JP2716251B2 - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JP2716251B2
JP2716251B2 JP2215997A JP21599790A JP2716251B2 JP 2716251 B2 JP2716251 B2 JP 2716251B2 JP 2215997 A JP2215997 A JP 2215997A JP 21599790 A JP21599790 A JP 21599790A JP 2716251 B2 JP2716251 B2 JP 2716251B2
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克宜 財津
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日本電気アイシーマイコンシステム株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体メモリに関し、特にダイナミックメモ
リ等に代表される半導体メモリに関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種の半導体メモリは、第2図に示す様に、
ワード線2,3は一本ずつ絶縁され、一組のデジット線6,7
対に対して、常に一本のワード線が選択されていた。つ
まり、1ビットのデータの記憶に、一本のワード線と一
対のデジット線とにより選択される一個のメモリセルを
使用していた。メモリの読み出しの際には、センスアン
プ(S.A.)9が増幅する。
〔発明が解決しようとする課題〕
前述した従来の半導体メモリは、ワード線は一本ずつ
絶縁され、一組のデジット線対に対して、常に一本のワ
ード線が選択されていた。つまり、1ビットのデータの
記憶に1個のメモリセルを使用していたので、1個のメ
モリセルの不良や悪特性が、直接にビット不良となり、
さらにはその製品を完全な不良品としなければならない
場合もあるという欠点があった。
本発明の目的は、前記欠点を解決し、一個のメモリセ
ルの不良が直接ビット不良とならないようにした半導体
メモリを提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体メモリは、縦列に配置され第1および
第2のデジット線からなる複数のデジット線対と、これ
らのデジット線対に交差して横列に配列される複数のワ
ード線と、前記第1および前記第2のデジット線のいず
れか一方および前記ワード線の交差点ごとに設けられる
メモリセルとからなるメモリセルアレイを有し、1ビッ
トの情報の記憶に際し前記ワード線1本と前記デジット
線1対とで選択された前記メモリセル1個を用いる半導
体メモリにおいて、前記第1および前記第2のデジット
線それぞれに接続された前記メモリセル選択用の前記ワ
ード線2本の間にトランスファゲートを設けるととも
に、前記ワード線1本と前記デジット線1対とで選択さ
れる前記メモリセル1個に代えて、前記トランスファゲ
ートと前記ワード線2本と前記デジット線1対とで選択
される前記メモリセル2個が用いられ、所定の制御信号
により前記トランスファゲートの導通を制御して前記ワ
ード線2本の線間を短絡するか否かで、前記1ビットの
情報の記憶を、前記メモリセルアレイの前記メモリセル
全てに対して前記メモリセル1個または2個単位のいず
れで行うかを選択することを特徴とする。
〔実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の半導体メモリの回路図で
ある。
第1図において、本実施例の半導体メモリは、メモリ
セル本体10にそれぞれ接続されたトランスファゲート4,
5と、ワード線2,3短絡用トランスファゲート1とを備え
ている。
本実施例の半導体メモリの構成は、二本のワード線2,
3を短絡するためのトランスファゲート1を配置し、短
絡された二本のワード線2,3をそれぞれゲート入力とす
る二個のトランスファゲート4,5の内、第一のトランス
ファゲート4をデジット線6,7対の一方6とコンデンサ1
0の間に配置し、もう一つの第二のトランスファゲート
5をデジット線対のもう一方7とコンデンサ10の間に配
置する事を特徴とする。
トランスファゲート1は、制御信号8によりON/OFFさ
れ、ワード線2,3を短絡する。メモリセル中のトランス
ファゲート4は、ワード線2をゲート入力とし、デジッ
ト線6に接続する。同様に、メモリセル中のトランスフ
ァゲート5は、ワード線3をゲート入力とし、デジット
線7に接続する。
本実施例は、制御信号8により、トランジスタ1をON
した場合(以降ツイン・ワード・モードと呼ぶ)に、二
本のワード線2,3が短絡され、1ビットのデータの記憶
に二個のメモリセルが使用される。すなわち、メモリセ
ル4,5に同一のデータが記憶される。もちろん、この時
メモリセルアレイのメモリ容量自体は通常時の半分とな
る。この結果として、一般のユーザーにとっては、通常
時のメモリ容量とツイン・ワード・モード時のメモリ容
量との二選択が可能となる。もちろん、ツイン・ワード
・モード時のメモリ容量は通常時の半分である。反面、
メモリセルを二個づかいするため、センス時間の短縮や
データホールド時間の増大など、AC特性面でのいくつか
の規格アップが可能となる。
また、通常時にビット不良やワード不良により、不良
品とされる製品でも、ツイン・ワード・モードにより、
メモリセル二個のうち少なくとも一個が良品であればよ
いので、不良が解消され、メモリ容量こそ半分となる
が、良品の別製品として取り扱う事が出来る。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、1ビットのデータの
記憶に二個のメモリセルが使用できるから、一個のメモ
リセルが不良となっても、不良品扱いにせずに済むとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の半導体メモリの回路図、第
2図は従来の半導体メモリの回路図である。 1……トランスファゲート、2,3……ワード線、4,5……
メモリセル中のトランスファゲート、6,7……デジット
線、8……制御信号。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】縦列に配置され第1および第2のデジット
    線からなる複数のデジット線対と、これらのデジット線
    対に交差して横列に配列される複数のワード線と、前記
    第1および前記第2のデジット線のいずれか一方および
    前記ワード線の交差点ごとに設けられるメモリセルとか
    らなるメモリセルアレイを有し、1ビットの情報の記憶
    に際し前記ワード線1本と前記デジット線1対とで選択
    された前記メモリセル1個を用いる半導体メモリにおい
    て、前記第1および前記第2のデジット線それぞれに接
    続された前記メモリセル選択用の前記ワード線2本の間
    にトランスファゲートを設けるとともに、前記ワード線
    1本と前記デジット線1対とで選択される前記メモリセ
    ル1個に代えて、前記トランスファゲートと前記ワード
    線2本と前記デジット線1対とで選択される前記メモリ
    セル2個が用いられ、所定の制御信号により前記トラン
    スファゲートの導通を制御して前記ワード線2本の線間
    を短絡するか否かで、前記1ビットの情報の記憶を、前
    記メモリセルアレイの前記メモリセル全てに対して前記
    メモリセル1個または2個単位のいずれで行うかを選択
    することを特徴とする半導体メモリ。
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