JPH01221366A - スルホニルウレア誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は除草作用を有するスルホニルウレア誘導体の製
造方法に関する。

本発明方法によって得られるスルホニルウレア誘導体は
除草剤などの農薬として有用である。

（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点）これ
までスルホニルウレアの製法としては、スルホンアミド
化合物とクロルギ酸エステルもしくは炭酸ジエステルと
を反応させてスルホニルカーバメイト化合物を製造して
、これを単離精製したのち、さらにアミン化合物と反応
させる２工程を経る方法が知られている。例えば特開昭
６０−７８９８０号公報には式 ％式％ ［式中、Ａは水素、低級アルキル二Ｂは水素、低級アル
キル；Ｄは水素、低級アルキル、−ＣＯＯＲ（Ｒは水素
、低級アルキル）、Ｅはアルキル、フェニル、Ｇは窒素
、＝　Ｃ−Ｒ’　（Ｒ’は水素）、Ｍ、Ｍ’はそれぞれ
独立して水素、低級アルキル、低級アルコキシ等を示す
コで表わされる２工程による製造方法が記載されている
。

しかしながらこの方法は（１）２工程を要し操作が煩雑
、（２）最終目的化合物の収量が低く、しかも高純度の
ものが得られない、（３）中間化合物のスルホニルカー
バメイト化合物が水分や熱に不安定で取り扱いが困難等
の欠点を有し、工業的製法として必ずしも満足すべきも
のとはいえない。

（問題点を解決するための手段） 本発明は一般式 ％式％（） ［式中、Ｑは置換基を有していてもよいフェニル基、置
換基を有していてもよいベンジル基又は置換基を有して
いてもよい複素環基を示す］で表わされる化合物と一般
式 ％式％（［） ［式中、ｘＩはハロゲン、ｘ、はアルキル基またはフェ
ニル基を示す］で表わされる化合物とを塩基の存在下に
反応させ、ついで、その反応混合物に無水の条件下一般
式 ［式中、Ｒ３およびＲ３はそれぞれアルキル基、アルコ
キシ基またはハロゲン原子を、ＺはＣＨまたはＮを示す
］で表わされる化合物を酸と共に作用さ仕ることを特徴
とする一般式 ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
物の製造方法に関する。

すなわち本発明は一般式（ＩＶ）の化合物と一般式（Ｉ
［）の化合物を反応させることによって生成する一般式 ％式％（） ［式中ＱおよびＸ、は前記と同意義］で示されるスルホ
ニルカーバメイト化合物又はその塩を反応混合物から単
離することなく、ついでこのスルホニルカーバメイト化
合物を一般式（ＩＩ）の化合物と反応させ化合物（１）
をより容易に、より高純度に、かつ高収率に製造する方
法を提供するものである。

上記一般式において、Ｑで示される置換されていてもよ
い複素環基における複素環基としては、窒素原子（オキ
シド化されていてもよい）、酸素原子、硫黄原子（モノ
又はジオキシド化されていてもよい）などのへテロ原子
を１ないし４個含む５〜６員複素環基を示し、具体的に
は２−または３−ピロリル、３−．４−または５−ピラ
ゾリル、２−９４−または５−イミダゾリル、１，２．
３−トリアゾール−４−イル、１．２．４−トリアゾー
ル−３−イル、ＩＨ−または２Ｈ−テトラゾール−５−
イル、２−または３−フリル、２−または３−チエニル
、２−または３−チエニル−１，１−ジオキシド、２−
．４−または５−才キサゾリル、３−．４−または５−
イソキサゾリル、１，２．３−オキサジアゾール−４−
または５−イル、１，２．４−才キサジアゾール−３−
または５−イル、１．２．５−オキサジアゾール−３−
または−４−イル、ｌ、３゜４−オキサジアゾール−２
−または５−イル、２−１４−または５−チアゾリル、
３−．４−または５−イソチアゾリル、Ｉ、２．３−チ
アジアゾール−４−または５−イル、１，２．４−チア
ジアゾール−３−または５−イル、ｌ、２．５−チアジ
アゾール−３＝又は４−イル、ｌ、３．４−チアジアゾ
ール−２−または−５−イル、２−または３−ピロリジ
ニル、２−．３−または４−ピリジル、２−１３−また
は４−ビリジルーＮ−オキシド、３−または４−ピリダ
ジニル、３−まｔこは４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド
、２−．４−または５−ピリミジニル、２−．４−また
は５−ピリミジニル−Ｎ−オキシド、ピラジニル、２−
．３−または４−ピペリジニル、ピペラジニル、３Ｈ−
インドール−２−または３−イル、２−．３−または４
−ピラニル。

２−１３−または４−チオピラニル、２−．３−または
４−チオピラニル−１，１−ジオキシドを示す。このう
ち好ましくは、３−．４−、または５−ピラゾリル、特
に好ましくは５−ピラゾリルである。

Ｑで示されるフェニル基、ベンジル基又は複素環基は、
例えばヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基。

スルファモイル基、スルファモイルオキシ基、メルカプ
ト基、ニトロ基、ハロゲン原子、有機残基またはスルホ
基等の置換基で１〜３個同一または異なって置換されて
いてもよい。

ここにおいてハロゲン原子とは、たとえばフッ素、塩素
、臭素、ヨウ素などを意味する。有機残基とは例えば炭
化水素基、複素環基、アシル基９式−Ｔ−ＱＯ［式中、
Ｑｏは炭化水素基、複素環基またはアシル基を、Ｔは０
．−８−（０）　　−またはＳ−６を、ｎは０．１又は
２を示す］で表わされ水素基またはアシル基を、Ｑ、は
炭化水素基またはアシル基を示す］で表わされる基９大
義を示す］で表わされる基、カルバモイル基、カルバモ
イルオキシ基、ウレイド基、チオカルバモイル基、カル
ボキシル基または式−ＯＳｏｗ　　ＱＯ［式中Ｑ、は前
記と同意義を示す］で表わされる基等を意味する。

上記の６機残基の例としての炭化水素基、複素環基、ア
シル基、Ｑｏで示される炭化水素基、複素環基、アシル
基及びＱｌまたはＱ、で示される炭化水素基、アシル基
は下記で詳しく説明される。

上記のカルバモイル基、カルバモイルオキシ基。

ウレイド基またはチオカルバモイル基は、下記で詳しく
説明される炭化水素基、複素環基またはアシル基で１な
いし２個同一または異なって置換されていてもよい。

有機残基の例としての複素環基及びＱ。における複素環
基は下記に詳しく説明される炭化水素基。

アシル基、ハロゲン原子で１ないし３個置換されていて
もよい。

ここにおいて炭化水素基は、直鎖１分枝状、環状の二重
結合、三重結合を有することもできる脂肪族基、あるい
はアリール基、アラルキル基、具体的にはアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基。

アリール基、アラルキル基を意味し、アルキル基は、好
ましくは炭素数１から６の直鎖１分枝状もしくは環状の
アルキル基を示し、例えばメチル。

エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、５ｅｃ−ブチル、　ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−
ペンチル、５ｅｃ−ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル。

シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、シクロ
ヘキシル等が用いられ、アルケニル基は、好ましくは炭
素数３から６の直鎖９分枝状もしくは環状のアルケニル
基を示し、例えばアリル、イソプロペニル、１−ブテニ
ル、２−ペンテニル、２−へキセニル等が用いられ、ア
ルキニル基は、好ましくは炭素数３から６のアルキニル
基を示し、例えばプロパルギル、２−ブチニル、３−ブ
チニル、３−ペンチニル、３−へキシニル等が用いられ
、アリール基は、好ましくは炭素数６から１４のアリ−
ル基を示し、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニリル
、アンスリル等が用いられ、アラルキル基は好ましくは
炭素数７から１９のアラルキル基を示し、例えばベンジ
ル、フェネチル、フェニルプロピル、ビフェニリルメチ
ル、ベンズヒドリル、トリチル等が用いられ、複素環基
としてはたとえば、窒素原子（オキシド化されていても
よい）、酸素原子、硫黄原子（モノ又はジオキシド化さ
れていてもよい）などのへテロ原子を１ないし４個含む
５〜６員複素環基またはその縮合環基、好ましくは該５
〜６員複素環基と窒素原子（オキシド化されていてもよ
い）、酸素原子、硫黄原子（モノ又はジオキシド化され
ていてもよい）などのへテロ原子を１ないし４個含んで
いてもよい５〜６員環との縮合環基を示し、具体的には
２−または３−ピロリル。

３−１４−または５−ピラゾリル、２−．４−または５
−イミダゾリル、１，２．３−）リアゾール−４−イル
、１．２．４−トリアゾール−３−イル、ｌＨ−または
２Ｈ−テトラゾール−５−イル、２−または３−フリル
、２−または３−チエニル、２−または３−チエニル−
１，１−ジオキシド、２−１４−または５−オキサシリ
ル、３−．４−または５−イソキサゾリル、１，２．３
−オキサジアゾール−４−または５−イル、１，２．４
−オキサジアゾール−３−または５−イル、１．２．５
−オキサジアゾール−３−または−４−イル、　ｌ　、
３．４−才キサジアゾール−２−または５−イル、２−
．４−または５−チアゾリル、３−．４−または５−イ
ソチアゾリル、ｌ、２．３−チアジアゾール−４−また
は５−イル、ｌ、２．４−チアジアゾール−３−または
５−イル、■、２゜５−チアジアゾール−３−又は４−
イル、　ｌ　、３．４−チアジアゾール−２−または−
５−イル、２−または３−ピロリジニル、２−．３−ま
たは４−ピリジル、２−．３−または４−ピリジル−Ｎ
−オキシト、３−または４−ピリダジニル、３−または
４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド、２−．４−または５
−ピリミジニル。

２−１４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシド、ピ
ラジニル、２−．３−または４−ピペリジニル、ピペラ
ジニル、３Ｈ−インドール−２−または３−イル、２−
．３−または４−ピラニル、２−．３−または４−チオ
ピラニル、２−．３−または４−チオピラニル−１，■
−ジオキシド、ベンゾピラニル、３−．４−．５−．６
−．７−または８−キノリル、ピリド［２，３−ｄコビ
リミジニル（例、ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−２
−イル、１．５−．１．６−。

１．７−．１．８−．２．６−または２．７−ナフチリ
ジンル　（例、１．５−ナフチリジン−２−または３−
イル）、チェノ［２，３−ｄ］ピリジル（例、チェノ［
２，３−ｄ］ピリジン−３−イル）、ピラジノキノリル
（例、ピラジノ［２，３−ｄ］キノリン−２−イル）、
クロメニル（例、２Ｈ−クロメン−２−または３−イル
）などが用いられ、アシル基は、有機カルボン酸から誘
導されるアシル基を示し、例えばアルカノイル基、好ま
しくは炭素数１から７のアルカノイル基（例、ホルミル
、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、
ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル等）、アリ
ールカルボニル基、好ましくは炭素数６から１４のアリ
ール−カルボニル基（例、ベンゾイル、ナフタレンカル
ボニル等）、アルコキシカルボニル基、好ましくは炭素
数１から６のアルコキシ−カルボニル基（例、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、５ｅｃ−ブトキシカルボニル
、　ｔｅｒｔ−’２トキシカルボニル等）、アリールオ
キシカルボニル基、好ましくは炭素数６から１４のアリ
ールオキシ−カルボニル基（例、フェノキシカルボニル
基）、アラルキルカルボニル基、好ましくは炭素数７か
ら１９のアラルキル−カルボニル基（例、ベンジルカル
ボニル、フェネチルカルボニル。フェニルプロピルカル
ボニル。

ベンズヒドリルカルボニル、ナフチルエチルカルボニル
等）、５〜６員複素環カルボニル基（例、２−１３−ま
たは４−ピロリルカルボニル、３−．４−または５−ピ
ラゾリルカルボニル、２−．４−または５−イミダゾリ
ルカルボニル、ｌ、２．３−トリアゾール−４−イルカ
ルボニル、１，２．４−トリアゾール−３−イルカルボ
ニル、ＩＨ−または２Ｈ−テトラゾール−５−イルカル
ボニル、２−または３−フリルカルボニル、２−または
３−チエニルカルボニル、２−．４−または５−才キサ
ゾリル力ルボニル、３−．４−または５−イソキサゾリ
ルカルボニル、ｌ、２．３−オキサジアゾール−４−ま
たは５−イルカルボニル、ｌ、２．４−才キサジアゾー
ル−３−または５−イルカルボニル。

１．２．５−オキサジアゾール−３−または−４〜イル
カルボニル、１，３．４−オキサジアゾール−２−また
は−５−イルカルボニル、２−．４−または５−チアゾ
リルカルボニル、３−．４−または５−イソチアゾリル
カルボニル、１．２．３−チアジアゾール−４−または
５−イルカルボニル、ｌ、２゜４−チアジアゾール−３
−または５−イルカルボニル、１，２．５−チアジアゾ
ール−３−または４−イルカルボニル、　ｌ　、３．４
−チアジアゾール−２−または５−イルカルボニル、２
−または３−ピロリジニルカルボニル、２−．３−また
は４−ピリジルカルボニル、２−．３−または４−ピリ
ジル−Ｎ−オキシドカルボニル、３−または４−ピリダ
ジニルカルボニル、３−または４−ピリダジニル−Ｎ−
オキシトカルボニル、２−．４−または５−ピリミジニ
ルカルボニル、２−．４−または５−ビリミジニルーＮ
−オキシドカルボニル、ピラジニルカルボニル、２−．
３−または４−ピペリジニルカルボニル、ピペラジニル
カルボニル、３Ｈ−インドール−２−または３−イルカ
ルボニル、２−１３−または４−ピラニルカルボニル、
２−．３−または４−チオピラニルカルボニル、３−．
４−．５−．６−．７−または８−キノリルカルボニル
、ピリド［２，３−ｄ］ピリミジニルカルボニル（例、
ピリド［２，３−ｄ、］］ピリミジンー２−イルカルボ
ニル、１．５−．１．６〜，１．７−１．８−．２．６
−または２．７−ナフチリジニルカルボニル（例、１．
５−ナフチリジン−２−または３−イルカルボニル）、
チェノ［２，３−ｄ］ピリジルカルボニル（例、チェノ
［２，３−ｄ］ピリジン−３−イルカルボニル、ピラジ
ノキノリルカルボニル（例、ピラジノ［２，３−ｂ］キ
ノリン−２−イルカルボニル）、クロメニルカルボニル
（例、２Ｈ−クロメン−２−または３−イルカルボニル
等）等の窒素原子（オキシド化されていてもよい）、酸
素原子、硫黄原子（モノ又はジオキシド化されていても
よい）などのへテロ原子を１ないし４個含む５〜６員複
素環カルボニル基）、５〜６員複素環アセチル基（例、
２−ピロリルアセチル、３−イミダゾリルアセチル、５
−イソオキサシリルアセチル等の窒素原子（オキシド化
されていてもよい）、酸素原子、＠黄原子（モノ又はジ
オキシド化されていてもよい）などのへテロ原子を１な
いし４個含む５〜６員複素環アセチル基）等が用いられ
る。

式　−’ｒ−Ｑｏで表わされる基は、具体的に例えばア
ルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ
基、アラルキルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキ
シ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチ
オ基、アラルキルチオ基、複素環チオ基、アシルチオ基
、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アラルキルジ
チオ基、アルキルスルフィニル基、アルケニルスルフィ
ニル基、アリールスルフィニル基、アラルキルスルフィ
ニル基、複素環スルフィニル基、アルキルスルホニル基
、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ラルキルスルホニル基、複素環スルホニル基等を示す。

ここにおいて、アルキルオキシ基は好ましくは炭素数１
から６の直鎖１分枝状もしくは環状のアルキルオキシ基
を意味し、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ
、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、５ｅ
ｃ−ブトキシ、　ｔｅｒｔ−ブトキシ。

ｎ−ペンチルオキシ、５ｅｃ−ペンチルオキシ、イソペ
ンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、シクロペンチルオ
キシ、ｎ−へキシルオキシ、イソへキシルオキシ、シク
ロへキシルオキシ等が用いられ、アルケニルオキシ基は
好ましくは炭素数３から６の直鎖。

分枝状もしくは環状のアルケニルオキシ基を意味し、例
えばアリルオキシ、イソプロペニルオキシ。

■−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、２−へキ
シルオキシ等が用いられ、アリールオキシ基は好ましく
は炭素数６から１４のアリールオキシ基を意味し、例え
ばフェノキシ、ナフチルオキシ、ビフェニリルオキシ等
が用いられ、アラルキルオキシ基は好ましくは炭素数７
から１９のアラルキルオキシ基を意味し、例えばベンジ
ルオキシ。

フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシ等が用いら
れ、複素環オキシ基は式　Ｔ’−０−（Ｔ’は上記した
複素環基を示す）で表わされる基を意味し、具体的には
２−または３−ピロリルオキシ。

３−１４−または５−ピラゾリルオキシ、２−．４−ま
たは５−イミダゾリルオキシ、ｌ、２．３−トリアゾー
ル−４−イルオキシ、１，２．４−）リアゾール−３−
イルオキシ、　Ｉ　Ｈ−または２Ｈ−テトラゾール−５
−イルオキシ、２−または３−フリルオキシ、２−また
は３−チエニルオキシ、２−または３−チエニルオキシ
−１，１−ジオキシド。

２−１４−または５−オキサシリルオキシ等が用いられ
、アシルオキシ基は、式　Ｔ”−０−（Ｔ”は上記した
アシル基を示す）で表わされる基を意味し、具体的には
アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペ
ンタノイルオキン、ヘキサノイルオキシ、ベンジルカル
ボニルオキシ、フェネチルカルボニルオキシ、ペンゾイ
ルオキン、ナフトイルオキシ、チエニルカルボニルオキ
シ、ベンゾチエニルカルボニルオキシ等が用いられ、ア
ルキルチオ基は好ましくは炭素数ｌから６の直鎖１分枝
状もしくは環状のアルキルチオ基を意味し、例えばメチ
ルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ｎ−ブチルチオ、イソブチルチオ。

５ｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ｎ−ペン
チルチオ、５ｅｃ−ペンチルチオ、イソペンチルチオ、
ネオペンチルチオ、シクロペンチルチオ、ｎ−へキシル
チオ、イソへキシルチオ、シクロへキシルチオ等が用い
られ、アルケニルチオ基は好ましくは炭素数３から６の
直鎖０分枝状もしくは環状のアルケニルチオ基を意味し
、例えばアリルチオ、イソプロペニルチオ、ｌ−ブテニ
ルチオ、２−ペンテニルチオ、２−へキセニルチオ等が
用いられ、アリールチオ基は好ましくは炭素数６から１
４のアリールチオ基を意味し、例えばフェニルチオ、ナ
フチル−チオ、ビフェニリルチオ等が用いられ、アラル
キルチオ基は好ましくは炭素数７から１９のアラルキル
チオ基を意味し、例えばベンジルチオ、フェネチルチオ
、フェニルプロピルチオ等が用いられ、複素環チオ基と
は、式Ｔ’−５−（Ｔ’は上記した複素環基を示す）で
表わされる基を意味し、具体的には２−または３−ピロ
リルチオ、３−．４−または５−ビラゾリルチオ、２−
．４−または５−イミダゾリルチオ、ｌ、２．３−トリ
アゾール−４−イルチオ、１，２．４−トリアゾール−
５−イルチオ、ＩＨ−または２　Ｈ−テトラゾール−５
−イルチオ、２−または３−フリルチオ、２−または３
−チエニルチオ、２−または３−チエニルチオ−Ｉ。

ｌ−ジオキシド、２−．４−または５−オキサゾリルチ
オ等が用いられ、アシルチオ基とは、式Ｔ”−９−（Ｔ
”は上記したアシル基を示す）で表わされる基を意味し
、具体的にはアセチルチオ、プロピオニルチオ、ブチリ
ルチオ、ペンテニルチオ。

ヘキサノイルチオ、ベンジルカルボニルチオ、フェネチ
ルカルボニルチオ、ベンゾイルチオ、ナフトイルチオ、
チエニルカルボニルチオ、ペンゾチェニルカルボニルヂ
オ等が用いられ、アルキルジチオ基は好ましくは炭素数
ｌから６の直鎖１分枝状もしくは環状のアルキルジチオ
基を意味し、例えばメチルジチオ、エチルジチオ、ｎ−
プロピルジチオ、シクロペンチルジチオ等が用いられ、
アリールジチオ基は好ましくは炭素数６から１４のアリ
ールジチオ基を意味し、例えばフエニルジチオ、ナフチ
ルジチオ、ビフェニリルジチオ等が用いられ、アラルキ
ルジチオ基は好ましくは炭素数７から１９のアラルキル
ジチオ基を意味し、例えばベンジルジチオ、フェネチル
ジチオ等が用いられ、アルキルスルフィニル基は好まし
くは炭素数１から６の直鎖９分枝状もしくは環状のアル
キルスルフィニル基を意味し、例えばメチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、
ｎ−へキシルスルフィニル、シクロへキシルスルフィニ
ル等が用いられ、アルケニルスルフィニル基は好ましく
は炭素数３から６の直鎖１分枝状もしくは環状のアルケ
ニルスルフィニル基を意味し、例えばアリルスルフィニ
ル等が用いられ、アリールスルフィニル基は好ましくは
炭素数６から１４のアリールスルフィニル基を意味し、
例えばフェニルスルフィニル等が用いられ、アラルキル
スルフィニル基は好ましくは炭素数７から１９のアラル
キルスルフィニル基を意味し、例えばベンジルスルフィ
ニル等が用いられ、複素環スルフィニル基は式Ｔ　’−
Ｓ　Ｏ−（Ｔ　’は上記した複素環基を示す）で表わさ
れる基を意味し、具体的には２−または３−ピロリルス
ルフィニル、３−．４−または５−ピラゾリルスルフィ
ニル等が用いられ、アルキルスルホニル基とは好ましく
は炭素数１から６の直鎖１分枝状もしくは環状のアルキ
ルスルホニル基を意味し、例えばメチルスルホニル、エ
チルスルホニル、シクロへキシルスルホニル等が用いら
れ、アルケニルスルホニル基とは好ましくは炭素数３か
ら６の直鎖１分枝状もしくは環状のアルケニルスルホニ
ル基を色味し、例えばアリルスルホニル等が用いられ、
アリールスルホニル基とは好ましくは炭素数６から１４
のアリールスルホニル基を意味し、例えばフェニルスル
ホニル、ナフチルスルホニル、ビフェニリルスルホニル
等が用いられ、アラルキルスルホニル基とは好ましくは
炭素数７から１９のアラルキルスルホニル基を意味し、
例えばベンジルスルホニル、フェネチルスルホニル。

フェニルプロピルスルホニル基等が用いられ、複素環ス
ルホニル基とは式’ｒ’−ｓｏｗ−（’ｒ’は上記した
複素環基を示す）で表わされる基を意味し、具体的には
２−または３−ピロリルスルホニル。

３−９４−または５−ピラゾリルスルホニル等が用いら
れる。

的にはアルキルアミノ基、好ましくはモノ〜ジ（炭素数
１から６のアルキル）アミノ基でたとえば、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ。

ｎ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペン
チルアミノ、ｎ−へキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジー（ｎ−プロピ
ル）アミノ、ジー（ｎ−ブチル）アミノ等、シクロアル
キルアミノ基、好ましくはモノ〜ジ（炭素数３から６の
シクロアルキル）アミノ基でたとえば、シクロプロピル
アミノ、シクロペンチルアミノ、シクロへキシルアミノ
、ジシクロへキシルアミノ等、アリールアミノ基、好ま
しくは炭素数６から１４のアリールアミノ基でたとえば
、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ等、アラルキルアミノ
基、好ましくは炭素数７から１９のアラルキルアミノ基
でたとえば、ベンジルアミノ、１−フェニルエチルアミ
ノ、２−フェニルエチルアミノ、ベンズヒドリルアミノ
、トリチルアミノなど、アシルアミノ基即ち、式Ｔ”−
ＮＨ−又は（’ｒ　”）、Ｎ　−（’ｒ　”は上記した
アシル基を示し、２個の基Ｔ”は窒素原子と共に環を形
成してもよい）で表わされる基で、具体的にはアセトア
ミド、プロピオンアミド′、ブヂリルアミノ、ペンタノ
イルアミノ、ヘキサノイルアミノ。

スクシンイミド。ベンジルカルボニルアミノ（ベンジル
カルボキサミド）、フェネチルカルボニルアミノ（フェ
ネチルカルボキサミド）、ベンゾイルアミノ（ベンズア
ミド）、ナフトイルアミノ、フタルイミド、チエニルカ
ルボニルアミノ（チエニルカルボキサミド）、ベンゾチ
エニルカルボニルアミノ（ベンゾチエニルカルボキサミ
ド）等のアルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニ
ルアミノ、複素環カルボニルアミノ（ただし、ここでア
ルキル、アリール、複素環基は上記と同じものが好まし
い）、環状イミド等が用いられる。

具体的には、モノまたはジアルキルスルファモイル基、
好ましくはモノ又はジ（炭素数１から６のアルキル）ス
ルファモイル基で、例えばメチルスルファモイル、エチ
ルスルファモイル、ｍ−プロピルスルファモイル、ｎ−
へキシルスルファモイル。

ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル、メ
チルエチルスルファモイル、ノー（ｎ−ブチル）スルフ
ァモイル等、シクロアルキルスルファモイル基、好まし
くは炭素数３から６のシクロアルキルスルファモイル基
で例えばシクロプロピルスルファモイル、シクロへキシ
ルスルファモイル等、アリールスルファモイル基、好ま
しくは炭素数６から１４のアリールスルファモイル基、
例えばフェニルスルファモイル等、アラルキルスルファ
モイル基、好ましくは炭素数７から１９のアラルキルス
ルファモイル基で例えばベンジルスルファモイル。

ｌ−フェニルエチルスルファモイル、２−フェニルエチ
ルスルファモイル、ベンズヒドリルスルファモイル、ト
リチルスルファモイル等、アシルスルファモイル基即ち
、式Ｔ”−ＮＩＩＳＯ，−又は（Ｔ”）　ｔ　Ｎ　−３
Ｏｔ−（Ｔ”は上記したアシル基を示す）で表わされろ
基で例えばアセチルスルファモイル、ベンジルカルボニ
ルスルファモイル、チエニルカルボニルスルファモイル
等が用いられる。弐〇！−３ｏｔ−０−で表わされる基
は、具体的にはアルキルスルホニルオキシ基、好ましく
は炭素数１から６のアルキルスルホニルオキシ基で例え
ばメタンスルホニルオキシ。

エタンスルホニルオキシ等、アリールスルホニルオキシ
基、好ましくは炭素数６から１４のアリールスルホニル
オキシ基で例えばベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トル
エンスルホニルオキシ基等、アラルキルスルホニルオキ
シ基、好ましくは炭素数７から１９のアラルキルスルホ
ニルオキシ基で例えばベンジルスルホニルオキシ、フェ
ネチルスルホニルオキシ等、アシルスルホニルオキシ基
で具体的にはアセチルスルホニルオキシ、ブチリルスル
ホニルオキシ等が用いられる。

なお上記のアルキル基、アルキルオキシ基（又はアルコ
キシ基）、アルキルチオ基、アルキルジチオ基、アルキ
ルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アルキルア
ミノ基、シクロアルキルアミノ基。

アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基
、アルケニルジチオ基、アルケニルスルフィニル基、ア
ルケニルスルホニル椛、アルキニル基、アルコキシカル
ボニル基、アルカノイル基、アルキルスルホニルオキシ
基は、さらに例えばアルキルチオ基（例、メチルチオ。

エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソブチルチオ等の炭
素数１から４の直鎖もしくは分枝状アルキルチオ基）、
ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）、
アルコキシ基（例、メトキン、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、　ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−へキシルオキシ等の炭
素数１から６の直鎖もしくは分枝状のアルコキシ基）、
ニトロ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニ
ル。

イソブトキシカルボニル、５ｅｃ−ブトキシカルボニル
、　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等の炭素数１から６
のアルコキシ−カルボニル基）、アルキルアミノ基（例
、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、
ｎ−ブチルアミノ、　ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペ
ンチルアミノ、ｎ−へキシルアミノ、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジー（ｎ−プロ
ピル）アミノ、ジー（ｎ−ブチル）アミノ等のモノ〜ジ
（炭素数１から６のアルキル）アミノ基）等で１ないし
３個置換されていてもよい。

アルコキシ基が２個置換している場合、２個のアルコキ
シ基が合してたとえばメチレンジオキシ。

エチレンジオキシ、プロピルチオキシ等の炭素数１から
３のアルキレンジオキシ基やエチリデンジオキシ、プロ
ピリデンジオキシ、イソプロピリデンジオキシ等の炭素
数２から６のアルキリデンジオキシ基を構成してもよい
。

上記アリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカ
ルボニル基、アリールカルボニル基、アリールチオ基、
アリールジチオ基、アリールスルフィニル基、アリール
スルホニル基、アリールアミノ基。

アラルキルオキシ基、アラルキルオキシカルボニル基、
アラルキルチオ基、アラルキルジチオ基、アラルキルス
ルフィニル基、アラルキルスルホニル基、アラルキルア
ミノ基、アラルキルカルボニル基。

アリールスルホニルオキシ基、アラルキルスルホニルオ
キシ基はさらに芳香環上に例えばアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、アシル基、アシル
オキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン、アシルアミ
ノ基、アルキルチオ基等で１ないし３個置換されていて
もよい。ここにおいてアルキル基、アルケニル基、アル
キル基、アルコキシ基。

アシル基、アンルオキシ基、アシルアミノ基、ハロゲン
、アルキルチオ基は上記と同様なものが用いられる。□ アルキル基が隣接して２個置換している場合、互いにあ
わさってトリメチレン基又はテトラメチレン基等の２価
の基を示してもよく、アルケニル基が隣接して２個置換
している場合、互いにあわさってプロペニレン基、ｌ−
ブテニレン基、２−ブテニレン基又はブタジェニレン基
等の２価の基を示してもよい。

このような場合、２価の基は該フェニル基、ベンジル基
又は複素環基とさらに５〜６員の脂環（例、シクロペン
タン、シクロヘキサン、シクロへキサジエン）、芳香環
（例、ベンゼン）、ヘテロ原子、例えば窒素、酸素また
は硫黄を１ないし４個含む５〜６員複素環を形成する。

上記有機残基のうち、好ましくは（１）ハロゲン原子ま
たはアルコキシ基でｌないし３個同一又は異なって置換
されていてもよいアルキル基、（２）アリール基、（３
）アリールオキシ基、（４）アルコキシカルボニル基で
ある。さらに好ましくは、無置換アルキル基、アルコキ
シカルボニル基である。

上記複素環オキシ基、複素環チオ基、複素環スルフィニ
ル基、複素環カルボニル基及び複素環スルホニル基の複
素環基は、上記したアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アリール基、アラルキル基、アルカノイル基、
アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アラルキルカルボニル基、ニ
トロ、アミノ、ヒドロキシ、シアノ、スルファモイル、
メルカプト、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素）等で１ないし３個置換されていてもよい。

Ｑで示される置換基を有するフヱニル基及び置換基を有
するベンジル基における置換基としては、好ましくはア
ルコキシカルボニル基、特に好ましくは炭素数１から宥
ルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル）である、
Ｑで示される置換基を有する複素環基の置換基としては
好ましくはアルコキシカルボニル基及びアルキル基であ
る。特に好ましく、よ上記した炭素数１から’＃ｔｐヨ
キ、カルボニル基及び炭素数Ｉから管チルキル基（例、
メチル店、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル）であ
る。

Ｘ、で示されるアルキル基は好ましくは炭素数１から６
の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を意味し、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、５ｅｅ−ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル等が用いられ、
ＸＩで示されるハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素等、特に好ましくは塩素が用いられる。

Ｒ，、Ｒ，で示されるアルキル基は好ましくは炭素数１
から６の直鎖１分岐状もしくは環状のアルキル基を意味
し、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、　ｔｅ
ｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、５ｅｃ−ペンチル、イソ
ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル。

ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、シクロヘキシル等が用°
いられ、アルコキシ基は好ましくは炭素数１から６の直
鎖もしくは分岐状のアルコキシ基を意味し、例えばメト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、イソブトキシ、　ｓｅｃ　−ブトキシ、　
ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−へキシ
ルオキシ等が用いられ、ハロゲン原子はフッ素、塩素、
臭素、ヨウ素等が用いられる。

Ｒ，、Ｒ，は、さらに好ましくはそれぞれ低級アルキル
基（例、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル
、ｎ−ブチル、　ｔｅｒｔ−ブチルなどの炭素数１〜４
のアルキル基）または低級アルコキシ基（例、メトキシ
、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブ
トキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどの炭素数１〜４のアル
コキシ基）またはハロゲン原子（フッ素。

塩素、臭素など）である。−層好ましくはｒｌｌ、Ｒ。

がそれぞれメチル基、メトキシ基または塩素である。Ｚ
は好ましくは−ＣＨ＝である。

なかでもＲ＋　、　Ｒｔがそれぞれ低級アルコキシ基特
にメトキシ基を示す化合物が優れた除草作用を示す。

化合物（１）、（■）は置換分中のスルホ基、カルボキ
シル基等の酸性基と無機塩基塩、有機塩基塩を形成する
ことができる。又化合物（１）、（Ｉ［）、（ＴＶ）は
分子中の塩基性の窒素原子及び置換分中のアミノ基等の
塩基性基と無機酸付加塩、有機酸付加塩を形成すること
ができる。又化合物（Ｉ）は分子中に酸性基（ＳＯ＊Ｎ
ＨＣ）を有しているので無機塩基塩、有機塩基塩を形成
することができる。

化合物（１）、（ＩＶ）の無機塩基塩としてはたとえば
アルカリ金属（たとえばナトリウム、カリウムなど）、
アルカリ土類金属（たとえばカルシウムなど）。

アンモニアなどとの塩が、又化合物（＋）、（ＩＶ）の
有機塩基塩としてはたとえばジメチルアミン、トリエチ
ルアミン、ピペラジン、ピロリジン、ピペリノン、２−
フェニルエチルベンジルアミン、ベンジルアミン、エタ
ノールアミン、ジェタノールアミンなどとの塩などが用
いられる。

化合物（１）、（Ｉｔ　）、（ＩＶ）の無機酸付加塩と
してはたとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸
などとの塩が、化合物（ｒ　）、（ＩＩ　）、（ＩＶ）
の有機酸付加塩としてはたとえばｐ−１−ルエンスルホ
ン酸、メタンスルホン酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸など
との塩が用いられる。

本明細書では化合物（ｒ　）、（ｎ　）、（■）はこれ
らの塩をも含むものとする。化合物（１）は化合物（Ｉ
Ｖ）と化合物（ＩＩＩ）とを塩基の存在下に反応させ（
第ｉ段階の反応）、ついでその反応混合物に無水の条件
下に化合物（［Ｉ）を酸と共に作用させる（第２段階の
反応）ことにより製造される。

反応の第１段階において、原料の化合物（［１）は化合
物（■）に対して約０．５〜２倍モル、好ましくは約０
．８〜１．２倍モル用いる。

原料の化合物（ＩＩＩ）は、具体的には例えばクロロギ
酸フェニル、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、ク
ロロギ酸イソプロピルネート等、好ましくはクロロギ酸
フェニルが用いられる。

塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化
アルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸
アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アルカ
リ金属、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
、カリウムｔ−ブトキシドなどのアルコラード、ピリジ
ン、ルチジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、
■、８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセ
ン。

１．４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン等の有
機三級アミンがあげられる。なかでも、トリエチルアミ
ンが好ましい。用いる塩基の量は化合物（Ｉ［［）に対
して１〜２．１倍モル程度である。

本反応は反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわれる。

このような溶媒としては、例えば、石油エーテル、リグ
ロイン、石油ベンジンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの芳呑族炭化水素類、ジク
ロロメタン。クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエ
チレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、
ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテル、プロピレンオキサイ
ド。

ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ア
セトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、ア
セトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル
、酢酸ブチルなどのエステル類、ジメチルホルムアミド
、ツメチルアセトアミドなどの酸アミド類、ジメチルス
ルホキシド。

スルホランなどの有機溶媒が用いられる。なかでもニト
リル類、特にアセトニトリルが好ましい。

反応温度は約−２０℃から１５０℃、好ましくは約５か
ら１００℃である。

反応時間は比較的短く、通常５分〜１時間程度である。

この第１段階の反応によって一触式％式％（） ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
物またはその塩が反応混合物中に得られる。　　″この
生成化合物の反応混合物から単離することなく、直ちに
第２段階の反応に供されろ。

反応の第２段階においては、化合物（ＩＩ）は反応の１
段階で用いた化合物（１）に対してほぼ等モル程度用い
る。反応に用Ｃする酸としては、例えば塩化水素、臭化
水素、硫酸等の無機酸、例えばメタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酸性イオン交換樹
脂等が用いられる。特にメタンスルホン酸及びエタンス
ルホン酸が好ましい。

塩化水素、臭化水素などは上記した有機溶媒にあらかじ
め溶解したものを用いてもよい。

酸の量は第１段階の反応で用いた塩基の量に対して約０
．１ないし０．６倍モル用いる。

本反応は、無水条件下で行なわれる。反応液への水の混
入は反応を阻害するので反応系外に除去するのが好まし
い。溶媒は第１段階の反応で用いたものと同様なものが
用いられる。

反応温度は、約１０から１００℃で進行する。

反応時間は、通常１０分から６時間程度である。

反応生成物はそれ自体公知の手段、たとえば溶媒抽出、
液性変換、蒸留、減圧蒸留、転溶、減圧濃縮。

結晶化、再結晶、クロマトグラフィーなどによって単離
精製することができる。

化合物（１）は、極めて低薬量で広範囲の雑草、例えば
、タイヌビエ、タマガヤツリ、イヌホタルイ。

コナギ、ウリカワ、マツバイ、ミズガヤツリ、クログワ
イ、ヘラオモダカ、オモダカ、タイワンヤマイ、アゼナ
、キカシグサ、ヒルムシロ、チョウジタデ、ミゾハコへ
等の水田雑草、メヒシバ、エノコログサ、アオビユ、イ
チビ、アカザ、イヌタデ、スベリヒュ、アメリカキンゴ
ジガ、シロバナチョウセンアサガオ。

マルバアサチオ。オナモミ、ヒメイヌビエ、オオクサキ
ビ、セイバンモロコシ、ハマスゲ、カラスムギ。

ブラックグラス、ウマノチャヒキ、コハコベ、カラシナ
類、エビスグサ、カミツレ、ツユクサ等の畑地雑草に対
して優れた殺草力を有するのみならず、稲、小麦、大麦
、トウモロコシ、大豆等の作物に対して薬害はほとんど
なく、高い安全性を示す。

化合物（１）は、作物と各種雑草との間に優れた選択的
除草効果を示し、哺乳動物や魚貝類に対して低毒性で、
環境を汚染することもなく、水田。

畑、果樹園或いは非農耕地用の除草剤として極めて安全
に使用することができる。

化合物（１）を除草剤として使用するにあたっては、一
般の農薬のとりうる形態、即ち、化合物（１）の１種又
は２種以上を使用目的によって適当な液体担体に溶解す
るか分散させるか、または適当な固体担体と混合するか
吸着させ、乳剤、油剤。

噴霧剤、水和剤、粉剤、ＤＬ（ドリフトレス）型粉剤［
ジャーナル　オブ　ペスチサイド　サイアンス、７゜４
０３〜４０８（１９８２）参照コ０粒剤、微粒剤、微粒
剤Ｆ［ジャーナル　オブ　ベスチサイド　サイアンス、
７，４０３〜４０Ｂ（１９８２）参照１１錠剤などの製
剤として使用する。これらの製剤は必要に応じ、乳化剤
１分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤。

粘漿剤、安定剤などを添加してもよく、自体公知の方法
で調製することができる。使用する液体担体（溶剤）と
しては、例えば水、アルコール類（例、メタノール、エ
タノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、エチ
レングリコール等）、ケトン類（例、アセトン、メチル
エチルケトン等）、エーテル類（例、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等）、脂肪族炭化水
素類（例、ケロシン、灯油、燃料油１機械油等）、芳呑
族炭化水素類（例、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソ
ルベントナフサ、メチルナフタレン等）、ハロゲン化炭
化水素類（例、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等）、酸アミド類（例、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド等）、エステル類（例、酢酸エチル
エステル、酢酸ブチルエステル、脂肪酸グリセリンエス
テル等）、ニトリル類（例、アセトニトリル、プロピオ
ニトリル等）などの溶媒が適当であり、これらは１種ま
たは２種以上を適当な割合で混合して使用する。

固体担体（希釈・増量剤）としては、植物性粉末（例、
大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等）、鉱物性粉末（例
、カオリン、ベントナイト、酸性白土、クレイ等のクレ
イ類、滑石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉
などのシリカ類等）、アルミナ、硫黄粉末、活性炭など
が適当であり、これらは１種又は２種以上を適当な割合
で混合して使用する。

乳化剤、展着剤、浸透剤９分散剤などとして使用される
界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテル類（例、ノイゲン
、イー・ニー１４２（Ｅ、Ａ１４２）第一工業製薬（株
）製）、ポリオキシエチレンアリールエステル類（例、
ノナール■、東邦化学（株）製）、アルキル硫酸塩類（
例、エマール■　　　　　　０ １０　、エマール４０　、花王石鹸（株）製）、アルキ
ルスルホン酸塩類（例、ネオゲン■、ネオゲン■ Ｔ　、第一工業製薬（株）製）・ネオペレ・クス■花王
石鹸（株）製）、ポリエチレングリコールエーテル類（
例、ツユボー＞Ｉｙ８５　、）ユボー７Ｌ＝１０００゜
ノーボール１６’Ｏｏ、三洋化成（株）製）、多値ア２
．ヨー２．工Ｚ５−ＪＩ（例、□ウィーア、０■、１ウ
ィーン８０■、花王石鹸（株）製）などの非イオン系及
びアニオン系界面活性剤が用いられる。

化合物（１）の除草剤中の含有割合は乳剤、水和剤など
は１から９０重量％程度が適当であり、油剤、粉剤、Ｄ
Ｌ（ドリフトレス）型粉剤などとしては０．０［からｌ
Ｏ重量％程度が適当であり、微粒剤Ｆ。

粒剤としては０．０５からｌＯ重量％程度が適当である
が、使用目的によっては、これらの濃度を適宜変更して
もよい。乳剤、水和剤などは使用に際して、水などで適
宜希釈増量（たとえば１００〜ｔｏｏｏｏ。

倍）して散布する。

化合物（１）を除草剤として用いる場合の使用量は、適
用場面、適用時期、施用方法、対象草種、栽培作物等に
より差異はあるが一般に有効成分（化合物（Ｉ））とし
て水田１アール当り０．０５から５０ｇ程度、好ましく
は０．１から５ｇ程度、畑地１アール当り０．０５から
２１程度、好ましくは０．１から５ｇ程度である。

化合物（１）は水田雑草用としては、発芽前土壌処理あ
るいは茎葉兼土壌処理剤として使用するのが適用である
。

例えば除草剤は、田植直後或いは田植２〜３週間後でも
薬害を発現することなく安全に使用でき、長期にわたっ
て効果が持続する。

除草剤は必要に応じ他種の除草剤、植物成長調整剤、殺
菌剤（例、有機塩素系殺菌剤、有機イオウ系殺菌剤、ア
ゾール系殺菌剤、抗生物質など）、殺虫剤（例、ピレス
ロイド系殺虫剤、有機リン系殺虫剤。

カルバメート系殺虫剤など）、その他殺ダニ剤、殺線虫
剤、共力剤、誘引剤、忌避剤９色素、肥料などを配合し
、混合使用することができる。

本発明方法に用いる原料化合物の化合物（■）。

（ＩＩＩ）、（１’／）は公知か、あるいは公知の化合
物から容易に製造できる。

例えば化合物（ＩＩ）は、たとえばザ・ケミストリー・
オブ・ヘテロサイクリック・コンパウンダ（インターサ
イエンス畢パブリッシャーズ・ニューヨーク−ロンドン
）　［Ｔｈｅ　　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　　ｏｒＨｅｔｅ
ｒｏｃｙｃｌｉｃ　　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ　（Ｉｎｔｅ
ｒｓｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、　Ｎｅｗ　Ｙ
ｏｒｋ　　＆　　Ｌｏｎｄｏｎ）］　　第１６巻、　１
９６２年、ジャーナル・オブーオーガニック・ケミスト
リー（Ｊｏｕｒｎａｌ　　ｏｆ　　Ｏｒｇａｎｉｃ　　
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第２８巻、　１８１２〜１ｇ２１
頁（１９６３年）に記載されている方法、またはそれに
準じて製造できる。化合物（ＩＶ’）はたとえば特開昭
５２−１２２３８４．同５７−２１２１５５．同５９−
１４８０．同６２−６７０５、同６２−１２０３８５．
同６２−１１１９Ｂ２に記載の方法またはそれに準じて
製造できる。

例えば化合物（ＩＶ）は次反応図式で示される方法（１
）〜（４）により化合物（Ｖｌ）またはその塩を製造し
、ついで化合物（Ｖｌ）またはその塩をアンモニアと反
応させることにより容易に製造できる。

［式中、Ｈａｌはハロゲン原子を、Ｒ１゜は水素原子。

ベンジル基またはＳ−Ｑを、他の記号は前記と同意義を
示す］ Ｈａｌで示されるハロゲン原子としてはフッ素。

塩素、臭素等が用いられる。

上記式で表わされる化合物は上記した塩基塩や酸付加塩
として用いてもよい。

（発明の効果） 本発明方法によれば、化合物（１）は、入手容易な原料
から容易に、収率良く、高純度で製造される。反応操作
ら簡単で反応時間も短くしかも反応工程も短く工業的製
法として極めて有用である。

以下に実施例を示し本発明を具体的に説明する。

％は特記しない限り重量％を示す。室温とは通常約１０
〜３０℃を示す。

実施例１ メチル　２−　［［［［［（４、６−シメトキシピリミ
ジンー２−イル）アミノ］カルボニル］アミノコースル
ホニル］メチル］ベンゾニード ルベンジルスルホンアミド２．３０ｇ（０，０１モル）
とトリエチルアミン２．０２ｇ（０，０２モル）とを溶
解し、１０〜２０℃で攪拌しながらフェニルクロルホル
メイト１．６０ｇ（０，０１モル）を加える。滴下終了
後、２０〜２５℃で３０分間反応し、ついでメタンスル
ホン酸ｔ、００ｇ（０，０１０４モル）および２−アミ
ノ−４，６−ジメトキシピリミジン１．５５ｇ（０，０
１モル）を加えて６０℃で１５分間かきまぜる。反応液
を冷却後、析出する結晶をろ取し、水■０旋で３回洗浄
する。

得られる結晶をＰ、０．上で減圧乾燥すると、標記化合
物３．１８ｇ（７７，２％）が得られる。

ｍｐ　　１８７〜１８８℃ 実施例２ Ｎ−［（４，６−シメトキシピリミジンー２−イル）ア
ミノカルボニル］−１，３−ジメチル−４−エトキシカ
ルボニル−５−ピラゾールスルホンアミド 、　アセトニトリル３０−に２−メトキシカルボニアセ
トニトリル３０ｄに１．３−ジメチル−４−エトキシカ
ルボニル−５−ピラゾールスルホンアミド夏、２５ｇ（
５，０６ミリモル）とトリエチルアミン１．０４ｇ（１
０，１７ミリモル）とを溶解し、１０〜２０℃で攪拌し
ながらフェニルクロロホルメイトｏ、８０ｇ（５，１５
ミリモル）を加える。滴下終了後、２０〜２５℃で３０
分間かきまぜ、ついてメタンスルホン酸０．５０ｇ（５
，１５ミリモル）および２−アミノ−４，６−シメトキ
シピリミジン０．７９ｇ（５，０９ミリモル）を加えて
６０℃で１５分間かきまぜる。反応液を冷却後、析出す
る結晶をろ取し、水ＩＯ−で３回洗浄する。

得られる結晶をＰ　ｔ　Ｏａ上で減圧乾燥すると標記化
合物１．６１ｇ（７４，２％）が得られる。

ｍｐＨ８〜１２０℃ 実施例３ Ｎ−［（４，６−シメトキシビリミジンー２−イル）ア
ミノカルボニル１−２−メトキシカルボニルベンゼンス
ルホンアミド 実施例１と同様の方法で２−メトキシカルボニルベンゼ
ンスルホンアミド２．１５ｇ（ＯｙＯ１モル）から、標
記化合物２．８４ｇ（７１，６％）が得られる。

ｍｐ　　１９６〜１９７℃ 代理人　　弁理士　　岩　１）　　弘

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 Ｑ−ＳＯ＿２ＮＨ＿２ ［式中、Ｑは置換基を有していてもよいフェニル基、置
   換基を有していてもよいベンジル基又は置換基を有して
   いてもよい複素環基を示す］で表わされる化合物と一般
   式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＿１はハロゲンを、Ｘ＿２はアルキル基また
   はフェニル基を示す］で表わされる化合物とを塩基の存
   在下に反応させ、ついで、その反応混合物に無水の条件
   下一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１およびＲ＿２はそれぞれアルキル基、ア
   ルコキシ基またはハロゲン原子を、ＺはＣＨまたはＮを
   示す］で表わされる化合物を酸と共に作用させることを
   特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
   物の製造方法。