JPS6391375A - スルホニルイソチオ尿素誘導体 - Google Patents
スルホニルイソチオ尿素誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、選択的除草活性を有する新規なスルホニルイ
ソチオウレア誘導体に関する。
ソチオウレア誘導体に関する。
本発明のスルホニルイソチオウレア誘導体(下記一般式
[I]で表わされる化合物またはその塩)は、除草剤と
して用いられる。
[I]で表わされる化合物またはその塩)は、除草剤と
して用いられる。
谷1中4古傷
これまで除草活性を有するスルホニルイソチオウレア誘
導体が報告されている(例えば特開昭56−65886
.同54−157579など)が、イソチオウレア基チ
オ基を有する本発明のスルホニルイソチオウレア誘導体
は全く記載されていない。
導体が報告されている(例えば特開昭56−65886
.同54−157579など)が、イソチオウレア基チ
オ基を有する本発明のスルホニルイソチオウレア誘導体
は全く記載されていない。
発明が解決しようとする問題点
除草剤として多数の薬剤が使用されてきているが、雑草
に対する殺草効果、作物に対する薬害、哺乳動物や魚貝
類に対する毒性、環境汚染の面などでまだ十分とはいえ
ない。したがって毒性が少なく、しかも雑草に対して殺
草効果を示すが作物に対しては薬害のない、いわゆる選
択性除草剤の出現が望まれている。
に対する殺草効果、作物に対する薬害、哺乳動物や魚貝
類に対する毒性、環境汚染の面などでまだ十分とはいえ
ない。したがって毒性が少なく、しかも雑草に対して殺
草効果を示すが作物に対しては薬害のない、いわゆる選
択性除草剤の出現が望まれている。
問題点を解決するための手段
本発明は優れた殺草活性を有し、しかも作物に薬害のな
い一般式 [式中、R1は置換されていてもよいフェニル基。
い一般式 [式中、R1は置換されていてもよいフェニル基。
置換されていてもよいベンジル基または置換されていて
もよいピラゾール基を、R,、R,は低級アルキル基ま
たは低級アルコキシ基を、Qは炭化水素残基を、ZはC
HまたはNをそれぞれ示す]で表わされる化合物または
その塩に関する。
もよいピラゾール基を、R,、R,は低級アルキル基ま
たは低級アルコキシ基を、Qは炭化水素残基を、ZはC
HまたはNをそれぞれ示す]で表わされる化合物または
その塩に関する。
本発明の化合物[1]またはその塩は、イソチオウレア
骨格の硫黄原子上に基−5Q(式中、Qは前記と同意義
)を有するスルホニルイソチオウレア誘導体である点に
構造上の特徴が有り、この特定の化学構造に基づいて、
水田または畑地等の雑草に対して優れた選択的除草効果
を示す。
骨格の硫黄原子上に基−5Q(式中、Qは前記と同意義
)を有するスルホニルイソチオウレア誘導体である点に
構造上の特徴が有り、この特定の化学構造に基づいて、
水田または畑地等の雑草に対して優れた選択的除草効果
を示す。
本発明は、このような優れた特徴を有する化合物[I]
またはその塩を提供するものである。
またはその塩を提供するものである。
上記一般式中、R1で示される置換されていてもよいフ
ェニル基、置換されていてもよいベンジル基はベンゼン
環の任意の位置で任意の置換基で1ないし5個、好まし
くは工ないし3個置換されていてもよいフェニル基もし
くはベンジル基を示す。
ェニル基、置換されていてもよいベンジル基はベンゼン
環の任意の位置で任意の置換基で1ないし5個、好まし
くは工ないし3個置換されていてもよいフェニル基もし
くはベンジル基を示す。
該フェニル基又はベンジル基上の置換基としては、好ま
しくは例えば、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ基。
しくは例えば、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ基。
アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラル
キルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、カルバモ
イルオキシ基、スルファモイル基、スルファモイルオキ
シ基、ハロゲン、カルボキシル基。
キルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、カルバモ
イルオキシ基、スルファモイル基、スルファモイルオキ
シ基、ハロゲン、カルボキシル基。
ヒドロキシ基、メルカプト基、低級アルキルアミノ基、
アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、低級アルキル
−アリールアミノ基、ニトロ基、シアノ基。
アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、低級アルキル
−アリールアミノ基、ニトロ基、シアノ基。
アミノ基、スルホ基。
R4は有機残基を、Iは0,1.2を示す]で表わされ
る基等が用いられ、ここにおいて、低級アルキル基とは
炭素数1から6の直鎖状1分枝状もしくは環状のアルキ
ル基を意味し、例えばメチル、エチル、n−プ゛ロビル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、 5ec−
ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル。
る基等が用いられ、ここにおいて、低級アルキル基とは
炭素数1から6の直鎖状1分枝状もしくは環状のアルキ
ル基を意味し、例えばメチル、エチル、n−プ゛ロビル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、 5ec−
ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル。
5ee−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シク
ロペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、シクロヘキ
シル等が用いられ、低級アルケニル基とは二重結合を1
ないし2個有する直鎖状9分枝状もしくは環状の炭素数
3から6のアルケニル基を意味−し、例えばアリル、イ
ソプロペニル、1−ブテニル、2−ペンテニル、2−へ
キセニル、シクロペンテニル。
ロペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、シクロヘキ
シル等が用いられ、低級アルケニル基とは二重結合を1
ないし2個有する直鎖状9分枝状もしくは環状の炭素数
3から6のアルケニル基を意味−し、例えばアリル、イ
ソプロペニル、1−ブテニル、2−ペンテニル、2−へ
キセニル、シクロペンテニル。
シクロペンタジェニル、シクロへキセニル等が用いられ
、低級アルキニル基とは炭素数3から6のアルキニル基
を意味し、例えばプロパルギル、2−ブチニル、3−ブ
チニル、3−ペンチニル、3−へキシニル等が用いられ
、低級アルコキシ基とは炭素数1から6の直鎖状1分枝
状もしくは環状のアルコキシ基を意味し、例えばメトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ。
、低級アルキニル基とは炭素数3から6のアルキニル基
を意味し、例えばプロパルギル、2−ブチニル、3−ブ
チニル、3−ペンチニル、3−へキシニル等が用いられ
、低級アルコキシ基とは炭素数1から6の直鎖状1分枝
状もしくは環状のアルコキシ基を意味し、例えばメトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ。
イソブトキシ、5ec−ブトキシ、 tert−ブトキ
シ、n−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシ、シクロ
プロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロへキシ
ルオキシ等が用いられ、アリール基とは炭素数6から1
4のアリール基を意味し、例えばフェニル、ナフチル、
ビフェニリル等が用いられ、アリール基を意味し、例え
ばフェノキシ、ナフトキシ等が用いられ、アラルキル基
とは炭素数7から19のアラルキル基を意味し、例えば
ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、トリチル基
等が用いられ、アラルキルオキシ基とは、炭素数7から
19のアラルキルオキシ基を意味し、例えばベンジルオ
キシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシ、ト
リチルオキシ等が用いられ、アシル基とは、有機カルボ
ン酸から誘導されるアシル基を意味し、例えば低級アル
キルカルボニル基、低級アルヶニルカルボラル基、アリ
ールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、低級アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ラルキルオキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニ
ル−カルボニル基(ここにおいて低級アルキル、低級ア
ルケニル、アリール、低級アルコキシ、アラルキル基は
上記と同意義)、複素環オキシカルボニル基または複素
環カルボニル基(ここにおいて複素環基は例えばチェニ
ル、ベンゾチェニル、ピロリル、オキサシリル、ピペラ
ジニル−千アゾリル千アジアプリルピラゾリル、テトラ
ゾリル、オキサチイニル等の少なくとも硫黄原子(オキ
シド化されていてもよい)。
シ、n−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシ、シクロ
プロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロへキシ
ルオキシ等が用いられ、アリール基とは炭素数6から1
4のアリール基を意味し、例えばフェニル、ナフチル、
ビフェニリル等が用いられ、アリール基を意味し、例え
ばフェノキシ、ナフトキシ等が用いられ、アラルキル基
とは炭素数7から19のアラルキル基を意味し、例えば
ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、トリチル基
等が用いられ、アラルキルオキシ基とは、炭素数7から
19のアラルキルオキシ基を意味し、例えばベンジルオ
キシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシ、ト
リチルオキシ等が用いられ、アシル基とは、有機カルボ
ン酸から誘導されるアシル基を意味し、例えば低級アル
キルカルボニル基、低級アルヶニルカルボラル基、アリ
ールカルボニル基、アラルキルカルボニル基、低級アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ア
ラルキルオキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニ
ル−カルボニル基(ここにおいて低級アルキル、低級ア
ルケニル、アリール、低級アルコキシ、アラルキル基は
上記と同意義)、複素環オキシカルボニル基または複素
環カルボニル基(ここにおいて複素環基は例えばチェニ
ル、ベンゾチェニル、ピロリル、オキサシリル、ピペラ
ジニル−千アゾリル千アジアプリルピラゾリル、テトラ
ゾリル、オキサチイニル等の少なくとも硫黄原子(オキ
シド化されていてもよい)。
酸素原子、窒素原子(オキシド化されていてもよい)の
いずれか−個を含む5ないし6員複素環基を示す)が用
いられ、具体的には、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチリル、ペンタノイルハキテノイル。ベンゾイル、ナ
フトイル、ベンジルカルボニル。
いずれか−個を含む5ないし6員複素環基を示す)が用
いられ、具体的には、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチリル、ペンタノイルハキテノイル。ベンゾイル、ナ
フトイル、ベンジルカルボニル。
フェネチルカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、n−プロポキシカルボニル、フェノキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、チェニルカルボ
ニル、ベンゾチェニルカルボニル、チェニルオキシカル
ボニル等が用いられ、アシルオキシ基とは、式A−0−
(Aは上記したアシル基を示す)で表わされる基を意味
し、具体的にはアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ
、ベンジルカルボニルオキシ、フェネチルカルボニルオ
キシ。
カルボニル、n−プロポキシカルボニル、フェノキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、チェニルカルボ
ニル、ベンゾチェニルカルボニル、チェニルオキシカル
ボニル等が用いられ、アシルオキシ基とは、式A−0−
(Aは上記したアシル基を示す)で表わされる基を意味
し、具体的にはアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ
、ベンジルカルボニルオキシ、フェネチルカルボニルオ
キシ。
ベンゾイルオキシ汁フトイルオキシ、チェニルカルボニ
ルオキシ、ベンゾチェニルカルボニルオキシ等が用いら
れ、アシルアミノ基とは上記アシル基で1ないし2個置
換されたアミノ基を意味し、具体的にはアセチルアミノ
、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、ベンゾイルア
ミノ、ベンジルカルボニルアミノ、チェニルカルボニル
アミノ、ジアセチルアミノ、メトキシカルボニルアミノ
、エトキシカルボニルアミノ、メトキシカルボニルカル
ボニルアミノ、エトキシカルボニルカルボニルアミノ、
ベンジルオキシカルボニルアミノ等が用いられハロゲン
とは、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等を意味し、
低級アルキルアミノ基とは、上記した低級アルキル基で
1ないし2個置換されたアミノ基を意味し、例えばメチ
ルアミノ、エチルアミノ、n−ブチルアミノ、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ。
