JP2736498B2 - 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法 - Google Patents
酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法Info
- Publication number
- JP2736498B2 JP2736498B2 JP5146821A JP14682193A JP2736498B2 JP 2736498 B2 JP2736498 B2 JP 2736498B2 JP 5146821 A JP5146821 A JP 5146821A JP 14682193 A JP14682193 A JP 14682193A JP 2736498 B2 JP2736498 B2 JP 2736498B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- indium
- powder
- ito
- oxide powder
- tin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＩＴＯ膜（Indium-T
in Oxide膜）を始めとした酸化インジウム系表示材料等
の製造原料として好適な“酸化インジウム−酸化スズ粉
末（酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末との混合粉末
で、 以降はＩＴＯ粉末と記す）”の製造方法に関するも
のである。
in Oxide膜）を始めとした酸化インジウム系表示材料等
の製造原料として好適な“酸化インジウム−酸化スズ粉
末（酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末との混合粉末
で、 以降はＩＴＯ粉末と記す）”の製造方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来技術とその課題】これまで、亜鉛鉱中に極く微量
含まれていて副産物として回収されていたインジウムの
興味深い特性が次第に明らかになるにつれ、その用途に
関する多くの提案がなされてきたが、近年、インジウム
酸化物、特に“ＩＴＯ”と呼ばれる“Snを含んだインジ
ウム酸化物(In2Ｏ3-SnＯ2)”の薄膜が有する高い導電性
や透明性に注目が集まり、液晶表示装置，薄膜エレクト
ロルミネッセンス表示装置，放射線検出素子，端末機器
の透明タブレット等の多岐にわたる用途が開かれた。
含まれていて副産物として回収されていたインジウムの
興味深い特性が次第に明らかになるにつれ、その用途に
関する多くの提案がなされてきたが、近年、インジウム
酸化物、特に“ＩＴＯ”と呼ばれる“Snを含んだインジ
ウム酸化物(In2Ｏ3-SnＯ2)”の薄膜が有する高い導電性
や透明性に注目が集まり、液晶表示装置，薄膜エレクト
ロルミネッセンス表示装置，放射線検出素子，端末機器
の透明タブレット等の多岐にわたる用途が開かれた。
【０００３】ところで、上述のような装置・機器類の製
造原料として準備される酸化インジウム粉末や酸化スズ
粉末は、従来、図３に示すようなそれぞれの工程に従っ
て製造されている。
造原料として準備される酸化インジウム粉末や酸化スズ
粉末は、従来、図３に示すようなそれぞれの工程に従っ
て製造されている。
【０００４】即ち、酸化インジウム粉末の場合は、まず
第１段階として、金属インジウムを硝酸で溶解し、これ
をアンモニア水で中和して水酸化インジウムとして沈降
させる。そして、この沈積物（水酸化インジウム）をろ
過，洗浄，乾燥する。次に、第２段階として、得られた
水酸化インジウムを焙焼し、酸化インジウム粉末とす
る。
第１段階として、金属インジウムを硝酸で溶解し、これ
をアンモニア水で中和して水酸化インジウムとして沈降
させる。そして、この沈積物（水酸化インジウム）をろ
過，洗浄，乾燥する。次に、第２段階として、得られた
水酸化インジウムを焙焼し、酸化インジウム粉末とす
る。
【０００５】また、酸化スズ粉末の場合には、第１段階
として金属スズを硝酸で溶解し、これをメタスズ酸とし
て沈降させる。そして、この沈積物（メタスズ酸）をろ
過，洗浄，乾燥し、第２段階として、得られたメタスズ
酸を焙焼し酸化スズ粉末とする。
として金属スズを硝酸で溶解し、これをメタスズ酸とし
て沈降させる。そして、この沈積物（メタスズ酸）をろ
過，洗浄，乾燥し、第２段階として、得られたメタスズ
酸を焙焼し酸化スズ粉末とする。
【０００６】なお、このようにして製造された酸化イン
ジウム粉末並びに酸化スズ粉末は、両者を混合してスパ
ッタリングタ−ゲット等に成形した上で、薄膜を形成す
るための成膜素材として用いられることが多い。
ジウム粉末並びに酸化スズ粉末は、両者を混合してスパ
ッタリングタ−ゲット等に成形した上で、薄膜を形成す
