JPH11132735A - Ic lead floating inspection device and inspection method - Google Patents

Ic lead floating inspection device and inspection method

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JPH11132735A
JPH11132735A JP9295839A JP29583997A JPH11132735A JP H11132735 A JPH11132735 A JP H11132735A JP 9295839 A JP9295839 A JP 9295839A JP 29583997 A JP29583997 A JP 29583997A JP H11132735 A JPH11132735 A JP H11132735A
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virtual plane
coordinates
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make adjustable an optical system easily so as to enable highly precise inspection. SOLUTION: A workpiece W (QFP type IC) is arranged on an inspection stage and is illuminated by a light source through a diffusion plate 6 from below, and image in the vertical and horizontal directional and in the direction of height of the workpiece W are photographed by a camera 1 at the same time by reflecting the image of the side face of the workpiece W upward by a mirror part 7. An image processing block 2 detects a predetermined section from the image obtained by photographing a jig whose dimension of the predetermined section is measured in advance by the camera 1. A coordinate system of the image photographed by the camera 1 is compensated based on coordinates obtained by measuring the dimension of the predetermined section and coordinates obtained by the detection, and a virtual plane with which a lead comes in contact is obtained using the value detecting the predetermined section in the compensated coordinate system to calculate the floating amount of the lead based on the distance between the virtual plane and the lead. Consequently, the adjustment of an optical system can be done easily, and highly precise inspection becomes possible.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ICの基板接地面
(搭載面)からの各ICリードの浮き(上下方向の曲が
り)を非接触で検査するICリード浮き検査装置及び検
査方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an IC lead floating inspection apparatus and method for inspecting the floating (bending in the vertical direction) of each IC lead from an IC substrate ground plane (mounting surface) in a non-contact manner. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えばQFP型ICは、パッケージモー
ルド体の四方に突出する多数のリードを介してプリント
基板上に搭載され、各リードがプリント基板上に形成さ
れたパターン上に半田付け等により接合される。このよ
うなICの各リードは、矩形のモールド体の4側面から
水平に突出し下方に曲げられて、さらに先端の基板接合
部が水平に曲げられて、この先端水平部にてプリント基
板に接地する。この場合、各リードの曲げ加工精度に応
じて多数突出するリードの垂直方向の高さにばらつき
(浮き)が生じる。このようなリードの浮きが大きい
と、基板搭載面に確実に接触しないリードが生じ、機能
の信頼性を低下させる場合がある。
2. Description of the Related Art For example, a QFP type IC is mounted on a printed circuit board via a number of leads projecting in four directions of a package mold body, and each lead is joined to a pattern formed on the printed circuit board by soldering or the like. Is done. Each lead of such an IC protrudes horizontally from four sides of the rectangular mold body and is bent downward, and furthermore, the board joint at the tip is bent horizontally, and the tip horizontal portion is grounded to the printed circuit board. . In this case, variations (floating) occur in the vertical height of a large number of protruding leads in accordance with the bending accuracy of each lead. If such a lift of the lead is large, a lead that does not reliably come into contact with the substrate mounting surface may be generated, and the reliability of the function may be reduced.

【0003】かかる問題の発生を未然に防止するため
に、IC製造後にリードの浮きが所定の範囲内に収まっ
ているか否かの検査が行なわれる。なお、このような検
査は、リードの変形を極力なくすために非接触で行なう
ことが望ましい。従来、ICのリードの浮きを検査する
手法としては、モールド体の同一辺(側面)から突出し
ているリードの垂直方向の高さのばらつきに着目して簡
易的に浮きを検査する手法や、ICに光を照射し半透明
板に写したリードの影の長さによって浮きを検査する手
法、あるいは非接触レーザ変位計を用いてリードの浮き
を検査する手法などがある(特開平4−236311号
公報、特開昭63−275937号公報、特開平3−1
5707号並びに特開平3−2608号公報等参照)。
In order to prevent such a problem from occurring, an inspection is performed after the manufacture of the IC to determine whether or not the lift of the leads is within a predetermined range. It is desirable that such an inspection be performed in a non-contact manner in order to minimize deformation of the lead. 2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of inspecting the float of an IC lead, a method of simply inspecting the float by focusing on a variation in the vertical height of a lead protruding from the same side (side surface) of a mold body, And a method of inspecting the floating of the lead using a non-contact laser displacement meter, or the like. Gazette, JP-A-63-275937, JP-A-3-1
5707 and JP-A-3-2608).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ICの
モールド体の各辺(側面)から突出するリードのばらつ
きに着目する手法では、例えばQFP型ICの場合であ
れば4辺の全てのリードのばらつきが総合的に判断され
ていないので、ICを実際に接地した場合の浮き量と異
なる虞がある。また、リードの影の長さによって検査す
る手法では、影を作りだし且つ影の長さを測定するため
の光学系の調整が困難で立ち上げ調整も難しく、メンテ
ナンスにも手間を要してしまう。さらに、レーザ変位計
を使った検査の場合には、ICがQFP型であるときに
はその構造上全てのリードを一度に計測することができ
ず、ICを90度ずつ回転させながら各辺毎にリードの
浮きを計測しなければならず、精度が低下したり計測に
多大な時間を要してしまうという欠点がある。
However, in the method of focusing on the variation of the leads protruding from each side (side surface) of the molded body of the IC, for example, in the case of the QFP type IC, the variation of all the leads on the four sides is considered. Is not comprehensively determined, and may be different from the floating amount when the IC is actually grounded. In addition, in the method of inspecting the lead based on the length of the shadow, it is difficult to adjust the optical system for creating the shadow and measuring the length of the shadow, and it is difficult to adjust the start-up. Furthermore, in the case of inspection using a laser displacement meter, when the IC is of the QFP type, all the leads cannot be measured at once due to its structure, and the lead is turned for each side while rotating the IC by 90 degrees. Must be measured, and there is a drawback that the accuracy is reduced and the measurement takes a long time.

【0005】一方、リードの浮きを検査するために実際
にICを平坦な面に接地させて各リードの浮き量を計測
する方法も考えられるが、計測時にリードが変形する可
能性があり、先に述べたようにリードを接地せずに非接
触で検査することが望ましい。そこで、従来はICの各
リードの高さを測定し、各リードの高さデータに基づい
て演算によりリードがプリント基板に接地するであろう
仮想平面を求め、この仮想平面から各リードまでの距離
を算出してリード浮きの検査を行なう方法(コプラナリ
ティ検査法)が考えられていた。
On the other hand, there is a method of measuring the floating amount of each lead by actually grounding the IC on a flat surface in order to inspect the floating of the lead. However, the lead may be deformed at the time of the measurement. As described above, it is desirable that the lead be inspected in a non-contact manner without being grounded. Therefore, conventionally, the height of each lead of an IC is measured, and a virtual plane where the lead will be grounded to a printed circuit board is obtained by calculation based on the height data of each lead, and the distance from this virtual plane to each lead is determined. (Coplanarity inspection method) has been considered.

