JP2726603B2 - Inspection area correction method - Google Patents

Inspection area correction method

Info

Publication number
JP2726603B2
JP2726603B2 JP4325101A JP32510192A JP2726603B2 JP 2726603 B2 JP2726603 B2 JP 2726603B2 JP 4325101 A JP4325101 A JP 4325101A JP 32510192 A JP32510192 A JP 32510192A JP 2726603 B2 JP2726603 B2 JP 2726603B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection area
substrate
image
camera
correction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4325101A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH06176132A (en
Inventor
剛一 小林
一男 千色
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwaki Electronics Co Ltd
Original Assignee
Iwaki Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Iwaki Electronics Co Ltd filed Critical Iwaki Electronics Co Ltd
Priority to JP4325101A priority Critical patent/JP2726603B2/en
Publication of JPH06176132A publication Critical patent/JPH06176132A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2726603B2 publication Critical patent/JP2726603B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Image Input (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、検査エリアを補正する
検査エリア補正方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection area correction method for correcting an inspection area.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント基板上に実装した電子部品の半
田付け部を、検査装置で検査する場合、当該プリント基
板の凹凸のそりにより、検査用カメラからみた視野画像
がずれるため、正確な検査を行うことができない場合が
ある。
2. Description of the Related Art When inspecting a soldered portion of an electronic component mounted on a printed circuit board by an inspection device, a field image viewed from an inspection camera is shifted due to warpage of the unevenness of the printed circuit board. You may not be able to do it.

【0003】例えば図5に示すように、基板の真上に配
置したトップカメラ21から見る画像は、基板の凹凸歪
みにより、拡大・収縮の歪みが発生する。また、PLC
CやSOJ型のICリードを検査する場合、部品の構造
上、真上から検査することができないので、側面上方に
配置したサイドカメラ22を使用して検査する。サイド
カメラ22を使用すると、基板の凹凸歪みによる画像の
拡大・収縮以外に、検査エリアの位置が上下にずれる現
象が現れ、検査を満足にできなくなることがある。
[0005] For example, as shown in FIG. 5, an image viewed from a top camera 21 disposed right above a substrate is distorted by expansion and contraction due to unevenness of the substrate. In addition, PLC
When inspecting a C or SOJ type IC lead, it is not possible to inspect the IC lead from directly above due to the structure of the component. When the side camera 22 is used, in addition to the enlargement / shrinkage of the image due to the unevenness of the substrate, a phenomenon in which the position of the inspection area shifts up and down appears, and the inspection may not be satisfactory.

【0004】具体的に説明すると、図5の(b)および
図5の(d)は、SOP部品(表面実装部品)をサイド
カメラ22で見た画像例であって、前者は基板の浮きが
ない場合であり、後者は基板の浮きがある場合である。
以下図5について簡単に説明する。
More specifically, FIGS. 5 (b) and 5 (d) are examples of images of an SOP component (surface mounted component) viewed from a side camera 22. There is no case, and the latter is a case where the substrate is lifted.
FIG. 5 will be briefly described below.

【0005】図5の(a)は、基板の凹凸歪みがなく基
準位置の場合を示す。この基準位置の基板をサイドカメ
ラ22でICリードを撮影すると、図5の(b)に示す
ような画像が得られ、斜線の部分が予め定めた検査エリ
アであって、半田付けの良否を判定しようとするICリ
ードがここに入っている。
FIG. 5A shows a case where the substrate is at a reference position without distortion of the substrate. When the substrate at this reference position is photographed by the side camera 22 with an IC lead, an image as shown in FIG. 5B is obtained. The hatched portion is a predetermined inspection area, and the quality of the soldering is determined. The IC lead to be entered is here.

【0006】一方、図5の(c)は、基板の凹凸歪みが
あり基準位置から浮いている場合を示す。この基準位置
から浮いている基板をサイドカメラ22でICリードを
撮影すると、図5の(d)に示すような画像が得られ、
検査しようとする部分が予め定めた検査エリアから離れ
た位置になってしまい、半田付けの良否を判定しようと
するICリードが入っていなく、検査できないこととな
る。
On the other hand, FIG. 5C shows a case where the substrate is unevenly distorted and is floating from a reference position. When the substrate floating from this reference position is photographed with an IC lead by the side camera 22, an image as shown in FIG.
The portion to be inspected is located at a position distant from the predetermined inspection area, and the IC lead for judging the quality of soldering is not inserted, so that the inspection cannot be performed.