ルオキシ、ベンゾチェニルカルボニルオキシ等が用いら
れ、アシルアミノ基とは上記アシル基で1ないし2個置
換されたアミノ基を意味し、具体的にはアセチルアミノ
、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、ベンゾイルア
ミノ、ベンジルカルボニルアミノ、チェニルカルボニル
アミノ、ジアセチルアミノ、メトキシカルボニルアミノ
、エトキシカルボニルアミノ、メトキシカルボニルカル
ボニルアミノ、エトキシカルボニルカルボニルアミノ、
ベンジルオキシカルボニルアミノ等が用いられハロゲン
とは、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等を意味し、
低級アルキルアミノ基とは、上記した低級アルキル基で
1ないし2個置換されたアミノ基を意味し、例えばメチ
ルアミノ、エチルアミノ、n−ブチルアミノ、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ。
ジ(n−ブチル)アミノ、シクロへキシルアミノ等が用
いられ、アリールアミノ基とは上記したアリール基で1
ないし2個置換されたアミノ基を意味し、例えばフェニ
ルアミノ、フェニルメチルアミノ等が用いられ、アラル
キルアミノ基とは、上記アラルキル基で1ないし2個置
換されたアミノ基を意味し、例えばベンジルアミノ、1
−フェニルエチルアミノ、2−フェニルメチルアミノ、
ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミノ等が用いられ、
低級アルキル−アリールアミノ基とは上記した低級アル
キル基及び上記したアリール基で置換されたアミノ基を
意味し、例えばN−フェニル−N−メチルアミノ、N−
フェニル−N−エチルアミノ等が用いられ、R4で示さ
れる有機残基とは、例えば上記した低級アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、低級アルキ
ルアミノ基。
いられ、アリールアミノ基とは上記したアリール基で1
ないし2個置換されたアミノ基を意味し、例えばフェニ
ルアミノ、フェニルメチルアミノ等が用いられ、アラル
キルアミノ基とは、上記アラルキル基で1ないし2個置
換されたアミノ基を意味し、例えばベンジルアミノ、1
−フェニルエチルアミノ、2−フェニルメチルアミノ、
ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミノ等が用いられ、
低級アルキル−アリールアミノ基とは上記した低級アル
キル基及び上記したアリール基で置換されたアミノ基を
意味し、例えばN−フェニル−N−メチルアミノ、N−
フェニル−N−エチルアミノ等が用いられ、R4で示さ
れる有機残基とは、例えば上記した低級アルキル基、低
級アルケニル基、低級アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、低級アルキ
ルアミノ基。
アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、低級アルキル
−アリールアミノ基、複素環基等を意味する。
−アリールアミノ基、複素環基等を意味する。
上記の低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、低級アルコキシ基は、さらに例えば炭素数1か
ら4のアルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、
n−プロピルチオ、イソプチルヂオ等)、炭素数6から
14のアリールチオ基(例、フェニルチオ等)、炭素数
7から19のアラルキル素、塩素、臭素、ヨウ素等)、
炭素数1から6のアルコキシ基(例、メトキシ、エトキ
シ、n−プロポキシ。
ニル基、低級アルコキシ基は、さらに例えば炭素数1か
ら4のアルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、
n−プロピルチオ、イソプチルヂオ等)、炭素数6から
14のアリールチオ基(例、フェニルチオ等)、炭素数
7から19のアラルキル素、塩素、臭素、ヨウ素等)、
炭素数1から6のアルコキシ基(例、メトキシ、エトキ
シ、n−プロポキシ。
tert−ブトキシ、n−へキシルオキシ等)、ニトロ
基。
基。
カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、シアノ基。
スルファモイル基、スルファモイルオキシ基、カルボキ
シル基、ヒドロキシ基、上述したと同じアシルアミノ基
等で1ないし3個置換されていてもよい。
シル基、ヒドロキシ基、上述したと同じアシルアミノ基
等で1ないし3個置換されていてもよい。
上記アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、ア
ラルキルオキシ基は、芳香環上にさらに例えば低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ア
ルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、ハロゲン、アシルアミノ基、炭素数1から4の
アルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、n−プ
ロピルヂオ、tert−ブチルチオ)等で1ないし3個
置換されていてもよい。
ラルキルオキシ基は、芳香環上にさらに例えば低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級ア
ルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、ハロゲン、アシルアミノ基、炭素数1から4の
アルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ、n−プ
ロピルヂオ、tert−ブチルチオ)等で1ないし3個
置換されていてもよい。
ここにおいて低級アルキル基、低級アルケニル基。
低級アルキニル基、低級アルコキシ基、アシル基。
アシルオキシ基、ハロゲン、アシルアミノ基は上記と同
様なものが用いられる。
様なものが用いられる。
ルバモイルオキシ基、スルファモイル基、スルファモイ
ルオキシ基は、さらに例えば低級アルキル基。
ルオキシ基は、さらに例えば低級アルキル基。
低級アルコキシ基、アリール基、アラルキル基で1ない
し2個置換されていてもよい。ここにおいても低級アル
キル基、低級アルコキシ基、アリール基。
し2個置換されていてもよい。ここにおいても低級アル
キル基、低級アルコキシ基、アリール基。
アラルキル基は上記と同様のものが用いられる。
R,で示される置換されたフェニル基及び置換されたベ
ンジル基における置換基のうち好ましくはアシルアミノ
基、低級アルコキシカルボニル基。
ンジル基における置換基のうち好ましくはアシルアミノ
基、低級アルコキシカルボニル基。
ハロゲンで1ないし3個置換されていてもよい低級アル
キル基、低級アルキル基で1ないし2個置換されていて
もよいスルファモイル基、ハロゲンで1ないし3個置換
されていてもよい低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲ
ン、ニトロ基、低級アルキルスルホニル基である。
キル基、低級アルキル基で1ないし2個置換されていて
もよいスルファモイル基、ハロゲンで1ないし3個置換
されていてもよい低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲ
ン、ニトロ基、低級アルキルスルホニル基である。
バB
[式中、RAは、アシルアミノ基、低級アルコキシカル
ボニル基、ハロゲンで1ないし3個置換されていてもよ
い低級アルキル基、低級アルキル基で1ないし2個置換
されていてもよいスルファモイル基、ハロゲンで1ない
し3個置換されていてもよい低級アルコキシ基、シアノ
基、ハロゲン、ニトロ基、低級アルキルスルホニル基ま
たはアシル基を、RBは水素原子、ハロゲン、低級アル
キル基またはニトロ基を、nは0またはlを示すコで表
わされる基であり、最も好ましくはnが0の時。
ボニル基、ハロゲンで1ないし3個置換されていてもよ
い低級アルキル基、低級アルキル基で1ないし2個置換
されていてもよいスルファモイル基、ハロゲンで1ない
し3個置換されていてもよい低級アルコキシ基、シアノ
基、ハロゲン、ニトロ基、低級アルキルスルホニル基ま
たはアシル基を、RBは水素原子、ハロゲン、低級アル
キル基またはニトロ基を、nは0またはlを示すコで表
わされる基であり、最も好ましくはnが0の時。
RAは低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン又は低級
アルキル基を、RBは水素原子を示し、nが1の時、R
Aは低級アルコキシカルボニル基又はハロゲンを、RB
は水素原子を示す。
アルキル基を、RBは水素原子を示し、nが1の時、R
Aは低級アルコキシカルボニル基又はハロゲンを、RB
は水素原子を示す。
ここにおいて、RAで示されるアシルアミノ基。
低級アルコキシカルボニル基、ハロゲンでlないし3g
置換されていてもよい低級アルキル基、低級アルキル基
で1ないし2個置換されていてもよいスルファモイル基
、ハロゲンで1ないし3個置換されていてもよい低級ア
ルコキシ基、ハロゲン、低級アルキルスルホニル基また
はアシル基、及びRBで示されるハロゲン、低級アルキ
ル基はRIで定義されてものと同様のものが用いられる
。
置換されていてもよい低級アルキル基、低級アルキル基
で1ないし2個置換されていてもよいスルファモイル基
、ハロゲンで1ないし3個置換されていてもよい低級ア
ルコキシ基、ハロゲン、低級アルキルスルホニル基また
はアシル基、及びRBで示されるハロゲン、低級アルキ
ル基はRIで定義されてものと同様のものが用いられる
。
R2で示される置換されていてもよいピラゾール基にお
けるピラゾール、基としては、ピラゾール−3−イル基
、ピラゾール−4−イル基又はピラゾール−5−イル基
、好ましくはピラゾール−5−イル基が用いられ、これ
らのピラゾール基は任意の置換基で1ないし3個任意の
位置に置換されていてもよい。
けるピラゾール、基としては、ピラゾール−3−イル基
、ピラゾール−4−イル基又はピラゾール−5−イル基
、好ましくはピラゾール−5−イル基が用いられ、これ
らのピラゾール基は任意の置換基で1ないし3個任意の
位置に置換されていてもよい。
これらのピラゾール基土の置換基としては、上記R,で
示される置換されたフェニル基又は置換されたベンジル
基における置換基と同様のものが用いられるが、好まし
くは低級アルキル基、低級アルキル基で1ないし2個置
換されていてもよいカルバモイル基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基またはハロゲンであり、よ
り好ましくは、低級アルキル基または低級アルコキシカ
ルボニル基である。このうち特に好ましくは、例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、t−ブチルなどの直鎖もしくは分岐状の炭素数1か
ら4の低級アルキル基又は例えばメトキシカルボニル、
n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル等の
炭素数lから4の低級アルコキシカルボニル等である。
示される置換されたフェニル基又は置換されたベンジル
基における置換基と同様のものが用いられるが、好まし
くは低級アルキル基、低級アルキル基で1ないし2個置
換されていてもよいカルバモイル基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基またはハロゲンであり、よ
り好ましくは、低級アルキル基または低級アルコキシカ
ルボニル基である。このうち特に好ましくは、例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、t−ブチルなどの直鎖もしくは分岐状の炭素数1か
ら4の低級アルキル基又は例えばメトキシカルボニル、
n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル等の
炭素数lから4の低級アルコキシカルボニル等である。
R3またはR5で示される低級アルキル基、低級アルコ
キシ基は、R,で定義されたものと同様のものが用いら
れる。このうち、好ましくはそれぞれ炭素数lから4の
低級アルキル基(例、メチル。
キシ基は、R,で定義されたものと同様のものが用いら
れる。このうち、好ましくはそれぞれ炭素数lから4の
低級アルキル基(例、メチル。
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル。
tert−ブチル)または炭素数1から4の低級アルで
ある。最も好ましくはR* 、 Rsがそれぞれメチル
基またはメトキシ基である。
ある。最も好ましくはR* 、 Rsがそれぞれメチル
基またはメトキシ基である。
Qで示される炭化水素残基とは直鎖0分枝状、環状の、
二重結合、三重結合を有することもできる脂肪族基、ア
リール基あるいはアラルキル基を意味し、これらは適当
な置換基でlから5個好ましくは1から3個置換されて
いてもよい。
二重結合、三重結合を有することもできる脂肪族基、ア
リール基あるいはアラルキル基を意味し、これらは適当
な置換基でlから5個好ましくは1から3個置換されて
いてもよい。
ここにおいて炭化水素残基は、具体的には低級〒1!、
4 +1. 就7I′ctan、 ? II、J+ −
+1.丘/EaTL−P ++、−)−−n、箆アリー
ル基、アラルキル基を意味し、低級アルキル基とは炭素
数1から6の直鎖状9分枝状もしくは環状のアルキル基
を意味し、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、
tert−ブチル、n−ペンチル。
4 +1. 就7I′ctan、 ? II、J+ −
+1.丘/EaTL−P ++、−)−−n、箆アリー
ル基、アラルキル基を意味し、低級アルキル基とは炭素
数1から6の直鎖状9分枝状もしくは環状のアルキル基
を意味し、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、
tert−ブチル、n−ペンチル。
5ee−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シク
ロペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、シクロヘキ