るための成膜素材として用いられることが多い。
【０００７】しかしながら、酸化インジウム粉末や酸化
スズ粉末の製造に係る上記方法には次のような問題が指
摘された。 a) 得られる酸化物粉末は諸特性（平均粒径，見掛密度
等）のバラツキが大きく、これがＩＴＯ系の表示材料等
の“品質バラツキの低減”或いは“高品質化”の阻害要
因となっている。 b) 製造条件（液温，反応速度等）を一定に制御するこ
とが必ずしも容易でなく、これを安定させるために設備
コストが上昇する。 c) 従来とは特性の異なる粉末を要求された場合に、こ
の要求への柔軟な対応ができない。 d) 製造装置が比較的大掛かりとなり、そのため製造条
件を一定に制御しようとするとかなりの労力を要する
上、増産への対応が必ずしも容易とは言えない。 e) 溶解廃液（例えば硝酸アンモニウム）がその都度発
生するのでその処理が必要であり、これがランニングコ
ストを高める。f) 酸化インジウム粉と酸化スズ粉を混合し均一化する
ための工程が必要となり、コストが上昇する。 g) 上記f)の混合において均一化度が不十分なために膜
特性が改善できない。
スズ粉末の製造に係る上記方法には次のような問題が指
摘された。 a) 得られる酸化物粉末は諸特性（平均粒径，見掛密度
等）のバラツキが大きく、これがＩＴＯ系の表示材料等
の“品質バラツキの低減”或いは“高品質化”の阻害要
因となっている。 b) 製造条件（液温，反応速度等）を一定に制御するこ
とが必ずしも容易でなく、これを安定させるために設備
コストが上昇する。 c) 従来とは特性の異なる粉末を要求された場合に、こ
の要求への柔軟な対応ができない。 d) 製造装置が比較的大掛かりとなり、そのため製造条
件を一定に制御しようとするとかなりの労力を要する
上、増産への対応が必ずしも容易とは言えない。 e) 溶解廃液（例えば硝酸アンモニウム）がその都度発
生するのでその処理が必要であり、これがランニングコ
ストを高める。f) 酸化インジウム粉と酸化スズ粉を混合し均一化する
ための工程が必要となり、コストが上昇する。 g) 上記f)の混合において均一化度が不十分なために膜
特性が改善できない。
【０００８】このようなことから、本発明が目的とした
のは、上記諸問題を解消し、表示材料の原料等としても
十分に満足できる優れた特性を備えた酸化インジウム粉
末と酸化スズ粉末との混合粉末を、製造性良く安定に、
かつコスト安く提供できる手立てを確立することであっ
た。
のは、上記諸問題を解消し、表示材料の原料等としても
十分に満足できる優れた特性を備えた酸化インジウム粉
末と酸化スズ粉末との混合粉末を、製造性良く安定に、
かつコスト安く提供できる手立てを確立することであっ
た。
【０００９】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は上
記目的を達成すべく様々な観点から研究を行ったとこ
ろ、次のような知見を得ることができた。
記目的を達成すべく様々な観点から研究を行ったとこ
ろ、次のような知見を得ることができた。
【００１０】インジウムやスズの酸化物粉末を製造する
に当って、その第１段階として従来のような「溶解沈澱
法」ではなくて「電解法」を採用し、しかもその際にイ
ンジウムとスズとの合金を陽極として電解処理すると、
比較的低い設備費やランニングコストの下で安定した条
件にて“水酸化インジウム”と“メタスズ酸”の混合沈
積物を一工程で製造することが可能となる上、この混合
沈積物をか焼することによって非常に幅広い領域の諸特
性（平均粒径，見掛密度等）を有したＩＴＯ粉末（酸化
インジウム粉末と酸化スズ粉末との混合粉末）を安定し
て得ることができ、しかも電解条件の選択によってこれ
ら諸特性をきめ細かくコントロ−ルすることも可能であ
る。
に当って、その第１段階として従来のような「溶解沈澱
法」ではなくて「電解法」を採用し、しかもその際にイ
ンジウムとスズとの合金を陽極として電解処理すると、
比較的低い設備費やランニングコストの下で安定した条
件にて“水酸化インジウム”と“メタスズ酸”の混合沈
積物を一工程で製造することが可能となる上、この混合
沈積物をか焼することによって非常に幅広い領域の諸特
性（平均粒径，見掛密度等）を有したＩＴＯ粉末（酸化
インジウム粉末と酸化スズ粉末との混合粉末）を安定し
て得ることができ、しかも電解条件の選択によってこれ
ら諸特性をきめ細かくコントロ−ルすることも可能であ
る。
【００１１】本発明は、上記知見事項等に基づいてなさ
れたものであり、「インジウムとスズとの合金を陽極と
してこれを電解し、 得られた水酸化インジウムとメタス
ズ酸の混合沈積物をか焼することによって、 平均粒径や
見掛密度等の特性バラツキの小さいＩＴＯ粉末を安定か
つ低コストで、 しかも特性コントロ−ル容易に製造し得
るようにした点」に大きな特徴を有している。
れたものであり、「インジウムとスズとの合金を陽極と