【0006】しかし、上記コプラナリティ検査法におい
ても、高い精度を得るにはICを撮像するための光学系
の調整が必要となり、検査装置の保守及び維持管理や実
際の検査に手間がかかってしまうという問題を有してい
る。本発明は上記事情に鑑みて為されたものであり、そ
の目的とするところは、光学系の調整が簡易に行なえて
高精度の検査が可能なICリード浮き検査装置及び検査
方法を提供しようとするものである。
However, even in the above coplanarity inspection method, it is necessary to adjust an optical system for imaging an IC in order to obtain high accuracy, and it takes time to maintain and maintain the inspection apparatus and to perform actual inspection. Have a problem. The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an IC lead floating inspection apparatus and an inspection method capable of easily performing adjustment of an optical system and performing high-precision inspection. Is what you do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、上記
目的を達成するために、検査対象のICを上方向から撮
像する撮像手段と、ICの横方向から見た画像を上方向
に反射又は屈折させる光学手段と、撮像手段から得られ
る画像を処理してICのリードの上下方向の浮き量を算
出する画像処理手段とを備え、画像処理手段は、予め所
定箇所の寸法が計測されている治具を撮像手段で撮像し
て得られる画像から当該所定箇所の検出を行ない、これ
ら所定箇所の寸法の計測により得られる座標と検出によ
り得られる座標とに基づいて撮像手段で撮像される画像
の座標系を補正し、補正した座標系における所定箇所を
検出した検出値を用いてリードが接地する仮想平面を求
め、該仮想平面とリードとの距離からリードの浮き量を
算出することを特徴とし、ICの上方向から見た画像と
横方向から見た画像を1つの撮像手段によって同時に撮
像することができて光学系の構成を簡素化することが可
能であるとともに、治具を用いて撮像した画像の座標系
を補正することにより光学系の調整が簡易に行なえ、高
精度の検査が可能となる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an imaging device for imaging an IC to be inspected from above, and an image viewed from a lateral direction of the IC. An optical unit for reflecting or refracting the light; and an image processing unit for processing an image obtained from the image pickup unit to calculate a floating amount of the lead of the IC in the vertical direction. The predetermined location is detected from an image obtained by imaging the jig being taken by the imaging unit, and the image is captured by the imaging unit based on the coordinates obtained by measuring the dimensions of these predetermined locations and the coordinates obtained by the detection. Correcting the coordinate system of the image, obtaining a virtual plane on which the lead is grounded by using a detection value obtained by detecting a predetermined location in the corrected coordinate system, and calculating the floating amount of the lead from the distance between the virtual plane and the lead. Special The image viewed from above and the image viewed from the side of the IC can be simultaneously captured by one image capturing means, so that the configuration of the optical system can be simplified and the jig can be used. By correcting the coordinate system of the captured image, adjustment of the optical system can be easily performed, and high-precision inspection can be performed.

【0008】請求項2の発明は、上記目的を達成するた
めに、検査対象のICを上方向並びに横方向から撮像す
る複数の撮像手段と、各撮像手段から得られる画像を処
理してICのリードの上下方向の浮き量を算出する画像
処理手段とを備え、画像処理手段は、予め所定箇所の寸
法が計測されている治具を各撮像手段で撮像して得られ
る画像から当該所定箇所の検出を行ない、これら所定箇
所の寸法の計測により得られる座標と検出により得られ
る座標とに基づいて撮像手段で撮像される画像の座標系
を補正し、補正した座標系における所定箇所を検出した
検出値を用いてリードが接地する仮想平面を求め、該仮
想平面とリードとの距離からリードの浮き量を算出する
ことを特徴とし、治具を用いて撮像した画像の座標系を
補正することにより光学系の調整が簡易に行なえ、高精
度の検査が可能となる。
In order to achieve the above object, a second aspect of the present invention provides a plurality of image pickup means for picking up an IC to be inspected from above and in a lateral direction, and processing an image obtained from each image pickup means to obtain the IC. Image processing means for calculating the vertical floating amount of the lead, wherein the image processing means determines the position of the predetermined location from an image obtained by imaging each of the imaging means with a jig whose dimensions have been measured in advance. Detection, correcting the coordinate system of the image captured by the imaging means based on the coordinates obtained by measuring the dimensions of these predetermined locations and the coordinates obtained by the detection, and detecting the predetermined location in the corrected coordinate system. Calculating the floating amount of the lead from the distance between the virtual plane and the lead using the value, and correcting the coordinate system of the image captured using the jig. Yo Performed simply the adjustment of the optical system, it is possible to highly precise inspection.

【0009】請求項3の発明は、請求項1又は2の発明
において、画像処理手段が、検出される複数の所定箇所
毎に座標系の補正を行なうことを特徴とし、きめ細かな
補正が可能となる。請求項4の発明は、請求項1又は2
の発明において、画像処理手段が、治具の複数の所定箇
所の寸法の計測により得られる座標と検出により得られ
る座標とを直交座標系の2つの成分毎に平均して横方向
から見た画像の補正比率を算出することを特徴とし、補
正のための演算を簡易化できるとともに治具の所定箇所
を検出した検出値の誤差をなまらせることができる。
According to a third aspect of the present invention, in the first or the second aspect of the present invention, the image processing means corrects the coordinate system for each of a plurality of predetermined locations to be detected. Become. The invention of claim 4 is the invention of claim 1 or 2
In the invention, the image processing means averages the coordinates obtained by measuring the dimensions of a plurality of predetermined portions of the jig and the coordinates obtained by the detection for each of two components of the rectangular coordinate system, and views the image viewed from the lateral direction. Is calculated, the calculation for the correction can be simplified, and the error of the detection value obtained by detecting the predetermined portion of the jig can be reduced.

【0010】請求項5の発明は、上記目的を達成するた
めに、検査対象のICを横方向から見た画像をICの上
方向に反射又は屈折させてICの上方向及び横方向から
見た画像を同時に撮像し、予め所定箇所の寸法が計測さ
れている治具を撮像して得られる画像から当該所定箇所
の検出を行ない、これら所定箇所の寸法の計測により得
られる座標と検出により得られる座標とに基づいて撮像
される画像の座標系を補正し、補正した座標系における
所定箇所を検出した検出値を用いてリードが接地する仮
想平面を求め、該仮想平面とリードとの距離からリード
の浮き量を算出することを特徴とし、ICの上方向から
見た画像と横方向から見た画像を1つの撮像手段によっ
て同時に撮像することができて光学系の構成を簡素化す
ることが可能であるとともに、治具を用いて撮像した画
像の座標系を補正することにより光学系の調整が簡易に
行なえ、高精度の検査が可能となる。
According to a fifth aspect of the present invention, in order to achieve the above object, an image of an IC to be inspected viewed from the lateral direction is reflected or refracted in the upward direction of the IC and viewed from the upward direction and the lateral direction of the IC. The image is simultaneously captured, the predetermined location is detected from an image obtained by imaging a jig in which the dimensions of the predetermined location are measured in advance, and the coordinates obtained by measuring the dimensions of these predetermined locations and the detection are obtained by the detection. The coordinate system of the image captured based on the coordinates is corrected, a virtual plane where the lead is grounded is determined using a detection value obtained by detecting a predetermined location in the corrected coordinate system, and the lead is determined from the distance between the virtual plane and the lead. Calculating the floating amount of the IC, the image viewed from above and the image viewed from the side of the IC can be simultaneously imaged by one image pickup means, and the configuration of the optical system can be simplified. In Together, performed in the adjustment of the optical system is simplified by correcting the coordinate system of an image captured by using a jig, it is possible to highly precise inspection.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施形態により詳
細に説明する。なお、本実施形態では検査対象としてQ
FP型ICを例示するが、これに限定する主旨ではなく
対向する2側面からリードが突出したSOP型IC等の
他の種類のパッケージのICであってもよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments. In this embodiment, Q is used as the inspection target.
Although an FP-type IC is exemplified, the present invention is not limited to this, and may be another type of package IC such as an SOP-type IC having leads protruding from two opposing side surfaces.

