JP2715453B2 - 図形描画方法 - Google Patents

図形描画方法

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JP2715453B2 JP63169365A JP16936588A JP2715453B2 JP 2715453 B2 JP2715453 B2 JP 2715453B2 JP 63169365 A JP63169365 A JP 63169365A JP 16936588 A JP16936588 A JP 16936588A JP 2715453 B2 JP2715453 B2 JP 2715453B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電子計算機における図形の描画方法、特に図
形記憶装置に描画する単位と図形記憶装置の内容を表示
する単位とが異なる場合の、効率的な矩形領域描画方法
に関する。
[従来の技術] 従来の矩形領域描画の方法は、以下の様に行われてい
る。ただし、任意の一方向に連続した複数の図形を表示
する最小単位ドットと記述し、ドットは水平方向に連続
しているものとする。また、図形記憶装置に図形を描画
する最小単位を以下パターンと記述する。
(1)矩形領域をその構成要素である水平線に分割す
る。
(2)(1)で分割した各水平線を、その左端から最初
のパターン境界までの左端部と、前記水平線に含まれる
最終のパターン境界から右端までの右端部分と、左端部
分と右端部分にはさまれた中央部分に分割し、それぞれ
の描画パターンを作成する。
(3)左端部分・中央部分・右端部分の描画パターンを
任意の順番で描画することにより、一本の水平線を描画
する。
(4)(2),(3)の処理を(1)で分割した水平線
の本数分繰り返すことにより、矩形領域を描画する。
あるいは、(2)で作成した各描画パターンを常時保
存しながら(3)の処理だけを繰り返すことにより、矩
形領域を描画する。
[発明が解決しようとする課題] 従来の矩形領域描画方法では、以下の様な問題点を有
している。
矩形領域を構成する水平線1本毎にその左端部分・中
央部分・右端部分のパターン描画を繰り返す為に、描画
終了時まで前記各部分に対応したパターンを保存する
か、あるいは毎回前記各部分に対応したパターンを作成
する処理が必要となる。その結果、パターンを保存する
場合には必要に応じた記憶領域が必要となり、記憶領域
を非効率的に使用することになる。また毎回パターンを
作成する場合には、該処理を実行するための時間が必要
になるとともに煩雑性が増大し、処理速度が1/2〜1/3に
大幅にダウンすることになる。
本発明の目的は上記問題点に鑑み、記憶領域の効率的
な使用と矩形領域描画処理の簡略化を図ることにより、
高速な矩形領域描画の方法を提供することである。
[課題を解決するための手段] 上述の課題を解決するため、本発明は、矩形描画領域
の内部を所望のパターンで描画する方法であって、 (a)前記矩形描画領域に垂直方向の境界線を設定する
ことによって、前記所望のパターンの水平幅の整数倍の
水平幅を有する第1種の分割矩形領域と、前記所望のパ
ターンの水平幅未満の水平幅を有する第2種の分割矩形
領域とに前記矩形描画領域を分割する工程と、 (b)前記第1種の分割矩形領域の内部に前記所望のパ
ターンを繰り返し適用することによって、前記第1種の
分割矩形領域の内部を前記所望のパターンで塗りつぶす
工程と、 (c)前記第2種の分割矩形領域の内部を描画するため
の描画パターンとして、前記第2種の分割矩形領域の水
平幅と等しい有効水平幅を有し、かつ、前記第1種の分
割矩形領域における前記所望のパターンと連続する描画
パターンを前記所望のパターンから作成するとともに、
前記描画パターンを前記第2種の分割矩形領域の内部に
繰り返し適用することによって、前記第2種の分割矩形
領域の内部を前記描画パターンで塗りつぶす工程と、 を備える。
[作用] 第1種の分割矩形領域は、所望のパターンの水平幅の
整数倍の水平幅を有しているので、この所望のパターン
を繰り返し適用することによって第1種の分割矩形領域
の内部を塗りつぶすことができる。また、第2図の分割
矩形領域に対しては、その水平幅と同じ有効水平幅を有