してこれを電解し、 得られた水酸化インジウムとメタス
ズ酸の混合沈積物をか焼することによって、 平均粒径や
見掛密度等の特性バラツキの小さいＩＴＯ粉末を安定か
つ低コストで、 しかも特性コントロ−ル容易に製造し得
るようにした点」に大きな特徴を有している。
【００１２】上述のように、本発明に係るＩＴＯ粉末の
製造方法では、従来とは異なって、まず電解液中でイン
ジウムとスズとの合金を陽極として電解することにより
水酸化インジウムとメタスズ酸を同時に析出させ、次い
でこの混合沈積物をか焼（焙焼）するという工程が採ら
れるが、上記合金を陽極電解する際に適用される電解液
については特に指定されるものではなく、硝酸アンモニ
ウム，硫酸アンモニウム，その他の電解質等の何れを用
いても良いものの、コストや製品の純度維持の面から硝
酸アンモニウム水溶液が好ましいと言える。
製造方法では、従来とは異なって、まず電解液中でイン
ジウムとスズとの合金を陽極として電解することにより
水酸化インジウムとメタスズ酸を同時に析出させ、次い
でこの混合沈積物をか焼（焙焼）するという工程が採ら
れるが、上記合金を陽極電解する際に適用される電解液
については特に指定されるものではなく、硝酸アンモニ
ウム，硫酸アンモニウム，その他の電解質等の何れを用
いても良いものの、コストや製品の純度維持の面から硝
酸アンモニウム水溶液が好ましいと言える。
【００１３】なお、水酸化インジウムとメタスズ酸を同
時に析出させるための“電解法”としては、通常のいわ
ゆる平波による電解法，周期的反転電流による電解法
（ＰＲ電解法）の何れを採用しても良い。そして、水酸
化インジウムとメタスズ酸を析出させる際の電解条件を
選択することで、これをか焼して得られるＩＴＯ粉末の
平均粒径，比表面積又は見掛密度等の制御が可能であ
り、これらの調整はＩＴＯ系の表示材料等の原料として
用いた場合における製品品質の著しい改善に結びつく。
時に析出させるための“電解法”としては、通常のいわ
ゆる平波による電解法，周期的反転電流による電解法
（ＰＲ電解法）の何れを採用しても良い。そして、水酸
化インジウムとメタスズ酸を析出させる際の電解条件を
選択することで、これをか焼して得られるＩＴＯ粉末の
平均粒径，比表面積又は見掛密度等の制御が可能であ
り、これらの調整はＩＴＯ系の表示材料等の原料として
用いた場合における製品品質の著しい改善に結びつく。
【００１４】図１は、この電解法を取り入れた本発明に
係る“ＩＴＯ粉末の製造工程例”を示している。ここ
で、図１に例示される工程に従ってＩＴＯ粉末をより安
定に製造するためには、好ましくはか焼に供する“水酸
化インジウムとメタスズ酸の混合沈積物”を得るための
“電解”を、ＮＨ4 ＮＯ3 濃度が 0.2〜５mol/L(リットル)
、ｐＨが４〜9.5 、そして浴温が０〜５０℃の硝酸ア
ンモニウム水溶液中で実施し、その時の電流密度を１０
０〜１８００Ａ／ｍ2 の範囲に制御するのが良い。
係る“ＩＴＯ粉末の製造工程例”を示している。ここ
で、図１に例示される工程に従ってＩＴＯ粉末をより安
定に製造するためには、好ましくはか焼に供する“水酸
化インジウムとメタスズ酸の混合沈積物”を得るための
“電解”を、ＮＨ4 ＮＯ3 濃度が 0.2〜５mol/L(リットル)
、ｐＨが４〜9.5 、そして浴温が０〜５０℃の硝酸ア
ンモニウム水溶液中で実施し、その時の電流密度を１０
０〜１８００Ａ／ｍ2 の範囲に制御するのが良い。
【００１５】つまり、電解浴（硝酸アンモニウム水溶
液）のＮＨ4 ＮＯ3 濃度が 0.2mol/Lを下回ると電流効
率低下又は電力原単位上昇を招く恐れがあり、また５mo
l/L を超えると薬品消費量の増大が無視できなくなる。
そして、浴のｐＨが４を下回ると沈積物が微細化して固
液分離困難となり、一方、9.5 を上回る浴の取扱いは安
全上もしくは環境防災上好ましくないので、これを避け
るのが通例である。
液）のＮＨ4 ＮＯ3 濃度が 0.2mol/Lを下回ると電流効
率低下又は電力原単位上昇を招く恐れがあり、また５mo
l/L を超えると薬品消費量の増大が無視できなくなる。
そして、浴のｐＨが４を下回ると沈積物が微細化して固
液分離困難となり、一方、9.5 を上回る浴の取扱いは安
全上もしくは環境防災上好ましくないので、これを避け
るのが通例である。
【００１６】浴温については、０℃未満に調整すること
は冷却コストの点で不利となり、一方、５０℃を超える
温度に維持しようとするとそのための加熱コストが無視
できなくなる上、特にＮＨ4 ＮＯ3 の場合にはアンモニ
ア蒸気発生に対応した環境対策が必要となる。更に、電
流密度については、１００Ａ／ｍ2 を下回ると生産性が
悪くなり、一方、１８００Ａ／ｍ2 を上回る場合には槽
電圧の上昇が著しくなって経済的に不利になる。
は冷却コストの点で不利となり、一方、５０℃を超える
温度に維持しようとするとそのための加熱コストが無視
