチル（×３）で洗浄し、次いで室温にて減圧乾燥
した。粗製の標記化合物が白色結晶（16.6g,m.p.168〜1
70℃）として得られ、これをエタノール／イソプロピル
エーテルから再結晶させた。濾過した後イソプロピルエ
ーテルで洗浄し、次いで室温にて減圧乾燥することによ
り、標記化合物を白色結晶（15.7g,収率70.1％,m.p.168
〜169℃）として得た。
分析値:C22H26NBrNO4に対する計算値： C58.93;H5.85;N3.12;Br17.82 実測値:C58.97;H5.90;N3.09;Br17.92。
この化合物の水溶液は298nmに吸収最大を有し、かつ3
57の吸光係数（１％,1cm）を有した。
実施例６ ４−（４−tert−ブチルベンゾイル）−N,N−ジメチル
−Ｎ−（２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エ
チル）ベンゼメタンアミニウムブロマイド アクリル酸ジメチルアミノエチル（7.6ml）を酢酸エ
チル（50ml）における４−ブロモメチル−４′−tert−
ブチルベンゾフェノンの撹拌溶液へ60℃にて添加し、か
つ混合物を60℃で１時間しかつ油を分離した。溶剤層を
デカント除去しかつ油をエタノール（6ml）中に60℃で
溶解させ、次いでイソプロピルエーテル15ml）を添加し
かつ混合物を室温まで冷却した。固体結晶を分離し、濾
別し、エタノール／イソプロピルエーテル（×２）で洗
浄しかつ室温にて減圧乾燥した。粗製の標記化合物がク
リーム色結晶（4.1g,m.p.148〜150℃）として得られ、
これをプロパン−２−オール／イソプロピルエーテルか
ら２回再結晶させた。濾過に続いてイソプロピルエーテ
ルで洗浄し、次いで室温にて減圧乾燥することにより、
標記化合物を淡クリーム色結晶（0.6g,収率＝24.5％,m.
p.153〜155℃）として得た。
分析値:C25H32BrNO30.5H2Oに対する計算値： C62.11;H6.88;N2.91 実測値:C61.84;H6.80;N2.93。
この化合物の水溶液は258nmに吸収最大を有し、かつ3
29の吸光係数（１％,1cm）を有した。
実施例７ 実施例１〜６の化合物と公知の光開始剤との硬化比較 ランクロ社のプレポリマーRCP272（登録商標）（3.1
g）と水（1.75ml）と光開始剤（0.00043モル）とを均質
液が得られるまで混合することにより、光硬化組成物を
作成した。これらの組成物をNo.2バー・コーターを用い
てガラス顕微鏡スライド上に被覆し、かつ得られたスラ
イドを単一ランプ「ミニキュア」（登録商標）装置にて
UV光に露出させ、その際硬化フィルムの最大鉛筆硬度3H
を生ぜしめるのに要する最小の通過回数にて20rpmのベ
ルトコンベヤ速度を用いた。次いで、硬化したフィルム
を小形メスによって掻取り、かつ10枚のこの種のスライ
ドから得られた掻取物を合した。その0.26gを70mlのソ
ックスレー抽出器に移し、かつガラスウールの層で覆っ
た。蒸留水（130ml）をソックスレー装置に注ぎ込んで
サイフォンを生ぜしめ、かつ約90mlの水を貯槽に集めて
その85mlを計量シリンダに移し、かつその40mlを直ちに
ソックスレー抽出器に注ぎ入れた。室温にて７分間静置
した後、残部45mlを添加しかつサイフォンを直ちに生ぜ
しめた。このサイクルを10回反復し、各サイクルに対す
る全時間は10分間であることが判った。したがって、UV
−硬化した掻取物はサイクル１回当り10分間の浸漬で10
回抽出された。この時点で貯槽における水をH.P.L.C.に
よりその光開始剤含有量につき分析する一方、UV−硬化
した掻取物を迅速に蒸留水（90ml,3回）で洗浄した後、
第２回の10サイクル抽出にかけ、さらに90mlの蒸留水を
最初に用いる洗浄操作にかけた。この工程が終了した
後、貯槽の水を第２回の抽出物における光開始剤含有量
につき分析した。
その結果を下表に示す： この結果は、本発明による化合物が公知光開始剤より
も優秀であることを明らかに示している。
公知光開始剤は４−ベンゾイル−N,N,N−トリメチル
ベンゼンメタンアミニウムクロライドであり、これは市
販されている。