シル等が用いられ、低級アルケニル基とは二重結合を1
ないし2個有する直鎖状1分枝状もしくは環状の炭素数
3から6のアルケニル基を意味し、例えばアリル、イソ
プロペニル、1−ブテニル、2−ペンテニル、2−へキ
セニル、シクロペンテニル。
ロペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、シクロヘキ
シル等が用いられ、低級アルケニル基とは二重結合を1
ないし2個有する直鎖状1分枝状もしくは環状の炭素数
3から6のアルケニル基を意味し、例えばアリル、イソ
プロペニル、1−ブテニル、2−ペンテニル、2−へキ
セニル、シクロペンテニル。
シクロペンタジェニル、シクロへキセニル等が用いられ
、低級アルキニル基とは炭素数3から6のアルキニル基
を意味し、例えばプロパルギル、2−ブチニル、3−ブ
チニル、3−ペンチニル、3−ヘキシニル等が用いられ
、アリール基とは炭素数6から14のアリール基を意味
し、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニリル等が用い
られ、アラルキル基とは炭素数7から19のアラルキル
基を意味し、例えばベンジル、フェネチル、フェニルプ
ロピル、トリチル等が用いられる。
、低級アルキニル基とは炭素数3から6のアルキニル基
を意味し、例えばプロパルギル、2−ブチニル、3−ブ
チニル、3−ペンチニル、3−ヘキシニル等が用いられ
、アリール基とは炭素数6から14のアリール基を意味
し、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニリル等が用い
られ、アラルキル基とは炭素数7から19のアラルキル
基を意味し、例えばベンジル、フェネチル、フェニルプ
ロピル、トリチル等が用いられる。
上記の低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基は、さらに例えば炭素数1から4のアルキルチオ
基(例、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、
イソブチルチオ等)、炭素数6から14のアリールチオ
基(例、フェニルチオ等)、炭素数7から19のアラル
キルチオ基(例、ベンジルチオ等)、ハロゲン(例、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素等)、炭素数1から6のアル
コキシ基(例、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
tert−ブトキシ、n−へキシルオキシ等)、ニト
ロ基、カルバモイル基。
ニル基は、さらに例えば炭素数1から4のアルキルチオ
基(例、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、
イソブチルチオ等)、炭素数6から14のアリールチオ
基(例、フェニルチオ等)、炭素数7から19のアラル
キルチオ基(例、ベンジルチオ等)、ハロゲン(例、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素等)、炭素数1から6のアル
コキシ基(例、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
tert−ブトキシ、n−へキシルオキシ等)、ニト
ロ基、カルバモイル基。
カルバモイルオキシ基、シアノ基、スルファモイル基、
スルファモイルオキシ基、カルボキシル基、ヒドロキシ
基、上述したと同じアシルアミノ基等で置換されていて
もよい。
スルファモイルオキシ基、カルボキシル基、ヒドロキシ
基、上述したと同じアシルアミノ基等で置換されていて
もよい。
上記アリール基、アラルキル基は、芳香環上にさらに例
えば低級アルキル基、低級アルケニル基。
えば低級アルキル基、低級アルケニル基。
低級アルキニル基、低級アルコキシ基、アシル基。
アシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン、アシ
ルアミノ基、炭素数1から4のアルキルチオ基(例、メ
チルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、 tert
−ブチルチオ)等で置換されていてもよい。ここにおい
て低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、低級アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、ハ
ロゲン、アシルアミノ基は上記と同様なものが用いられ
る。
ルアミノ基、炭素数1から4のアルキルチオ基(例、メ
チルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、 tert
−ブチルチオ)等で置換されていてもよい。ここにおい
て低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、低級アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、ハ
ロゲン、アシルアミノ基は上記と同様なものが用いられ
る。
Qは好ましくは低級アルキル基、または低級アルキル基
もしくはニトロ基で置換されたアリール基である。Zは
好ましくはCHである。
もしくはニトロ基で置換されたアリール基である。Zは
好ましくはCHである。
化合物[1]は分子中にたとえばアミノ基のような塩基
性基を有する場合、例えば、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸。
性基を有する場合、例えば、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸。
ギ酸等の有機酸、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸との酸
付加塩を形成していてもよい。
付加塩を形成していてもよい。
化合物[13は、分子中にメルカプト基、ヒドロキシ基
、スルホ基、カルボキシル基等が存在する場合、例えば
アルカリ金属(例えばナトリウム、カリウムなど)、ア
ルカリ土類金属(例えばカルシウムチルアミン、ter
t−ブチルジメチルアミン、ジベンジルメチルアミン、
ベンジルジメチルアミン、N。
、スルホ基、カルボキシル基等が存在する場合、例えば
アルカリ金属(例えばナトリウム、カリウムなど)、ア
ルカリ土類金属(例えばカルシウムチルアミン、ter
t−ブチルジメチルアミン、ジベンジルメチルアミン、
ベンジルジメチルアミン、N。
N−ジメチルアニリン、ピリジン、キノリンなどの有機
塩基との塩を形成していてもよい。
塩基との塩を形成していてもよい。
化合物[1]またはその塩は、極めて低薬量で広範囲の
雑草、例えば、タイヌビエ、タマガヤツリ。
雑草、例えば、タイヌビエ、タマガヤツリ。
イヌホタルイ、コナギ、ウリカワ、マツバイ、ミズガヤ
ツリ、クログワイ、ヘラオモダカ、オモダカ、タイワン
ヤマイ、アゼナ、キカシグサ、ヒルムシロ、チョウジタ
デ、ミゾハコベ等の水田雑草、メヒシバ、エノコログサ
、アオビユ、イチビ、アカザ、イヌタデ。
ツリ、クログワイ、ヘラオモダカ、オモダカ、タイワン
ヤマイ、アゼナ、キカシグサ、ヒルムシロ、チョウジタ
デ、ミゾハコベ等の水田雑草、メヒシバ、エノコログサ
、アオビユ、イチビ、アカザ、イヌタデ。
スベリヒュ、アメリカキンゴジガ、シロバナチョウセン
アサガオ、マルバアサガオ、オナモミ、ヒメイヌビエ、
オオクサキビ、セイバンモロコシ、ハマスゲ、カラスム
ギ、ブラックグラス、ウマノチャヒキ。
アサガオ、マルバアサガオ、オナモミ、ヒメイヌビエ、
オオクサキビ、セイバンモロコシ、ハマスゲ、カラスム
ギ、ブラックグラス、ウマノチャヒキ。
コハコベ、カラシナ類、エビスグサ、カミツレツユクサ
等の畑地雑草に対して優れた殺草力を有するのみならず
、稲、小麦、大麦、トウモロコシ、大豆等の作物に対し
て薬害は極めて少なく、高い安全性化合物[I]または
その塩は、水田雑草に優れた殺草効果を示し稲に対して
は薬害をほとんど示さないので、水田用除草剤として好
適であり、又畑地雑草に対しても優れた殺草効果を示し
、大豆。
等の畑地雑草に対して優れた殺草力を有するのみならず
、稲、小麦、大麦、トウモロコシ、大豆等の作物に対し
て薬害は極めて少なく、高い安全性化合物[I]または
その塩は、水田雑草に優れた殺草効果を示し稲に対して
は薬害をほとんど示さないので、水田用除草剤として好
適であり、又畑地雑草に対しても優れた殺草効果を示し
、大豆。
とうもろこし等の栽培作物に対してはほとんど薬害を与
えないので畑地用除草剤として有用である。
えないので畑地用除草剤として有用である。
化合物[1]またはその塩は、作物と各種雑草との間に
優れた選択的除草効果を示し、哺乳動物や魚貝類に対し
て低毒性で、環境を汚染することもなく、水田、畑、果
樹園或いは非農耕地用の除草剤として極めて安全に使用
することができる。
優れた選択的除草効果を示し、哺乳動物や魚貝類に対し
て低毒性で、環境を汚染することもなく、水田、畑、果
樹園或いは非農耕地用の除草剤として極めて安全に使用
することができる。
化合物[1]またはその塩を除草剤として使用するにあ
たっては、一般の農薬のとりうる形態、即ち、化合物[
1]またはその塩の1種又は2種以上を使用目的によっ
て適当な液体担体に溶解するか分散させるか、または適
当な固体担体と混合するか吸着させ、乳剤、油剤、噴霧
剤、水和剤、粉剤、DL型粉剤1粒剤、微粒剤、微粒剤
F1錠剤などの製剤として使用する。これらの製剤は必
要に応じ、乳化剤0分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、
粘漿剤、安定剤などを添加してもよく、自体公知の方法
で調製することができる。使用する液体担体(溶剤)と
しては、例えば水、アルコール類(例、メタノール、エ
タノール、n−プロパツール、イソプロパツール、エチ
レングリコール等)、ケトン類(例、アセトン。
たっては、一般の農薬のとりうる形態、即ち、化合物[
1]またはその塩の1種又は2種以上を使用目的によっ
て適当な液体担体に溶解するか分散させるか、または適
当な固体担体と混合するか吸着させ、乳剤、油剤、噴霧
剤、水和剤、粉剤、DL型粉剤1粒剤、微粒剤、微粒剤
F1錠剤などの製剤として使用する。これらの製剤は必
要に応じ、乳化剤0分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、
粘漿剤、安定剤などを添加してもよく、自体公知の方法
で調製することができる。使用する液体担体(溶剤)と
しては、例えば水、アルコール類(例、メタノール、エ
タノール、n−プロパツール、イソプロパツール、エチ
レングリコール等)、ケトン類(例、アセトン。
メチルエチルケトン等)、エーテル類(例、ジオキサン
、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、脂肪族
炭化水素類(例、ケロシン。
、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、脂肪族
炭化水素類(例、ケロシン。
灯油、燃料油1機械油等)、芳香族炭化水素類(例、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ。
ンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ。
メチルナフタレン等)、ハロゲン化炭化水素類(例、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等)、酸アミ
ド類(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド等)、エステル類(例、酢酸エチルエステル、酢酸ブ
チルエステル、脂肪酸グリセリンエステル等)、ニトリ
ル類(例、アセトニトリル、プロピオニトリル等)など
の溶媒が適当であり、これらは1種または2種以上を適
当な割合で混合して使用する。
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等)、酸アミ
ド類(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド等)、エステル類(例、酢酸エチルエステル、酢酸ブ
チルエステル、脂肪酸グリセリンエステル等)、ニトリ
ル類(例、アセトニトリル、プロピオニトリル等)など
の溶媒が適当であり、これらは1種または2種以上を適
当な割合で混合して使用する。
固体担体(希釈・増量剤)としては、植物性粉末(例、
大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等)、鉱物性粉末(例
、カオリン、ベントナイト、酸性白土等のクレイ類、滑
石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉などのシ
リカ類等)、アルミナ、硫黄粉末、活性炭などが適当で
あり、これらは1種又は2種以上を適当な割合で混合し
て使用する。
大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等)、鉱物性粉末(例
、カオリン、ベントナイト、酸性白土等のクレイ類、滑
石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉などのシ
リカ類等)、アルミナ、硫黄粉末、活性炭などが適当で
あり、これらは1種又は2種以上を適当な割合で混合し
て使用する。
乳化剤、展着剤、浸透剤1分散剤などとして使用される
界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテル類(例、ノイゲン
、イー・ニー142(E、A142戸第−工業製薬(株
)製)、ポリオキシエチレンアリールエステル類(例、
ノナール0.東邦化学(昧)製)、アルキル硫酸塩類(
例、エマール■ ■ 10 、エマール40 、花王石鹸(株)製)、アル
キルスルホン酸塩類(例、ネオゲン[F]、ネオゲンT
o館−T悠vJM(株)載・ネオペレ・クス■花王石鹸
(株)製)、ポリエチレングリコールエーテル類(例、
ノニボール85 、ノニボールtoo票)二ボール16
0 、三洋化成(株)製)、多価アルコールエステル
類(例、トウイーン20■、トウイーン80■、花王石
鹸(株°)製)などの非イオン系剤などは1から90重
量%程度が適当であり、油剤、粉剤、DL型型剤剤どと