できなくなる上、特にＮＨ4 ＮＯ3 の場合にはアンモニ
ア蒸気発生に対応した環境対策が必要となる。更に、電
流密度については、１００Ａ／ｍ2 を下回ると生産性が
悪くなり、一方、１８００Ａ／ｍ2 を上回る場合には槽
電圧の上昇が著しくなって経済的に不利になる。
【００１７】さて、本発明に係る「ＩＴＯ粉末の製造方
法」によると次のような利点を享受することができ、従
ってその産業上の寄与は極めて大きいと言える。 1) 得られるＩＴＯ粉末の“諸特性（平均粒径，見掛密
度等）の幅”が広く、これらを電解条件の選択によって
コントロ−ルできる。 2) か焼に供する中間原料たる水酸化インジウムとメタ
スズ酸の混合沈積物の製造が電解法にて同時に行われる
ので連続方式が採用でき、バッチ方式の従来法に比べて
品質管理が容易で、品質そのものも安定する。 3) 電解条件の選択により最終的に得られるＩＴＯ粉末
の諸特性を微妙にコントロ−ルできるため、これを使用
するＩＴＯ系の表示材料等の高品質化や品質バラツキの
低減が達成できる。 4) 個別に得た酸化物（酸化インジウム，酸化スズ）同
士を混合してＩＴＯ粉末とする従来法に比べ、共電解法
で得た混合沈積物をか焼して実質的な混合工程無しにＩ
ＴＯ粉末とする本発明法では、酸化物の混合がより均一
となって得られるＩＴＯ粉末は非常に均質である。 5) いわゆる“クロ−ズドシステム”化ができるので、
中和の都度に硝酸及び硝酸アンモニウムの廃液が発生し
ていた従来法に比べてランニングコストの大幅な低減が
達成される。 6) 製造装置がコンパクトであるので、イニシャルコス
ト（建設費）も安価となり増産への対応がしやすい。
法」によると次のような利点を享受することができ、従
ってその産業上の寄与は極めて大きいと言える。 1) 得られるＩＴＯ粉末の“諸特性（平均粒径，見掛密
度等）の幅”が広く、これらを電解条件の選択によって
コントロ−ルできる。 2) か焼に供する中間原料たる水酸化インジウムとメタ
スズ酸の混合沈積物の製造が電解法にて同時に行われる
ので連続方式が採用でき、バッチ方式の従来法に比べて
品質管理が容易で、品質そのものも安定する。 3) 電解条件の選択により最終的に得られるＩＴＯ粉末
の諸特性を微妙にコントロ−ルできるため、これを使用
するＩＴＯ系の表示材料等の高品質化や品質バラツキの
低減が達成できる。 4) 個別に得た酸化物（酸化インジウム，酸化スズ）同
士を混合してＩＴＯ粉末とする従来法に比べ、共電解法
で得た混合沈積物をか焼して実質的な混合工程無しにＩ
ＴＯ粉末とする本発明法では、酸化物の混合がより均一
となって得られるＩＴＯ粉末は非常に均質である。 5) いわゆる“クロ−ズドシステム”化ができるので、
中和の都度に硝酸及び硝酸アンモニウムの廃液が発生し
ていた従来法に比べてランニングコストの大幅な低減が
達成される。 6) 製造装置がコンパクトであるので、イニシャルコス
ト（建設費）も安価となり増産への対応がしやすい。
【００１８】なお、本発明に係るＩＴＯ粉末は、これを
前述したＩＴＯスパッタリングタ−ゲットに成形してＩ
ＴＯ膜の形成に用いた場合に特に優れた結果を得ること
ができるが、ＩＴＯ粉末からＩＴＯタ−ゲットを製造す
るには一般に図２で示した工程が採られる。
前述したＩＴＯスパッタリングタ−ゲットに成形してＩ
ＴＯ膜の形成に用いた場合に特に優れた結果を得ること
ができるが、ＩＴＯ粉末からＩＴＯタ−ゲットを製造す
るには一般に図２で示した工程が採られる。
【００１９】続いて、本発明を実施例によって更に具体
的に説明する。
的に説明する。
【実施例】 〈実施例１〉１０℃の硝酸アンモニウム水溶液（ＮＨ4
ＮＯ3 濃度：0.5mol/L，ｐＨ：８）中において、インジ
ウムとスズとの合金(Sn:17.5wt%)を陽極とし、陰極電流
密度を６００Ａ／ｍ2 として、ＰＲ式のパルス通電によ
り電解を行った。そして、電解槽底の沈積物をろ過，洗
浄及び乾燥し、水酸化インジウムとメタスズ酸の混合沈
積物を得た。次に、これを１１００℃で焙焼し、平均粒
径１８μｍ，見掛密度1.7g/cm3のＩＴＯ粉末を得た。
ＮＯ3 濃度：0.5mol/L，ｐＨ：８）中において、インジ
ウムとスズとの合金(Sn:17.5wt%)を陽極とし、陰極電流
密度を６００Ａ／ｍ2 として、ＰＲ式のパルス通電によ
り電解を行った。そして、電解槽底の沈積物をろ過，洗
浄及び乾燥し、水酸化インジウムとメタスズ酸の混合沈
積物を得た。次に、これを１１００℃で焙焼し、平均粒
径１８μｍ，見掛密度1.7g/cm3のＩＴＯ粉末を得た。
【００２０】次いで、得られた上記ＩＴＯ粉末を原料と
し、コ−ルドプレス大気焼結法によりSnＯ2 含有割合が
１０wt％のＩＴＯスパッタリングタ−ゲットを製造した
ところ、焼結体の密度は6.72ｇ/cm3であった。
し、コ−ルドプレス大気焼結法によりSnＯ2 含有割合が
１０wt％のＩＴＯスパッタリングタ−ゲットを製造した
