JP2736381B2 - スルホニル尿素誘導体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は除草作用を有する新規なスルホニル尿素誘導
体の製造方法に関する。

本発明方法によって得られるスルホニル尿素誘導体
（特願昭62−56250に記載）は新規であり除草剤などの
農薬として有用である。

（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点） これまでスルホニル尿素誘導体の製法としては、ピラ
ゾール又はフェニルスルホンアミド化合物とクロルギ酸
エステルもしくは炭酸ジエステルとを反応させてスルホ
ニルカーバメイト化合物を製造し、これを単離精製した
のちさらにアミン化合物と反応させる２工程の方法が知
られている。例えば特開昭60−78980号公報には、式 ［式中、A₁は水素，低級アルキル；A₂は水素，低級アル
キル;Dは水素，低級アルキル，−COOR（Ｒは水素，低級
アルキル）;Eはアルキル，フェニル;Gは窒素， （Ｒ′は水素）;M,M′はそれぞれ独立して水素，低級ア
ルキル，低級アルコキシ等を示す］で表わされる２工程
による製造方法が記載されている。

しかしながらこの方法は（１）二工程で操作が複雑
（２）最終目的化合物の収量が低く、しかも高純度のも
のが得られない（３）中間化合物のスルホニルカーバメ
イト化合物が水分や熱に不安定で取り扱いが困難等の欠
点を有し、工業的製法として必ずしも満足すべきものと
はいえない。

（問題点を解決するための手段） 本発明は一般式 Ｑ−SO₂NH₂ （IV） ［式中、Ｑは置換基を有していてもよい橋頭にＮ原子を
有する縮合複素環基を示す］で表わされる化合物と一般
式 ［式中、Y₁はハロゲン原子または−OY₂を、Y₂はアルキ
ル基またはフェニル基を示す］で表わされる化合物とを
塩基の存在下に反応させ、ついでその反応混合物に無水
の条件下、一般式 ［式中、R₁およびR₂はそれぞれアルキル基，アルコキシ
基またはハロゲン原子を、ＺはCHまたはＮを示す］で表
わされる化合物を酸と共に作用させることを特徴とする
一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
物の製造方法に関する。

すなわち本発明は、一般式（IV）で表わされる化合物
と一般式（III）で表わされる化合物とを反応させるこ
とによって生成する一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で示されるスルホ
ニルカーバメイト化合物を反応混合物から単離すること
なく、ついでこのスルホニルカーバメイト化合物を一般
式（II）で表わされる化合物と反応させ化合物（Ｉ）を
より容易に、より高純度に、かつ高収率に製造する方法
を提供するものである。

本発明によって製造される化合物（Ｉ）はいずれも文
献未載の新規化合物である。

上記一般式において、Ｑは置換基を有していてもよい
橋頭にＮ原子を有する縮合複素環基を示し、ここで橋頭
にＮ原子を有する縮合複素環基とは、橋状結合の先端と
末端の位置にある原子、即ち橋頭原子の両方またはいず
れか一方が窒素原子である縮合複素環基を意味する。Ｑ
で示される置換基を有していてもよい橋頭にＮ原子を有
する縮合複素環基は、例えば一般式 ［式中、環，環は置換されていてもよい含窒素複素
環を示す］で表わされる縮合複素環から橋頭以外の構成
炭素原子に結合した水素原子を１個除いて形成される基
を示す。このような縮合複素環基は例えば一般式 ［式中、−は結合手を、他の記号は前記と同意義を示
す］で表わされる。

環，環で示される含窒素複素環とは１ないし４個
の窒素原子を含み、さらに１ないし３個の酸素原子また
は／および１ないし３個の硫黄原子（モノ又はジオキシ
ド化されていてもよい）を含んでいてもよい４ないし８
員、好ましくは５または６員の複素環を示し、これら
は、さらに５または６員の脂環（例、シクロペンタン，
シクロヘキサン），芳香環（例、ベンゼン，ナフタレ
ン），複素環（好ましくは５〜６員複素環）と縮合して
いてもよい。

このうち一般式 で表わされる基が好ましい。

上記式中環は好ましくは１ないし３個の窒素原子を
有する５員複素環を示し、環は好ましくは１もしく
は、２個の窒素原子を有する６員複素環，または１もし
くは２個の窒素原子及び１個の硫黄原子（モノ又はジオ
キシド化されていてもよい）を含む５員複素環を示す。

環，環それぞれ、後に定義される置換基B₁，B₂，
B₃で１〜３個同一又は異なって置換されていてもよい。

一般式 で示される基は、具体的には例えば一般式 等で表わされ、 一般式 で示される基は例えば、 ［上記式中、Ａは該イミダゾール環の［1,2］位で縮合
環を形成する基を、Ａ′は該イミダゾール環の［1,5］
位で縮合環を形成する基を、Ａ″は該ピラゾール環の
［1,5］位で縮合環を形成する基を、Ａは該ピロール
環の［1,2］位で縮合環を形成する基を、Ａ′は該ト
リアゾール環の［3,4］位で縮合環を形成する基を、
B₁，B₂，B₃はそれぞれ、水素原子，ヒドロキシ基，アミ
ノ基，シアノ基，スルファモイル基，スルファモイルオ
キシ基，メルカプト基，ニトロ基，ハロゲン原子もしく
は有機残基を示す］で表わされる。基A,A′,A″,A,A
′の環構成原子の炭素原子及び窒素原子は適当な置換
基たとえばヒドロキシ基，アミノ基，シアノ基，スルフ
ァモイル基，スルファモイルオキシ基，メルカプト基，
ニトロ基，ハロゲン原子，有機残基またはスルホ基等で
１〜３個同一または異なって置換されていてもよく、さ
らに互いに隣接する炭素原子と窒素原子，炭素原子と炭
素原子は別の縮合環（５〜６員縮合環）を形成していて
もよく、又環構成原子の硫黄原子はモノもしくはジオキ
シド化されていてもよい。

B₁，B₂またはB₃で示される有機残基は、後で定義され
る縮合複素環上の置換基の有機残基と同意義を示す。

基A,A′,A″,A,A′は環構成原子として、１ない
し４個、好ましくは３ないし４個の炭素原子を含み、さ
らに１ないし３個の窒素原子，酸素原子または／および
硫黄原子（モノ又はジオキシド化されていてもよい）を
含んでいてもよい。

一般式 で表わされる基の骨格である一般式 で表わされる縮合環としては 一般式 で表わされる基の骨格である一般式 で表わされる縮合環としては 一般式 で表わされる基の骨格である一般式 で表わされる縮合環としては 一般式 で表わされる基の骨格である一般式 で表わされる縮合環としては 一般式 で表わされる基の骨格である一般式 で表わされる縮合環としては などがあげられる。

上記縮合環のうち好ましくは、 特に好ましいものはイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン，
イミダゾ［2,1−ｂ］チアゾール，イミダゾ［1,2−ｂ］
ピリダジンである。最も好ましくはイミダゾ［1,2−
ａ］ピリジンである。

Ｑで示される橋頭にＮ原子を有する縮合複素環基は上
記したように該複素環の橋頭原子以外の構成炭素原子に
結合した水素原子を１個とり除いて形成される基であ
り、例えば縮合複素環であるイミダゾ［1,2−ａ］ピリ
ジンに対応する縮合複素環基は、式 で表わされる。

上記のうち好ましくは、一般式 で表わされる基である。

基Ａは、好ましくは環構成原子として４個の炭素原
子、２〜３個の炭素原子と１個の窒素原子、２個の炭素
原子と１個の硫黄原子（モノ又はジオキシド化されてい
てもよい）、１個の炭素原子,1個の硫黄原子と１個の窒
素原子，または１個の炭素原子と２個の窒素原子を含
む。

基Ａ′およびＡは好ましくは環構成原子として、４
個の炭素原子を含む。

基Ａ″は好ましくは環構成原子として４個の炭素原
子、３個の炭素原子と１個の窒素原子、２個の炭素原子
と１個の硫黄原子を含む。

基Ａ′は好ましくは２個の炭素原子と１個の硫黄原
子を含む。

橋頭にＮ原子を有する縮合複素環基は、例えばヒドロ
キシ基，アミノ基，シアノ基，スルファモイル基，スル
ファモイルオキシ基，メルカプト基，ニトロ基，ハロゲ
ン原子，有機残基またはスルホ基等の置換基で１〜３個
同一または異なって置換されていてもよい。

上記のうち好ましくは、シアノ基，スルファモイル
基，スルファモイルオキシ基，ニトロ基，ハロゲン原子
または有機残基である。特に好ましくはシアノ基，ハロ
ゲン原子，有機残基である。

ここにおいてハロゲン原子とは、たとえばフッ素，塩
素，臭素，ヨウ素などを意味する。有機残基とは例えば
炭化水素基，複素環基，アシル基，式−Ｔ−Q₀［式中、
Q₀は炭化水素基，複素環基またはアシル基を、Ｔは またはＳ−Ｓを、ｎは0,1又は２を示す］で表わされる
基， ［式中Q₁は水素原子，炭化水素基またはアシル基を、Q₂
は炭化水素基またはアシル基を示す］で表わされる基， ［式中、Q₁，Q₂は前記と同意義を示す］で表わされる
基，カルバモイル基，カルバモイルオキシ基，ウレイド
基，チオカルバモイル基，カルボキシル基または式−Ｏ
−SO₂−Q₂［式中、Q₂は前記と同意義を示す］で表わさ
れる基等を意味する。

上記の有機残基の例としての炭化水素基，複素環基，
アシル基，Q₀で示される炭化水素基，複素環基，アシル
基及びQ₁またはQ₂で示される炭化水素基，アシル基は下
記で詳しく説明される。

上記のカルバモイル基，カルバモイルオキシ基，ウレ
イド基またはチオカルバモイル基は、下記で詳しく説明
される炭化水素基，複素環基またはアシル基で１ないし
２個同一または異なって置換されていてもよい。

有機残基の例としての複素環基及びQ₀における複素環
基は下記に詳しく説明される炭化水素基，アシル基，ハ
ロゲン原子で１ないし３個置換されていてもよい。

ここにおいて炭化水素基は、直鎖，分枝状，環状の二
重結合、三重結合を有することもできる脂肪族基、ある
いはアリール基，アラルキル基、具体的にはアルキル
基，アルケニル基，アルキニル基，アリール基，アラル
キル基を意味し、アルキル基は、好ましくは炭素数１か
ら６の直鎖，分枝状もしくは環状のアルキル基を示し、
例えばメチル，エチル,n−プロピル，イソプロピル,n−
ブチル，イソブチル,sec−ブチル,tert−ブチル,n−ペ
ンチル,sec−ペンチル，イソペンチル，ネオペンチル，
シクロペンチル,n−ヘキシル，イソヘキシル，シクロヘ
キシル等が用いられ、アルケニル基は、好ましくは炭素
数３から６の直鎖，分枝状もしくは環状のアルケニル基
を示し、例えばアリル，イソプロペニル,1−ブテニル,2
−ペンテニル,2−ヘキセニル等が用いられ、アルキニル
基は、好ましくは炭素数３から６のアルキニル基を示
し、例えばプロパルギル,2−ブチニル,3−ブチニル,3−
ペンチニル,3−ヘキシニル等が用いられ、アリール基
は、好ましくは炭素数６から14のアリール基を示し、例
えばフェニル，ナフチル，ビフェニリル，アンスリル等
が用いられ、アラルキル基は好ましくは炭素数７から19
のアラルキル基を示し、例えばベンジル，フェネチル，
フェニルプロピル，ビフェニリルメチル，ベンズヒドリ
ル，トリチル等が用いられ、複素環基としてはたとえ
ば、窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素原
子，硫黄原子（モノ又はジオキシド化されていてもよ
い）などのヘテロ原子を１ないし４個含む５〜６員複素
環基またはその縮合環基，好ましくは該５〜６員複素環
基と窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素原
子，硫黄原子（モノ又はジオキシド化されていてもよ
い）などのヘテロ原子を１ないし４個含んでいてもよい
５〜６員環との縮合環基を示し、具体的には２−または
３−ピロリル,3−,4−または５−ピラゾリル,2−,4−ま
たは５−イミダゾリル,1,2,3,−トリアゾール−４−イ
ル,1,2,4−トリアゾール−３−イル,1H−または2H−テ
トラゾール−５−イル,2−または３−フリル,2−または
３−チエニル,2−または３−チエニル−1,1−ジオキシ
ド,2−,4−または５−オキサゾリル,3−,4−または５−
イソキサゾリル,1,2,3−オキサジアゾール−４−または
５−イル,1,2,4−オキサジアゾール−３−または５−イ
ル,1,2,5−オキサジアゾール−３−または−４−イル,
1,3,4−オキサジアゾール−２−または５−イル,2−,4
−または５−チアゾリル,3−,4−または５−イソチアゾ
リル,1,2,3−チアジアゾール−４−または５−イル,1,
2,4−チアジアゾール−３−または５−イル,1,2,5−チ
アジアゾール−３−又は４−イル,1,3,4−チアジアゾー
ル−２−または−５−イル,2−または３−ピロリジニ
ル,2−,3−または４−ピリジル,2−,3−または４−ピリ
ジル−Ｎ−オキシド,3−または４−ピリダジニル,3−ま
たは４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド,2−,4−または５
−ピリミジニル,2−,4−または５−ピリミジニル−Ｎ−
オキシド，ピラジニル,2−,3−または４−ピペリジニ
ル，ピペラジニル,3H−インドール−２−または３−イ
ル,2−,3−または４−ピラニル,2−,3−または４−チオ
ピラニル,2−,3−または４−チオピラニル−1,1−ジオ
キシド，ベンゾピラニル,3−,4−,5−,6−,7−または８
−キノリル，ピリド［2,3−ｄ］ピリミジニル（例、ピ
リド［2,3−ｄ］ピリミジン−２−イル）,1,5−,1,6−,
1,7−1,8−,2,6−または2,7−ナフチリジニル（例、1,5
−ナフチリジン−２−または３−イル），チエノ［2,3
−ｄ］ピリジル（例、チエノ［2,3−ｄ］ピリジン−３
−イル），ピラジノキノリル（例、ピラジノ［2,3−
ｄ］キノリン−２−イル），クロメニル（例、2H−クロ
メン−２−または３−イル）などが用いられ、アシル基
は、有機カルボン酸から誘導されるアシル基を示し、例
えばアルカノイル基，好ましくは炭素数１から７のアル
カノイル基（例、ホルミル，アセチル，プロピオニル，
ブチリル，イソブチリル，ペンタノイル，ヘキサノイ
ル，ヘプタノイル等），アリールカルボニル基，好まし
くは炭素数６から14のアリール−カルボニル基（例、ベ
ンゾイル，ナフタレンカルボニル等），アルコキシカル
ボニル基，好ましくは炭素数１から６のアルコキシ−カ
ルボニル基（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボ
ニル，プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ブトキシカルボニル，イソブトキシカルボニル,sec
−ブトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボニル
等），アリールオキシカルボニル基，好ましくは炭素数
６から14のアリールオキシ−カルボニル基（例、フェノ
キシカルボニル基），アラルキルカルボニル基，好まし
くは炭素数７から19のアラルキル−カルボニル基（例、
ベンジルカルボニル，フェネチルカルボニル，フェニル
プロピルカルボニル，ベンズヒドリルカルボニル，ナフ
チルエチルカルボニル等）,5〜６員複素環カルボニル基
（例、２−,3−または４−ピロリルカルボニル,3−,4−
または５−ピラゾリルカルボニル,2−,4−または５−イ
ミダゾリルカルボニル,1,2,3−トリアゾール−４−イル
カルボニル,1,2,4−トリアゾール−３−イルカルボニ
ル,1H−または2H−テトラゾール−５−イルカルボニル,
2−または３−フリルカルボニル,2−または３−チエニ
ルカルボニル,2−,4−または５−オキサゾリルカルボニ
ル,3−,4−または５−イソキサゾリルカルボニル,1,2,3
−オキサジアゾール−４−または５−イルカルボニル,
1,2,4−オキサジアゾール−３−または５−イルカルボ
ニル,1,2,5−オキサジアゾール−３−または−４−イル
カルボニル,1,3,4−オキサジアゾール−２−または−５
−イルカルボニル,2−,4−または５−チアゾリルカルボ
ニル,3−,4−または５−イソチアゾリルカルボニル,1,
2,3−チアジアゾール−４−または５−イルカルボニル,
1,2,4−チアジアゾール−３−または５−イルカルボニ
ル,1,2,5−チアジアゾール−３−または４−イルカルボ
ニル,1,3,4−チアジアゾール−２−または５−イルカル
ボニル,2−または３−ピロリジニルカルボニル,2−,3−
または４−ピリジルカルボニル,2−,3−または４−ピリ
ジル−Ｎ−オキシドカルボニル,3−または４−ピリダジ
ニルカルボニル,3−または４−ピリダジニル−Ｎ−オキ
シドカルボニル,2−,4−または５−ピリミジニルカルボ
ニル,2−,4−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシドカ
ルボニル，ピラジニルカルボニル,2−,3−または４−ピ
ペリジニルカルボニル，ピペラジニルカルボニル,3H−
インドール−２−または３−イルカルボニル,2−,3−ま
たは４−ピラニルカルボニル,2−,3−または４−チオピ
ラニルカルボニル,3−,4−,5−,6−,7−または８−キノ
リルカルボニル，ピリド［2,3−ｄ］ピリミジニルカル
ボニル（例、ピリド［2,3−ｄ］ピリミジン−２−イル
カルボニル）,1,5−,1,6−,1,7−1,8−,2,6−または2,7
−ナフチリジニルカルボニル（例、1,5−ナフチリジン
−２−または３−イルカルボニル），チエノ［2,3−
ｄ］ピリジルカルボニル（例、チエノ［2,3−ｄ］ピリ
ジン−３−イルカルボニル），ピラジノキノリルカルボ
ニル（例、ピラジノ［2,3−ｄ］キノリン−２−イルカ
ルボニル），クロメニルカルボニル（例、2H−クロメン
−２−または３−イルカルボニル等）等の窒素原子（オ
キシド化されていてもよい），酸素原子，硫黄原子（モ
ノ又はジオキシド化されていてもよい）などのヘテロ原
子を１ないし４個含む５〜６員複素環カルボニル基）,5
〜６員複素環アセチル基（例、２−ピロリルアセチル,3
−イミダゾリルアセチル,5−イソオキサゾリルアセチル
等の窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素原
子，硫黄原子（モノ又はジオキシド化されていてもよ
い）などのヘテロ原子を１ないし４個含む５〜６員複素
環アセチル基）等が用いられる。

式−Ｔ−Q₀で表わされる基は、具体的に例えばアルキ
ルオキシ基，アルケニルオキシ基，アリールオキシ基，
アラルキルオキシ基，複素環オキシ基，アシルオキシ
基，アルキルチオ基，アルケニルチオ基，アリールチオ
基，アラルキルチオ基，複素環チオ基，アシルチオ基，
アルキルジチオ基，アリールジチオ基，アラルキルジチ
オ基，アルキルスルフィニル基，アルケニルスルフィニ
ル基，アリールスルフィニル基，アラルキルスルフィニ
ル基，複素環スルフィニル基，アルキルスルホニル基，
アルケニルスルホニル基，アリールスルホニル基，アラ
ルキルスルホニル基，複素環スルホニル基等を示す。

ここにおいて、アルキルオキシ基（アルコキシ基）は
好ましくは炭素数１から６の直鎖，分枝状もしくは環状
のアルキルオキシ基を意味し、例えばメトキシ，エトキ
シ,n−プロポキシ，イソプロポキシ,n−ブトキシ，イソ
ブトキシ,sec−ブトキシ,tert−ブトキシ,n−ペンチル
オキシ,sec−ペンチルオキシ，イソペンチルオキシ，ネ
オペンチルオキシ，シクロペンチルオキシ,n−ヘキシル
オキシ，イソヘキシルオキシ，シクロヘキシルオキシ等
が用いられ、アルケニルオキシ基は好ましくは炭素数３
から６の直鎖，分枝状もしくは環状のアルケニルオキシ
基を意味し、例えばアリルオキシ，イソプロペニルオキ
シ,1−ブテニルオキシ,2−ペンテニルオキシ,2−ヘキセ
ニルオキシ等が用いられ、アリールオキシ基は好ましく
は炭素数６から14のアリールオキシ基を意味し，例えば
フェノーキシ，ナフチルオキシ，ビフェニリルオキシ等
が用いられ、アラルキルオキシ基は好ましくは炭素数７
から19のアラルキルオキシ基を意味し、例えばベンジル
オキシ，フェネチルオキシ，フェニルプロピルオキシ等
が用いられ、複素環オキシ基は式Ｔ′−Ｏ−（Ｔ′は上
記した複素環基を示す）で表わされる基を意味し、具体
的には２−または３−ピロリルオキシ,3−,4−または５
−ピラゾリルオキシ,2−,4−または５−イミダゾリルオ
キシ,1,2,3−トリアゾール−４−イルオキシ,1,2,4−ト
リアゾール−３−イルオキシ,1H−または2H−テトラゾ
ール−５−イルオキシ,2−または３−フリルオキシ,2−
または３−チエニルオキシ,2−または３−チエニルオキ
シ−1,1−ジオキシド,2−,4−または５−オキサゾリル
オキシ等が用いられ、アシルオキシ基は、式Ｔ″−Ｏ−
（Ｔ″は上記したアシル基を示す）で表わされる基を意
味し、具体的にはアセトキシ，プロピオニルオキシ，ブ
チリルオキシ，ペンタノイルオキシ，ヘキサノイルオキ
シ，ベンジルカルボニルオキシ，フェネチルカルボニル
オキシ，ベンゾイルオキシ，ナフトイルオキシ，チエニ
ルカルボニルオキシ，ベンゾチエニルカルボニルオキシ
等が用いられ、アルキルチオ基は好ましくは炭素数１か
ら６の直鎖，分枝状もしくは環状のアルキルチオ基を意
味し、例えばメチルチオ，エチルチオ,n−プロピルチ
オ，イソプロピルチオ,n−ブチルチオ，イソブチルチ
オ,sec−ブチルチオ,tert−ブチルチオ,n−ペンチルチ
オ,sec−ペンチルチオ，イソペンチルチオ，ネオペンチ
ルチオ，シクロペンチルチオ,n−ヘキシルチオ，イソヘ
キシルチオ，シクロヘキシルチオ等が用いられ、アルケ
ニルチオ基は好ましくは炭素数３から６の直鎖，分枝状
もしくは環状のアルケニルチオ基を意味し、例えばアリ
ルチオ，イソプロペニルチオ,1−ブテニルチオ,2−ペン
テニルチオ,2−ヘキセニルチオ等が用いられ、アリール
チオ基は好ましくは炭素数６から14のアリールチオ基を
意味し、例えばフェニルチオ，ナフチルチオ，ビフェニ
リルチオ等が用いられ、アラルキルチオ基は好ましくは
炭素数７から19のアラルキルチオ基を意味し、例えばベ
ンジルチオ，フェネチルチオ，フェニルプロピルチオ等
が用いられ、複素環チオ基とは、式Ｔ′−Ｓ−（Ｔ′は
上記した複素環基を示す）で表わされる基を意味し、具
体的には２−または３−ピロリルチオ,3−,4−または５
−ピラゾリルチオ,2−,4−または５−イミダゾリルチ
オ,1,2,3−トリアゾール−４−イルチオ,1,2,4−トリア
ゾール−５−イルチオ,1H−または2H−テトラゾール−
５−イルチオ,2−または３−フリルチオ,2−または３−
チエニルチオ,2−または３−チエニルチオ−1,1−ジオ
キシド,2−,4−または５−オキサゾリルチオ等が用いら
れ、アシルチオ基とは、式Ｔ″−Ｓ−（Ｔ″は上記した
アシル基を示す）で表わされる基を意味し、具体的には
アセチルチオ，プロピオニルチオ，ブチリルチオ，ペン
タノイルチオ，ヘキサノイルチオ，ベンジルカルボニル
チオ，フェネチルカルボニルチオ，ベンゾイルチオ，ナ
フトイルチオ，チエニルカルボニルチオ，ベンゾチエニ
ルカルボニルチオ等が用いられ、アルキルジチオ基は好
ましくは炭素数１から６の直鎖，分枝状もしくは環状の
アルキルジチオ基を意味し、例えばメチルジチオ，エチ
ルジチオ,n−プロピルジチオ，シクロペンチルジチオ等
が用いられ、アリールジチオ基は好ましくは炭素数６か
ら14のアリールジチオ基を意味し、例えばフェニルジチ
オ，ナフチルジチオ，ビフェニリルジチオ等が用いら
れ、アラルキルジチオ基は好ましくは炭素数７から19の
アラルキルジチオ基を意味し、例えばベンジルジチオ，
フェネチルジチオ等が用いられ、アルキルスルフィニル
基は好ましくは炭素数１から６の直鎖，分枝状もしくは
環状のアルキルスルフィニル基を意味し、例えばメチル
スルフィニル，エチルスルフィニル,n−プロピルスルフ
ィニル,n−ヘキシルスルフィニル，シクロヘキシルスル
フィニル等が用いられ、アルケニルスルフィニル基は好
ましくは炭素数３から６の直鎖，分枝状もしくは環状の
アルケニルスルフィニル基を意味し、例えばアリルスル
フィニル等が用いられ、アリールスルフィニル基は好ま
しくは炭素数６から14のアリールスルフィニル基を意味
し、例えばフェニルスルフィニル等が用いられ、アラル
キルスルフィニル基は好ましくは炭素数７から19のアラ
ルキルスルフィニル基を意味し、例えばベンジルスルフ
ィニル等が用いられ、複素環スルフィニル基は式Ｔ′−
SO−（Ｔ′は上記した複素環基を示す）で表わされる基
を意味し、具体的には２−または３−ピロリルスルフィ
ニル,3−,4−または５−ピラゾリルスルフィニル等が用
いられ、アルキルスルホニル基とは好ましくは炭素数１
から６の直鎖，分枝状もしくは環状のアルキルスルホニ
ル基を意味し、例えばメチルスルホニル，エチルスルホ
ニル，シクロヘキシルスルホニル等が用いられ、アルケ
ニルスルホニル基とは好ましくは炭素数３から６の直
鎖，分枝状もしくは環状のアルケニルスルホニル基を意
味し、例えばアリルスルホニル等が用いられ、アリール
スルホニル基とは好ましくは炭素数６から14のアリール
スルホニル基を意味し、例えばフェニルスルホニル，ナ
フチルスルホニル，ビフェニリルスルホニル等が用いら
れ、アラルキルスルホニル基とは好ましくは炭素数７か
ら19のアラルキルスルホニル基を意味し、例えばベンジ
ルスルホニル，フェネチルスルホニル，フェニルプロピ
ルスルホニル基等が用いられ、複素環スルホニル基とは
式Ｔ′−SO₂−（Ｔ′は上記した複素環基を示す）で表
わされる基を意味し、具体的には２−または３−ピロリ
ルスルホニル,3−,4−または５−ピラゾリルスルホニル
等が用いられる。

で表わされる基としては、具体的にはアルキルアミノ
基、好ましくはモノ〜ジ（炭素数１から６のアルキル）
アミノ基でたとえば、メチルアミノ，エチルアミノ,n−
プロピルアミノ,n−ブチルアミノ,tert−ブチルアミノ,
n−ペンチルアミノ,n−ヘキシルアミノ，ジメチルアミ
ノ，ジエチルアミノ，メチルエチルアミノ，ジ−（ｎ−
プロピル）アミノ，ジ−（ｎ−ブチル）アミノ等、シク
ロアルキルアミノ基、好ましくはモノ〜ジ（炭素数３か
ら６のシクロアルキル）アミノ基でたとえば、シクロプ
ロピルアミノ，シクロペンチルアミノ，シクロヘキシル
アミノ，ジシクロヘキシルアミノ等、アリールアミノ
基、好ましくは炭素数６から14のアリールアミノ基でた
とえば、アニリノ,N−メチルアニリノ等、アラルキルア
ミノ基、好ましくは炭素数７から19のアラルキルアミノ
基でたとえば、ベンジルアミノ,1−フェニルエチルアミ
ノ,2−フェニルエチルアミノ，ベンズヒドリルアミノ，
トリチルアミノなど、アシルアミノ基即ち、式Ｔ″−NH
−又は（Ｔ″）₂N−（Ｔ″は上記したアシル基を示し、
２個の基Ｔ″は窒素原子と共に環を形成してもよい）で
表わされる基で、具体的にはアセトアミド，プロピオン
アミド，ブチリルアミノ，ペンタノイルアミノ，ヘキサ
ノイルアミノ，スクシンイミド，ベンジルカルボニルア
ミノ（ベンジルカルボキサミド），フェネチルカルボニ
ルアミノ（フェネチルカルボキサミド），ベンゾイルア
ミノ（ベンズアミド），ナフトイルアミノ，フタルイミ
ド，チエニルカルボニルアミノ（チエニルカルボキサミ
ド），ベンゾチエニルカルボニルアミノ（ベンゾチエニ
ルカルボキサミド）等のアルキルカルボニルアミノ，ア
リールカルボニルアミノ，複素環カルボニルアミノ（た
だし、ここでアルキル，アリール，複素環基は上記と同
じものが好ましい），環状イミド等が用いられる。

で表わされる基としては、具体的には、モノまたはジア
ルキルスルファモイル基、好ましくはモノ又はジ（炭素
数１から６のアルキル）スルファモイル基で、例えばメ
チルスルファモイル，エチルスルファモイル,m−プロピ
ルスルファモイル,n−ヘキシルスルファモイル，ジメチ
ルスルファモイル，ジエチルスルファモイル，メチルエ
チルスルファモイル，ジ−（ｎ−ブチル）スルファモイ
ル等、シクロアルキルスルファモイル基、好ましくは炭
素数３から６のシクロアルキルスルファモイル基で例え
ばシクロプロピルスルファモイル，シクロヘキシルスル
ファモイル等、アリールスルファモイル基、好ましくは
炭素数６から14のアリールスルファモイル基、例えばフ
ェニルスルファモイル等、アラルキルスルファモイル
基、好ましくは炭素数７から19のアラルキルスルファモ
イル基で例えばベンジルスルファモイル,1−フェニルエ
チルスルファモイル,2−フェニルエチルスルファモイ
ル，ベンズヒドリルスルファモイル，トリチルスルファ
モイル等、アシルスルファモイル基即ち、式Ｔ″−NHSO
₂−又は（Ｔ″）₂N−SO₂−（Ｔ″は上記したアシル基を
示す）で表わされる基で例えばアセチルスルファモイ
ル，ベンジルカルボニルスルファモイル，チエニルカル
ボニルスルファモイル等が用いられる。式Q₂−SO₂−Ｏ
−で表わされる基は、具体的にはアルキルスルホニルオ
キシ基、好ましくは炭素数１から６のアルキルスルホニ
ルオキシ基で例えばメタンスルホニルオキシ，エタンス
ルホニルオキシ等、アリールスルホニルオキシ基、好ま
しくは炭素数６から14のアリールスルホニルオキシ基で
例えばベンゼンスルホニルオキシ,p−トルエンスルホニ
ルオキシ基等、アラルキルスルホニルオキシ基、好まし
くは炭素数７から19のアラルキルスルホニルオキシ基で
例えばベンジルスルホニルオキシ，フェネチルスルホニ
ルオキシ等，アシルスルホニルオキシ基で具体的にはア
セチルスルホニルオキシ，ブチリルスルホニルオキシ等
が用いられる。

なお上記のアルキル基，アルキルオキシ基（又はアル
コキシ基），アルキルチオ基，アルキルジチオ基，アル
キルスルフィニル基，アルキルスルホニル基，アルキル
アミノ基，シクロアルキルアミノ基，アルケニル基，ア
ルケニルオキシ基，アルケニルチオ基，アルケニルジチ
オ基，アルケニルスルフィニル基，アルケニルスルホニ
ル基，アルキニル基，アルコキシカルボニル基，アルカ
ノイル基，アルキルスルホニルオキシ基は、さらに例え
ばアルキルチオ基（例、メチルチオ，エチルチオ,n−プ
ロピルチオ，イソブチルチオ等の炭素数１から４の直鎖
もしくは分枝状アルキルチオ基），ハロゲン原子（例、
フッ素，塩素，臭素，ヨウ素等），アルコキシ基（例、
メトキシ，エトキシ,n−プロポキシ,tert−ブトキシ,n
−ヘキシルオキシ等の炭素数１から６の直鎖もしくは分
枝状のアルコキシ基），ニトロ基，アルコキシカルボニ
ル基（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボニル,n
−プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニル,n
−ブトキシカルボニル，イソブトキシカルボニル,sec−
ブトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボニル等の炭
素数１から６のアルコキシ−カルボニル基），アルキル
アミノ基（例、メチルアミノ，エチルアミノ,n−プロピ
ルアミノ,n−ブチルアミノ,tert−ブチルアミノ,n−ペ
ンチルアミノ,n−ヘキシルアミノ，ジメチルアミノ，ジ
エチルアミノ，メチルエチルアミノ，ジ−（ｎ−プロピ
ル）アミノ，ジ−（ｎ−ブチル）アミノ等のモノ〜ジ
（炭素数１から６のアルキル）アミノ基）等で１ないし
３個置換されていてもよい。

アルコキシ基が２個置換している場合、２個のアルコ
キシ基が合してたとえばメチレンジオキシ，エチレンジ
オキシ，プロピレンジオキシ等の炭素数１から３のアル
キレンジオキシ基やエチリデンジオキシ，プロピリデン
ジオキシ，イソプロピリデンジオキシ等の炭素数２から
６のアルキリデンジオキシ基を構成してもよい。

上記アリール基，アリールオキシ基，アリールオキシ
カルボニル基，アリールカルボニル基，アリールチオ
基，アリールジチオ基，アリールスルフィニル基，アリ
ールスルホニル基，アリールアミノ基，アラルキルオキ
シ基，アラルキルオキシカルボニル基，アラルキルチオ
基，アラルキルジチオ基，アラルキルスルフィニル基，
アラルキルスルホニル基，アラルキルアミノ基，アラル
キスカルボニル基，アリールスルホニルオキシ基，アラ
ルキルスルホニルオキシ基はさらに芳香環上に例えばア
ルキル基，アルケニル基，アルキニル基，アルコキシ
基，アシル基，アシルオキシ基，ニトロ基，シアノ基，
ハロゲン，アシルアミノ基，アルキルチオ基等で１ない
し３個置換されていてもよい。ここにおいてアルキル
基，アルケニル基，アルキル基，アルコキシ基，アシル
基，アシルオキシ基，アシルアミノ基，ハロゲン，アル
キルチオ基は上記で定義されたものと同様なものが用い
られる。

アルキル基が隣接して２個置換している場合、互いに
あわさってトリメチレン基又はテトラメチレン基等の２
価の基を示してもよく、アルケニル基が隣接して２個置
換している場合、互いにあわさってプロペニレン基,1−
ブテニレン基,2−ブテニレン基又はブタジエニレン基等
の２価の基を示してもよい。

このような場合、２価の基は該縮合複素環基とさらに
５〜６員の脂環（例、シクロペンタン，シクロヘキサ
ン，シクロヘキサジエン），芳香環（例、ベンゼン）,1
ないし４個のヘテロ原子（例えば硫黄原子，酸素原子ま
たは窒素原子）を含有する５〜６員複素環を形成する。

上記有機残基のうち、好ましくは（１）ハロゲン原
子，アルキルチオ基またはアルコキシ基で１ないし３個
同一又は異なって置換されていてもよいアルキル基，
（２）アリール基，（３）アルキルチオ基，（４）アル
ケニルチオ基，（５）アルキルスルフイニル基，（６）
アルキルスルホニル基，（７）アルケニルスルホニル
基，（８）アルコキシカルボニル基，（９）カルバモイ
ル基，（10）ブタジエニレン基，（11）アルキルアミノ
基，（12）アルコキシ基である。

上記複素環オキシ基，複素環チオ基，複素環スルフィ
ニル基，複素環カルボニル基及び複素環スルホニル基の
複素環基は、上記したアルキル基，アルケニル基，アル
キニル基，アリール基，アラルキル基，アルカノイル
基，アリールカルボニル基，アルコキシカルボニル基，
アリールオキシカルボニル基，アラルキルカルボニル
基，ニトロ，アミノ，ヒドロキシ，シアノ，スルファモ
イル，メルカプト，ハロゲン原子（例、フッ素，塩素，
臭素，ヨウ素）等で１ないし３個置換されていてもよ
い。

Ｑで示される置換された橋頭にＮ原子と有する縮合複
素環基上の置換基として特に好ましくは、ハロゲン原
子，炭素数１から６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基
又は炭素数１から６の直鎖もしくは分枝状のアルコキシ
基である。このうち塩素，メチル，メトキシ，エトキシ
またはイソプロポキシが好ましい。特に好ましくは塩素
である。

Ｑは好ましくは、一般式 ［上記式中、R₀は水素原子，ハロゲン原子で置換されて
いてもよい低級アルキル基，低級アルキルチオ基，低級
アルキルスルホニル基，低級アルコキシカルボニル基ま
たはハロゲン原子を、X₁は水素原子又はハロゲン原子，
低級アルコキシ基，低級アルキルチオ基，低級アルキル
アミノ基，ジ低級アルキルアミノ基を、X₂，X₃はそれぞ
れ水素原子又は低級アルキル基を示す］で表わされる基
である。上記のうち特に好ましくは（ａ），（ｂ），
（ｃ）である。R₀は好ましくはハロゲン原子又は低級ア
ルキル基である。X₁は好ましくは低級アルコキシ基であ
る。

ここで低級アルキル基，ハロゲン原子で置換されてい
てもよい低級アルキル基における低級アルキル基，低級
アルキルチオ基における低級アルキル基，低級アルキル
スルホニル基における低級アルキル基，低級アルキルア
ミノ基における低級アルキル基，ジ低級アルキルアミノ
基における低級アルキル基としては炭素数１から４のア
ルキル基（例えばメチル，エチル,n−プロピル，イソプ
ロピル,n−ブチル,t−ブチル等）が用いられる。低級ア
ルコキシ基としては炭素数１から４のアルコキシ基（例
えばメトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキ
シ,t−ブトキシ）が用いられる。ハロゲン原子，ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルキル基における
ハロゲン原子としてはフッ素，塩素，臭素など、特に好
ましくは塩素が用いられる。

Y₂で示されるアルキル基は好ましくは炭素数１から６
の直鎖もしくは分枝状のアルキル基を意味し、例えばメ
チル，エチル,n−プロピル，イソプロピル,n−ブチル，
イソブチル,sec−ブチル,tert−ブチル,n−ペンチル,se
c−ペンチル，イソペンチル，ネオペンチル,n−ヘキシ
ル，イソヘキシル等が用いられ、Y₁で示されるハロゲン
原子はフッ素，塩素，臭素，ヨウ素等、特に好ましくは
塩素が用いられる。

R₁，R₂で示されるアルキル基は好ましくは炭素数１か
ら６の直鎖，分枝状もしくは環状のアルキル基を意味
し、例えばメチル，エチル,n−プロピル，イソプロピ
ル,n−ブチル，イソブチル,sec−ブチル,tert−ブチル,
n−ペンチル,sec−ペンチル，イソペンチル，ネオペン
チル，シクロペンチル,n−ヘキシル，イソヘキシル，シ
クロヘキシル等が用いられ、アルコキシ基は好ましくは
炭素数１から６の直鎖もしくは分枝状のアルコキシ基を
意味し、例えばメトキシ，エトキシ,n−プロポキシ，イ
ソプロポキシ,n−ブトキシ，イソブトキシ,sec−ブトキ
シ,tert−ブトキシ,n−ペンチルオキシ,n−ヘキシルオ
キシ等が用いられ、ハロゲン原子はフッ素，塩素，臭
素，ヨウ素等が用いられる。

R₁，R₂は、さらに好ましくはそれぞれ低級アルキル基
（例、メチル，エチル,n−プロピル，イソプロピル,n−
ブチル,tert−ブチルなどの炭素数１〜４のアルキル
基）または低級アルコキシ基（例、メトキシ，エトキ
シ,n−プロポキシ，イソプロポキシ,n−ブトキシ,tert
−ブトキシなどの炭素数１〜４のアルコキシ基）または
ハロゲン原子（フッ素，塩素，臭素など）である。一層
好ましくはR₁，R₂がそれぞれメチル基，メトキシ基また
は塩素である。最も好ましくはメチル基またはメトキシ
基である。さらに好ましくはメトキシ基である。Ｚは好
ましくはCHである。

化合物（１），（IV），（Ｖ）は置換分中のスルホ
基，カルボキシル基等の酸性基と無機塩基塩，有機塩基
塩を形成することができる。又化合物（Ｉ），（II），
（IV），（Ｖ）は分子中の塩基性の窒素原子及び置換分
中のアミノ基等の塩基性基と無機酸付加塩，有機酸付加
塩を形成することができる。又化合物（Ｉ），（Ｖ）は
分子中に酸性基 を有しているので無機塩基塩，有機塩基塩を形成するこ
とができる。

化合物（１），（IV），（Ｖ）の無機塩基塩としては
たとえばアルカリ金属（たとえばナトリウム，カリウム
など），アルカリ土類金属（たとえばカルシウムな
ど），アンモニウムなどとの塩が、又化合物（Ｉ），
（IV），（Ｖ）の有機塩基塩としてはたとえばジメチル
アミン，トリエチルアミン，ピペラジン，ピロリジン，
ピペリジン,2−フェニルエチルベンジルアミン，ベンジ
ルアミン，エタノールアミン，ジエタノールアミンなど
との塩などが用いられる。

化合物（Ｉ），（II），（IV），（Ｖ）の無機酸付加
塩としてはたとえば塩酸，臭化水素酸，硫酸，硝酸，リ
ン酸などとの塩が、化合物（Ｉ），（II），（IV），
（Ｖ）の有機酸付加塩としてはたとえばｐ−トルエンス
ルホン酸，メタンスルホン酸，ギ酸，トリフルオロ酢酸
などとの塩が用いられる。

本明細書では化合物（Ｉ），（II），（IV），（Ｖ）
はこれらの塩をも含むものとする。

化合物（Ｉ）は化合物（IV）と化合物（III）とを塩
基の存在下に反応させ（第１段階の反応）、ついでその
反応混合物に、無水の条件下に化合物（II）を酸と共に
作用させる（第２段階の反応）ことにより製造される。

反応の第１段階において、原料の化合物（III）は化
合物（IV）に対して約0.5〜２倍モル、好ましくは約0.8
〜1.2倍モル用いる。

原料化合物（III）は好ましくはY₁がハロゲン原子又
は、Y₂がフェニル基を示す。具体的には例えばクロロギ
酸フェニル，クロロギ酸メチル，クロロギ酸エチル，ク
ロロギ酸イソプロピル，ジフェニルカーボネート，ジメ
チルカーボネート，ジエチルカーボネート，ジ−２−ト
リルカーボネート，ジ−４−トリルカーボネート，ジ−
（α−ナフチル）カーボネート，ビス（４−クロロフェ
ニル）カーボネート等があげられる。好ましくはクロロ
ギ酸フェニルが用いられる。

塩基は、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸
化アルカリ金属、炭酸ナトリウム，炭酸カリウム等の炭
酸アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アル
カリ金属、ナトリウムメトキシド，ナトリウムエトキシ
ド，カリウムｔ−ブトキシドなどのアルコラート、ピリ
ジン，ルチジン，トリエチルアミン，ジイソプロピルエ
チルアミン，トリプロピルアミン，トリブチルアミン,
N,N−ジメチルアニリン,N,N−ジエチルアニリン,1,8−
ジアザビシクロ［5,4,0］−７−ウンデセン,1,4−ジア
ザビシクロ［2,2,2］オクタン等の有機三級アミンが用
いられる。好ましくは有機三級アミンである。最も好ま
しくはトリエチルアミンである。用いる塩基の量は化合
物（III）に対して１〜2.1倍モル程度である。具体的に
は塩基の量は化合物（III）（Y₁がハロゲン原子の場
合）に対して約1.8〜2.1倍モルが好ましく、化合物（II
I）（Y₁がOY₂の場合）に対して約１〜2.0倍モルが好ま
しい。

本反応は反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわれ
る。このような溶媒としては、例えば、石油エーテル，
リグロイン，石油ベンジンなどの脂肪族炭化水素類、ベ
ンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水素類、
ジクロロメタン，クロロホルム，四塩化炭素，トリクロ
ロエチレン，クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
類，ジエチルエーテル，メチルエチルエーテル，ジイソ
プロピルエーテル，ジブチルエーテル，プロピレンオキ
サイド，ジオキサン，テトラヒドロフラン，エチレング
リコール モノメチルエーテルなどのエーテル類、アセ
トニトリル，プロピオニトリルなどのニトリル類、アセ
トン，メチルイソブチルケトン，メチルエチルケトンな
どのケトン類、酢酸エチル，酢酸ブチルなどのエステル
類、ジメチルホルムアミド，ジメチルアセトアミドなど
の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホランなど
の有機溶媒が用いられる。好ましくはハロゲン化炭化水
素類，ニトリル類である。一層好ましくはアセトニトリ
ル，ジクロロメタンである。

反応温度は約−20℃から150℃、好ましくは約５から1
00℃である。

反応時間は比較的短く、通常５分〜１時間程度であ
る。

反応は化合物（IV）と塩基を溶媒に溶かしたのち、こ
れに化合物（III）を加えるか化合物（IV）と（III）を
溶媒に溶かした後これに塩基を加えることにより行われ
る。

この第１段階の反応によって一般式（Ｖ）で表わされ
る化合物が反応混合物中に得られる。この生成化合物
（Ｖ）は反応混合物から単離することなく、直ちに第２
段階の反応に供される。

反応の第２段階においては、化合物（II）は第１段階
の反応で用いた化合物（III）に対してほぼ等モル程度
用いる。反応に用いる酸としては、例えば、塩化水素，
臭化水素，硫酸等の無機酸、例えばメタンスルホン酸，
エタンスルホン酸，ベンゼンスルホン酸，酸性イオン交
換樹脂等があげられる。塩化水素，臭化水素などは上記
した有機溶媒にあらかじめ溶解したものを用いてもよ
い。好ましくは塩化水素，臭化水素，硫酸，メタンスル
ホン酸，エタンスルホン酸，さらに好ましくはメタンス
ルホン酸である。酸の使用量は第１段階の反応で用いた
塩基の量及び化合物（III）の種類によって異なり、例
えば化合物（III）（Y₁がハロゲン原子の場合）を用い
る場合、使用塩基に対して約0.4〜0.6倍モルが好まし
く、化合物（III）（Y₁がOY₂の場合）を用いる場合、使
用塩基に対して約0.9〜1.1倍モルが好ましい。

本反応は、無水条件下で行なわれる。反応液への水の
混入は反応を阻害するので反応系外に除去するのが好ま
しい。溶媒は第１段階の反応で用いたものと同様なもの
が用いられる。

本反応は第１段階の反応で得られた反応液に酸を加え
たのち化合物（II）を加えるか、化合物（II）を加えた
のち酸を加えるか、又は酸と化合物（II）とを同時に加
えることにより行なわれる。

反応温度は、約10から100℃で進行する。反応時間
は、反応温度により異なるが通常10分から６時間程度で
ある。具体的には反応時間は反応温度が50〜100℃程度
の場合、約10分から２時間程度と短く、反応温度が10℃
以上50℃未満の場合１から６時間程度必要である。

反応生成物はそれ自体公知の手段、たとえば溶媒抽
出，液性変換，蒸留，減圧蒸留，減圧濃縮，転溶，結晶
化，再結晶，クロマトグラフィーなどによって容易に単
離精製することができる。具体的には反応液を冷却し析
出する結晶をと取する、反応液を減圧濃縮後、残留物に
溶媒を加え析出晶をろ取する等の容易な手法により単
離、精製できる。

化合物（Ｉ）は、極めて低薬量で広範囲の雑草、例え
ば、タイヌビエ，タマガヤツリ，イヌホタルイ，コナ
ギ，ウリカワ，マツバイ，ミズガヤツリ，クログワイ，
ヘラオモダカ，オモダカ，タイワンヤマイ，アゼナ，キ
カシグサ，ヒルムシロ，チョウジタデ，ミゾハコベ等の
水田雑草、メヒシバ，エノコログサ，アオビユ，イチ
ビ，アカザ，イヌタデ，スベリヒユ，アメリカキンゴジ
ガ，シロバナチョウセンアサガオ，マルバアサガオ，オ
ナモミ，ヒメイヌビエ，オオクサキビ，セイバンモロコ
シ，ハマスゲ，カラスムギ，ブラックグラス，ウマノチ
ヤヒキ，コハコベ，カラシナ類，エビスグサ，カミツ
レ，ツユクサ等の畑地雑草に対して優れた殺草力を有す
るのみならず、稲，小麦，大麦，トウモロコシ，大豆等
の作物に対して薬害はほとんどなく、高い安全性を示
す。

化合物（Ｉ）は、作物と各種雑草との間に優れた選択
的除草効果を示し、哺乳動物や魚貝類に対して低毒性
で、環境を汚染することもなく、水田，畑，果樹園或い
は非農耕地用の除草剤として極めて安全に使用すること
ができる。

化合物（Ｉ）を除草剤として使用するにあたっては、
一般の農薬のとりうる形態、即ち、化合物（Ｉ）の１種
又は２種以上を使用目的によって適当な液体担体に溶解
するか分散させるか、または適当な固体担体と混合する
か吸着させ、乳剤，油剤，噴霧剤，水和剤，粉剤,DL
（ドリフトレス）型粉剤，粒剤，微粒剤，微粒剤F,錠剤
などの製剤として使用する。これらの製剤は必要に応
じ、乳化剤，分散剤，展着剤，浸透剤，湿潤剤，粘漿
剤，安定剤などを添加してもよく、自体公知の方法で調
製することができる。使用する液体担体（溶剤）として
は、例えば水、アルコール類（例、メタノール，エタノ
ール,n−プロパノール，イソプロパノール，エチレング
リコール等）、ケトン類（例、アセトン，メチルエチル
ケトン等）、エーテル類（例、ジオキサン，テトラヒド
ロフラン，エチレングリコールモノメチルエーテル，ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル，プロピレング
リコールモノメチルエーテル等）、脂肪族炭化水素類
（例、ケロシン，灯油，燃料油，機械油等）、芳香族炭
化水素類（例、ベンゼン，トルエン，キシレン，ソルベ
ントナフサ，メチルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水
素類（例、ジクロロメタン，クロロホルム，四塩化炭素
等）、酸アミド類（例、ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルアセトアミド等）、エステル類（例、酢酸エチルエス
テル，酢酸ブチルエステル，脂肪酸グリセリンエステル
等）、ニトリル類（例、アセトニトリル，プロピオニト
リル等）などの溶媒が適当であり、これらは１種または
２種以上を適当な割合で混合して使用する。

固体担体（希釈・増量剤）としては、植物性粉末
（例、大豆粉，タバコ粉，小麦粉，木粉等）、鉱物性粉
末（例、カオリン，ベントナイト，酸性白土，クレイ等
のクレイ類、滑石粉，ロウ石粉等のタルク類、珪藻土，
雲母粉などのシリカ類等）、アルミナ、硫黄粉末、活性
炭などが適当であり、これらは１種又は２種以上を適当
な割合で混合して使用する。

乳化剤，展着剤，浸透剤，分散剤などとして使用され
る界面活性剤としては、必要に応じて石けん類，ポリオ
キシエチレンアルキルアリールエーテル類（例、ノイゲ
ン，イー・エー142（E.A142 第一工業製薬（株）
製）、ポリオキシエチレンアリールエステル類（例、ノ
ナール ，東邦化学（株）製），アルキル硫酸塩類
（例、エマール10 ，エマール40 ，花王石鹸（株）
製），アルキルスルホン酸塩類（例、ネオゲン ，ネオ
ゲンＴ ，第一工業製薬（株）製：ネオペレックス 花
王石鹸（株）製），ポリエチレングリコールエーテル類
（例、ノニポール85 ，ノニポール100 ，ノニポール1
60 ，三洋化成（株）製），多価アルコールエステル類
（例、トウイーン20 ，トウイーン80 ，花王石鹸
（株）製）などの非イオン系及びアニオン系界面活性剤
が用いられる。

化合物（Ｉ）の除草剤中の含有割合は乳剤，水和剤な
どは１から90重量％程度が適当であり、油剤，粉剤,DL
（ドリフトレス）型粉剤などとしては0.01から10重量％
程度が適当であり、微粉剤F,粒剤としては0.05から10重
量％程度が適当であるが、使用目的によっては、これら
の濃度を適宜変更してもよい。乳剤，水和剤などは使用
に際して、水などで適宜希釈増量（たとえば100〜10000
0倍）して散布する。

化合物（Ｉ）を除草剤として用いる場合の使用量は、
適用場面，適用時期，施用方法，対象草種，栽培作物等
により差異はあるが一般に有効成分（化合物（Ｉ））と
して水田１アール当り0.05から50g程度、好ましくは0.1
から5g程度、畑地１アール当り0.05から20g程度、好ま
しくは0.1から5g程度である。

化合物（Ｉ）は水田雑草用としては、発芽前土壌処理
あるいは茎葉兼土壌処理剤として使用するのが適用であ
る。

例えば除草剤は、田植直後或いは田植２〜３週間後で
も実質的に薬害を発現することなく安全に使用でき、長
期にわたって効果が持続する。

除草剤は必要に応じ他種の除草剤，植物成長調整剤，
殺菌剤（例、有機塩素系殺菌剤，有機イオウ系殺菌剤，
アゾール系殺菌剤，抗生物質など），殺虫剤（例、ピレ
スロイド系殺虫剤，有機リン系殺虫剤，カルバメート系
殺虫剤など），その他殺ダニ剤，殺線虫剤，共力剤，誘
引剤，忌避剤，色素，肥料などを配合し、混合使用する
ことができる。

本発明方法に用いる原料化合物の化合物（II），（II
I），（IV）は公知か、あるいは公知の化合物から容易
に製造できる。

例えば化合物（II）は、たとえばザ・ケミストリー・
オブ・ヘテロサイクリック・コンパウンズ（インターサ
イエンス・パブリッシャーズ・ニューヨーク・ロンド
ン）［The Chemistry of Heterocyclic Compounds（Int
erscience Publishers,New York ＆ London）］第16巻,
1962年，ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリ
ー（Journal of Organic Chemistry）第28巻,1812〜182
1頁（1963年）に記載されている方法，またはそれに準
じて製造できる。

化合物（IV）は次反応図式で示される方法（１）〜
（４）により化合物（IV）またはその塩を製造し、つい
で化合物（VI）またはその塩をアンモニアと反応させる
ことにより容易に製造できる。

［式中、Halはハロゲン原子を、R₁₀は水素原子，ベンジ
ル基またはＳ−Ｑを、他の記号は前記と同意義を示す］ Halで示されるハロゲン原子としてはフッ素，塩素，
臭素等が用いられる。

上記式で表わされる化合物は上記した塩基塩や酸付加
塩として用いてもよい。

上記方法（１）の具体例としては、例えば ［上記式中の記号は前記と同意義を示す］ 等があげられる。

上記方法（２）の具体例としては、 ［式中の記号は前記と同意義を示す］ 等があげられる。

上記方法（３）の具体例としては、例えば ［上記式中の記号は前記と同意義を示す］ 等があげられる。

上記方法（４）の具体例としては、 ［上記式中の記号は前記と同意義を示す］等があげら
れる。

上記の化合物（VI）またはその塩の製造方法（１）〜
（４）に含まれる反応はすべて自体公知の反応であり、
たとえばメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー
（Methoden der Organischen Chemie）第９巻（1955
年），スルホン化と関連反応（インターサイエンス・パ
ブリッシャーズ・ニューヨーク）［Sulfonation and Re
lated Reactions（Interscience Publishers,New Yor
k）］（1965年），シンセシス（Synthesis）1069年,3〜
10頁，特開昭60−208977号公報などに記載された方法ま
たはそれらの方法に準じて実施できる。例えば下記の方
法によって化合物（VI）またはその塩は製造することが
できる。

方法（１） スルホン化反応において、スルホン化剤としてはたと
えば硫酸，発煙硫酸，クロロスルホン酸などが用いられ
る。スルホン化剤は原料の化合物Ｑ−Ｈまたはその塩に
対して約0.8から３倍モル用いる。本反応は二硫化炭
素，クロロホルム，四塩化炭素，テトラクロロエタン，
クロルベンゼンなどの不活性溶媒中で行なわれる。とく
にクロロホルム中クロロスルホン酸を用いることにより
好結果の得られる場合が多い。反応温度は約０〜200
℃、好ましくは約20〜120℃である。反応時間は約20分
〜数日程度である。化合物Ｑ−SO₃Hまたはその塩のハロ
ゲン化反応においては塩素化剤、例えば塩化チオニル，
オキシ塩化リン、臭素化剤、例えば臭化チオニル，オキ
シ臭化リン等のハロゲン化剤が用いられる。ハロゲン化
剤は化合物Ｑ−SO₃Hに対して約0.8〜10倍モル用いる。
ピリジン，トリエチルアミン，トリ−ｎ−プロピルアミ
ン,N,N−ジメチルアニリンなどの存在下に反応を行うと
収率の向上することがある。反応温度は約20〜120℃で
ある。反応時間は30分から20時間程度である。

方法（２） 化合物Ｑ−NH₂又はその塩のジアゾ化反応において
は、原料の化合物Ｑ−NH₂を通常のジアゾ化条件下、例
えば約−20〜10℃に冷却下、塩酸中、亜硝酸ナトリウム
と反応させてジアゾニウム塩Ｑ−N₂ ⁺Hal^-とする。

ついでこのジアゾニウム塩をハロゲン化銅、例えば塩
化第一銅，塩化第二銅の存在下に二酸化イオウと反応さ
せ、化合物（VI）またはその塩を製造する。

ハロゲン化銅はジアゾニウム塩に対して約0.01〜３倍
モル用いる。二酸化イオウはジアゾニウム塩に対して約
0.8から３倍モル用いるが、大過剰用いてもよい。本反
応は酸性条件下に行なわれる。反応温度は約−20°から
100℃である。反応時間は30分から12時間程度である。

方法（３） 本方法は２価の硫黄を含む基で置換された化合物Ｑ−
SR₁₀またはその塩を水の存在下酸化的にハロゲン化（例
えば塩素化）を行って化合物（VI）またはその塩に導く
ものである。ハロゲン化剤としては塩素，次亜塩素酸ナ
トリウム，次亜塩素酸カリウム,N−クロロこはく酸イミ
ドなどの塩素化剤，臭素などが用いられる。ハロゲン化
剤は原料化合物のＱ−SR₁₀またはその塩に対して約１か
ら10倍モル用いる。本反応は塩酸，酢酸等を添加して酸
性条件で行うのが好適である。反応温度は約−10から30
℃である。反応時間は30分から５時間程度である。

方法（４） 本方法は化合物Ｑ−Ｈまたはその塩の複素環水素（例
えばイミダゾール環水素）をリチウムで置換した後二酸
化イオウを反応させてスルフィン酸リチウム化合物Ｑ−
SO₂Liを得、ついでこのものにハロゲン化剤例えば塩素
化剤を作用させて化合物（VI）またはその塩に導くもの
である。化合物Ｑ−SO₂Liまたはその塩の製造反応に用
いるリチオ化剤としてはメチルリチウム,n−ブチルリチ
ウム,t−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム，リチ
ウムアミド、リチウムジイソプロピルアミドなどがあげ
られる。リチオ化剤は原料化合物Ｑ−Ｈまたはその塩に
対して約１から３倍モル用いる。二酸化イオウは約１か
ら５倍モル用いる。反応温度は約−70から50℃である。
反応時間は１から20時間程度である。

ついで化合物Ｑ−SO₂Liまたはその塩のハロゲン化反
応に用いられるハロゲン化剤としては、例えば塩素,N−
クロロコハク酸イミドなどの塩素化剤があげられる。こ
のようにして得られる化合物（VI）またはその塩はアン
モニアと反応させて化合物（IV）またはその塩に導くこ
とができる。化合物（VI）またはその塩とアンモニアと
の反応において、アンモニアは化合物（VI）またはその
塩１モルに対して通常約0.8〜10モル用いる。本反応は
通常、水，エーテル,THF,アセトニトリル，アルコール
（例、メタノール，エタノール），ジクロロメタン，ク
ロロホルムなどの不活性溶媒中で行なわれる。反応温度
は約−60から100℃である。反応時間は30分から８時間
程度である。

化合物（IV）またはその塩は次反応図式に従っても製
造できる。

［式中の記号は前記と同意義を示す］ 一般式Ｑ−SHで表わされる化合物の例として、例えば ［式中の記号は前記と同意義を示す］ 等があげられる。

第１工程は化合物（VII）またはその塩をアンモニア
水中、塩素または次亜塩素酸ナトリウムと反応させるこ
とにより行なわれる。

本反応はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミ
ー（Methoden der Organischen Chemie）第９巻,277〜2
78頁に記載された方法に従って実施される。

第２工程は、得られる化合物（VIII）またはその塩を
酸化剤で酸化することにより行なわれる。

酸化剤としては、過酸化水素，過マンガン酸カリウ
ム，メタクロロ過安息香酸などが用いられる。

本反応に用いる酸化剤の量は反応を完結させるために
必要な量を適宜用いればよいが、理論的には原料の化合
物（VIII）またはその塩１モルに対して、２当量の活性
な酸素を発生する量を用いればよい。

反応は一般に反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわ
れる。適当な溶媒としては、反応に不活性な溶媒、例え
ば水、メタノール，エタノール,n−プロパノール，イソ
プロパノール,n−ブタノール,tert−ブタノール等のア
ルコール類、ベンゼン，トルエン，キシレン，ニトロベ
ンゼン，クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロ
ロメタン，クロロホルム，四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類等が用いられる。

反応温度は約−60から100℃の範囲で反応が進行する
温度を選びうるが、一般に約−20から50℃が適当であ
る。反応時間は比較的短く、５分ないし２時間程度であ
る。

さらに化合物（IV）は下記の方法によっても製造でき
る。

また下記反応図式で示されるように化合物（IV）にお
ける置換分は他種の置換分へ容易に変換することができ
る。

原料化合物Ｑ−H,Q−NH₂,Q−SR₁₀及びこれらの塩はザ
・ケミストリー・オブ・ヘテロサイクリック・コンパウ
ンド（インターサイエンス・パブリッシャーズ（The Ch
emistry of Heterocyclic Compounds（Interscience Pu
blishers）］第15巻，パート１（Part 1）とパート（Pa
rt 2），同30巻，コンプリヘンシブ・ヘテロサイクリッ
ク・ケミストリー（パーガモン・プレス）［Comprehens
ive Heterocyclic Chemistry（Pergamon Press）］第４
巻と第５巻，リービッヒス・アンナーレン・デル・ヘミ
ー（Liebigs Annalen der Chemic）第663巻113〜117頁
（1963年），同647巻138頁（1961年），ジャーナル・オ
ブ・オーガニック・ケミストリー（Journal of Organic
Chemistry）第49巻,3534頁（1984年），同38巻 1955
（1973年），同36巻,11頁（1971年）頁，同第30巻,4081
頁（1965年），同第30巻,2403頁（1965年），ジャーナ
ル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Journa
l of Heterocyclic Chemistry），第２巻,53頁（1965
年），同５巻,695頁（1968年），ジャーナル・オブ・メ
ディシナル・ケミストリー（Journal of Medicinal Che
mistry）第12巻,1031頁（1969年），同15巻,415頁と982
頁（1972年），同20巻,387頁（1977年），同21巻,235頁
（1978年），ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイ
アティ（Journal of the Chemical Society）1946年,10
75年，同1955年,2834頁，同1963年,3277頁，ケミカル・
アンド・ファーマシューティカル・ブリティン（Chemic
al and Pharmaceutical Bulletin）等11巻,1564頁（196
3年），同12巻,813頁（1964年），同22巻,482頁（1974
年），薬学雑誌 91巻,1154頁（1971年），同94巻,839
頁（1974年），同98巻,631頁（1978年）ガゼッタ・キミ
カ・イタリアーナ（Gazzetta Chmica Italiana）第105
巻,777頁（1975年），ケミカル・アブストラクツ（Chem
ical Abstracts）第72巻216696（1970年），同50巻,313
（1956年），同73巻 87855と120548p（1970年），同88
巻,22752r（1978年），米国特許3901903,特公昭44−327
93,ファルマコ・エディツィオネ・サイエンティフィカ
（Farmaco Edizione Scientifica）第36巻,994頁（1981
年）などに記載された方法またはそれらに準じて製造で
きる。

以下にこれらの原料化合物のうち代表的な化合物の製
造法について記載する。

［上記式中、R₁₁は例えばメチル，エチル，プロピル等
の炭素数１から６のアルキル基，水素原子または水酸基
を、R₁₂は例えばメチル，エチル，プロピル等の炭素数
１から６のアルキル基を、 Msは を、他の記号は前記と同意義を示す］ 上記反応において例えばイミダゾ［1,2−ａ］ピリジ
ンについて示された反応はイミダゾ［1,2−ａ］ピリミ
ジン，イミダゾ［1,2−ａ］ピラジン，イミダゾ［1,2−
ｂ］ピリダジン，イミダゾ［1,2−ｂ］（1,2,4）トリア
ジン，イミダゾ［1,2−ａ］イミダゾール，イミダゾ
［1,2−ｂ］ピラゾール，イミダゾ［2,1−ｂ］チアゾー
ル，イミダゾ［2,1−ｂ］（1,3,4）チアジアゾールなど
他の縮合イミダゾール類にも同様に実施できる（他の縮
合複素環についても同様）。

（発明の効果） 本発明方法によれば、化合物（Ｉ）は入手容易な原料
から容易に、収率良く、高純度で製造される。反応操作
も簡単で反応時間，反応工程も短く工業的製法として極
めて有用である。

以下に参考例，実施例，製剤例を示し本発明を具体的
に説明する。

参考例，実施例中の記号は次のような意味を有する。

s:シングレット,d:ダブレット,t:トリプレット,q:ク
ワルテット,d.d:ダブルダブレット,m:マルチプレット,b
r:幅広い,J:カップリング定数,DMSO:ジメチルスルホキ
シド ％は特記しない限り重量％を示す。室温とは通常約10
〜30℃を示す。

参考例１ ２−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３−スルホ
ン酸 ２−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン3.5gをクロ
ロホルム20mlに溶解し、クロロスルホン酸4.6mlをクロ
ロホルム10mlに溶かした液を20分で滴下する。反応液を
加熱し攪拌下６時間還流すると粘稠油状物が生成する。
上澄液を除き、エーテルと少量のエタノールを加えて析
出する結晶をろ取，乾燥すると標記化合物の1/2水和物
5.1gが得られる。

NMR（DMSO−d₆）δ:7.21〜7.45（m,1H）,7.62〜7.80
（m,2H）,8.9（d,1H）,9.4（s,2H） 参考例２ ２−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３−スルホ
ニルクロライド ２−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３−スル
ホン酸5.0gをオキシ塩化リン30mlに懸濁し、５時間加熱
還流する。冷却後反応液を250mlの氷水にあけジクロロ
メタンで抽出する。ジクロロメタン層を分取し無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、ジクロロメタンを減圧留去すると
標記化合物4.6gが淡黄色結晶として得られる。

NMR（CDCl₃）δ:7.2〜7.4（m,1H）,7.6〜7.9（m,2H）,
8.85（d,1H） 参考例３ ２−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３−スルホ
ンアミド アンモニア水60mlに冷却下２−クロロイミダゾ［1,2
−ａ］ピリジン−３−スルホニルクロライド4.6gをアセ
トニトリル60mlに溶かした液を加え、室温で２時間攪拌
する。減圧下アセトニトリルを留去し、析出する結晶を
ろ取，水洗すると標記化合物3.8gが得られる。稀エタノ
ールから再結晶すると無色針状結晶が得られる。

mp.175〜177℃ NMR（DMSO−d₆）δ:7.2〜7.45（m,1H）,7.5〜7.9（m,2
H）,8.15（s,2H）,8.80（d,1H） 又特願昭62−56250記載の方法により下記化合物が製
造される。

（１）６−メチルイミダゾ［2,1−ｂ］チアゾール−５
−スルホンアミド （２）２−クロル−６−メトキシイミダゾ［1,2−ｂ］
ピリダジン−３−スルホンアミド NMR（DMSO−d₆）δ 4.05（s,3H）,7.16（d,1H）,7.75
（s,2H）,8.11（d,1H） （３）２−クロル−６−エトキシイミダゾ［1,2−ｂ］
ピリダジン−３−スルホンアミド （４）２−クロル−６−（ｎ−プロポキシ）イミダゾ
［1,2−ｂ］ピリダジン−３−スルホンアミド （実施例） 実施例１ Ｎ−（２−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３
−イルスルホニル）−Ｎ′−（4,6−ジメトキシ−２−
ピリミジニル）尿素（化合物No.1） ２−クロルイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３−スルホ
ンアミド2.32g（0.01モル）とトリエチルアミン2.02g
（0.02モル）をアセトニトリル30mlに溶解し、10〜20℃
で攪拌しながらフェニルクロロホルメイト1.60g（0.01
モル）を加える。20〜25℃で30分間かきまぜた後、メタ
ンスルホン酸1.00g（0.010モル）および２−アミノ−4,
6−ジメトキシピリミジン1.55g（0.01モル）をこの順序
で加えて60℃で15分間かきまぜる。反応液を冷却し、析
出する結晶を濾取、水10mlで３回洗浄する。得られる結
晶をP₂O₅上で減圧乾燥すると標記化合物が3.42g（収率8
3.0％）得られる。

mp.183〜184℃（dec.） NMR（DMSO−d₆δ 3.95（s,6H）,6.0（s,1H）,7.3〜7.5
（m,1H）,7.5〜7.9（m,2H）,8.97（d,1H）,10.65（s,1
H）,12.8（s,1H） 実施例２ Ｎ−（２−クロロイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３
−イルスルホニル）−Ｎ′−（4,6−ジメトキシ−２−
ピリミジニル）尿素（化合物No.1） ２−クロルイミダゾ［1,2−ａ］ピリジン−３−スル
ホンアミド10.0g（0.043モル）とトリエチルアミン8.85
g（0.0866モル）をジクロルメタン200mlに加え、20〜25
℃で攪拌しながら、フェニルクロロホルメイト6.78g
（0.0433モル）を滴下する。同温度で30分間かきまぜた
後、メタンスルホン酸4.20g（0.0433モル）および２−
アミノ−4,6−ジメトキシピリミジン6.72g（0.0433モ
ル）をこの順序で加えて５時間還流する。反応終了後、
ジクロロメタンを減圧下に除去し、アセトニトリル50ml
を加えて析出晶を濾取する。アセトニトリル10mlで３回
洗浄後、水洗し得られる結晶をP₂O₅上で減圧乾燥すると
標記化合物が15.62g（収率87.9％）が得られる。

mp.183〜184℃（dec.） 上記と同様にして得られる化合物を表１に示す。

上記の化合物のみならず特願昭62−56250に記載され
た種々の化合物が上記実施例1,2と同じ操作によって好
収率で製造される。

製剤例１ 乳剤 化合物No.1 ２重量％ キシレン 75重量％ ジメチルホルムアミド 18重量％ ポリエチレングリコールエーテル（ノニポール85 ）５
重量％ を含有する乳剤。（水に適宜希釈して使用） 製剤例２ 水和剤 化合物No.3 ５重量％ リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％ ポリオキシエチレングリコールエーテル（ノニポール85
） ５重量％ クレイ 80重量％ ホワイトカーボン ５重量％ を混合粉砕してなる水和剤。（水に適宜希釈して使用） 製剤例３ 粒剤 化合物No.2 0.25重量％ リグニンスルホン酸ナトリウム ２重量％ ベントナイト 57.75重量％ タルク 40重量％ の混合物に水を加えてねり合せ造粒してなる粒剤。

製剤例４ 粒剤 化合物No.1 0.25重量％ リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％ ベントナイト 94.75重量％ の混合物に水を加えてねり合せ造粒してなる粒剤。

製剤例５ 粒剤 化合物No.2 0.5重量％ リグニンスルホン酸ナトリウム 6.0重量％ ベントナイト 93.5重量％ の混合物に水を加えてねり合せ造粒してなる粒剤。

製剤例６ 粒剤 化合物No.1 0.25重量％ リグニンスルホン酸ナトリウム ５重量％ ベントナイト 30.00重量％ クレイ 64.75重量％ の混合物に水を加えてねり合せ造粒してなる粒剤。

試験例１ イネに対する選択性試験 150cm²の角型プラスチック製ポットに水田土壌をつ
め、入水，代かき後、タイヌビエ，タマガヤツリ，イヌ
ホタルイ，アゼナ及びキカシグサの種子をまき、更にウ
リカワの塊茎を植付け、湛水3cmで所定期間栽培する。
一方1/10000アールワグネルポットに水田土壌をつめ、
入水，代かき後、水稲稚苗を２株移植し、湛水3cmとす
る。水稲移植１日後、単子葉雑草が一葉期に達した時、
化合物（Ｉ）を含む薬剤希釈液を１アールあたり1gとな
るようにポット中に施用する。なお薬剤希釈液は化合物
（Ｉ）1gを界面活性剤ツイン20 ２％（W/V）を含むア
セトン300mlに溶解し、水で希釈して全量40lにしたもの
である。

薬剤処理３週間後に各種雑草に対する除草効果および
移植水稲に対する薬害を次の基準によって評価する。

稲に対する薬害は、次の指数で表示する（以下の試験
例においても同じ）。

結果を表２に示す。

本発明方法により得られる化合物（Ｉ）はイネに対し
て薬害はなく、しかも優れた除草効果を示すことは明ら
かである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 487/04 １４４ Ｃ０７Ｄ 487/04 １４４ 498/04 498/04 １０３ １０３ 513/04 ３２５ 513/04 ３２５ ３３１ ３３１ ３３８ ３３８ ３７５ ３７５ Ａ０１Ｎ 47/36 １０１Ｅ // Ａ０１Ｎ 47/36 １０１ Ｃ０７Ｄ 498/04 １１２Ｑ

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 Ｑ−SO₂NH₂ ［式中、Ｑは置換基を有していてもよい橋頭にＮ原子を
   有する縮合複素環基を示す］で表わされる化合物と一般
   式 ［式中、Y₁はハロゲン原子または−OY₂を、Y₂はアルキ
   ル基またはフェニル基を示す］で表わされる化合物とを
   塩基の存在下に反応させ、ついでその反応混合物に無水
   の条件下、一般式 ［式中、R₁およびR₂はそれぞれアルキル基，アルコキシ
   基またはハロゲン原子を、ＺはCHまたはＮを示す］で表
   わされる化合物を酸と共に作用させることを特徴とする
   一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
   物の製造方法。