しては0.01からIO重量%程度が適当であり、微粒
剤、微粒剤F9粒剤としては0.05からIO重量%程
度が適当であるが、使用目的によっては、これらの濃度
を適宜変更してもよい。乳剤、水和剤などは使用に際し
て、水などで適宜希釈増量(たとえば100〜1000
00倍)して散布する。
界面活性剤としては、必要に応じて石けん類、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテル類(例、ノイゲン
、イー・ニー142(E、A142戸第−工業製薬(株
)製)、ポリオキシエチレンアリールエステル類(例、
ノナール0.東邦化学(昧)製)、アルキル硫酸塩類(
例、エマール■ ■ 10 、エマール40 、花王石鹸(株)製)、アル
キルスルホン酸塩類(例、ネオゲン[F]、ネオゲンT
o館−T悠vJM(株)載・ネオペレ・クス■花王石鹸
(株)製)、ポリエチレングリコールエーテル類(例、
ノニボール85 、ノニボールtoo票)二ボール16
0 、三洋化成(株)製)、多価アルコールエステル
類(例、トウイーン20■、トウイーン80■、花王石
鹸(株°)製)などの非イオン系剤などは1から90重
量%程度が適当であり、油剤、粉剤、DL型型剤剤どと
しては0.01からIO重量%程度が適当であり、微粒
剤、微粒剤F9粒剤としては0.05からIO重量%程
度が適当であるが、使用目的によっては、これらの濃度
を適宜変更してもよい。乳剤、水和剤などは使用に際し
て、水などで適宜希釈増量(たとえば100〜1000
00倍)して散布する。
化合物[1]またはその塩を除草剤として用いる場合の
使用量は、適用場面、適用時期、施用方法。
使用量は、適用場面、適用時期、施用方法。
対象草種、栽培作物等により差異はあるが一般にアール
当り0.05から50g程度、好ましくは0.1から5
g程度、畑地1アール当り0.05から20g程度、好
ましくは0.1から5g程度である。
当り0.05から50g程度、好ましくは0.1から5
g程度、畑地1アール当り0.05から20g程度、好
ましくは0.1から5g程度である。
化合物[1]またはその塩は水田雑草用としては、発芽
前土壌処理あるいは発芽後茎葉兼土壌処理剤として使用
するのが適当である。
前土壌処理あるいは発芽後茎葉兼土壌処理剤として使用
するのが適当である。
例えば本発明の除草剤は、田植直後或いは田植2〜3週
間後でも薬害をほとんど発現することなく安全に使用で
き、長期にわたって効果が持続する。
間後でも薬害をほとんど発現することなく安全に使用で
き、長期にわたって効果が持続する。
化合物[1]またはその塩は畑地雑草用としては発芽前
土壌処理或いは発芽後茎葉処理するのが適当である。
土壌処理或いは発芽後茎葉処理するのが適当である。
本発明の除草剤は必要に応じ他種の除草剤、植物成長調
整剤、殺菌剤(例、有機塩素系殺菌剤、有機イオウ系殺
菌剤、アゾール系殺菌剤、抗生物質など)、殺虫剤(例
、ピレスロイド系殺虫剤、有機リン系殺虫剤、カルバメ
ート系殺虫剤など)、その他殺ダニ剤、殺線虫剤、共力
剤、誘引剤、忌避剤1色素、肥料などを配合し、混合使
用することができる。
整剤、殺菌剤(例、有機塩素系殺菌剤、有機イオウ系殺
菌剤、アゾール系殺菌剤、抗生物質など)、殺虫剤(例
、ピレスロイド系殺虫剤、有機リン系殺虫剤、カルバメ
ート系殺虫剤など)、その他殺ダニ剤、殺線虫剤、共力
剤、誘引剤、忌避剤1色素、肥料などを配合し、混合使
用することができる。
化合物[1コまたはその塩は、自体公知の方法[例、特
公昭60−14023.ケミカル・アンド・ファーマシ
ュウティカル・ブレタン(Chew。
公昭60−14023.ケミカル・アンド・ファーマシ
ュウティカル・ブレタン(Chew。
Pharm、Bull、)第18巻 235頁(197
0年)等に記載の方法]に従って製造することができる
。例えば化合物El]またはその塩は、一般式[式中の
記号は前記と同意義]で表わされる化合物またはその塩
と一般式 %式%[[[] [式中、Yは脱離基を、Qは前記と同意義を示す]で表
わされる化合物またはその塩とを反応させることにより
製造される。
0年)等に記載の方法]に従って製造することができる
。例えば化合物El]またはその塩は、一般式[式中の
記号は前記と同意義]で表わされる化合物またはその塩
と一般式 %式%[[[] [式中、Yは脱離基を、Qは前記と同意義を示す]で表
わされる化合物またはその塩とを反応させることにより
製造される。
Yで示される脱離基としては、好ましくはハロゲン(例
、塩素、臭素等)、スクシンイミド基、アミジノチオ基
(−9−C−NH*)等が用いられる。
、塩素、臭素等)、スクシンイミド基、アミジノチオ基
(−9−C−NH*)等が用いられる。
H
化合物[I[[]のうち好ましいものを具体的に示せば
、S−メチルチオイソチオウレア、S−ベンジルチオイ
ソチオウレア、N−メチルチオスクシンイミド、N−フ
ェニルチオスクシンイミド、メチルスルフェニルクロラ
イド、フェニルスルフェニルクロライド等である。
、S−メチルチオイソチオウレア、S−ベンジルチオイ
ソチオウレア、N−メチルチオスクシンイミド、N−フ
ェニルチオスクシンイミド、メチルスルフェニルクロラ
イド、フェニルスルフェニルクロライド等である。
化合物[1]またはその塩と化合物[II[]またはそ
の塩とを反応させる割合は反応に支障のない限りいかな
る割合でもよいが通常、化合物[U]またはその塩1モ
ルに対して化合物[III]またはその塩約0.8から
5モル、好ましくは約1から1.5モルである。
の塩とを反応させる割合は反応に支障のない限りいかな
る割合でもよいが通常、化合物[U]またはその塩1モ
ルに対して化合物[III]またはその塩約0.8から
5モル、好ましくは約1から1.5モルである。
反応は一般に反応を阻害しない溶媒中で行われる。適当
な溶媒としては、反応に不活性な溶媒、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、クロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、ジオキサン、イソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン(以下T HFと略記)等のエーテル類、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニト
リル。
な溶媒としては、反応に不活性な溶媒、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、クロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、ジオキサン、イソプロピルエーテル、テトラヒ
ドロフラン(以下T HFと略記)等のエーテル類、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニト
リル。
ムアミド(以下DMFと略記)、ジメチルアセトアミド
(以下DMACと略記)、ヘキサメチル燐酸トリアミド
(以下HMPAと略記)等のアミド類、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジメチルスルホ
キシド(以下DMSOと略記)等のスルホキシド類等が
用いら°れる。これらの溶媒は必要に応じIMあるいは
2M以上任意の割合で混合して用いてもよい。
(以下DMACと略記)、ヘキサメチル燐酸トリアミド
(以下HMPAと略記)等のアミド類、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジメチルスルホ
キシド(以下DMSOと略記)等のスルホキシド類等が
用いら°れる。これらの溶媒は必要に応じIMあるいは
2M以上任意の割合で混合して用いてもよい。
本反応は反応を円滑に進行させるために塩基の存在下に
行なってもよい。適当な塩基としては、例えばアンモニ
ア、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化アル
カリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金
属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金
属、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水
素アルカリ金属、炭酸カルシウム等の炭酸アルカリ土類
金属等の無機塩基、イミダゾール、トリアゾール、ピリ
ジン、コリジン、キノリン、トリエチルアミン、トリー
n−プロピルアミン、N、N−ジメチルベンジザビシク
ロ[5,4,0]−7−ウンデセン(以下DBUと略記
する)、 1.4−ジアザビシクロ[2,2゜2コオク
タン(以下DBOと略記する)、1.5−ジ機塩基が用
いられる。
行なってもよい。適当な塩基としては、例えばアンモニ
ア、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化アル
カリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金
属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金
属、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水
素アルカリ金属、炭酸カルシウム等の炭酸アルカリ土類
金属等の無機塩基、イミダゾール、トリアゾール、ピリ
ジン、コリジン、キノリン、トリエチルアミン、トリー
n−プロピルアミン、N、N−ジメチルベンジザビシク
ロ[5,4,0]−7−ウンデセン(以下DBUと略記
する)、 1.4−ジアザビシクロ[2,2゜2コオク
タン(以下DBOと略記する)、1.5−ジ機塩基が用
いられる。
反応温度は約−20から100℃の範囲で反応が進行す
る温度を選びうるが、一般に約0から50℃が適当であ
る。反応時間は比較的短く、10分ないし6時間程度で
ある。
る温度を選びうるが、一般に約0から50℃が適当であ
る。反応時間は比較的短く、10分ないし6時間程度で
ある。
原料化合物[II]またはその塩は塩基の存在下に異性
化して一般式 [式中、M+はアルカリ金属、イオン、 1/2 X”
(Xはアルカリ土類金属を示す)またはアンモニウム
イオン、他の記号は前記と同意義を示すコで表わされる
化合物またはその塩として存在することもある。
化して一般式 [式中、M+はアルカリ金属、イオン、 1/2 X”
(Xはアルカリ土類金属を示す)またはアンモニウム
イオン、他の記号は前記と同意義を示すコで表わされる
化合物またはその塩として存在することもある。
上記式において、M+で表わされるアルカリ金属イオン
におけるアルカリ金属としては例えばリチウム、ナトリ
ウム、カリウム等が用いられ、l/2X”(Xはアルカ
リ土類金属を示す)におけるアルカリ土類金属としては
、例°えばマグネシウム、カルシウム、バリウム等が用
いられ、アンモニウムイオンとしては、例えば前記した
有機三級アミンにプロトンが結合したアンモニウムイオ
ン等が用いられる。化合物[■′]またはその塩は自体
公知の方法に従って単離した後、本反応の原料化合物と
して用いてもよい。
におけるアルカリ金属としては例えばリチウム、ナトリ
ウム、カリウム等が用いられ、l/2X”(Xはアルカ
リ土類金属を示す)におけるアルカリ土類金属としては
、例°えばマグネシウム、カルシウム、バリウム等が用
いられ、アンモニウムイオンとしては、例えば前記した
有機三級アミンにプロトンが結合したアンモニウムイオ
ン等が用いられる。化合物[■′]またはその塩は自体
公知の方法に従って単離した後、本反応の原料化合物と
して用いてもよい。
また、得られる化合物が遊離酸または遊離塩基である場
合には、常法に従って対応する塩へ変換してもよく、得
られる化合物が塩である場合は常法に従って対応する遊
離酸または遊離塩基へ変換してもよい。
合には、常法に従って対応する塩へ変換してもよく、得
られる化合物が塩である場合は常法に従って対応する遊
離酸または遊離塩基へ変換してもよい。
このようにして得られる化合物[I]又はその塩は自体
公知の手段、たとえば減圧濃縮、溶媒抽出。
公知の手段、たとえば減圧濃縮、溶媒抽出。
液性変換、転溶、塩析、晶出、再結晶、クロマトグラフ
ィーなどによって単離精製することができる。
ィーなどによって単離精製することができる。
原料化合物[■]はまたはその塩は、例えば特願昭60
−240258.特願昭61−67821等に記載の方
法もしくはこれに準する方法により容易に製造すること
ができる。例えば化合物[11]またはその塩は一般式 %式%[ で表わされる化合物またはその塩と一般式で表わされる
化合物またはその塩 [上記式中、Y’、Y″は一方がアミノ基で他方が、式
−NH−C−OR(式中、Rは炭化水素残基I を示す)で表わされる基らしくは式−N=C=Sで表わ
される基を、他の記号は前記と同意義を示す]とを反応
させることにより製造される。Rで同様のものが用いら
れる。
−240258.特願昭61−67821等に記載の方
法もしくはこれに準する方法により容易に製造すること
ができる。例えば化合物[11]またはその塩は一般式 %式%[ で表わされる化合物またはその塩と一般式で表わされる
化合物またはその塩 [上記式中、Y’、Y″は一方がアミノ基で他方が、式
−NH−C−OR(式中、Rは炭化水素残基I を示す)で表わされる基らしくは式−N=C=Sで表わ
される基を、他の記号は前記と同意義を示す]とを反応
させることにより製造される。Rで同様のものが用いら
れる。
さらに詳しくは化合物[11]またはその塩は下記の製
造法1〜5のいずれかの方法によって製造することがで
きる。
造法1〜5のいずれかの方法によって製造することがで
きる。
なお下記に示す化合物[1%”]、[IV″’]、[Y
″コ。
″コ。
[Va″]、[V″′]、[■]、[■]の塩としては
上記した化合物[1]の塩と同様のものが用いられる。
上記した化合物[1]の塩と同様のものが用いられる。
製造法l
化合物 [n]
[上記式中の記号は前記と同意義を示すコ本反応におい
て、化合物[V’]は化合物[■′〕またはその塩1モ
ルに対して約0.8から3モル、好ましくは約0.9か
ら1.3モル用いる。
て、化合物[V’]は化合物[■′〕またはその塩1モ
ルに対して約0.8から3モル、好ましくは約0.9か
ら1.3モル用いる。
本反応は通常、反応に不活性な溶媒中で行なわトルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エ
チルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、T
HF等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、石油エ
ーテル、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素類、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類が単独で又は混
合して用いられる。
、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エ
チルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、T
HF等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、石油エ
ーテル、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素類、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類が単独で又は混
合して用いられる。
本反応は塩基の存在下に行なってもよい。適当な塩基と
しては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のトリ(炭素数1から6のアルキル)置換アミン、ピリ
ジン、γ−コリジン、DBU。
しては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のトリ(炭素数1から6のアルキル)置換アミン、ピリ
ジン、γ−コリジン、DBU。
DBO,DI3N等の第三級アミン類等の有機塩基、例
えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類
金属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ
金属、炭酸水素カリウム。
えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類
金属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ
金属、炭酸水素カリウム。
炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アルカリ金属、炭酸カ
ルシウム等の炭酸アルカリ土類金属等の無機塩基が用い
られる。塩基は化合物[V’]1モルに対して約0.8
から1.2モル使用してもよい。
ルシウム等の炭酸アルカリ土類金属等の無機塩基が用い
られる。塩基は化合物[V’]1モルに対して約0.8
から1.2モル使用してもよい。
反応温度は約0から150℃の範囲で反応の進行する温
度を選びうるが、一般に約10から60℃が適当である
。反応は30分からlO時間程度で完結し、その終了は
薄層゛クロマトグラフィー。
度を選びうるが、一般に約10から60℃が適当である
。反応は30分からlO時間程度で完結し、その終了は
薄層゛クロマトグラフィー。
高速液体クロマトグラフィー等によって確認する二とが
できる。
できる。
製造法2
↓
化合物 [11]
[式中の記号は前記と同意義を示すコ
Rで示される炭化水素残基は好ましくは炭素数1から3
の低級アルキル基(例、メチル、エチル、n〜プロピル
、イソプロピル)、炭素数6から12のアリール基(例
、フェニル、クロロフェニル、トリル、ビフェニリル)
等である。本反応は上記製造法lと同様に実施すること
ができる。
の低級アルキル基(例、メチル、エチル、n〜プロピル
、イソプロピル)、炭素数6から12のアリール基(例
、フェニル、クロロフェニル、トリル、ビフェニリル)
等である。本反応は上記製造法lと同様に実施すること
ができる。
本反応においては、原料化合物[V″コの代りに一般式
[式中の記号は前記と同意義を示す]で表わされる化合
物を用いてもよい。反応は化合物[V″コを用いる場合
と同様に行なうことができる。
物を用いてもよい。反応は化合物[V″コを用いる場合
と同様に行なうことができる。
製造法3
化合物 [I[]
[上記式中の記号は前記と同意義を示すコ化合物[V″
′コは、例えばトリフルオロ酢酸、メの有機酸、塩酸、
硫酸、リン酸等の無機酸との酸付加塩を形成していても
よい。
′コは、例えばトリフルオロ酢酸、メの有機酸、塩酸、
硫酸、リン酸等の無機酸との酸付加塩を形成していても
よい。
本反応において、化合物[■″コは化合物[V″′コま
たはその塩1モルに対して約0.8から3モル、好まし
くは約0.9から1.3モル用いる。
たはその塩1モルに対して約0.8から3モル、好まし
くは約0.9から1.3モル用いる。
本反応は通常、反応に不°活性な溶媒中で行なわれる。
適当な溶媒としては、例えば、ベンゼン。
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメ
タン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキ
サン、THF等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類
、石油エーテル、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類が単独
でまたは混合して用いられる。本反応は塩基の存在下に
行なってもよい。適当な塩基としては、例えばDBU。
タン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキ
サン、THF等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類
、石油エーテル、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類が単独
でまたは混合して用いられる。本反応は塩基の存在下に
行なってもよい。適当な塩基としては、例えばDBU。
DBO,DBN、)ジエチルアミン。トリーn−プロピ
ルアミン、ピリジン等の有機塩基、ナトリウム−y 二
L’ +I+At/I+上L II ^) 憧+7nt
W1mttふI ml % 、+−れる。
ルアミン、ピリジン等の有機塩基、ナトリウム−y 二
L’ +I+At/I+上L II ^) 憧+7nt
W1mttふI ml % 、+−れる。
塩基は化合物[V″′]またはその塩1モルに対して通
常約0.8から2.5モル用いてもよい。
常約0.8から2.5モル用いてもよい。
反応温度は約0から150℃の範囲で反応の進行する温
度を選びうるが、一般に約lOから100℃が適当であ
る。反応は30分からlO時間程度で完結し、その終了
は薄層クロマトグラフィー。
度を選びうるが、一般に約lOから100℃が適当であ
る。反応は30分からlO時間程度で完結し、その終了
は薄層クロマトグラフィー。
高速液体クロマトグラフィー等によって確認することが
できる。
できる。
製造法4
[式中の記号は前記と同意義を示す〕
本反応は製造法3と同様に実施することができる。
製造法5
上記式中、R+lよ前記と同意義、Halは例えば塩素
、臭素等のハロゲンを示す。
、臭素等のハロゲンを示す。
反応の第1段階は、化合物[IV’コまたはその塩と化
合物[VI]との反応による化合物[■コまたはその塩
の製造工程である。
合物[VI]との反応による化合物[■コまたはその塩
の製造工程である。
原料の化合物[VI]は化合物[IV’コまたはその塩
1モルに対して約0.8から2モル用いる。本反応は、
通常反応に不活性な溶媒中で行なわれる。
1モルに対して約0.8から2モル用いる。本反応は、
通常反応に不活性な溶媒中で行なわれる。
適当な溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、T)(F
等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等
のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、石油エーテ
ル、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素類等が単独で
又は混合して用いられる。
レン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエ
ーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、T)(F
等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル等
のニトリル類、酢酸エチル等のエステル類、石油エーテ
ル、石油ベンジン、ヘキサン等の炭化水素類等が単独で
又は混合して用いられる。
本反応は塩基の存在下に行なってもよい。適当な塩基と
しては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のトリ(炭素数1から6のアルキル)置換アミン、ピリ
ジン、γ−コリジン、DBU。
しては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のトリ(炭素数1から6のアルキル)置換アミン、ピリ
ジン、γ−コリジン、DBU。
DBO,DBN等の第三級アミン類等の有機塩基、例え
ば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化アル
カリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金
属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金
属、炭酸水素カリウム。
ば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水酸化アル
カリ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金
属、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金
属、炭酸水素カリウム。
炭酸カルシウム等の炭酸アルカリ土類金属等の無機塩基
が用いられる。塩基は、化合物[■]1モルに対して約
0.8から1.2モル用いてもよい。
が用いられる。塩基は、化合物[■]1モルに対して約
0.8から1.2モル用いてもよい。
反応温度は約0から100℃である。反応時間は1から
10時間程度である。
10時間程度である。
このようにして得られる゛化合物[■コまたはその塩は
反応溶液のまま次反応に供してもよく又、自体公知の手
段により単離精製した後、次反応の原料として用いても
よい。
反応溶液のまま次反応に供してもよく又、自体公知の手
段により単離精製した後、次反応の原料として用いても
よい。
反応の第2段階は化合物[■コまたはその塩と低級アル
コールとの反応による化合物[■](但し、R1は前記
と同意義、R* 、 Rsはそれぞれ低級アルコキシ基
を示す)の製造工程である。
コールとの反応による化合物[■](但し、R1は前記
と同意義、R* 、 Rsはそれぞれ低級アルコキシ基
を示す)の製造工程である。
本反応において、低級アルコールとしては、メタノール
、エタノール、n−プロパツール、 tert−ブタノ
ール、n−ヘキサノール等の炭素数lから6のアルコー
ル類が用いられる。
、エタノール、n−プロパツール、 tert−ブタノ
ール、n−ヘキサノール等の炭素数lから6のアルコー
ル類が用いられる。
低級アルコールは、化合物[■]またはその塩1モルに
対して約2から10モル用いるが、大過剰用hff+羊
1っ6Xテかど 洩ht!、本hziって田い?af。
対して約2から10モル用いるが、大過剰用hff+羊
1っ6Xテかど 洩ht!、本hziって田い?af。
よい。
本反応は、反応に不活性な溶媒中で行なってもよい。適
当な溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエー
テル、ジオキサン、THF等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル等のニトリル類、DMF、DMAC,H
MPA等のアミド類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエス
テル類、DMSO等のスルホキシド類が単独でまたは混
合して用いられる。
当な溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、エチルエー
テル、ジオキサン、THF等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル等のニトリル類、DMF、DMAC,H
MPA等のアミド類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエス
テル類、DMSO等のスルホキシド類が単独でまたは混
合して用いられる。
反応温度は約室温から120℃である。反応時間は30
分からlθ時間程度である。
分からlθ時間程度である。
このようにして得られる化合物[11]またはその塩は
自体公知の単離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、減
圧蒸留、液性変換、転溶、塩析、溶媒抽出。
自体公知の単離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、減
圧蒸留、液性変換、転溶、塩析、溶媒抽出。
結晶化、再結晶、クロマトグラフィー等により単離精製
することができる。
することができる。
製造法1〜5の反応により得られる化合物[n]お鉢棲
命傘瘤は分子中に酸性基 (5OzNHC)を有し、したがって反応にI おいて塩基を用いた場合には塩基との塩として存在する
こともある。このような場合には必要に応じて、たとえ
ば塩酸、硫酸、リン酸、硝酸などの無機酸、ギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸などの有
機酸を添加することにより遊離型に導くことができる。
命傘瘤は分子中に酸性基 (5OzNHC)を有し、したがって反応にI おいて塩基を用いた場合には塩基との塩として存在する
こともある。このような場合には必要に応じて、たとえ
ば塩酸、硫酸、リン酸、硝酸などの無機酸、ギ酸、酢酸