【0007】このため、従来は基板の凹凸歪みによっ
て、サイドカメラ22による撮影時に検査エリアがずれ
てしまう現象を避けるため、下記のような方法を採用し
ていた。
For this reason, the following method has conventionally been adopted in order to avoid a phenomenon in which the inspection area is displaced during photographing by the side camera 22 due to unevenness of the substrate.

【0008】(1) 基板を下方から真空吸引し、基板
の浮きをおさえる。このように真空吸引によって基板の
浮きを抑えてサイドカメラ22によって撮影したときの
検査エリアの画像のずれを発生させないようにしてい
た。
(1) The substrate is evacuated from below to prevent the substrate from floating. As described above, the lifting of the substrate is suppressed by the vacuum suction, so that the image of the inspection area is not shifted when photographed by the side camera 22.

【0009】(2) 基板の歪みを一定範囲におさえ
る。これは、特に半田付工程(フロー、リフロー)の改
善を図り、基板の歪みをおさえて歪まないようにする。
(2) The distortion of the substrate is kept within a certain range. This improves the soldering process (flow, reflow), and suppresses the distortion of the substrate so as not to distort it.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上述の(1)の方法に
よれば、真空吸引によって基板の浮きをおさえるので、
サイドカメラ22によって検査エリアを撮影して画像を
得ても、ずれることがない。しかし、検査しようとする
基板の機種を変更する毎に、基板の形に合わせて吸引用
パットの位置を手作業で変更しなければならず、操作が
面倒であるという問題がある。
According to the above-mentioned method (1), the lifting of the substrate is suppressed by vacuum suction.
Even if an image is obtained by photographing the inspection area with the side camera 22, there is no deviation. However, every time the model of the substrate to be inspected is changed, the position of the suction pad must be manually changed in accordance with the shape of the substrate, resulting in a problem that the operation is troublesome.

【0011】また、上述の(2)の方法によれば、半田
付工程などを改善して基板そのものを歪まないようにし
て基準位置から浮かないようにする必要があるが、現実
として困難であって実用性に欠けるという問題がある。
According to the above-mentioned method (2), it is necessary to improve the soldering process and the like so that the substrate itself is not distorted so that it does not float from the reference position. And lacks practicality.

【0012】本発明は、これらの問題を解決するため、
トップカメラによって撮影した画像から基板上の部品の
サイズを測定して基板浮き量ΔLを求め、これをもとに
サイドカメラで撮影したときの画像上の検査エリアの補
正を行い、基板の浮きがあっても正しい検査エリアを求
めることを目的としている。
The present invention has been developed to solve these problems.
From the image taken by the top camera, the size of the components on the board is measured to determine the board floating amount ΔL, and based on this, the inspection area on the image taken by the side camera is corrected, and the board floating The purpose is to seek the correct inspection area even if it exists.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】図1を参照して課題を解
決するための手段を説明する。図1において、トップカ
メラ1は、基板3上に配置した部品を撮影する、真上に
設けたカメラである。
Means for solving the problem will be described with reference to FIG. In FIG. 1, a top camera 1 is a camera provided directly above, which photographs a component arranged on a substrate 3.

【0014】サイドカメラ2は、基板3上に配置した部
品を撮影する、側面に設けたカメラである。検査エリア
補正処理6は、トップカメラ1によって撮影した基板3
上の部品のサイズをもとに、サイドカメラ2によって撮
影した画像上の当該部品の検査エリアの補正を行うもの
である。
The side camera 2 is a camera provided on a side surface for photographing a component arranged on the substrate 3. The inspection area correction processing 6 is performed on the substrate 3 captured by the top camera 1.
Based on the size of the upper part, the inspection area of the part on the image photographed by the side camera 2 is corrected.

【0015】[0015]

【作用】本発明は、図1に示すように、基板3の真上に
トップカメラ1および側面にサイドカメラ2を配置し、
検査エリア補正処理6がトップカメラ1によって撮影し
た基板3上の部品のサイズをもとに、サイドカメラ2に
よって撮影した画像上の当該部品の検査エリアの補正を
行い、この補正後の検査エリアについて検査を行うよう
にしている。
According to the present invention, as shown in FIG. 1, a top camera 1 and a side camera 2 are arranged directly above a substrate 3 and side surfaces thereof.
Inspection area correction processing 6 corrects the inspection area of the component on the image captured by the side camera 2 based on the size of the component on the board 3 captured by the top camera 1, and the corrected inspection area Inspection is performed.