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式： 〔式中、X-は１当量のアニオンを示し;R5は水素原子も
    しくはメチル基を示し；各R4は独立してメチルもしくは
    エチル基を示しかつR1,R2およびR3のそれぞれは独立し
    て水素もしくはハロゲン原子、１〜４個の炭素原子を有
    するアルキル、アルコキシもしくはアルキルチオ基、ア
    リールチオ基または式： （ここでR4,R5およびX-は上記の意味を有する）の基を
    示す〕 を有する化合物。
  2. 【請求項２】R1,R2およびR3のそれぞれが独立して水素
    原子、ハロゲン原子、１〜４個の炭素原子を有するアル
    キルもしくはアルコキシ基または式： 〔式中、R4,R5およびX-は請求項１記載の意味を有す
    る〕 の基を示す請求項１記載の化合物。
  3. 【請求項３】R2およびR3が両者とも水素原子を示しかつ
    R1が水素原子、ハロゲン原子、１〜４個の炭素原子を有
    するアルキルもしくはアルコキシ基または式： の基を示す請求項２記載の化合物。
  4. 【請求項４】R1が水素原子、塩素原子、メトキシ基もし
    くは第三ブチル基を示す請求項３記載の化合物。
  5. 【請求項５】各R4がメチル基を示す請求項１〜４のいず
    れか一項に記載の化合物。
  6. 【請求項６】X-がハロゲンイオンを示す請求項１〜５の
    いずれか一項に記載の化合物。
  7. 【請求項７】一般式： 〔式中、R6,R7およびR8のそれぞれは独立して水素原
    子、ハロゲン原子、１〜４個の炭素原子を有するアルキ
    ル、アルコキシもしくはアルキルチオ基、アリールチオ
    基または基CH2X1を示しかつX1は離脱原子もしくは基を
    示す〕 の化合物を一般式： 〔式中、R4およびR5は請求項１記載の意味を有する〕 の化合物と反応させることを特徴とする請求項１記載の
    化合物の製造方法。
  8. 【請求項８】少なくとも１種の重合しうるプレポリマー
    の水溶液と、請求項１〜６のいずれか一項に記載の化合
    物とからなることを特徴とする光重合しうる水性組成
    物。
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5512329A (en) * 1982-09-29 1996-04-30 Bsi Corporation Substrate surface preparation
US4977511A (en) * 1985-11-20 1990-12-11 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compound as initiators
US5484822A (en) * 1991-06-24 1996-01-16 Polaroid Corporation Process and composition for cladding optic fibers
FR2715157B1 (fr) * 1994-01-20 1996-03-01 Atochem Elf Sa Latex acryliques susceptibles de former des films photoréticulables.
US5998496A (en) * 1995-10-31 1999-12-07 Spectra Group Limited, Inc. Photosensitive intramolecular electron transfer compounds
US5714360A (en) * 1995-11-03 1998-02-03 Bsi Corporation Photoactivatable water soluble cross-linking agents containing an onium group
EP0869977A1 (en) * 1995-12-29 1998-10-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Use of pendant photoreactive moieties on polymer precursors to prepare hydrophilic pressure sensitive adhesives
US6086796A (en) * 1997-07-02 2000-07-11 Diamonex, Incorporated Diamond-like carbon over-coats for optical recording media devices and method thereof
US7863485B2 (en) * 2004-12-10 2011-01-04 Omnitech Environmental, Llc Additive and vehicle for inks, paints, coatings and adhesives
DE102009001966A1 (de) 2009-03-30 2010-10-07 Evonik Röhm Gmbh Beschichtungszusammensetzung,(Meth)acryl-Polymer und Monomermischung zur Herstellung des(Meth)acryl-Polymers
CN102206293B (zh) * 2010-03-29 2013-09-18 比亚迪股份有限公司 一种光引发剂,一种光固化涂料和模内装饰方法
WO2014089680A1 (en) 2012-12-11 2014-06-19 Nano Safe Coatings Incorporated (A Florida Corporation 3 P14000024914) Uv cured benzophenone terminated quaternary ammonium antimicrobials for surfaces
US10040893B2 (en) 2012-05-16 2018-08-07 Coloplast A/S Polymeric photoinitiators and photoinitiator monomers
CN103926794B (zh) * 2014-04-29 2017-11-14 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含有二苯甲酮衍生物光引发剂的光固化组合物
US10301399B2 (en) * 2015-01-05 2019-05-28 Igm Malta Limited LED-curable low migration photoinitiators
WO2017031599A1 (en) 2015-08-27 2017-03-02 Nano Safe Coatings Incorporated (A Florida Corporation 3 P 14000024914) Preparation of sulfonamide-containing antimicrobials and substrate treating compositions of sulfonamide-containing antimicrobials
WO2017143316A1 (en) 2016-02-19 2017-08-24 Avery Dennison Corporation Two stage methods for processing adhesives and related compositions
CN110099939B (zh) 2016-10-25 2022-09-06 艾利丹尼森公司 在主链中具有光引发剂基团的嵌段聚合物及其用于粘合剂组合物中的用途

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4011259A (en) * 1969-10-20 1977-03-08 The Kendall Company Monomeric emulsion stabilizers
JPS5495691A (en) * 1978-01-13 1979-07-28 Toyo Ink Mfg Co Ltd Photocurable resin composition
DE2831263A1 (de) * 1978-07-15 1980-01-31 Basf Ag Benzoinderivate mit quartaerer ammoniumgruppe
US4310687A (en) * 1980-07-10 1982-01-12 Gaf Corporation Copolymerizable ultraviolet light absorber monomers which are acrylate esters of 2-hydroxy, alkoxy, methylol benzophenones
DE3331474A1 (de) * 1983-09-01 1985-03-21 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare mischungen mit speziellen diaminobenzophenon-verbindungen
US4859727A (en) * 1986-08-22 1989-08-22 Mitsubishi Rayon Company Ltd. Antistatic thermoplastic resin composition
GB8703606D0 (en) * 1987-02-17 1987-03-25 Ward Blenkinsop & Co Ltd Benzophenone derivatives

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EP0333291B1 (en) 1994-08-10
IL89635A0 (en) 1989-09-28
US4948819A (en) 1990-08-14

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