する描画パターンが作成されるので、この描画パターン
を第2種の分割矩形領域の内部に繰り返し適用すること
によって、その内部を塗りつぶすことができる。また、
各分割矩形領域の描画のためのパターンは、それぞれの
描画の前に1回作成するだけでよい。
[実施例] 以下に、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
第1図は本発明の一実施例による構成、第2図は図形
記憶装置の一構成例を示す。
第1図において、101は図形表示装置、102は図形記憶
装置、103は図形描画手段、104は描画パターン作成手段
を表す。このうち、図形記憶装置は本実施例において第
2図に示すような特徴を有するものとする。201は表示
基本単位のドット、202は描画基本単位のパターンで、
水平方向に連続した8個のドットから構成される。この
とき、図形記憶装置上の任意のドット位置Aを A=(X,Y)=X+Y*640 で求められる座標系で表現する。また、図形を描画する
とは、図形記憶装置の対象ドット位置に1または0を書
き込むこととする。ただし、本発明はこの数値例に限定
されることはない。
(1)実施例1 以下に矩形領域描画の過程を、第3図のフローチャー
ト(ステップ301〜319)、及び第4図を参照しつつ具体
的に説明する。
ここで説明を簡単にするために、図形記憶装置は初期
化され図形データは何も記憶されていないものとする。
第4図に示した、座標(X1,Y1)と(X2,Y2)の2点を
対角とする矩形領域Bを描画する場合、第4図に示した
ように、この矩形領域Bを次の3つの矩形領域B1,B2,B3
に分割する。(ステップ301) B1:(X1,Y1)と(XL,Y2)を対角とする矩形領域 B2:(XR,Y1)と(X2,Y2)を対角とする矩形領域 B3:(XL+1,Y1)と(XR−1,Y2)を対角とする矩形領
域 ただし、XLは(XL〉=X1)かつ(XL+1)がパターン
境界値であることを満足する最小値。また、XRは(XR=
〈X2)かつパターン境界値であることを満足する最大
値。ここで、パターン境界値とは一パターンを構成する
ドット数8で割り切れる値である。また、X1あるいは
(X2+1)がパターン境界値である場合は、B1あるいは
B2がB3に含まれることになる。矩形領域B3は描画基本単
位パターンの水平幅(8ドット)の整数倍の水平幅を有
する第1種の分割矩形領域であり、矩形領域B1,B3は描
画基本単位パターンの水平幅未満の水平幅を有する第2
種の分割矩形領域である。
次に各矩形領域を描画するが、その描画順は任意であ
り、本実施例ではB1,B2,B3の順で描画するものとする。
矩形領域B1の描画は以下の手順により行う。まず、X
座標X1ないしXLの有効水平幅を含む一パターン幅の水平
線の描画パターンP1を作成する。(ステップ302)次
に、このパターンP1をY座標Y1からY2まで、X座標位置
(XL−7)から描画する。(ステップ303〜306) 矩形領域B2の描画は以下の手順により行う。まず、X
座標XRないしX2の有効水平幅を含む一パターン幅の水平
線の描画パターンP2を作成する。(ステップ307)次
に、このパターンP2をY座標Y1からY2まで、X座標位置
XRから描画する。(ステップ308〜311) 矩形領域B3の描画は以下の手順により行う。まず、描
画パターンP3を作成する。(ステップ312)次にX座標
(XL+1)から(XR−1)を満たすまで、水平方向にパ
ターンP3を連続して描画し、さらにこの処理をY座標Y1
からY2まで繰り返す。(ステップ313〜319) 以上で指定された矩形領域の描画が終了する。
(2)実施例2 実施例1の応用として、図形記憶装置上に既になんら
かの図形データが描画されている場合に、実施例1と同
様な矩形領域を描画する場合を説明する。
ただし本例の場合、図形描画手段として以下に説明す
る2種類の描画モードを備えた図形描画装置があるもの
とする。
(a)描画パターンをそのまま図形記憶装置に描画する
モード(以下REPLACEモードと記述する) (b)描画パターンの1のドットは図形記憶装置に1を
描画し、描画パターンの0のドットは図形記憶装置のま
まとするモード(以下ORモードと記述する) また、図形描画装置は描画処理を行う前に登録された
描画パターンを処理対象とし、一度登録された描画パタ
ーンは再度登録を行うまで有効であるものとする。
以下に本実施例の具体的な処理過程を、第4図及び第
5図を用いて説明する。
本実施例の場合も基本的な処理過程は実施例1と同様
である。ただし、既に描画されている図形データのう
ち、指定された矩形領域B以外の図形データは、図形記
憶装置上のまま保存しなければならない。従って、分割
した矩形領域B1,B2を描画する際の描画パターンの作成
には第5図に示すような処理が必要となる。図中、501
は矩形領域B1を描画する前のY座標位置Y1のパターンで
あり、502は501を元に作成された矩形領域B1描画用のパ
ターンである。501から502への変換は、描画対象として
矩形領域B1のX座標X1からXLまでに1を書き込むことに
より行われる。
さらに、矩形領域B1を描画するためには前記のパター
ン作成処理をY座標位置Y1からY2まで行わなければなら
ない。これは一見非常に煩雑な処理に思われるが、先に
説明した図形描画装置に実施例1で説明した描画パター
ンP1を登録し、ORモードで描画することにより、実施例
1と同様な処理となる。
同様に、矩形領域B2は描画パターンP2を登録後ORモー
ドで、矩形領域B3は描画パターンP3を登録後REPLACEモ
ードで、実施例1と同様に描画すれば良いことになる。
以上の処理を従来の方法で行うとすると、左端部分・
右端部分・中央部分の描画を水平線の本数分繰り返すの
で、その度に各パターンの登録が必要となるとともに、
各パターンを常時保存する必要がある。本発明の方法に
よれば既に説明したように3回のパターン登録で済むこ
と、さらに各パターンを常時保存する必要がないことか
ら、従来の方法と比較してその優位性は明白である。
[発明の効果] 以上説明した様に本発明によれば、複数の描画パター
ンを常時保存するための記憶領域が必要なくなると共
に、矩形領域描画処理が簡略化され、従来の方法に比べ
て2倍〜3倍高速な矩形領域描画が可能となる効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による構成、第2図は図形記
憶装置の一構成例、第3図は本発明の処理過程を示すフ
ローチャート、第4図は本発明により描画される矩形領
域の例、第5図は本発明による描画パターンの作成例を
表したそれぞれ略図である。 101:図形表示装置 102:図形記憶装置 103:図形描画手段 104:描画パターン作成手段

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】矩形描画領域の内部を所望のパターンで描
    画する方法であって、 (a)前記矩形描画領域に垂直方向の境界線を設定する
    ことによって、前記所望のパターンの水平幅の整数倍の
    水平幅を有する第1種の分割矩形領域と、前記所望のパ
    ターンの水平幅未満の水平幅を有する第2種の分割矩形
    領域とに前記矩形描画領域を分割する工程と、 (b)前記第1種の分割矩形領域の内部に前記所望のパ
    ターンを繰り返し適用することによって、前記第1種の
    分割矩形領域の内部を前記所望のパターンで塗りつぶす
    工程と、 (c)前記第2種の分割矩形領域の内部を描画するため
    の描画パターンとして、前記第2種の分割矩形領域の水
    平幅と等しい有効水平幅を有し、かつ、前記第1種の分
    割矩形領域における前記所望のパターンと連続する描画
    パターンを前記所望のパターンから作成するとともに、
    前記描画パターンを前記第2種の分割矩形領域の内部に
    繰り返し適用することによって、前記第2種の分割矩形
    領域の内部を前記描画パターンで塗りつぶす工程と、 を備える図形描画方法。
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5552139A (en) * 1978-10-11 1980-04-16 Nec Corp Hatching circuit

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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