【0016】この際、検査エリア補正処理6がトップカ
メラ1によって撮影した基板3上の部品のサイズをもと
に当該基板3の基準位置からの基板浮き量ΔLを求め、
この基板浮き量ΔLからサイドカメラ2によって撮影し
た画像上の当該部品の検査エリアの補正量ΔYを算出
し、この補正量ΔYだけ、サイドカメラ2によって撮影
した画像上の当該部品の検査エリアの補正を行い、この
補正後の検査エリアについて検査を行うようにしてい
る。
At this time, the inspection area correction processing 6 obtains the board floating amount ΔL from the reference position of the board 3 based on the size of the parts on the board 3 photographed by the top camera 1,
The correction amount ΔY of the inspection area of the component on the image captured by the side camera 2 is calculated from the board floating amount ΔL, and the correction of the inspection area of the component on the image captured by the side camera 2 is performed by the correction amount ΔY. The inspection is performed on the inspection area after the correction.

【0017】また、補正した検査エリアの直角方向につ
いて、更に、基板浮き量ΔLに対応した補正(拡大ある
いは縮小補正)を行うようにしている。従って、トップ
カメラ1によって撮影した画像から基板3上の部品のサ
イズを測定して基板浮き量ΔLを求め、これをもとにサ
イドカメラ2で撮影したときの画像上の検査エリアの補
正を行うことにより、サイドカメラ2を用いて検査する
際に基板の浮きがあっても正しい検査エリアを求め、検
査することが可能となる。
Further, in the direction perpendicular to the corrected inspection area, a correction (enlargement or reduction correction) corresponding to the substrate floating amount ΔL is further performed. Therefore, the size of components on the board 3 is measured from the image taken by the top camera 1 to obtain the board floating amount ΔL, and based on this, the inspection area on the image taken by the side camera 2 is corrected. This makes it possible to find the correct inspection area and perform the inspection even when the substrate is lifted when the inspection is performed using the side camera 2.

【0018】[0018]

【実施例】次に、図1から図4を用いて本発明の実施例
の構成および動作を順次詳細に説明する。
Next, the structure and operation of an embodiment of the present invention will be sequentially described in detail with reference to FIGS.

【0019】図1は、本発明の1実施例構成図を示す。
図1において、トップカメラ1は、基板3上に配置した
部品を撮影する、真上に設けたカメラであって、X方向
およびY方向に移動可能な移動機構上に配置したもので
ある。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention.
In FIG. 1, a top camera 1 is a camera provided directly above for photographing a component arranged on a substrate 3, and is arranged on a moving mechanism movable in the X and Y directions.

【0020】サイドカメラ2は、基板3上に配置した部
品を撮影する、側面に設けたカメラであり、円周状に4
台配置したものであって、X方向およびY方向に移動可
能な移動機構上に配置したものである。
The side camera 2 is a camera provided on a side surface for photographing a component placed on the substrate 3.
It is arranged on a table, and is arranged on a moving mechanism that can move in the X direction and the Y direction.

【0021】基板3は、プリント基板などであって、部
品を配置して半田付けなどし、検査対象の基板である。
画像メモリ4は、トップカメラ1およびサイドカメラ2
によって撮影した基板3の部品の画像を格納するもので
ある。
The board 3 is a printed board or the like, and is a board to be inspected on which components are arranged and soldered.
The image memory 4 includes the top camera 1 and the side camera 2
The image of the component of the board 3 captured by the above is stored.

【0022】MPU5は、プログラムに従って各種処理
を行うものであって、ここでは、検査エリア補正処理6
および演算処理7などを行うものである。検査エリア補
正処理6は、トップカメラ1によって撮影した基板3上
の部品のサイズをもとに、サイドカメラ2によって撮影
した画像上の当該部品の検査エリアの補正を行うもので
ある(図2から図4を用いて後述する)。
The MPU 5 performs various processes in accordance with a program.
And arithmetic processing 7 and the like. The inspection area correction processing 6 corrects the inspection area of the component on the image captured by the side camera 2 based on the size of the component on the board 3 captured by the top camera 1 (from FIG. 2). This will be described later with reference to FIG. 4).

【0023】演算処理7は、各種演算処理を行うもので
ある(図2から図4参照)。次に、図2のフローチャー
トに示す順序に従い、図1の構成の動作を詳細に説明す
る。
The arithmetic processing 7 carries out various arithmetic processing (see FIGS. 2 to 4). Next, the operation of the configuration of FIG. 1 will be described in detail according to the order shown in the flowchart of FIG.