ところ、焼結体の密度は6.72ｇ/cm3であった。
【００２１】更に、このＩＴＯタ−ゲットをスパッタし
て得られた透明導電膜のシ−ト抵抗や透過率等の諸特性
を調査したところ、ＬＣＤ（液晶）用としても十分に使
用可能な満足できる結果を示すことが確認された。
て得られた透明導電膜のシ−ト抵抗や透過率等の諸特性
を調査したところ、ＬＣＤ（液晶）用としても十分に使
用可能な満足できる結果を示すことが確認された。
【００２２】〈実施例２〉電解浴として浴温：５０℃，
ＮＨ4 ＮＯ3 濃度：1.0mol/L，ｐＨ：６の硝酸アンモニ
ウム水溶液を使用した以外は、実施例１の場合と同一条
件でＰＲ方式のパルス電解を行い、電解槽底の沈積物を
ろ過，洗浄及び乾燥して水酸化インジウムとメタスズ酸
の混合沈積物を得た。次に、これを１１００℃で焙焼し
たところ、粒径が揃った見掛密度の高いＩＴＯ粉末が得
られた。
ＮＨ4 ＮＯ3 濃度：1.0mol/L，ｐＨ：６の硝酸アンモニ
ウム水溶液を使用した以外は、実施例１の場合と同一条
件でＰＲ方式のパルス電解を行い、電解槽底の沈積物を
ろ過，洗浄及び乾燥して水酸化インジウムとメタスズ酸
の混合沈積物を得た。次に、これを１１００℃で焙焼し
たところ、粒径が揃った見掛密度の高いＩＴＯ粉末が得
られた。
【００２３】次いで、得られたＩＴＯ粉末を使用し、実
施例１におけると同様にSnＯ2 含有割合が１０wt％のＩ
ＴＯスパッタリングタ−ゲットを製造したところ、焼結
体の密度は4.80ｇ/cm3であった。
施例１におけると同様にSnＯ2 含有割合が１０wt％のＩ
ＴＯスパッタリングタ−ゲットを製造したところ、焼結
体の密度は4.80ｇ/cm3であった。
【００２４】このＩＴＯタ−ゲットをスパッタし、得ら
れた透明導電膜のシ−ト抵抗や透過率等の諸特性を調査
したところ、ＬＣＤ用としても十分に使用可能な満足で
きる結果を示すことが確認された。
れた透明導電膜のシ−ト抵抗や透過率等の諸特性を調査
したところ、ＬＣＤ用としても十分に使用可能な満足で
きる結果を示すことが確認された。
【００２５】
【効果の総括】以上に説明した如く、この発明によれ
ば、例えばＩＴＯ膜形成用スパッタリングタ−ゲットの
原材料等としても十分に満足できるＩＴＯ粉末を要求特
性に幅広く的確に対応しつつ低コストで提供することが
可能となるなど、産業上有用な効果がもたらされる。
ば、例えばＩＴＯ膜形成用スパッタリングタ−ゲットの
原材料等としても十分に満足できるＩＴＯ粉末を要求特
性に幅広く的確に対応しつつ低コストで提供することが
可能となるなど、産業上有用な効果がもたらされる。
【図１】本発明に係る“ＩＴＯ粉末の製造工程”の概要
説明図である。
説明図である。
【図２】ＩＴＯ粉末からＩＴＯスパッタリングタ−ゲッ
トを製造する工程の説明図である。
トを製造する工程の説明図である。
【図３】従来の酸化インジウム粉末及び酸化スズ粉末の
製造工程に関する概要説明図である。
製造工程に関する概要説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−195101（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−199522（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−199523（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−171937（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】 インジウムとスズとの合金を陽極として
これを電解し、得られた水酸化インジウムとメタスズ酸
の混合沈積物をか焼することを特徴とする、酸化インジ
ウム−酸化スズ粉末の製造方法。 - 【請求項２】 硝酸アンモニウム水溶液を電解液として
インジウムとスズとの合金の電解を行う、請求項１に記
載の酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5146821A JP2736498B2 (ja) | 1993-05-26 | 1993-05-26 | 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法 |
| US08/164,125 US5417816A (en) | 1992-12-09 | 1993-12-07 | Process for preparation of indium oxide-tin oxide powder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5146821A JP2736498B2 (ja) | 1993-05-26 | 1993-05-26 | 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06329415A JPH06329415A (ja) | 1994-11-29 |