、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸などの有
機酸を添加することにより遊離型に導くことができる。
化合物[IL]が遊離型で得られる場合、上記した塩基
を加えて塩基塩とすることができ、又上記した無機酸や
有機酸を加えて酸付加塩とすることもできる。化合物[
11[]またはその塩は公知か自体公知の方法に従って
製造することができる。
を加えて塩基塩とすることができ、又上記した無機酸や
有機酸を加えて酸付加塩とすることもできる。化合物[
11[]またはその塩は公知か自体公知の方法に従って
製造することができる。
上記化合物[n]またはその塩の原料化合物である化合
物[IV ’]またはその塩は自体公知の方法またはこ
れに準する方法により容易に製造される。
物[IV ’]またはその塩は自体公知の方法またはこ
れに準する方法により容易に製造される。
例えば化合物 [■′]またはその塩は下記の図式で示
される方法により容易に製造することができる。
される方法により容易に製造することができる。
Rt−SOx−Hal −」チー−→ 化合物
[■′][■] [上記式中の記号は前記と同意義を示す]本反応は化合
物[■コまたはその塩とアンモニアとを反応させること
により行なわれる。
[■′][■] [上記式中の記号は前記と同意義を示す]本反応は化合
物[■コまたはその塩とアンモニアとを反応させること
により行なわれる。
アンモニアは化合物[■]またはそ誘ζ<モルに対して
約1から100モル、好ましくは約2から30モル用い
る。
約1から100モル、好ましくは約2から30モル用い
る。
反応は通常溶媒中で行なわれる。適当な溶媒としては、
例えば、水、メタノール、プロパツール。
例えば、水、メタノール、プロパツール。
ブタノール等のアルコール類、ジメチルスルホキシド、
DMP、DMAC,メチルセロソルブ、ジメチルセロソ
ルブ、ジエヂレングリコールジメチルエーテル等のグラ
イム類、ジオキサン、THF。
DMP、DMAC,メチルセロソルブ、ジメチルセロソ
ルブ、ジエヂレングリコールジメチルエーテル等のグラ
イム類、ジオキサン、THF。
アセトニトリル等の極性溶媒、または、これらの混合溶
媒、または、これらの極性溶媒とクロロホルム、ジクロ
ロメタン等の非極性溶媒との混合物を用いることができ
ろ。反応温度は特に限定されないが、通常−40から5
0℃程度にまで加熱して行なわれる。反応時間は通常、
数分ないし24時間程度である。
媒、または、これらの極性溶媒とクロロホルム、ジクロ
ロメタン等の非極性溶媒との混合物を用いることができ
ろ。反応温度は特に限定されないが、通常−40から5
0℃程度にまで加熱して行なわれる。反応時間は通常、
数分ないし24時間程度である。
化合物[■コまたはその塩は、自体公知の方法[例、ジ
ャーナル オブ ザ ケミカル ソサイアティ(Jou
rnal or The Chemical 5oci
ety) 1958年2903頁; ジャーナル °オ
ブ オーガニックケミストリー(Journal o
f Organic Chemistry)第25巻1
824頁(1960年); オーガニック ファンクシ
ョナル グループ プレパレイションズ(Organi
c Functional Group Prepar
ations)第1巻516頁(1972年)、アカデ
ミツク プレス、ニューヨーク アンド ロンドン:
特開昭60−4556゜ジャーナルオブアメリカンケミ
カルソサイアティ(J、 A+++、Chem、 So
c、)第58巻1348頁(1936年)]またはこれ
に準する方法により製造される。
ャーナル オブ ザ ケミカル ソサイアティ(Jou
rnal or The Chemical 5oci
ety) 1958年2903頁; ジャーナル °オ
ブ オーガニックケミストリー(Journal o
f Organic Chemistry)第25巻1
824頁(1960年); オーガニック ファンクシ
ョナル グループ プレパレイションズ(Organi
c Functional Group Prepar
ations)第1巻516頁(1972年)、アカデ
ミツク プレス、ニューヨーク アンド ロンドン:
特開昭60−4556゜ジャーナルオブアメリカンケミ
カルソサイアティ(J、 A+++、Chem、 So
c、)第58巻1348頁(1936年)]またはこれ
に準する方法により製造される。
化合物[V’]、[V″]、[Va″コ及びこれらの塩
は例えば特開昭51−143686.テトラヘドロン(
Tet rahedron)第29巻 691頁(19
73年)。
は例えば特開昭51−143686.テトラヘドロン(
Tet rahedron)第29巻 691頁(19
73年)。
特願昭60−240258等に記載の方法もしくはこれ
に準する方法により客見に製造オ乙こ)−h<−r−、
ix−化合物[■″]はアンゲバンデヘミー インター
ナショナル エディジョン(Angewandte
Chemie。
に準する方法により客見に製造オ乙こ)−h<−r−、
ix−化合物[■″]はアンゲバンデヘミー インター
ナショナル エディジョン(Angewandte
Chemie。
International Edition)第4
巻 430頁(1965年); アルキーフ デアファ
ルマツイ(Archiv derPharmazie)
第299巻174頁(1966年);ケミカルアブスト
ラクツ(Chemfcal Abstracts)第6
4巻15783e(1966年);へミッシェ ベリヒ
テ(Chemische Berichte)第99巻
2885頁(1966年)に記載の方法或いはこれに準
する方法により容易に製造される。化合物EV”]また
はその塩は自体公知の方法により製造される。
巻 430頁(1965年); アルキーフ デアファ
ルマツイ(Archiv derPharmazie)
第299巻174頁(1966年);ケミカルアブスト
ラクツ(Chemfcal Abstracts)第6
4巻15783e(1966年);へミッシェ ベリヒ
テ(Chemische Berichte)第99巻
2885頁(1966年)に記載の方法或いはこれに準
する方法により容易に製造される。化合物EV”]また
はその塩は自体公知の方法により製造される。
以下の参考例、実施例で用いられる下記の記号は次のよ
うな意義を有する。
うな意義を有する。
S:シングレット d:ダブレット tコトリブレット
q:カルチット m:マルチプレット br、 :幅広
い参考例! 5−(2−メトキシカルボニルベンジル)イソチオ尿素
塩酸塩 2−クロロメチル安息香酸メチル196gとチオ尿素8
3.7gをエタノール500旙に溶解し、4時間加熱還
流する。反応液を減圧上濃縮し、得られる残留物にイソ
プロピルアルコール300旙を加え析出する結晶をろ取
、乾燥すると標記化合物112.8gが得られる。
q:カルチット m:マルチプレット br、 :幅広
い参考例! 5−(2−メトキシカルボニルベンジル)イソチオ尿素
塩酸塩 2−クロロメチル安息香酸メチル196gとチオ尿素8
3.7gをエタノール500旙に溶解し、4時間加熱還
流する。反応液を減圧上濃縮し、得られる残留物にイソ
プロピルアルコール300旙を加え析出する結晶をろ取
、乾燥すると標記化合物112.8gが得られる。
mp、196〜198℃
NMR(da−DMSO)δpp’m、 3.86(
3H,s)、 4.77(21(、s)、 7.3〜8
.2(4)1.m)、 9.34(48,br、s)参
考例2 2−メトキシカルボニルベンジルスルホンアミド 参考例!で得られる5−(2−メトキシカルボニルベン
ジル)イソチオ尿素塩酸塩125gを水2.4gと酢酸
0,8eの混合液に溶解し、−5〜θ℃で攪拌しながら
塩素ガスを飽和になるまで吹き込む。析出する結晶をろ
取、冷水で洗浄後、乾燥する。
3H,s)、 4.77(21(、s)、 7.3〜8
.2(4)1.m)、 9.34(48,br、s)参
考例2 2−メトキシカルボニルベンジルスルホンアミド 参考例!で得られる5−(2−メトキシカルボニルベン
ジル)イソチオ尿素塩酸塩125gを水2.4gと酢酸
0,8eの混合液に溶解し、−5〜θ℃で攪拌しながら
塩素ガスを飽和になるまで吹き込む。析出する結晶をろ
取、冷水で洗浄後、乾燥する。
この結晶80.6gをジクロロメタン300tn1.に
溶解し、−5〜0℃でアンモニア水(濃アンモニア水7
0−と水70−の混合液、以下同じ)を滴下し、冷却下
2,5時間攪拌する。反応液に水150M1を加え、有
機層を分液し、冷水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。ジクロロメタンを留去すると標記化合物45.
7gが得られる。
溶解し、−5〜0℃でアンモニア水(濃アンモニア水7
0−と水70−の混合液、以下同じ)を滴下し、冷却下
2,5時間攪拌する。反応液に水150M1を加え、有
機層を分液し、冷水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。ジクロロメタンを留去すると標記化合物45.
7gが得られる。
mp、 79〜81”C
N’M R(CD Cls)δppa+、 3.92
(3H,s)、 4.74(2H。
(3H,s)、 4.74(2H。
s)、 4.90(2H,s)、 7.2〜8.5(4
H,+n)参考例3 5−クロル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボ
ン酸エチル 濃塩酸90滅、酢酸90me及びリン酸191n1の混
合液に5−アミノ−1,3−ジメチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル16.6gを溶解し、=4から一5℃
に冷却する。これに攪拌しながら水16dに溶かした亜
硝酸ナトリウム6.9gを40分で滴下し、ジアゾニウ
ム塩溶液を調製する(ジアゾ化反応)。一方、濃塩酸1
00蔵に3から5℃に冷却下、水23.5dに溶解した
亜硫酸水素ナトリウム11.1gを滴下し、次いで硫酸
銅・5水塩2.5gを加える。この液を0から3℃に保
ち、溶解した亜硫酸水素ナトリウム460gを同時に滴
下する。同温度で1時間攪拌し、ついで反応液を氷水1
12にあけ、クロロホルムで抽出する。抽出液を飽和食
塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗
浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。クロロホルムを留
去すると黄橙色油状物質18.6gが得られる。これを
減圧蒸留すると、無色油状の標記化合物が得られる。
H,+n)参考例3 5−クロル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボ
ン酸エチル 濃塩酸90滅、酢酸90me及びリン酸191n1の混
合液に5−アミノ−1,3−ジメチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル16.6gを溶解し、=4から一5℃
に冷却する。これに攪拌しながら水16dに溶かした亜
硝酸ナトリウム6.9gを40分で滴下し、ジアゾニウ
ム塩溶液を調製する(ジアゾ化反応)。一方、濃塩酸1
00蔵に3から5℃に冷却下、水23.5dに溶解した
亜硫酸水素ナトリウム11.1gを滴下し、次いで硫酸
銅・5水塩2.5gを加える。この液を0から3℃に保
ち、溶解した亜硫酸水素ナトリウム460gを同時に滴
下する。同温度で1時間攪拌し、ついで反応液を氷水1
12にあけ、クロロホルムで抽出する。抽出液を飽和食
塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗
浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。クロロホルムを留
去すると黄橙色油状物質18.6gが得られる。これを
減圧蒸留すると、無色油状の標記化合物が得られる。
bp、97〜98℃10.3+a+aHgI RvC液
膜)cm−’: 1708.152g、 1295.1
242゜1122、1085 参考例4 5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル 60%(JAN)油性水素化ナトリウム2.3gをn−
ペンタンで洗浄後DMP30−を加える。10℃以下に
冷却下ベンジルメルカプタン7.2gを滴下し、続いて
Oから8℃に保ちなから5−クロル−1,3−ジメチル
ピラゾール−4−カルボン酸二:f++1. l
I りnf−rILT D + l’l −/
l +−’Iすに4!++−シkLdn分で滴下する。
膜)cm−’: 1708.152g、 1295.1
242゜1122、1085 参考例4 5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−
カルボン酸エチル 60%(JAN)油性水素化ナトリウム2.3gをn−
ペンタンで洗浄後DMP30−を加える。10℃以下に
冷却下ベンジルメルカプタン7.2gを滴下し、続いて
Oから8℃に保ちなから5−クロル−1,3−ジメチル
ピラゾール−4−カルボン酸二:f++1. l
I りnf−rILT D + l’l −/
l +−’Iすに4!++−シkLdn分で滴下する。
同温度で1時間、さらに室温で30分攪拌後水300滅
にあける。析出する結晶をろ取し、水洗、乾燥すると標
記化合物15.7gが得られる。
にあける。析出する結晶をろ取し、水洗、乾燥すると標
記化合物15.7gが得られる。
mp、51〜53℃
n−ヘキサンから再結晶するとmp、57〜58℃の無
色結晶が得られる。
色結晶が得られる。
I Rν(ヌジョール)cm−’: 1700,150
5.1250.1130参考例5 5−アミノスルホニル−1,3−ジメチルピラゾール−
4−カルボン酸エチル (1) 5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾー
ル−4−カルボン酸エチル31.5gを酢酸200dに
溶解し、さらに水125蔵を加える。
5.1250.1130参考例5 5−アミノスルホニル−1,3−ジメチルピラゾール−
4−カルボン酸エチル (1) 5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾー
ル−4−カルボン酸エチル31.5gを酢酸200dに
溶解し、さらに水125蔵を加える。
lから4℃に冷却下攪拌しながらこれに塩素ガスを50
分間吹き込む。その後0℃で40分攪拌し、反応液を氷