【0012】図1は本実施形態のICリード浮き検査装
置を示すブロック図である。この検査装置は、QFP型
IC(以下、ワークWと呼ぶ。)の下方から照射された
光源(図示せず)の光を拡散する拡散板6、ワークWの
側面の4方向(図示は一部省略)に配設され入射光を略
直角に反射するミラー部7から成る光学系と、ワークW
を上方向から撮像するカメラ1と、カメラ1で撮像され
たワークWの画像を処理する画像処理ブロック2とで構
成される。
FIG. 1 is a block diagram showing an IC lead floating inspection apparatus according to this embodiment. This inspection apparatus includes a diffusion plate 6 for diffusing light from a light source (not shown) irradiated from below a QFP type IC (hereinafter, referred to as a work W), and four directions on a side surface of the work W (partially shown). (Omitted), an optical system including a mirror section 7 for reflecting incident light at a substantially right angle, and a work W
The camera 1 includes an image processing block 2 that processes an image of the work W captured by the camera 1.

【0013】また、画像処理ブロック2はカメラ1から
取り込んだアナログの画像信号をA/D変換して画素
(ピクセル)のデータ(濃淡データあるいは2値化デー
タ)を得るA/D変換部3と、得られた画素データを記
憶するメモリ部4と、画像処理ブロック2全体の制御並
びに画素データに基づいて仮想平面を算出する演算(後
述する)を行ない、最終的に各リード8の浮き量を計測
するといった種々の演算処理を行なうCPU5とを備え
る。
The image processing block 2 includes an A / D converter 3 for A / D converting an analog image signal captured from the camera 1 to obtain pixel data (shading data or binary data). The memory unit 4 for storing the obtained pixel data, the control of the entire image processing block 2 and the calculation (described later) for calculating a virtual plane based on the pixel data are performed, and finally the floating amount of each lead 8 is determined. A CPU 5 for performing various arithmetic processing such as measurement.

【0014】ワークWを図示しない検査ステージに配置
し、拡散板6を通して下方から光を照射すれば、カメラ
1では図2に示すようにワークWの正面の画像(縦横方
向の画像)と、ミラー部7で反射されたワークWの4側
面の画像(高さ方向の画像)とが同時に撮像される。な
お、ワークWはリード8の先端部分が上になるように検
査ステージに配置することが望ましい。
When the work W is arranged on an inspection stage (not shown) and irradiated with light from below through the diffusion plate 6, the camera 1 can display an image of the front of the work W (vertical and horizontal images) and a mirror as shown in FIG. Images of the four side surfaces of the workpiece W reflected by the unit 7 (images in the height direction) are simultaneously captured. It is desirable that the work W be disposed on the inspection stage such that the tip of the lead 8 is on the top.

【0015】このように、ミラー部7を備えることによ
って1台のカメラ1で縦横方向と高さ方向の2種類の画
像が同時に撮像可能となり、光学系の構造が簡素化でき
るとともに画素データを記憶するメモリ部4の容量も少
なくできるという利点がある。なお、ミラー部7の代わ
りにプリズムを用いてもよい。ところで、検査装置を立
ち上げた時にはカメラ1やミラー部7の光学系に微妙な
誤差が生じている可能性があり、また検査対象の品種変
更時にワークWの寸法や形状等に応じて上記光学系が交
換されると交換時に微妙な誤差が生じる虞がある。例え
ば、ミラー部7が検査ステージに対して傾いて取り付け
られていると、カメラ1で撮像したワークWの高さ方向
の画像も傾いてしまうことになる。そして、カメラ1と
ミラー部7との位置関係等を3次元的に高精度で調整す
ることは非常に困難且つ多くの時間を要する。
As described above, the provision of the mirror section 7 enables two types of images in the vertical and horizontal directions and the height direction to be simultaneously captured by one camera 1, thereby simplifying the structure of the optical system and storing pixel data. There is an advantage that the capacity of the memory unit 4 can be reduced. Note that a prism may be used instead of the mirror unit 7. By the way, when the inspection apparatus is started up, there is a possibility that a subtle error may occur in the optical system of the camera 1 and the mirror unit 7. When the system is replaced, a subtle error may occur at the time of replacement. For example, if the mirror unit 7 is attached to the inspection stage so as to be inclined, the image in the height direction of the work W captured by the camera 1 will also be inclined. It is very difficult and takes a lot of time to adjust the positional relationship between the camera 1 and the mirror unit 7 with high accuracy in three dimensions.

【0016】そこで、本発明はワークWの外形と略同一
に形成された治具の所定の位置(点)を予め実測し、こ
の治具をカメラ1で撮像して上記所定位置に対応する画
素の座標値を求め、治具の実寸法とカメラ1で撮像して
得られる治具の画素データ(座標値)とに基づいて光学
系の座標を補正(キャリブレーション)するようにした
ものであり、これによって高精度な光学系の調整が簡易
に行なえるものである。
Therefore, according to the present invention, a predetermined position (point) of a jig formed substantially the same as the outer shape of the workpiece W is measured in advance, and the jig is imaged by the camera 1 and pixels corresponding to the predetermined position are measured. Are calculated, and the coordinates of the optical system are corrected (calibrated) based on the actual dimensions of the jig and the pixel data (coordinate values) of the jig obtained by imaging with the camera 1. Thus, highly accurate adjustment of the optical system can be easily performed.

【0017】図3は本実施形態における補正用の治具1
0を示し、検査対象のワークWであるICと略同一の形
状となるように矩形の本体10a側面に櫛歯状の脚片1
0bが多数列設されて成るものである。このような治具
10は合成樹脂等の材料を適宜選択して製作され、予め
従来周知の3次元計測器等を用いて所定位置の座標(基
準位置からの距離)が計測される。本実施形態では、図
4(a)に示すように治具本体10aの縦横方向の1つ
の角をX,Y直交座標系の原点とみなして各脚片10b
の先端中央と各脚片10b間の中央の位置(以下、「計
測点」と呼ぶ。)をmm単位やμm単位で計測するとと
もに、図4(b)に示すように治具本体10aの上面を
基準に上記各計測点の高さ寸法をZ座標値として計測す
る。そして、得られた計測点の実測値(座標データ)を
本実施形態のICリード浮き検査装置の画像処理ブロッ
ク2に入力してメモリ部4に記憶させる(図5のフロー
チャート参照)。なお、実測値(座標データ)の入力は
キーボード等から作業者が直接入力してもよいが、シリ
アル通信を使って転送したり、ICカード等の記録媒体
を介して一括入力するようにすれば、データの入力に人
手を介さずに済むため、手間が省けるとともに入力ミス
等の不具合の発生を防ぐことができる。
FIG. 3 shows a correction jig 1 according to this embodiment.
0, and the comb-shaped leg piece 1 is attached to the side surface of the rectangular main body 10a so as to have substantially the same shape as the IC which is the work W to be inspected.
0b are arranged in a large number. Such a jig 10 is manufactured by appropriately selecting a material such as a synthetic resin, and coordinates of a predetermined position (distance from a reference position) are measured in advance using a conventionally known three-dimensional measuring device or the like. In this embodiment, as shown in FIG. 4A, one leg in the vertical and horizontal directions of the jig body 10a is regarded as the origin of the X, Y orthogonal coordinate system, and each leg 10b
The position of the center between the front end of the tool and each leg 10b (hereinafter, referred to as a "measurement point") is measured in units of mm or μm, and as shown in FIG. The height dimension of each measurement point is measured as a Z coordinate value based on Then, the obtained actual measurement value (coordinate data) of the measurement point is input to the image processing block 2 of the IC lead floating inspection apparatus of the present embodiment and stored in the memory unit 4 (see the flowchart of FIG. 5). The input of the actual measurement value (coordinate data) may be directly input by a worker from a keyboard or the like, but it is possible to transfer the data using serial communication or collectively input the data via a recording medium such as an IC card. In addition, since the input of data does not need to be performed manually, labor and time can be saved, and problems such as input errors can be prevented.

【0018】また、治具10の製作後に所定位置(計測
点)の実測を行なうので、後述するキャリブレーション
の精度は上記治具10の実測精度に依存することにな
る。従って、治具10を高い寸法精度で製作しなくても
済み、保存管理等に留意するだけで高い加工精度が要求
されずに製造コストを低く抑えることができる。次に計
測点の実測が完了した治具10を検査ステージに配置す
るのであるが、後でキャリブレーションを行なうので、
例えカメラ1やミラー部7等の光学系の座標が傾いてい
ても作業者は検査ステージ内に簡易に治具10を配置す
るだけでよい。そして、配置した治具10の縦横方向並
びに高さ方向の画像をカメラ1で撮像して、図6及び図
7に示すような縦横方向並びに高さ方向の画像を得る。
画像処理ブロック2では得られた画像の濃淡データある
いは2値化データを画素データとしてメモリ部4に記憶
する。
Further, since the actual measurement of the predetermined position (measurement point) is performed after the jig 10 is manufactured, the accuracy of the calibration described later depends on the actual measurement accuracy of the jig 10. Therefore, the jig 10 does not need to be manufactured with high dimensional accuracy, and high processing accuracy is not required only by paying attention to storage management and the like, and the manufacturing cost can be reduced. Next, the jig 10 for which the actual measurement of the measurement points has been completed is arranged on the inspection stage. However, since calibration is performed later,
For example, even if the coordinates of the optical system such as the camera 1 and the mirror unit 7 are inclined, the operator only needs to easily arrange the jig 10 in the inspection stage. Then, images of the arranged jig 10 in the vertical and horizontal directions and the height direction are captured by the camera 1, and images in the vertical and horizontal directions and the height direction as shown in FIGS. 6 and 7 are obtained.
In the image processing block 2, the obtained gradation data or binarized data of the image is stored in the memory unit 4 as pixel data.

【0019】そして、画像処理ブロック2のCPU5が
画素データに基づいて計測点と同じ位置の検出を行な
う。すなわち、図8に示すように濃淡サブピクセルエッ
ジ(濃淡データの微分)あるいは2値化エッジ(2値化
データの微分)により検出されるエッジを点D,Eと
し、線分DEの中点を通り且つ線分DEと直交する直線
に沿ってエッジの検出を行なって点Fを算出する。さら
に、図9に示すように線分DEの延長線上でエッジを検
出した点Hと点Eを結ぶ線分EHの中点を通り且つ線分
EHと直交する直線に沿ってエッジの検出を行なって点
Iを算出する。而して、点Fや点Iは治具10の計測点
と同じ位置に相当し、以下、全ての計測点と同じ位置
(以下、「検出点」と呼ぶ。)の検出値(ピクセル座標
(=画素単位の座標))を算出し、キャリブレーション
データとしてメモリ部4に記憶する。なお、キャリブレ
ーションデータ算出のためにカメラ1で撮像した後は治
具10を検査ステージから取り去ってもよい。また、普
段は治具10を常温で保管しておき、一定期間毎に上記
処理を再度行なってキャリブレーションデータの校正を
行ない、精度保証を図ることが望ましい。
Then, the CPU 5 of the image processing block 2 detects the same position as the measurement point based on the pixel data. That is, as shown in FIG. 8, the edges detected by the grayscale sub-pixel edge (differentiation of grayscale data) or the binarized edge (differentiation of binary data) are points D and E, and the middle point of the line segment DE is A point F is calculated by detecting edges along a straight line that passes through and is orthogonal to the line segment DE. Further, as shown in FIG. 9, the edge is detected along a straight line that passes through the middle point of the line segment EH connecting the point H and the point E where the edge is detected on the extension line of the line segment DE and is orthogonal to the line segment EH. To calculate the point I. Thus, the points F and I correspond to the same positions as the measurement points of the jig 10, and the detection values (pixel coordinates (hereinafter, referred to as "detection points") at the same positions as all the measurement points (hereinafter, referred to as "detection points"). = Coordinates in pixel units)), and stored in the memory unit 4 as calibration data. Note that the jig 10 may be removed from the inspection stage after imaging with the camera 1 for calculating calibration data. In addition, it is desirable that the jig 10 is usually stored at room temperature, and the above processing is performed again at regular intervals to calibrate the calibration data, thereby ensuring accuracy.

【0020】上述のようにして治具10の同じ位置(計
測点)に対する実測値と検出値とが得られると、画像処
理ブロック2のCPU5において検出値を実測値に合わ
せるようにして座標系の補正を行なう。また、隣接する
計測点間の微小空間の補正、すなわち計測点同士を結ん
だ線分上の点の補正は、計測点の補正における一定比率
で行ない、この一定比率を延長すれば計測点の周囲の2
次元空間の補正が行なえる(図10のフローチャート参
照)。このような方法で補正を行なえば、各計測点毎に
補正されるためにきめ細かな補正が可能となる。例え
ば、図11に示すように光学系(カメラ1やミラー部
7)の取付誤差等で治具10の画像が傾いているような
場合にも、上記キャリブレーションを行なうことで検出
値の座標系を修正することができる。
When the actually measured value and the detected value for the same position (measurement point) of the jig 10 are obtained as described above, the CPU 5 of the image processing block 2 adjusts the detected value to the actually measured value so that the coordinate system is adjusted. Make corrections. In addition, correction of a minute space between adjacent measurement points, that is, correction of a point on a line segment connecting the measurement points is performed at a fixed ratio in the correction of the measurement point. 2
The dimensional space can be corrected (see the flowchart of FIG. 10). If the correction is performed by such a method, fine correction can be performed since the correction is performed for each measurement point. For example, when the image of the jig 10 is tilted due to an attachment error of the optical system (the camera 1 or the mirror unit 7) as shown in FIG. Can be modified.

【0021】なお、治具10の実測値と検出値の各X成
分とY成分毎に平均を算出して高さ画面の補正比率を算
出することができる。この方法によれば、補正演算が簡
単になり各計測点での計測誤差を鈍らせることができる
という利点がある。次に、ICリードの浮き検査の手順
を図12のフローチャートを参照して説明する。
The correction ratio of the height screen can be calculated by calculating the average of the actual measurement value and the detection value of the jig 10 for each of the X component and the Y component. According to this method, there is an advantage that the correction calculation is simplified and the measurement error at each measurement point can be reduced. Next, the procedure of the IC lead floating inspection will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0022】まず、ワークWを検査ステージに配置して
カメラ1で撮像する。撮像した画像は画像処理ブロック
2のA/D変換部3にてディジタル信号(画素データ)
に変換されてメモリ部4に記憶される。この時点でワー
クWを検査ステージから取り去っても構わない。それか
ら、画像処理ブロック2のCPU5がメモリ部4に記憶
された画素データに基づいて各リードの先端中央(以
下、「リード位置」と呼ぶ。)のピクセル座標値を算出
する。但し、このようなリード位置の算出方法は治具1
0の検出点の算出方法と共通であるから説明は省略す
る。
First, the work W is placed on the inspection stage and imaged by the camera 1. The captured image is converted into a digital signal (pixel data) by the A / D converter 3 of the image processing block 2.
And stored in the memory unit 4. At this point, the workpiece W may be removed from the inspection stage. Then, the CPU 5 of the image processing block 2 calculates the pixel coordinate value of the center of the leading end of each lead (hereinafter, referred to as “lead position”) based on the pixel data stored in the memory unit 4. However, such a method of calculating the lead position is based on the jig 1
Since the method is the same as the method of calculating the detection point of 0, the description is omitted.

【0023】続いて、CPU5はメモリ部4に記憶され
ているキャリブレーションデータ(治具10の実測値及
び検出値)を用いて、算出した各リード位置のピクセル
座標値のキャリブレーションと、ピクセル値から実測値
〔μm〕への変換を行なう。具体的に説明すると、図1
3に示すように各リード位置P(Xp,Yp)に対して
最も近傍に在る治具10の実測点A(Xa,Ya),B
(Xb,Yb)を選び、基点からのベクトルP=m(ベ
クトルA)+n(ベクトルB)の関係を満たす比例定数
m,n(つまり、Xp=mXa+nXb,Yp=mYa
+nYbを満たすm,n)の値を算出する。ここで、P
(Xp,Yp),A(Xa,Ya),B(Xb,Yb)
は何れもピクセル座標値であるが、点A及び点Bの実測
値に対しても同じ関係式が成立するはずであるから、点
P,A,Bの実測値の座標を各々Pr(xp,yp),
Ar(xa,ya),Br(xb,yb)とすれば、x
p=mxa+nxb,yp=mya+nybの式から点
Prの座標値を求めることができる。そして、基点の実
測値に求めた点Prの座標値を加算すれば、最終的にリ
ード位置Pの座標をピクセル座標値からμm単位の座標
値に変換することができる。上記のようなキャリブレー
ション処理を全てのリード位置について行ない、各リー
ド位置の実寸座標〔μm〕を求める。なお、上記説明は
縦横方向(XY平面)についての説明であったが、高さ
方向(Z方向)についても同様にリード位置の座標をピ
クセル座標から実寸座標に変換する。
Subsequently, the CPU 5 uses the calibration data (actually measured and detected values of the jig 10) stored in the memory unit 4 to calibrate the calculated pixel coordinate value of each lead position, Is converted to the measured value [μm]. Specifically, FIG.
As shown in FIG. 3, the actual measurement points A (Xa, Ya), B of the jig 10 closest to each lead position P (Xp, Yp)
(Xb, Yb) is selected, and proportional constants m and n satisfying the relationship of vector P = m (vector A) + n (vector B) from the base point (that is, Xp = mXa + nXb, Yp = mYa)
The value of m, n) that satisfies + nYb is calculated. Where P
(Xp, Yp), A (Xa, Ya), B (Xb, Yb)
Are the pixel coordinate values, but the same relational expression should be established for the measured values of the points A and B. Therefore, the coordinates of the measured values of the points P, A, and B are represented by Pr (xp, yp),
If Ar (xa, ya) and Br (xb, yb), then x
The coordinate value of the point Pr can be obtained from the equations of p = mxa + nxb and yp = mya + nyb. Then, by adding the coordinate value of the obtained point Pr to the actually measured value of the base point, the coordinates of the lead position P can be finally converted from the pixel coordinate value to the coordinate value in μm. The calibration process as described above is performed for all the lead positions, and the actual coordinates [μm] of each lead position are obtained. Although the above description has been made in the vertical and horizontal directions (XY plane), the coordinates of the lead position are similarly converted from pixel coordinates to actual size coordinates in the height direction (Z direction).

【0024】すなわち、メモリ部4に記憶した画像から
算出するリード位置の座標は、カメラ1の分解能に相当
する画素(ピクセル)単位の2次元(縦横方向及び高さ
方向)の座標であるのに対し、治具10の実測値は3次
元の座標であり、治具10の実測値と検出値(ピクセル
座標値)とに基づいて上記処理を行なえば、ワークWの
リード位置を2次元のピクセル座標系から3次元の実寸
座標系に変換することができる。
That is, the coordinates of the lead position calculated from the image stored in the memory unit 4 are two-dimensional (vertical and horizontal directions and height direction) coordinates in pixel units corresponding to the resolution of the camera 1. On the other hand, the actual measurement value of the jig 10 is a three-dimensional coordinate, and if the above processing is performed based on the actual measurement value of the jig 10 and the detected value (pixel coordinate value), the lead position of the work W can be changed to a two-dimensional pixel. The coordinate system can be converted to a three-dimensional actual size coordinate system.

【0025】次に変換後の各リード位置(実寸座標)に
基づいてCPU5が仮想平面を算出するプログラムを実
行するのであるが、その仮想平面を求める方法について
図14のフローチャートを参照して説明する。検査に先
立って予めワークWの重心Gの座標を求めておく。そし
て、ワークWを平面に置いたときに最も最初に接地する
リード位置(点A)を求めていく。まず、Z座標が最も
大きい点A1 を求める。但し、Z座標はICのモールド
体表面からの高さで表され、座標値が大きいほどモール
ド体から離れる(下がる)ものとする。点A1 と重心G
とを結ぶ直線に対し、残りのリード位置から垂線を下ろ
す。そして、その垂線と上記直線A1 Gとの交点と点A
1 との距離dが最小となるリード位置を点A2 とする
(図15(a)参照)。さらに点A2 と重心Gとを通る
直線A2 Gに対し、残りのリード位置から垂線を下ろ
し、その交点と点A2との距離が最小となる点をAとす
る(図15(b)参照)。
Next, the CPU 5 executes a program for calculating a virtual plane based on each converted lead position (actual size coordinates). A method for obtaining the virtual plane will be described with reference to the flowchart of FIG. . Prior to the inspection, the coordinates of the center of gravity G of the workpiece W are obtained in advance. Then, a lead position (point A) where the work W is grounded first when the work W is placed on a plane is obtained. First, the point A 1 Z-coordinate is the largest. However, the Z coordinate is represented by the height of the IC from the surface of the molded body, and the larger the coordinate value, the farther (lower) from the molded body. Point A 1 and center of gravity G
The perpendicular is lowered from the remaining lead position to the straight line connecting Then, the intersection of the perpendicular and the straight line A 1 G and the point A
The lead position 1 the distance between d is minimized to a point A 2 (see FIG. 15 (a)). Further, with respect to a straight line A 2 G passing through the point A 2 and the center of gravity G, a perpendicular line is lowered from the remaining lead position, and the point at which the distance between the intersection and the point A 2 becomes minimum is A (FIG. 15B). reference).

【0026】次に点Aと重心Gとを通る直線AGに対
し、残りのリード位置から垂線を下ろし、その垂線と直
線AGとの交点と点Aとの距離dが最小となるリード位
置を、2番目に接地する点Bとする(図16参照)。そ
れから、3番目に接地する点Cを以下のように求めれ
ば、仮想平面を決定することができる。そのために、I
Cのモールド体に対して点A,Bのリード位置と同じ側
面(辺)に存在しないリード位置の中で直線ABとの距
離dが最小になるリード位置を求め、この点と点ABを
結んでできる三角形の面積が最大となる点をCとする
(サブルーチン)。
Next, with respect to a straight line AG passing through the point A and the center of gravity G, a perpendicular line is lowered from the remaining lead position, and a lead position at which the distance d between the intersection of the perpendicular line and the straight line AG and the point A becomes minimum is defined as: It is assumed that the grounding point is the second point B (see FIG. 16). Then, a virtual plane can be determined by obtaining the third ground point C as follows. Therefore, I
Among the lead positions that do not exist on the same side (side) as the lead positions of points A and B with respect to the mold body of C, the lead position that minimizes the distance d to the straight line AB is determined, and this point and the point AB are connected. Let C be the point at which the area of the triangle formed by is maximum (subroutine).

【0027】求めた点ABCを結んでできる三角形の中
に重心Gが存在し、且つその三角形の面積が全てのリー
ド位置を結んでできる四角形の面積の8分の1以上であ
れば、3つの点A,B,Cを接地点としこれらを含む平
面を算出して仮想平面とする。また、上記条件の少なく
とも一方が満たされない場合には、点Aを破棄して点B
を点Aに、点Cを点Bに置き換えて再度点Cを求める処
理を行なう。
If the center of gravity G exists in the triangle formed by connecting the obtained points ABC and the area of the triangle is equal to or more than one-eighth of the area of the square formed by connecting all the lead positions, three The points A, B, and C are set as ground points, and a plane including these points is calculated to be a virtual plane. If at least one of the above conditions is not satisfied, point A is discarded and point B
Is replaced with a point A and the point C is replaced with a point B, and a process of obtaining the point C again is performed.

【0028】そして、上記処理ループを4回繰り返して
も条件を満足する点Cが求められない場合には、以下の
ように別の手順で点Cを求める(サブルーチン)。ま
ず、点A,Bと重心Gを結んでできる三角形の外側にあ
り、且つ点A,Bと同じ辺に存在しないリード位置と直
線ABとの距離を求め、その距離が最小になる点Qを求
める(図17参照)。さらにその点Qと点A,Bとを結
んでできる三角形の面積が最大になる点をCとする。つ
まり、求めようとする仮想平面と点Qから直線ABに下
ろした垂線とのなす角θが最小となる(三角形ABQの
面積が最大となる)点が最も仮想平面に近いリード位置
となる(図18参照)。そして、このように求めた点C
について上述の検証を行ない、上記条件を満足する点C
が求まるまで同じ処理を繰り返す。
If the point C that satisfies the condition is not found even after repeating the above processing loop four times, the point C is found by another procedure as follows (subroutine). First, the distance between a lead position outside the triangle formed by connecting the points A and B with the center of gravity G and not on the same side as the points A and B and the straight line AB is determined, and the point Q at which the distance is minimized is determined. (See FIG. 17). The point at which the area of the triangle formed by connecting the point Q and the points A and B is maximized is C. That is, the point at which the angle θ formed between the virtual plane to be obtained and the perpendicular drawn from the point Q to the straight line AB is the smallest (the area of the triangle ABQ is the largest) is the lead position closest to the virtual plane (FIG. 18). And the point C obtained in this way
The above-mentioned verification is performed for
The same processing is repeated until is obtained.

【0029】このようにして仮想平面が求まれば、後は
仮想平面と各リード位置との距離は容易に算出すること
ができ、仮想平面とリード位置の距離がリードの浮き量
となる。このとき浮き量の限界値を設定しておけば、検
査毎にワークWの浮き量の良否判定を行なうことができ
る。なお、ミラー部7を使って1台のカメラ1で縦横方
向と高さ方向の画像を撮像する構成では、図19に示す
ように縦横方向と高さ方向の画像を各々別のカメラ11
〜13 で撮像する場合に比較して分解能が低下してしま
う。つまり、図19に示すように複数台のカメラ11
で撮像すると高分解能にできる。しかしながら、図20
に示すように各カメラ11 …毎に得られる画像を処理す
るための画像処理ブロック2を備えるとコストが上昇
し、また複数台のカメラ11 …に対して1つの画像処理
ブロック2を兼用すると、各カメラ11 …の撮像画像を
順次に処理しなければならず、処理時間が長くなるとい
う欠点がある。よって、要求される精度、コスト並びに
処理時間等の諸条件を考慮して、最適な装置構成を選択
することが望ましい。
Once the virtual plane is obtained in this way, the distance between the virtual plane and each lead position can be easily calculated, and the distance between the virtual plane and the lead position is the amount of lead lift. At this time, if the limit value of the floating amount is set, the quality of the floating amount of the work W can be determined for each inspection. In the configuration for capturing an image of the vertical and horizontal direction and the height direction with the mirror portion 7 in one camera 1, each separate camera 1 1 image of horizontal and vertical directions and the height direction as shown in FIG. 19
Resolution compared is reduced when imaged with ~ 1 3. That is, the camera 1 of the plurality as shown in FIG. 19 1 ...
High resolution can be obtained by imaging with. However, FIG.
As shown in the figure, if an image processing block 2 for processing an image obtained for each camera 1 1 ... Is provided, the cost increases, and one image processing block 2 is also used for a plurality of cameras 1 1 . Then, the captured images of the cameras 1 1 ... Must be sequentially processed, and there is a disadvantage that the processing time becomes long. Therefore, it is desirable to select an optimal device configuration in consideration of various conditions such as required accuracy, cost, and processing time.

【0030】[0030]

【発明の効果】請求項1の発明は、検査対象のICを上
方向から撮像する撮像手段と、ICの横方向から見た画
像を上方向に反射又は屈折させる光学手段と、撮像手段
から得られる画像を処理してICのリードの上下方向の
浮き量を算出する画像処理手段とを備え、画像処理手段
は、予め所定箇所の寸法が計測されている治具を撮像手
段で撮像して得られる画像から当該所定箇所の検出を行
ない、これら所定箇所の寸法の計測により得られる座標
と検出により得られる座標とに基づいて撮像手段で撮像
される画像の座標系を補正し、補正した座標系における
所定箇所を検出した検出値を用いてリードが接地する仮
想平面を求め、該仮想平面とリードとの距離からリード
の浮き量を算出するので、ICの上方向から見た画像と
横方向から見た画像を1つの撮像手段によって同時に撮
像することができて光学系の構成を簡素化することが可
能であるとともに、治具を用いて撮像した画像の座標系
を補正することにより光学系の調整が簡易に行なえ、高
精度の検査が可能となるという効果がある。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an imaging means for imaging an IC to be inspected from above, an optical means for reflecting or refracting an image viewed from a lateral direction of the IC in an upward direction, and an imaging means. Image processing means for processing the image to be obtained and calculating the vertical lifting amount of the leads of the IC. The image processing means obtains the image of the jig in which the dimensions of the predetermined portions are measured in advance by the imaging means. The predetermined location is detected from the image to be obtained, and the coordinate system of the image captured by the imaging unit is corrected based on the coordinates obtained by measuring the dimensions of these predetermined locations and the coordinates obtained by the detection, and the corrected coordinate system is used. A virtual plane where the lead is grounded is obtained using the detection value obtained by detecting the predetermined position in the above, and the floating amount of the lead is calculated from the distance between the virtual plane and the lead. The picture I saw Can be imaged at the same time by one imaging means, and the configuration of the optical system can be simplified, and the adjustment of the optical system can be simplified by correcting the coordinate system of the image captured using the jig. And high-precision inspection can be performed.

【0031】請求項2の発明は、検査対象のICを上方
向並びに横方向から撮像する複数の撮像手段と、各撮像
手段から得られる画像を処理してICのリードの上下方
向の浮き量を算出する画像処理手段とを備え、画像処理
手段は、予め所定箇所の寸法が計測されている治具を各
撮像手段で撮像して得られる画像から当該所定箇所の検
出を行ない、これら所定箇所の寸法の計測により得られ
る座標と検出により得られる座標とに基づいて撮像手段
で撮像される画像の座標系を補正し、補正した座標系に
おける所定箇所を検出した検出値を用いてリードが接地
する仮想平面を求め、該仮想平面とリードとの距離から
リードの浮き量を算出するので、治具を用いて撮像した
画像の座標系を補正することにより光学系の調整が簡易
に行なえ、高精度の検査が可能となるという効果があ
る。
According to a second aspect of the present invention, there are provided a plurality of image pickup means for picking up an image of an IC to be inspected from above and in a lateral direction, and processing the images obtained from each of the image pickup means to determine the amount of vertical lifting of the IC lead. Image processing means for calculating, wherein the image processing means detects the predetermined location from an image obtained by imaging the jig whose dimensions of the predetermined location are measured in advance by each imaging means, and detects the predetermined location. The coordinate system of the image picked up by the image pickup means is corrected based on the coordinates obtained by measuring the dimensions and the coordinates obtained by the detection, and the lead is grounded using a detection value obtained by detecting a predetermined position in the corrected coordinate system. Since the virtual plane is obtained and the floating amount of the lead is calculated from the distance between the virtual plane and the lead, the adjustment of the optical system can be easily performed by correcting the coordinate system of the image captured using the jig, thereby achieving high precision. There is an effect that inspection is possible.

【0032】請求項3の発明は、画像処理手段が、検出
される複数の所定箇所毎に座標系の補正を行なうので、
きめ細かな補正が可能となるという効果がある。請求項
4の発明は、画像処理手段が、治具の複数の所定箇所の
寸法の計測により得られる座標と検出により得られる座
標とを直交座標系の2つの成分毎に平均して横方向から
見た画像の補正比率を算出するので、補正のための演算
を簡易化できるとともに治具の所定箇所を検出した検出
値の誤差をなまらせることができるという効果がある。
According to a third aspect of the present invention, the image processing means corrects the coordinate system for each of a plurality of predetermined locations detected.
There is an effect that fine correction can be performed. According to a fourth aspect of the present invention, the image processing means averages the coordinates obtained by measuring the dimensions of a plurality of predetermined portions of the jig and the coordinates obtained by the detection for each of the two components of the rectangular coordinate system, from the horizontal direction. Since the correction ratio of the viewed image is calculated, there is an effect that the calculation for correction can be simplified and the error of the detection value obtained by detecting the predetermined portion of the jig can be reduced.

【0033】請求項5の発明は、検査対象のICを横方
向から見た画像をICの上方向に反射又は屈折させてI
Cの上方向及び横方向から見た画像を同時に撮像し、予
め所定箇所の寸法が計測されている治具を撮像して得ら
れる画像から当該所定箇所の検出を行ない、これら所定
箇所の寸法の計測により得られる座標と検出により得ら
れる座標とに基づいて撮像される画像の座標系を補正
し、補正した座標系における所定箇所を検出した検出値
を用いてリードが接地する仮想平面を求め、該仮想平面
とリードとの距離からリードの浮き量を算出するので、
ICの上方向から見た画像と横方向から見た画像を1つ
の撮像手段によって同時に撮像することができて光学系
の構成を簡素化することが可能であるとともに、治具を
用いて撮像した画像の座標系を補正することにより光学
系の調整が簡易に行なえ、高精度の検査が可能となると
いう効果がある。
According to a fifth aspect of the present invention, an image of an IC to be inspected as viewed from the lateral direction is reflected or refracted in the upward direction of the IC so as to reflect the image.
C, the images viewed from above and from the lateral direction are simultaneously captured, and the predetermined location is detected from an image obtained by capturing a jig in which the dimensions of the predetermined locations are measured in advance. Correcting the coordinate system of the image captured based on the coordinates obtained by the measurement and the coordinates obtained by the detection, obtaining a virtual plane on which the lead is grounded using a detection value obtained by detecting a predetermined location in the corrected coordinate system, Since the lift amount of the lead is calculated from the distance between the virtual plane and the lead,
An image viewed from above and an image viewed from the side of the IC can be simultaneously captured by one image capturing unit, so that the configuration of the optical system can be simplified, and the image is captured using a jig. By correcting the coordinate system of the image, the adjustment of the optical system can be easily performed, and there is an effect that a highly accurate inspection can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment.

【図2】同上においてワークをカメラで撮像した画像を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an image of a work taken by a camera in the above.

【図3】同上における補正用の治具を示し、(a)は平
面図、(b)及び(c)は側面図である。
3A and 3B show a correction jig in the above embodiment, wherein FIG. 3A is a plan view, and FIGS. 3B and 3C are side views.

【図4】同上におけるキャリブレーションの方法を説明
するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a calibration method in the above.

【図5】同上におけるキャリブレーションの方法を説明
するためのフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart for explaining a calibration method in the above.

【図6】同上における治具を撮像した縦横方向の画像を
示す図である。
FIG. 6 is a view showing vertical and horizontal images of the jig in the same embodiment.

【図7】同上における治具を撮像した高さ方向の画像を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an image in the height direction of the jig in the same embodiment.

【図8】同上におけるキャリブレーションの方法を説明
するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining a calibration method in the above.

【図9】同上におけるキャリブレーションの方法を説明
するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a calibration method in the above.

【図10】同上におけるキャリブレーションの方法を説
明するためのフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart illustrating a calibration method according to the embodiment.

【図11】同上におけるキャリブレーションの方法を説
明するための図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining a calibration method in the above.

【図12】同上の検査方法を説明するためのフローチャ
ートである。
FIG. 12 is a flowchart illustrating an inspection method according to the embodiment.

【図13】同上の検査方法を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining the inspection method of the above.

【図14】同上における仮想平面の算出方法を説明する
ためのフローチャートである。
FIG. 14 is a flowchart for explaining a virtual plane calculation method in the above energy management system;

【図15】同上における仮想平面の算出方法を説明する
ための図である。
FIG. 15 is a diagram for explaining a method of calculating a virtual plane in the above embodiment.

【図16】同上における仮想平面の算出方法を説明する
ための図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating a method for calculating a virtual plane in the above embodiment.

【図17】同上における仮想平面の算出方法を説明する
ための図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating a method for calculating a virtual plane in the above embodiment.

【図18】同上における仮想平面の算出方法を説明する
ための図である。
FIG. 18 is a diagram illustrating a method for calculating a virtual plane in the above embodiment.

【図19】他の構成を示すブロック図である。FIG. 19 is a block diagram showing another configuration.

【図20】同上におけるワークをカメラで撮像した画像
を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing an image obtained by capturing the work in the above with a camera.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カメラ 2 画像処理ブロック 3 A/D変換部 4 メモリ部 5 CPU 6 拡散板 7 ミラー部 Reference Signs List 1 camera 2 image processing block 3 A / D conversion unit 4 memory unit 5 CPU 6 diffuser 7 mirror unit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象のICを上方向から撮像する撮
像手段と、ICの横方向から見た画像を上方向に反射又
は屈折させる光学手段と、撮像手段から得られる画像を
処理してICのリードの上下方向の浮き量を算出する画
像処理手段とを備え、画像処理手段は、予め所定箇所の
寸法が計測されている治具を撮像手段で撮像して得られ
る画像から当該所定箇所の検出を行ない、これら所定箇
所の寸法の計測により得られる座標と検出により得られ
る座標とに基づいて撮像手段で撮像される画像の座標系
を補正し、補正した座標系における所定箇所を検出した
検出値を用いてリードが接地する仮想平面を求め、該仮
想平面とリードとの距離からリードの浮き量を算出する
ことを特徴とするICリード浮き検査装置。
An image pickup means for picking up an image of an IC to be inspected from above, an optical means for reflecting or refracting an image viewed from a lateral side of the IC in an upward direction, and an image processing means for processing an image obtained from the image pickup means. Image processing means for calculating the vertical floating amount of the lead of the lead, wherein the image processing means determines the predetermined position of the predetermined portion from an image obtained by imaging the jig whose dimensions have been measured in advance by the imaging device. Detection, correcting the coordinate system of the image captured by the imaging means based on the coordinates obtained by measuring the dimensions of these predetermined locations and the coordinates obtained by the detection, and detecting the predetermined location in the corrected coordinate system. An IC lead floating inspection apparatus, wherein a virtual plane on which a lead is grounded is obtained using a value, and a floating amount of the lead is calculated from a distance between the virtual plane and the lead.
【請求項2】 検査対象のICを上方向並びに横方向か
ら撮像する複数の撮像手段と、各撮像手段から得られる
画像を処理してICのリードの上下方向の浮き量を算出
する画像処理手段とを備え、画像処理手段は、予め所定
箇所の寸法が計測されている治具を各撮像手段で撮像し
て得られる画像から当該所定箇所の検出を行ない、これ
ら所定箇所の寸法の計測により得られる座標と検出によ
り得られる座標とに基づいて撮像手段で撮像される画像
の座標系を補正し、補正した座標系における所定箇所を
検出した検出値を用いてリードが接地する仮想平面を求
め、該仮想平面とリードとの距離からリードの浮き量を
算出することを特徴とするICリード浮き検査装置。
2. A plurality of image pickup means for picking up an IC to be inspected in an upward direction and in a lateral direction, and an image processing means for processing an image obtained from each image pickup means to calculate a floating amount of an IC lead in a vertical direction. The image processing means detects the predetermined location from an image obtained by imaging the jig whose dimensions of the predetermined location are measured in advance by each imaging means, and obtains the measurement by measuring the dimensions of these predetermined locations. The coordinate system of the image captured by the imaging unit is corrected based on the obtained coordinates and the coordinates obtained by the detection, and a virtual plane where the lead is grounded using a detection value obtained by detecting a predetermined location in the corrected coordinate system is obtained, An IC lead floating inspection device, which calculates a lead floating amount from a distance between the virtual plane and the lead.
【請求項3】 画像処理手段は、検出される複数の所定
箇所毎に座標系の補正を行なうことを特徴とする請求項
1又は2記載のICリード浮き検査装置。
3. The IC lead floating inspection device according to claim 1, wherein the image processing means corrects the coordinate system for each of a plurality of predetermined positions detected.
【請求項4】 画像処理手段は、治具の複数の所定箇所
の寸法の計測により得られる座標と検出により得られる
座標とを直交座標系の2つの成分毎に平均して横方向か
ら見た画像の補正比率を算出することを特徴とする請求
項1又は2記載のICリード浮き検査装置。
4. The image processing means averages the coordinates obtained by measuring the dimensions of a plurality of predetermined portions of the jig and the coordinates obtained by detection for each of two components of a rectangular coordinate system, and looks at the horizontal direction. 3. The IC lead floating inspection device according to claim 1, wherein a correction ratio of the image is calculated.
【請求項5】 検査対象のICを横方向から見た画像を
ICの上方向に反射又は屈折させてICの上方向及び横
方向から見た画像を同時に撮像し、予め所定箇所の寸法
が計測されている治具を撮像して得られる画像から当該
所定箇所の検出を行ない、これら所定箇所の寸法の計測
により得られる座標と検出により得られる座標とに基づ
いて撮像される画像の座標系を補正し、補正した座標系
における所定箇所を検出した検出値を用いてリードが接
地する仮想平面を求め、該仮想平面とリードとの距離か
らリードの浮き量を算出することを特徴とするICリー
ド浮き検査方法。
5. An image of an IC to be inspected viewed from the lateral direction is reflected or refracted in the upward direction of the IC to simultaneously capture images of the IC viewed from the upward direction and the lateral direction. The predetermined location is detected from an image obtained by imaging the jig being set, and the coordinate system of the image captured based on the coordinates obtained by measuring the dimensions of these predetermined locations and the coordinates obtained by the detection is determined. An IC lead, wherein a virtual plane where the lead is grounded is obtained by using a detected value obtained by detecting a predetermined position in the corrected coordinate system, and a floating amount of the lead is calculated from a distance between the virtual plane and the lead. Floating inspection method.
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