| JP2736498B2 true JP2736498B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=15416295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5146821A Expired - Lifetime JP2736498B2 (ja) | 1992-12-09 | 1993-05-26 | 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2736498B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101538967B1 (ko) * | 2014-01-09 | 2015-07-22 | 한양대학교 에리카산학협력단 | 금속산화물 분말의 제조방법 |
| CN105683089A (zh) * | 2014-03-11 | 2016-06-15 | 住友金属矿山株式会社 | 氢氧化铟粉和氧化铟粉 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4522535B2 (ja) * | 2000-04-21 | 2010-08-11 | 日鉱金属株式会社 | Ｉｔｏターゲットの製造方法 |
| KR101324130B1 (ko) * | 2007-01-10 | 2013-11-01 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 산화인듐주석 분말 및 그 제조 방법 |
| CA2673833C (en) * | 2007-02-16 | 2012-03-06 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Method of recovering valuable metal from scrap containing conductive oxide |
| JP4210713B2 (ja) * | 2007-02-16 | 2009-01-21 | 日鉱金属株式会社 | 導電性のある酸化物を含有するスクラップからの有価金属の回収方法 |
| KR101134337B1 (ko) * | 2007-03-27 | 2012-04-09 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 도전성이 있는 산화물을 함유하는 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법 |
| EP2241656B1 (en) * | 2008-02-12 | 2013-05-15 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Method of recovering valuable metals from izo scrap |
| JP5102317B2 (ja) * | 2008-02-12 | 2012-12-19 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | Ｉｚｏスクラップからの有価金属の回収方法 |
| KR101279541B1 (ko) * | 2010-11-18 | 2013-06-28 | 한국세라믹기술원 | 주석이 고용된 인듐 산화물 분말과 이의 제조방법 및 주석이 고용된 인듐 산화물 분말을 이용한 인듐 산화물 타겟의 제조방법 |
| JP5632340B2 (ja) * | 2011-08-05 | 2014-11-26 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 水酸化インジウム及び水酸化インジウムを含む化合物の電解製造装置及び製造方法 |
| CN102627454B (zh) * | 2012-04-24 | 2013-12-11 | 西北稀有金属材料研究院 | Ito粉末的制备方法和制备ito烧结体的方法 |
| WO2013179553A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 株式会社アルバック | 金属水酸化物の製造方法及びｉｔｏスパッタリングターゲットの製造方法 |
| CN104919065A (zh) * | 2013-01-18 | 2015-09-16 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 从ito靶废料回收铟-锡合金的方法、氧化铟-氧化锡粉末的制造、及ito靶的制造方法 |