【0024】図2において、S1は、トップカメラで画
像を取り込む。これは、図1の基板3の真上に配置した
トップカメラ1によって当該基板3上に実装した部品の
画像を取り込み、画像メモリ4に格納する。例えば図3
の(a)に示す画像を画像メモリ4に格納する。
In FIG. 2, in step S1, an image is captured by a top camera. In this case, an image of a component mounted on the substrate 3 is captured by the top camera 1 disposed directly above the substrate 3 in FIG. For example, FIG.
(A) is stored in the image memory 4.

【0025】S2は、両端のリードの距離を測定する。
これは、S1で取り込んだ画像である例えば図3の
(a)のICリードの画像から、予め指示された図示W
2と記載したリードの両端の距離W2を測定する。
In step S2, the distance between the leads at both ends is measured.
This is based on the image W captured in S1, for example, the IC lead image shown in FIG.
The distance W2 between both ends of the lead described as 2 is measured.

【0026】S3は、(2)式に代入して基板浮き量Δ
Lを算出する。これは、後述する(2)式に、S2で測
定したリードの両端の距離W2および部品ライブラリか
ら取り出した当該部品のリードの両端の実際の距離W1
を代入して、基板浮き量ΔLを算出する。
S3 is substituted into the equation (2) to calculate the substrate floating amount Δ
Calculate L. This is obtained by calculating the distance W2 between both ends of the lead measured in S2 and the actual distance W1 between both ends of the lead of the component taken out from the component library in Expression (2) described later.
To calculate the substrate floating amount ΔL.

【0027】S4は、(3)式に代入して補正値ΔYを
算出する。これは、後述する(3)式に、S3で求めた
基板浮き量ΔLを代入して、部品の検査エリアの補正量
ΔYを算出する。
In step S4, the correction value ΔY is calculated by substituting the correction value into the equation (3). That is, the correction amount ΔY of the inspection area of the component is calculated by substituting the board lift amount ΔL obtained in S3 into the expression (3) described later.

【0028】S5は、(4)式より検査エリアの間隔P
を算出する。これは、後述する(4)式に、S2で測定
した距離W2、S3で算出したΔL、部品ライブラリか
ら取り出したリード本数Nなどを代入し、検査エリアの
間隔Pを算出する。これにより、基板浮き量ΔLに対応
して、検査エリアと直角方向の拡大・縮小補正が行われ
たこととなる。
In step S5, the interval P of the inspection area is obtained from the equation (4).
Is calculated. In this case, the distance P between the inspection areas is calculated by substituting the distance W2 measured in S2, the ΔL calculated in S3, the number of leads N taken out from the component library, and the like into Expression (4) described later. As a result, the enlargement / reduction correction in the direction perpendicular to the inspection area is performed in accordance with the substrate floating amount ΔL.

【0029】S6は、元の検査エリアをΔY上下方向に
移動し、横方向にPで補正する。これは、S6で基板3
の基板浮き量ΔLに対応し、サイドカメラ2で撮影した
ときの上下方向に補正値ΔYだけ補正、および直角方向
に検査エリアの間隔Pで補正する。これらにより、サイ
ドカメラ2で撮影したときの正しい検査エリアに補正し
たこととなる。
In step S6, the original inspection area is moved in the vertical direction by ΔY, and is corrected by P in the horizontal direction. This is because the substrate 3
Corresponding to the substrate floating amount ΔL, the correction is performed by the correction value ΔY in the vertical direction when the image is taken by the side camera 2 and the correction is performed at the interval P between the inspection areas in the perpendicular direction. Thus, the inspection area is corrected to the correct inspection area when the image is captured by the side camera 2.

【0030】S7は、検査対象エリアを切り出して検査
する。これは、S6で補正したサイドカメラ2で撮影し
たときの基板3の浮き量に対応して補正した正しい検査
エリアから画像を切り出し、例えばリードの半田付けが
正常に行われているか検査する。
In step S7, an area to be inspected is cut out and inspected. In this case, an image is cut out from a correct inspection area corrected in accordance with the floating amount of the substrate 3 when photographed by the side camera 2 corrected in S6, and for example, it is inspected whether the soldering of the lead is performed normally.

【0031】以上によって、トップカメラ1によって撮
影した画像から基板3上の部品のサイズを測定して基準
位置からの基板浮き量ΔLを求め((2)式に代入して
求め)、これからサイドカメラ2で撮影したときの検査
エリアの補正値ΔYを求め((3)式に代入して求
め)、更に検査エリアと直角方向の間隔Pを求め
((4)式に代入して求め)、サイドカメラ2の元の検
査エリアをΔY上下方向に移動および横方向にPで補正
する。これらにより、サイドカメラ2で基板3上の部品
を撮影したときの検査エリアの補正を行い、補正後の検
査エリアから画像を切り出して半田付けの良否などを判
定する。
As described above, the size of the components on the board 3 is measured from the image taken by the top camera 1, and the board floating amount ΔL from the reference position is obtained (obtained by substituting into the equation (2)). The correction value ΔY of the inspection area when the photograph was taken in step 2 is obtained (determined by substituting into the equation (3)), further, the interval P in the direction perpendicular to the inspection area is determined (substituted by the equation (4)), and the side The original inspection area of the camera 2 is moved in the vertical direction by ΔY and corrected by P in the horizontal direction. Thus, the inspection area when the component on the board 3 is photographed by the side camera 2 is corrected, and an image is cut out from the corrected inspection area to determine the quality of the soldering.

【0032】図3は、本発明の動作説明図(その1)を
示す。これは、図1のトップカメラ1によって基板3上
の部品を撮影し、距離W2を測定および基板浮き量ΔL
を算出するときの説明図である。以下順次説明する。
FIG. 3 is a diagram (part 1) for explaining the operation of the present invention. This means that the top camera 1 shown in FIG. 1 captures an image of a component on the board 3, measures the distance W 2,
FIG. 9 is an explanatory diagram when calculating. This will be described sequentially below.

【0033】[1] 距離W2の測定:図3の(a)は
トップカメラ1によって基板3上の部品を撮影した画像
例を示す。ここで、トップカメラ1によって基板3上の
ICを撮影した画像を画像メモリ4に格納し、この画像
上でICリードの両端の図示の距離W2を測定する。
[1] Measurement of distance W2: FIG. 3A shows an example of an image of a component on the substrate 3 taken by the top camera 1. FIG. Here, an image obtained by photographing the IC on the substrate 3 by the top camera 1 is stored in the image memory 4, and the distance W2 shown at both ends of the IC lead is measured on this image.

【0034】[2] 実際のICリードの距離W1の算
出:部品ライブラリなどに予め登録されている部品のリ
ードピッチデータより、実際のICリードの両端の距離
W1を算出する。この実際の距離W1と、[1]で測定
した距離W2との関係は、下の(1)式で表される(図
3の(b)参照)。
[2] Calculation of actual IC lead distance W1: The actual distance W1 between both ends of the IC lead is calculated from the lead pitch data of the components registered in advance in a component library or the like. The relationship between the actual distance W1 and the distance W2 measured in [1] is expressed by the following equation (1) (see FIG. 3B).

【0035】 Lb:カメラレンズ中心から、基板表面までの距離(焦
点距離) Ls:ICリードの肩の高さ ΔL:基板浮き量(正数:浮き、負数:沈み) ここで、レンズはLsとΔLを包含した焦点深度まで絞
りこんであるものとする。
[0035] Lb: distance from camera lens center to substrate surface (focal length) Ls: shoulder height of IC lead ΔL: substrate floating amount (positive number: floating, negative number: sinking) Here, lens includes Ls and ΔL It is assumed that the focus has been narrowed down to the specified depth of focus.

【0036】[3] 基板浮き量ΔLの算出:基板浮き
量ΔLは、(1)式を変形して下の(2)式で算出でき
る。 図4は、本発明の動作説明図(その2)を示す。これ
は、図1のサイドカメラ2によって基板3上の部品を撮
影し、検査エリアを補正するときの説明図である。以下
順次説明する。
[3] Calculation of substrate floating amount ΔL: The substrate floating amount ΔL can be calculated by the following equation (2) by modifying the equation (1). FIG. 4 shows an operation explanatory diagram (part 2) of the present invention. This is an explanatory diagram when a part on the board 3 is photographed by the side camera 2 in FIG. 1 and the inspection area is corrected. This will be described sequentially below.

【0037】[4] サイドカメラ2の画像上の検査エ
リアの補正値ΔYの算出:図4の(c)はサイドカメラ
2によって基板3上の部品を撮影した画像例を示す。こ
こで、サイドカメラ2によって基板3上のICを撮影し
た画像を画像メモリ4に格納し、この画像上で検査エリ
アの補正値ΔYの算出を行う。画像(サイドカメラ)に
おける検査エリアの位置の補正値ΔYは、下の(3)式
によって算出する。
[4] Calculation of the correction value ΔY of the inspection area on the image of the side camera 2: FIG. 4C shows an example of an image obtained by photographing a component on the board 3 by the side camera 2. Here, an image obtained by photographing the IC on the substrate 3 by the side camera 2 is stored in the image memory 4, and the correction value ΔY of the inspection area is calculated on this image. The correction value ΔY of the position of the inspection area in the image (side camera) is calculated by the following equation (3).

【0038】 ΔYs=ΔL×cosθ sinθ:サイドカメラ2の取り付け角度θ(真下方向
を0°とする) ΔY:負数のとき、画面の上方へ補正 Kt:トップカメラ1の画像の倍率 Ks:サイドカメラ2の画像の倍率 [5] 検査エリアの間隔Pの算出:基板歪みによるサ
イドカメラ2による画像上の検査エリアの間隔Pを下の
(4)式によって算出する。この(4)式によって算出
した間隔Pによって、[4]で上下方向に補正した検査
エリアの位置を、更に横方向(ICリードのピッチ方
向)に補正する。このとき、画面上の横方向の中心に最
も近い検査エリアの位置を中心基準にし、ここからピッ
チ方向に離れるに従って、エリア間隔Pを乗じて検査エ
リアの横方向の位置を割り振り、補正する。
[0038] ΔYs = ΔL × cos θ sin θ: Mounting angle θ of side camera 2 (directly below is assumed to be 0 °) ΔY: Correction is upward of screen when negative number Kt: Magnification of image of top camera 1 Ks: Image of side camera 2 [5] Calculation of inspection area interval P: The inspection area interval P on the image from the side camera 2 due to substrate distortion is calculated by the following equation (4). The position of the inspection area corrected in the vertical direction in [4] is further corrected in the horizontal direction (the pitch direction of the IC leads) by the interval P calculated by the equation (4). At this time, the position of the inspection area closest to the center in the horizontal direction on the screen is set as the center reference, and the horizontal position of the inspection area is allocated and corrected by multiplying by the area interval P as the distance from the inspection area increases in the pitch direction.

【0039】 N:画面内に直列に並んだICのリードの本数 尚、サイドカメラ2を使用しない場合のトップカメラ1
の補正は、画像の拡大・縮小歪みのみであり、下の式
(5)によりピッチのみの補正を行う。このとき、画面
の横方向の中心に、最も近い検査エリアの位置を中心基
準にし、ここからピッチ方向に離れるに従って、エリア
間隔Pを乗じて検査エリアの横方向の位置を割り振り、
補正する。
[0039] N: Number of IC leads arranged in series in the screen Top camera 1 when side camera 2 is not used
Is only the enlargement / reduction distortion of the image, and only the pitch is corrected by the following equation (5). At this time, the position of the inspection area closest to the center of the screen in the horizontal direction is set as the center reference, and the horizontal position of the inspection area is assigned by multiplying by the area interval P as the distance from the inspection area increases in the pitch direction,
to correct.

【0040】 図3は、本発明の動作説明図(その1)を示す。これ
は、トップカメラ1による画像の説明図である。
[0040] FIG. 3 shows an operation explanatory diagram (part 1) of the present invention. This is an explanatory diagram of an image obtained by the top camera 1.

【0041】図3の(a)は、トップカメラ1によって
基板3上の部品を撮影した画像例を示す。ここで、距離
W2は、部品であるICリードピンの距離を、画像上で
測定した値である。
FIG. 3A shows an example of an image obtained by photographing a component on the substrate 3 by the top camera 1. Here, the distance W2 is a value obtained by measuring the distance of an IC lead pin as a component on an image.

【0042】図3の(b)は、トップカメラ1のスクリ
ーン位置(固定)、レンズ位置(固定)、および基板位
置の関係を示す。ここで、 W2:図3の(a)の画像上の測定した距離W2 W1:部品ライブラリから取り出した実際の距離W1 Lb:カメラレンズ中心から基板表面までの距離 Lb’:スクリーン位置からレンズ中心までの距離 ΔL:基板浮き量 Ls:ICリードの肩高さ 図4は、本発明の動作説明図(その2)を示す。これ
は、サイドカメラ2による画像の説明図である。
FIG. 3B shows the relationship among the screen position (fixed), the lens position (fixed), and the substrate position of the top camera 1. Here, W2: the measured distance W2 on the image in FIG. 3A W2 W1: the actual distance W1 extracted from the parts library Wb Lb: the distance from the camera lens center to the substrate surface Lb ': from the screen position to the lens center ΔL: board floating amount Ls: shoulder height of IC lead FIG. 4 is a diagram (part 2) illustrating the operation of the present invention. This is an explanatory diagram of an image obtained by the side camera 2.

【0043】図4の(c)は、サイドカメラ2によって
基板3上の部品を撮影した画像例を示す。ここで、補正
値ΔYは、基板浮き量“0”の時の検査エリア位置から
の補正値である。
FIG. 4C shows an example of an image obtained by photographing a component on the board 3 by the side camera 2. Here, the correction value ΔY is a correction value from the inspection area position when the substrate lifting amount is “0”.

【0044】図4の(d)は、基板浮き量などとサイド
カメラ2との関係を示す。ここで、 ΔL:基板浮き量 ΔY:基板浮き量ΔLのときのサイドカメラ2から見た
ときの、検査エリアの補正値 θ:トップカメラ1の軸に対するサイドカメラ2の軸の
角度
FIG. 4D shows the relationship between the floating amount of the board and the like and the side camera 2. Here, ΔL: board floating amount ΔY: inspection area correction value as viewed from side camera 2 when board floating amount ΔL θ: angle of axis of side camera 2 with respect to axis of top camera 1

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
トップカメラ1によって撮影した画像から基板3上の部
品のサイズを測定して基板浮き量ΔLを求め、これをも
とにサイドカメラ2で撮影したときの画像上の検査エリ
アの補正を行う構成を採用しているため、サイドカメラ
2を用いて検査する際に基板3の浮きがあっても正しい
検査エリアを求め、検査することができる。これらによ
り、基板3の真上からの画像によって検査し得ない場合
に、サイドカメラ2からの画像上の検査エリアをトップ
カメラ2からの画像をもとに補正し、検査を行うことが
でき、特に半田付の外観検査を行う場合に都合がよい。
As described above, according to the present invention,
A configuration in which the size of components on the board 3 is measured from an image taken by the top camera 1 to determine the board floating amount ΔL, and based on this, the inspection area on the image taken by the side camera 2 is corrected. Since the inspection is performed using the side camera 2, even if the substrate 3 is lifted, a correct inspection area can be obtained and the inspection can be performed. Accordingly, when the inspection cannot be performed by the image from directly above the substrate 3, the inspection area on the image from the side camera 2 can be corrected based on the image from the top camera 2, and the inspection can be performed. It is particularly convenient when performing an appearance inspection of soldering.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の1実施例構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の動作説明フローチャートである。FIG. 2 is a flowchart illustrating the operation of the present invention.

【図3】本発明の動作説明図(その1)である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram (part 1) of the present invention.

【図4】本発明の動作説明図(その2)である。FIG. 4 is a diagram (part 2) illustrating the operation of the present invention.

【図5】従来技術の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:トップカメラ 2:サイドカメラ 3:基板 4:画像メモリ 5:MPU 6:検査エリア補正処理 7:演算処理 1: Top camera 2: Side camera 3: Substrate 4: Image memory 5: MPU 6: Inspection area correction processing 7: Calculation processing

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】検査エリアを補正する検査エリア補正方法
において、 基板(3)上に配置した部品を撮影する、真上に設けた
トップカメラ(1)および側面に設けたサイドカメラ
(2)と、 上記トップカメラ(1)によって撮影した基板(3)上
の部品のサイズをもとに、リアルタイムに上記サイドカ
メラ(2)によって撮影した画像上の当該部品の検査エ
リアの位置補正および当該位置補正したと直角方向に拡
大あるいは縮小補正を行う検査エリア補正処理(6)と
を備え、 上記サイドカメラ(2)によって撮影した画像中からこ
の検査エリア補正処理(6)によって補正された検査エ
リアについて、検査を行うように構成したことを特徴と
する検査エリア補正方法。
An inspection area correcting method for correcting an inspection area, comprising: a top camera (1) provided directly above and a side camera (2) provided on a side surface for photographing a component arranged on a substrate (3). Based on the size of the component on the board (3) photographed by the top camera (1), the position correction and the position correction of the inspection area of the component on the image photographed by the side camera (2) in real time. To expand at right angles
An inspection area correction process (6) for performing large or reduction correction is performed, and an inspection is performed on an inspection area corrected by the inspection area correction process (6) from an image captured by the side camera (2). An inspection area correction method characterized by comprising:
【請求項2】上記トップカメラ(1)によって撮影した
基板(3)上の部品のサイズをもとに当該基板(3)の
基準位置からの基板浮き量ΔLを求め、この基板浮き量
ΔLから上記サイドカメラ(2)によって撮影した画像
上の当該部品の検査エリアの補正量ΔYを算出する検査
エリア補正処理(6)を備えたことを特徴とする請求項
1記載の検査エリア補正方法。
2. A board floating amount ΔL from a reference position of the board (3) is obtained based on the size of components on the board (3) photographed by the top camera (1). The inspection area correction method according to claim 1, further comprising an inspection area correction process (6) for calculating a correction amount ΔY of an inspection area of the part on an image captured by the side camera (2).
【請求項3】請求項1あるいは請求項2によって補正し
た検査エリアの位置の上記補正量ΔYと直角方向につい
て、基板浮き量ΔYに対応した拡大あるいは縮小補正を
行うように構成したことを特徴とする検査エリア補正方
法。
3. An enlargement or reduction correction corresponding to the substrate lifting amount ΔY in a direction perpendicular to the correction amount ΔY of the position of the inspection area corrected according to claim 1 or 2. Inspection area correction method to be performed.
JP4325101A 1992-12-04 1992-12-04 Inspection area correction method Expired - Lifetime JP2726603B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4325101A JP2726603B2 (en) 1992-12-04 1992-12-04 Inspection area correction method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4325101A JP2726603B2 (en) 1992-12-04 1992-12-04 Inspection area correction method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06176132A JPH06176132A (en) 1994-06-24
JP2726603B2 true JP2726603B2 (en) 1998-03-11

Family

ID=18173148

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4325101A Expired - Lifetime JP2726603B2 (en) 1992-12-04 1992-12-04 Inspection area correction method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2726603B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6108770B2 (en) * 2012-11-02 2017-04-05 Juki株式会社 Electronic component mounting apparatus and mounting component inspection method
JP6292825B2 (en) * 2013-11-06 2018-03-14 ヤマハ発動機株式会社 Substrate processing equipment

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62272107A (en) * 1986-05-20 1987-11-26 Fujitsu Ltd Inspecting method for packaging component
JP2684656B2 (en) * 1987-09-21 1997-12-03 松下電器産業株式会社 Electronic component appearance inspection method
JPH04301710A (en) * 1991-03-29 1992-10-26 Toshiba Corp Part mounting device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06176132A (en) 1994-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI420095B (en) A substrate inspection method, a substrate inspection apparatus, and a memory medium
EP1107186A2 (en) Image processing method and system
JP4405009B2 (en) Calibration method of inspection machine with line sensor camera
KR101633139B1 (en) A method and means for measuring positions of contact elements of an electronic components
JP2726603B2 (en) Inspection area correction method
JPH05251897A (en) Apparatus for mounting parts
KR100819803B1 (en) Method of inspecting solder paste
JPH11307567A (en) Manufacture of semiconductor device containing bump inspection process
JPH11132735A (en) Ic lead floating inspection device and inspection method
JPH11264718A (en) Position grasping method of wafer, and exposing method and exposing device thereof
JPH10150298A (en) Compensation angle correcting method of electronic component and electronic component using the method
JP2002098513A (en) Lens frame form measuring device
JP4451192B2 (en) Method for creating inspection data, inspection device for screen printing, and screen printer with inspection function
JP2952126B2 (en) Bonding wire inspection device
KR950002211B1 (en) Parts mounting device
JP7336814B1 (en) Inspection device, mounting device, inspection method, and program
JP2758474B2 (en) Electronic component manufacturing method
JP2762657B2 (en) Center search method for fiducial marks on substrate
JP4008722B2 (en) Method and apparatus for detecting floating electrode of electronic component
CN118604000A (en) Large-size steel mesh detection equipment and method
JP2539071B2 (en) Alignment device
JP3013255B2 (en) Shape measurement method
JP2024070012A (en) Image inspection of semiconductor element
JPH0372203A (en) Checking method of outer appearance of soldering part
JPH0791932A (en) Visual inspection of soldered state