水tQにあける。酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗
浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチルを留
去し、残留物を減圧蒸留するとbp、115〜119℃
10.25〜0.3ff1mHgの5−クロルスルホニ
ル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボン酸エチ
ル26.4gが得られる。
分間吹き込む。その後0℃で40分攪拌し、反応液を氷
水tQにあける。酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗
浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチルを留
去し、残留物を減圧蒸留するとbp、115〜119℃
10.25〜0.3ff1mHgの5−クロルスルホニ
ル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボン酸エチ
ル26.4gが得られる。
IRν(液膜)cm−’: 1724,1392,12
55,1190.1115(2)(1)で得られる5−
クロルスルホニル−1゜水25−に5から7℃で滴下す
る。同温度で!時間攪拌後減圧下濃縮乾固し、酢酸エチ
ルを加えて不溶物をろ去し、ろ液を減圧上濃縮する。n
−ヘキサンで希釈後水冷すると結晶が析出する。これを
ろ取、乾燥すると標記化合物3.6gが得られる。
55,1190.1115(2)(1)で得られる5−
クロルスルホニル−1゜水25−に5から7℃で滴下す
る。同温度で!時間攪拌後減圧下濃縮乾固し、酢酸エチ
ルを加えて不溶物をろ去し、ろ液を減圧上濃縮する。n
−ヘキサンで希釈後水冷すると結晶が析出する。これを
ろ取、乾燥すると標記化合物3.6gが得られる。
mp、112〜113℃
IRν(ヌジョール)cm−’: 3350,3240
,1690,1513゜参考例6 フェニル N−(4,6−シメトキシピリミジンー2−
イル)チオノカルバメート THF 10−に2−アミノ−4,6−シメトキシピリ
ミジン1.0gを加え、これに室温上攪拌しながらフェ
ニル クロルチオノカーボネート0.82gを5分間で
滴下し、ついで7時間加熱還流する。
,1690,1513゜参考例6 フェニル N−(4,6−シメトキシピリミジンー2−
イル)チオノカルバメート THF 10−に2−アミノ−4,6−シメトキシピリ
ミジン1.0gを加え、これに室温上攪拌しながらフェ
ニル クロルチオノカーボネート0.82gを5分間で
滴下し、ついで7時間加熱還流する。
反応液を室温に冷却後不溶物をろ過して除き、ろ液を減
圧上濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒、クロロホルム)で精製すると標記化
合物o、igが得られる。
圧上濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒、クロロホルム)で精製すると標記化
合物o、igが得られる。
mp、114°C
IRν(ヌジョール)cm−’ :3200.1605
.1530.1325゜参考例7 4.6−シメトキシー2−イソチオシアナトピリミジン アセトニトリル300dに4.6−シメトキシー2−ト
リメチルシリルアミノピリミジン45.0gとフェニル
クロルチオノカーボネート35.0gを加え、10時
間加熱還流する。反応液を減圧上濃縮し、アセトニトリ
ルを留去した後、残留物にトルエン300蔵を加える。
.1530.1325゜参考例7 4.6−シメトキシー2−イソチオシアナトピリミジン アセトニトリル300dに4.6−シメトキシー2−ト
リメチルシリルアミノピリミジン45.0gとフェニル
クロルチオノカーボネート35.0gを加え、10時
間加熱還流する。反応液を減圧上濃縮し、アセトニトリ
ルを留去した後、残留物にトルエン300蔵を加える。
不溶物をろ過して除き、ろ液を減圧上濃縮し、残留物を
シリカゲルカラムサン= 1 : 1 (V/V))で
精製する。
シリカゲルカラムサン= 1 : 1 (V/V))で
精製する。
最初の溶出液から4.6−シメトキシー2−イソチオシ
アナトピリミジン17.0gが得られる。
アナトピリミジン17.0gが得られる。
mp、85〜86℃
IRν(液膜)cm−’:1995
後の溶出液から2− [N 、’N−ビス(フェノキシ
チオカルボニル)アミノ]−4,6−シメトキシピリミ
ジン3.5gが得られる。
チオカルボニル)アミノ]−4,6−シメトキシピリミ
ジン3.5gが得られる。
at)、 127〜128℃
IRν(ヌジョール)co+−’:1600,1295
.1190参考例8 4.6−シメチルー2−イソチオシアナトピリミジン 4.6−シメチルー2−トリメデルシリルアミノピリミ
ジンとフェニルクロルチオノカーボネートとを用い参考
例7と同様にして淡黄色油状の標記化合物が得られる。
.1190参考例8 4.6−シメチルー2−イソチオシアナトピリミジン 4.6−シメチルー2−トリメデルシリルアミノピリミ
ジンとフェニルクロルチオノカーボネートとを用い参考
例7と同様にして淡黄色油状の標記化合物が得られる。
bp、117〜118℃/2mmHg
IRν(液膜)cm−’:1995
2−イソチオシアナト−4−メトキシ−6−メチルピリ
ミジン トルエン30−に4−メトキシ−6−メチル−2−トリ
メチルシリルアミノピリミジン4.2gとフェニルクロ
ルチオノカーボネート3.5gを加え、約80℃に加熱
しながら5.5時間攪拌する。反応液を室温に冷却した
のち、析出物をろ過して除き、ろ液を減圧上濃縮する。
ミジン トルエン30−に4−メトキシ−6−メチル−2−トリ
メチルシリルアミノピリミジン4.2gとフェニルクロ
ルチオノカーボネート3.5gを加え、約80℃に加熱
しながら5.5時間攪拌する。反応液を室温に冷却した
のち、析出物をろ過して除き、ろ液を減圧上濃縮する。
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒、酢酸エチル:トルエン= l : 3 (V/V)
)で精製すると、標記化合物2.3gが得られる。
媒、酢酸エチル:トルエン= l : 3 (V/V)
)で精製すると、標記化合物2.3gが得られる。
ip、54〜55℃
IRvCヌジョール)cm−’ :1990.1595
.1560.1350゜1200.1045 参考例1O N−(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニル−
N’=(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)チオ
尿素 アセトン400m1に2−メトキシカルボニルベンジル
スルホンアミド25g、4.6−シメトキシー2−イソ
チオシアナトピリミジン21.5gおよび無水炭酸カリ
ウム15.1gを加え55℃で8.5時間攪拌後、析出
する結晶をろ取する。ろ液にさらに2gの無水炭酸カリ
ウムを加え60℃で2時間攪拌後、析出する結晶をろ取
する。この結晶をさきの結晶と合わせて1.512の水
に懸濁°シ、酢酸でpH2とし!時間攪拌後結晶をろ取
、水洗、乾燥する。アセトニトリルから再結晶すると白
色粉末状標記化合物35.9gが得られる。
.1560.1350゜1200.1045 参考例1O N−(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニル−
N’=(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)チオ
尿素 アセトン400m1に2−メトキシカルボニルベンジル
スルホンアミド25g、4.6−シメトキシー2−イソ
チオシアナトピリミジン21.5gおよび無水炭酸カリ
ウム15.1gを加え55℃で8.5時間攪拌後、析出
する結晶をろ取する。ろ液にさらに2gの無水炭酸カリ
ウムを加え60℃で2時間攪拌後、析出する結晶をろ取
する。この結晶をさきの結晶と合わせて1.512の水
に懸濁°シ、酢酸でpH2とし!時間攪拌後結晶をろ取
、水洗、乾燥する。アセトニトリルから再結晶すると白
色粉末状標記化合物35.9gが得られる。
鵬p、167〜168 ℃
IRν(ヌジジール)C■−1: 3180.171
0.1610゜1455、1360 参考例11 N−(1,3−ジメチル−4−メトキシカルボニル−5
−ピラシー・ルスルホニル)−N’−(4,6−ジメト
キシ−2−ピリミジニル)チオ尿素5−アミノスルホニ
ル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボン酸メチ
ル6.4g、4.6−シメトキシー2−イソチオシアナ
トピリミジン5゜6g及び無水炭酸カリウム3.8gを
アセトン150−に加え、43から45℃で12時間攪
拌する。
0.1610゜1455、1360 参考例11 N−(1,3−ジメチル−4−メトキシカルボニル−5
−ピラシー・ルスルホニル)−N’−(4,6−ジメト
キシ−2−ピリミジニル)チオ尿素5−アミノスルホニ
ル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボン酸メチ
ル6.4g、4.6−シメトキシー2−イソチオシアナ
トピリミジン5゜6g及び無水炭酸カリウム3.8gを
アセトン150−に加え、43から45℃で12時間攪
拌する。
反応液を水冷し、析出する結晶をろ取する。これを水3
00艷に懸濁したのち、塩酸でI)H2とし、析出する
結晶をろ取し、水洗後乾燥すると結晶9.9gが得られ
る。これをアセトンから再結晶すると標記化合物8.4
gが得られる。
00艷に懸濁したのち、塩酸でI)H2とし、析出する
結晶をろ取し、水洗後乾燥すると結晶9.9gが得られ
る。これをアセトンから再結晶すると標記化合物8.4
gが得られる。
mp、 149〜150℃
IRν(ヌジョール)cm−’: 3180,1720
,1660,1370゜1200.1170.1185 参考例IO又は11と同様にして得られる化合物を第1
表に示す。
,1660,1370゜1200.1170.1185 参考例IO又は11と同様にして得られる化合物を第1
表に示す。
一般式
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明は何らこれらに限定されるものではない。
、本発明は何らこれらに限定されるものではない。
実施例1
2−n−ブチルチオ−1−(4,6−シメトキシー2−
ピリミジニル)−3−[(2−メトキシカルボニルベン
ジル)スルホニル]イソチオ尿素(化合物No、 l
) N−(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−N’
−[(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニルコ
チオ尿素x、sgと5−n−ブチルチオイソチオ尿素塩
酸塩0.74gをメタノール20−に懸濁する。室温で
炭酸水素ナトリウム0.41gを水17dに溶解した液
を滴下し、同温度で1時間攪拌する。析出する結晶をろ
取し、エタノールから再結晶すると白色針状結晶の標記
化合物0.7gが得られる。
ピリミジニル)−3−[(2−メトキシカルボニルベン
ジル)スルホニル]イソチオ尿素(化合物No、 l
) N−(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−N’
−[(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニルコ
チオ尿素x、sgと5−n−ブチルチオイソチオ尿素塩
酸塩0.74gをメタノール20−に懸濁する。室温で
炭酸水素ナトリウム0.41gを水17dに溶解した液
を滴下し、同温度で1時間攪拌する。析出する結晶をろ
取し、エタノールから再結晶すると白色針状結晶の標記
化合物0.7gが得られる。
mp、93〜94℃
元素分析値 C7゜HtsN+0sSsとして計算値(
%’) C,46,68,H,5,09,N、10.
89実測値(%) C,46,75,H,5,05,
N、10.67I Rν(メタノール)cm″″’:
3200,1?20,1550,1100゜6O N M R(CD CIs)δppnt: 0.90
(3■、t)、 1.2〜1.8(4H,n)、
2.27(2H,t)、 3.93(98,s)、
5.17(2H,s)。
%’) C,46,68,H,5,09,N、10.
89実測値(%) C,46,75,H,5,05,
N、10.67I Rν(メタノール)cm″″’:
3200,1?20,1550,1100゜6O N M R(CD CIs)δppnt: 0.90
(3■、t)、 1.2〜1.8(4H,n)、
2.27(2H,t)、 3.93(98,s)、
5.17(2H,s)。
5.77(18,s)、 ?、:3〜8.1(48,m
)、 13.1(IH,s)実施例2 2−n−ブチルチオ−1−(4,6−シメトキシー2−
ピリミジニル)−3=(1,3−ジメチル−4−メトキ
シカルボニル−5−ピラゾールスルホニル)イソチオ尿
素(化合物No、 2 )N−(4,6−シメトキシー
2−ピリミジニル)−N’−(1,3−ジメチル−4−
メトキシカルボニル−5−ピラゾールスルホニル)チオ
尿素1.0gと5−n−ブチルチオイソチオ尿素・塩酸
塩0゜49gをメタノール20滅に懸濁する。室温で炭
酸水素ナトリウム0.27gを水17dに溶解した液を
滴下し、同温度で1時間攪拌する。析出する結晶をろ取
、エタノールから再結晶すると白色針状結晶の標記化合
物0.65gが得られる。
)、 13.1(IH,s)実施例2 2−n−ブチルチオ−1−(4,6−シメトキシー2−
ピリミジニル)−3=(1,3−ジメチル−4−メトキ
シカルボニル−5−ピラゾールスルホニル)イソチオ尿
素(化合物No、 2 )N−(4,6−シメトキシー
2−ピリミジニル)−N’−(1,3−ジメチル−4−
メトキシカルボニル−5−ピラゾールスルホニル)チオ
尿素1.0gと5−n−ブチルチオイソチオ尿素・塩酸
塩0゜49gをメタノール20滅に懸濁する。室温で炭
酸水素ナトリウム0.27gを水17dに溶解した液を
滴下し、同温度で1時間攪拌する。析出する結晶をろ取
、エタノールから再結晶すると白色針状結晶の標記化合
物0.65gが得られる。
mp、 122〜123℃
元素分析値 C+5HzsNaOsS3として計算値(
%) C,41,69,H,5,05,N、16.2
0実測値(%) C,41,72: H,4,84;
N、16.131Rν(メタノール)cm″″’:
3240,1720,1610,1560゜1310.
87O N M R(CD C+3)δppm: 0.86(
3H,t)、 1.1〜1.8(4H,m)、 2.7
3(21,+n)、 2J6(3H,s)、 3.81
(311,s)。
%) C,41,69,H,5,05,N、16.2
0実測値(%) C,41,72: H,4,84;
N、16.131Rν(メタノール)cm″″’:
3240,1720,1610,1560゜1310.
87O N M R(CD C+3)δppm: 0.86(
3H,t)、 1.1〜1.8(4H,m)、 2.7
3(21,+n)、 2J6(3H,s)、 3.81
(311,s)。
3.97(6H,s)、 4.22(3H,S)、 5
.84(LH,s)、 10.74(111゜実施例3 l−(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−3−
4(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニル]−
2−(4−トリルチオ)イソチオウレア(化合物No、
3 ) N−(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−N’
−[(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニルコ
チオ尿素1.5gとN−(4−トリルチオ)コハク酸イ
ミド0.77gをジクロロメタン20蔵に懸濁し、室温
でイミダゾールを触媒量加える。
.84(LH,s)、 10.74(111゜実施例3 l−(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−3−
4(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニル]−
2−(4−トリルチオ)イソチオウレア(化合物No、
3 ) N−(4,6−シメトキシー2−ピリミジニル)−N’
−[(2−メトキシカルボニルベンジル)スルホニルコ
チオ尿素1.5gとN−(4−トリルチオ)コハク酸イ
ミド0.77gをジクロロメタン20蔵に懸濁し、室温
でイミダゾールを触媒量加える。
同温度で4時間攪拌後、反応液を水洗し乾燥後ジクaa
メタンを留去する。残留物をアセトンより結晶化すると
白色結晶の標記化合物0.46gが得られる。
メタンを留去する。残留物をアセトンより結晶化すると
白色結晶の標記化合物0.46gが得られる。
mp、 158〜160℃
元素分析値 CtsHt*NhOaS*として計算値(
%)C,50,35,H,4,41; N、10.21
実測値(%) C,50,24,H,4,34,N、
10.05IRν(メタノール)cm−重+ 3200
.1710,1610,1550゜1380.1110
.86O NMR(CDC13)δppm: 2.33(311
s)、 3.92(9H。
%)C,50,35,H,4,41; N、10.21
実測値(%) C,50,24,H,4,34,N、
10.05IRν(メタノール)cm−重+ 3200
.1710,1610,1550゜1380.1110
.86O NMR(CDC13)δppm: 2.33(311
s)、 3.92(9H。
s)、 5.07(2)1.s)、 5.74(LH,
s)、 6.95〜8.10(811,m)。
s)、 6.95〜8.10(811,m)。
10.23(ill、s)
実施例4
1 〆リ h+1.−1I噂、J−1す+1.+1+
−++、 )Q / j−メトキシ−6−メチル−2
−ピリミジニル)−2−(2−ニトロフェニルチオ)イ
ソチオウレア(化合物No、 4 ) N−(2−クロロベンゼンスルホニル)−N’−(4−
メトキシ−6−メチル−2−ピリミジニル)チオ尿素0
,9gをメタノールlO滅に懸濁し、室温で28%(W
/ml)ナトリウムメトキサイド0.46gを加える。
−++、 )Q / j−メトキシ−6−メチル−2
−ピリミジニル)−2−(2−ニトロフェニルチオ)イ
ソチオウレア(化合物No、 4 ) N−(2−クロロベンゼンスルホニル)−N’−(4−
メトキシ−6−メチル−2−ピリミジニル)チオ尿素0
,9gをメタノールlO滅に懸濁し、室温で28%(W
/ml)ナトリウムメトキサイド0.46gを加える。
1時間攪拌後メタノールを留去し残留物にアセトン20
1n1を加え、水冷下2−ニトロフェニルスルフェニル
クロライド0.45gをアセトン5戒に溶かした液を滴
下する。同温度で1時間、さらに室温で5時間かくはん
する。析出する結晶をろ取し、水洗乾燥後クロロホルム
・アセトンより再結晶すると淡黄色結晶の標記化合物!
、Ogが得られる。
1n1を加え、水冷下2−ニトロフェニルスルフェニル
クロライド0.45gをアセトン5戒に溶かした液を滴
下する。同温度で1時間、さらに室温で5時間かくはん
する。析出する結晶をろ取し、水洗乾燥後クロロホルム
・アセトンより再結晶すると淡黄色結晶の標記化合物!
、Ogが得られる。
mp、143〜144℃
元素分析値 CteH+aNsOsS*Cσとして計算
値(%) C,43,38; H,3,07; N、
13.32実測値(%) C,43,25: H,3
,05: N、13.37[Rν(グリコール)am−
’: 325(1,1620,15B0,1340゜1
040.96O N M R(d s D M S O)δpp’m:
2.43(3H,s)、 3.48(311,s)
、 6J1(LH,s)、 7.0〜8.05(88,
s)、 10.73(IH,s) 上記実施例1〜4と同様の方法で製造される化合物を第
2表に示す。
値(%) C,43,38; H,3,07; N、
13.32実測値(%) C,43,25: H,3
,05: N、13.37[Rν(グリコール)am−
’: 325(1,1620,15B0,1340゜1
040.96O N M R(d s D M S O)δpp’m:
2.43(3H,s)、 3.48(311,s)
、 6J1(LH,s)、 7.0〜8.05(88,
s)、 10.73(IH,s) 上記実施例1〜4と同様の方法で製造される化合物を第
2表に示す。
一般式
%式%
キシレン 75 重量%ジメチ
ルホルムアミド 18 重量%ポリエチレン
グリコールエーテル(ノニボール85■)
5 重量%九程A1プhス咽預1 rt
kl、−適宜mや111市田)製剤例2 水和剤 化合物No、 6 30 重量%リ
グニンスルホン酸ナトリウム 5 重量%ポリオキシエ
チレングリコールエーテル(ノニボー2,85■)
5 重量%クレイ
55 重量%ホワイトカーボン
5 重量%を混合粉砕してなる水和剤。(水に適宜希釈
して使用) 製剤例3 粒剤 化合物No、 2 0.5重量%リグ
ニンスルホン酸ナトリウム 2 重量%ベントナイト
57.5重量%タルク
40 重量%の混合物に水を加えてねり合
せ造粒してなる粒剤。
ルホルムアミド 18 重量%ポリエチレン
グリコールエーテル(ノニボール85■)
5 重量%九程A1プhス咽預1 rt
kl、−適宜mや111市田)製剤例2 水和剤 化合物No、 6 30 重量%リ
グニンスルホン酸ナトリウム 5 重量%ポリオキシエ
チレングリコールエーテル(ノニボー2,85■)
5 重量%クレイ
55 重量%ホワイトカーボン
5 重量%を混合粉砕してなる水和剤。(水に適宜希釈
して使用) 製剤例3 粒剤 化合物No、 2 0.5重量%リグ
ニンスルホン酸ナトリウム 2 重量%ベントナイト
57.5重量%タルク
40 重量%の混合物に水を加えてねり合
せ造粒してなる粒剤。
発明の効果
試験例!
をつめクマガヤツリ、コナギ、キカシグサ、を播種し、
約1週間栽培後水稲稚苗2株を移植する。別のポットに
はイヌホタルイの種子をまき、更に他のポットにはマツ
バイ越冬茎を含む水田土壌をまき、ウリカワの萌芽塊茎
を植付けた後ミズガヤツリの萌芽塊茎の芽を地表に露出
させて植付ける。
約1週間栽培後水稲稚苗2株を移植する。別のポットに
はイヌホタルイの種子をまき、更に他のポットにはマツ
バイ越冬茎を含む水田土壌をまき、ウリカワの萌芽塊茎
を植付けた後ミズガヤツリの萌芽塊茎の芽を地表に露出
させて植付ける。
いずれのポットも湛水3cmとし、水稲移植1週間後(
タイヌビエ1葉期)に製剤例3と同一の方法で製造され
た化合物[1]00.2重量を含む粒剤を有効成分(化
合物[I])が1アール当りtgになる様に湛水中に施
用する。対照薬剤としてシメトリン2.5%粒剤を有効
成分が1アール当り5.0gとなる様に施用する。薬剤
施用21日後にそれぞれの供試化合物の除草効果および
薬害を調査する。
タイヌビエ1葉期)に製剤例3と同一の方法で製造され
た化合物[1]00.2重量を含む粒剤を有効成分(化
合物[I])が1アール当りtgになる様に湛水中に施
用する。対照薬剤としてシメトリン2.5%粒剤を有効
成分が1アール当り5.0gとなる様に施用する。薬剤
施用21日後にそれぞれの供試化合物の除草効果および
薬害を調査する。
除草効果は次の指数で表示する(以下の試験例において
も同じ)。
も同じ)。
0 無 O
1小 0.1〜50
2 中 50.1〜753
大 75.1〜87.54 極
大 87.6〜99.95 完全枯死 1
00 0 無 O ! 微 0.1〜12,52
小 12.6〜25.03
中 25.1〜50.04 大
50.1〜99.95 完全枯死
100 結果を第3表に示す。
大 75.1〜87.54 極
大 87.6〜99.95 完全枯死 1
00 0 無 O ! 微 0.1〜12,52
小 12.6〜25.03
中 25.1〜50.04 大
50.1〜99.95 完全枯死
100 結果を第3表に示す。
第3表
1対照薬剤
上記結果から、本発明の化合物[1]は公知の除草性化
合物に比べ選択性に優れ、しかも除草活性が高いことが
明らかである。
合物に比べ選択性に優れ、しかも除草活性が高いことが
明らかである。
試験例2
150cm”の角型プラスチック製ポットに水田土壌タ
ルイ及びキカシグサの種子をまき、更にウリカワの塊茎
を植付け、湛水3cmで所定期間栽培する。
ルイ及びキカシグサの種子をまき、更にウリカワの塊茎
を植付け、湛水3cmで所定期間栽培する。
単子葉雑草が1葉期に達した時、供試化合物1gを界面
活性剤ツイン20o2%(W/V)含有アセトン200
m1に溶解し、ついで水で全量を40Qにした薬剤を1
アールに施用する(1アールあたり供試化合物1g施用
)。薬剤処理3週間後にそれぞれの化合物の除草効果を
調査する。
活性剤ツイン20o2%(W/V)含有アセトン200
m1に溶解し、ついで水で全量を40Qにした薬剤を1
アールに施用する(1アールあたり供試化合物1g施用
)。薬剤処理3週間後にそれぞれの化合物の除草効果を
調査する。
結果を第4表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1は置換されていてもよいフェニル基、置
換されていてもよいベンジル基または置換されていても
よいピラゾール基を、R_2、R_3は低級アルキル基
または低級アルコキシ基を、Qは炭化水素残基を、Zは
CHまたはNをそれぞれ示す]で表わされる化合物また
はその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23878986A JPS6391375A (ja) | 1986-10-06 | 1986-10-06 | スルホニルイソチオ尿素誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23878986A JPS6391375A (ja) | 1986-10-06 | 1986-10-06 | スルホニルイソチオ尿素誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6391375A true JPS6391375A (ja) | 1988-04-22 |
Family
ID=17035303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23878986A Pending JPS6391375A (ja) | 1986-10-06 | 1986-10-06 | スルホニルイソチオ尿素誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6391375A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111606829A (zh) * | 2020-07-07 | 2020-09-01 | 淄博腾煜化工工程有限公司 | 邻甲酸甲酯苄基磺酰胺的生产方法 |
-
1986
- 1986-10-06 JP JP23878986A patent/JPS6391375A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111606829A (zh) * | 2020-07-07 | 2020-09-01 | 淄博腾煜化工工程有限公司 | 邻甲酸甲酯苄基磺酰胺的生产方法 |
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