| JP6194217B2 (ja) * | 2013-10-01 | 2017-09-06 | 株式会社アルバック | 金属水酸化物の製造方法及びスパッタリングターゲットの製造方法 |
-
1993
- 1993-05-26 JP JP5146821A patent/JP2736498B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101538967B1 (ko) * | 2014-01-09 | 2015-07-22 | 한양대학교 에리카산학협력단 | 금속산화물 분말의 제조방법 |
| CN105683089A (zh) * | 2014-03-11 | 2016-06-15 | 住友金属矿山株式会社 | 氢氧化铟粉和氧化铟粉 |
| CN105683089B (zh) * | 2014-03-11 | 2017-11-07 | 住友金属矿山株式会社 | 氢氧化铟粉和氧化铟粉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06329415A (ja) | 1994-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5417816A (en) | Process for preparation of indium oxide-tin oxide powder | |
| JP2736498B2 (ja) | 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法 | |
| JP2829556B2 (ja) | 酸化インジウム粉末の製造方法 | |
| CN101611173B (zh) | 从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法 | |
| CN101611174B (zh) | 从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法 | |
| CN101946026B (zh) | 从izo废料中回收有价值金属的方法 | |
| CN105264119B (zh) | 氢氧化铟粉末的制造方法和氧化铟粉末的制造方法、以及溅射靶材 | |
| CN111763951B (zh) | 一种纳米氢氧化铟的制备方法 | |
| JP2002524661A (ja) | 金属酸化物の電気化学的製造法 | |
| CN112323084A (zh) | 一种纳米氧化铟的制备方法 | |
| CN105836792B (zh) | 一种纳米氧化铟的生产方法 | |
| CN104774561A (zh) | 利用铌钽含氟废水制备稀土抛光粉并回收铵盐的方法 | |
| CN109706467B (zh) | 电解制备高活性氧化铟的方法 | |
| JP2829557B2 (ja) | 酸化スズ粉末の製造方法 | |
| JP2736492B2 (ja) | 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法 | |
| CN109536982B (zh) | 纳米二氧化锡的制备方法 | |
| JPS63195288A (ja) | 金属水酸化物の製造法 | |
| CN1288092C (zh) | 一种四氧化三钴的制备方法 | |
| JP6036644B2 (ja) | 水酸化インジウム粉の製造方法 | |
| CN114540826B (zh) | 电解法制备高活性氧化铟的方法、ito靶材的制备方法 | |
| JPH06227815A (ja) | 導電性微粉末の製造方法 | |
| JP2001303239A (ja) | Ｉｔｏターゲットの製造方法 | |
| JP4432566B2 (ja) | 酸化スズ粉末の製造方法 | |
| KR100370401B1 (ko) | 인듐 주석 산화물(ｉｔｏ) 스크랩으로부터 ｉｔｏ 분말을제조하는 방법 | |
| CN111200153A (zh) | 一种用于抑制电解液易沉淀元素杂质析出的全钒液流电池电解液配方及工艺 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110116 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110116 Year of fee payment: 13 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110116 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140116 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |