JP2713734B2 - 基板用電子ビームテスタ - Google Patents
基板用電子ビームテスタInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、液晶パネル用薄膜トランジスタアレイ基
板等の液晶基板の検査に用いる基板用電子ビームテスタ
に関するものである。
板等の液晶基板の検査に用いる基板用電子ビームテスタ
に関するものである。
近年、半導体製造過程において、半導体チップの特性
をウェハ状態で全数検査を行うことにより、不良品を組
立工程へ流さないようにし、組立工数と材料損を削減し
ようとしている。そして、不良ロットを早期に発見し、
プロセスフィードバックすることにより、歩留りの向上
を目指している。このように、半導体製造過程における
半導体チップの特性を検査するために、走査範囲の大き
な走査型電子顕微鏡を用いた一度に多数の半導体チップ
の検査を行えるスループットの高い基板用電子ビームテ
スタが必要とされている。
をウェハ状態で全数検査を行うことにより、不良品を組
立工程へ流さないようにし、組立工数と材料損を削減し
ようとしている。そして、不良ロットを早期に発見し、
プロセスフィードバックすることにより、歩留りの向上
を目指している。このように、半導体製造過程における
半導体チップの特性を検査するために、走査範囲の大き
な走査型電子顕微鏡を用いた一度に多数の半導体チップ
の検査を行えるスループットの高い基板用電子ビームテ
スタが必要とされている。
従来のこの種の基板用電子ビームテスタを第５図およ
び第６図に基づいて説明する。
び第６図に基づいて説明する。
この基板用電子ビームテスタは、液晶パネル用薄膜ト
ランジスタアレイ基板の検査に用いる基板用電子ビーム
テスタであり、第５図に示すように、減圧された試料室
内（図示せず）で液晶パネル用薄膜トランジスタアレイ
基板からなる４面取りの試料59の各面Ａ′,B′,C′,D′
ごとに順次電子ビーム走査手段61により電子ビーム53を
走査しながら照射し、試料59から放出される２次電子54
を検出して試料59の観察を行っている。電子ビーム走査
手段61は、電子銃51および電子レンズ系52から構成して
いる。
ランジスタアレイ基板の検査に用いる基板用電子ビーム
テスタであり、第５図に示すように、減圧された試料室
内（図示せず）で液晶パネル用薄膜トランジスタアレイ
基板からなる４面取りの試料59の各面Ａ′,B′,C′,D′
ごとに順次電子ビーム走査手段61により電子ビーム53を
走査しながら照射し、試料59から放出される２次電子54
を検出して試料59の観察を行っている。電子ビーム走査
手段61は、電子銃51および電子レンズ系52から構成して
いる。
以下、この基板用電子ビームテスタの動作を第５図お
よび第６図に基づいて詳しく説明する。
よび第６図に基づいて詳しく説明する。
減圧された試料室内のＸ−Ｙテーブル60に４面取りの
試料59が配置されている。電子銃51で生成した熱電子
は、電子レンズ系52で加速，偏向され、試料59の表面で
収束され、電子ビーム53となる。このとき、電子レンズ
系52は、電子ビーム偏向回路58により制御されて、電子
ビーム53を走査しながら試料59の表面に照射する。
試料59が配置されている。電子銃51で生成した熱電子
は、電子レンズ系52で加速，偏向され、試料59の表面で
収束され、電子ビーム53となる。このとき、電子レンズ
系52は、電子ビーム偏向回路58により制御されて、電子
ビーム53を走査しながら試料59の表面に照射する。
電子ビーム53を照射された試料59の表面から２次電子
54が放出される。この２次電子54は、２次電子増倍管55
に捕捉され、加速される。また、２次電子増倍管55は、
加速した２次電子54を２次電子信号S11に変換し、増幅
器56に加える。増幅器56は、２次電子増倍管55から入力
した２次電子信号S11を増幅し、モニター57に加える。
モニター57は、増幅器56で増幅された２次電子信号S11
を表示する。
54が放出される。この２次電子54は、２次電子増倍管55
に捕捉され、加速される。また、２次電子増倍管55は、
加速した２次電子54を２次電子信号S11に変換し、増幅
器56に加える。増幅器56は、２次電子増倍管55から入力
した２次電子信号S11を増幅し、モニター57に加える。
モニター57は、増幅器56で増幅された２次電子信号S11
を表示する。
また、試料59は、Ｘ−Ｙテーブル60によりＡ′面から
Ｄ′面に順次移動して電子ビーム53を照射される。
Ｄ′面に順次移動して電子ビーム53を照射される。
試料59の各面Ａ′〜Ｄ′への電子ビーム53の照射は、
第５図に示すように、まずＡ′面を電子銃51の下に配置
し、Ａ′面に電子ビーム53を走査しながら照射する。こ
のとき、電子ビーム53の走査エリアが約5mm×5mmと狭い
ため、第６図に示す矢印Ｚ′のように試料59のＡ′面の
一部分に電子ビーム53を走査する。そして、Ｘ−Ｙテー
ブル60を第６図に示す矢印Ｘ′またはＹ′の方向への移
動し、再度電子ビーム53の走査を行う。このように、電
子ビーム53の走査とＸ−Ｙテーブル60の移動とを繰り返
しながらＡ′面全域に電子ビーム53の走査を行う。Ａ′
面の電子ビーム53の走査が終了すると、Ｘ−Ｙテーブル
60を移動し、試料59のＢ′面を電子銃51の下に配置す
る。そして、Ｂ′面Ａ′面と同様に電子ビーム53の走査
とＸ−Ｙテーブル60の移動とを繰り返しＢ′面全域に電
子ビーム53の走査を行う。さらに、Ｃ′面,D′面と順次
同様に電子ビーム53の走査を行う。
第５図に示すように、まずＡ′面を電子銃51の下に配置
し、Ａ′面に電子ビーム53を走査しながら照射する。こ
のとき、電子ビーム53の走査エリアが約5mm×5mmと狭い
ため、第６図に示す矢印Ｚ′のように試料59のＡ′面の
一部分に電子ビーム53を走査する。そして、Ｘ−Ｙテー
ブル60を第６図に示す矢印Ｘ′またはＹ′の方向への移
動し、再度電子ビーム53の走査を行う。このように、電
子ビーム53の走査とＸ−Ｙテーブル60の移動とを繰り返
しながらＡ′面全域に電子ビーム53の走査を行う。Ａ′
面の電子ビーム53の走査が終了すると、Ｘ−Ｙテーブル
60を移動し、試料59のＢ′面を電子銃51の下に配置す
る。そして、Ｂ′面Ａ′面と同様に電子ビーム53の走査
とＸ−Ｙテーブル60の移動とを繰り返しＢ′面全域に電
子ビーム53の走査を行う。さらに、Ｃ′面,D′面と順次
同様に電子ビーム53の走査を行う。
また、液晶パネル用薄膜トランジスタアレイからなる
試料59は、各面Ａ′〜Ｄ′の大きさが60mm×50mmであ
り、試料59全体の寸法が152mm×152mmと大きなものにな
っている。このため、この基板用電子ビームテスタにお
いては、Ｘ−Ｙテーブル60の１面当たりの移動を120回
程度行っている。
試料59は、各面Ａ′〜Ｄ′の大きさが60mm×50mmであ
り、試料59全体の寸法が152mm×152mmと大きなものにな
っている。このため、この基板用電子ビームテスタにお
いては、Ｘ−Ｙテーブル60の１面当たりの移動を120回
程度行っている。
この従来の基板用電子ビームテスタは、４面取りの試
料59の各面Ａ′〜Ｄ′間を移動させるためにＸ−Ｙテー
ブル60をＸ方向およびＹ方向に逐次移動させているの
で、移動時間が長くかかるという問題があった。この結
果、検査時間が長くなり、製造工程での半導体チップの
全数検査ができないという問題がある。
料59の各面Ａ′〜Ｄ′間を移動させるためにＸ−Ｙテー
ブル60をＸ方向およびＹ方向に逐次移動させているの
で、移動時間が長くかかるという問題があった。この結
果、検査時間が長くなり、製造工程での半導体チップの
全数検査ができないという問題がある。
また、前述したように、試料59の寸法が152mm×152mm
と大きく、試料59の全域に電子ビーム53を走査するため
には、大きなＸ−Ｙテーブル60が必要となる。この結
果、試料室の容積が大きくなり、排気系も大規模にな
り、装置が大型になるという問題があった。
と大きく、試料59の全域に電子ビーム53を走査するため
には、大きなＸ−Ｙテーブル60が必要となる。この結
果、試料室の容積が大きくなり、排気系も大規模にな
り、装置が大型になるという問題があった。
したがって、この発明の目的は、液晶パネル用薄膜ト
ランジスタアレイ基板等の液晶基板の検査に用いられ、
小型で、検査時間を短縮できる基板用電子ビームテスタ
を提供することである。
ランジスタアレイ基板等の液晶基板の検査に用いられ、
小型で、検査時間を短縮できる基板用電子ビームテスタ
を提供することである。
第１の発明の基板用電子ビームテスタは、４面取りの
中心に鉛直な軸を回転軸として液晶基板を90度ずつ回転
させる液晶基板回転手段を設け、この液晶基板回転手段
による液晶基板の90度ずつの回転に連動して走査パター
ンを90度ずつ回転させる走査パターン回転手段を設けた
ことを特徴としている。
中心に鉛直な軸を回転軸として液晶基板を90度ずつ回転
させる液晶基板回転手段を設け、この液晶基板回転手段
による液晶基板の90度ずつの回転に連動して走査パター
ンを90度ずつ回転させる走査パターン回転手段を設けた
ことを特徴としている。
第２の発明の基板用電子ビームテスタは、４面取りの
中心に鉛直な軸を回転軸として電子ビーム走査手段を90
度ずつ回転させる電子ビーム走査系回転手段を設け、こ
の電子ビーム走査系回転手段による電子ビーム走査手段
の90度ずつの回転に連動して走査パターンを90度ずつ回
転させる走査パターン回転手段を設けたことを特徴とし
ている。
中心に鉛直な軸を回転軸として電子ビーム走査手段を90
度ずつ回転させる電子ビーム走査系回転手段を設け、こ
の電子ビーム走査系回転手段による電子ビーム走査手段
の90度ずつの回転に連動して走査パターンを90度ずつ回
転させる走査パターン回転手段を設けたことを特徴とし
ている。
第１の発明の構成によれば、液晶基板回転手段により
液晶基板を４面取りの中心に鉛直な軸を回転として90度
ずつ回転させ、走査パターン回転手段により液晶基板回
転手段の90度ずつの回転に連動して電子ビームの走査パ
ターンを90度ずつ回転させるようにしたので、液晶基板
を順次90度ずつ回転させるだけで４面取りの液晶基板の
各面を順次移動することができ、しかも液晶基板の各面
とも同方向から電子ビームを走査することができる。し
たがって、テーブルをX,Y方向に移動する場合に比べ
て、テーブルの移動時間が大幅に短縮され、またテーブ
ルの移動のためのスペースも狭くてよい。
液晶基板を４面取りの中心に鉛直な軸を回転として90度
ずつ回転させ、走査パターン回転手段により液晶基板回
転手段の90度ずつの回転に連動して電子ビームの走査パ
ターンを90度ずつ回転させるようにしたので、液晶基板
を順次90度ずつ回転させるだけで４面取りの液晶基板の
各面を順次移動することができ、しかも液晶基板の各面
とも同方向から電子ビームを走査することができる。し
たがって、テーブルをX,Y方向に移動する場合に比べ
て、テーブルの移動時間が大幅に短縮され、またテーブ
ルの移動のためのスペースも狭くてよい。
第２の発明の構成によれば、第１の発明における液晶
基板回転手段に代えて、電子ビーム走査手段を液晶基板
の４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸として90度ずつ回
転させる電子ビーム走査系回転手段を設け、この電子ビ
ーム走査系回転手段による電子ビーム走査手段の90度ず
つの回転に連動して走査パターン回転手段が走査パター
ンを90度ずつ回転するようにしたので、液晶基板の各面
に同方向から電子ビームを走査することができる。これ
により、第１の発明の作用と同様の作用となる。
基板回転手段に代えて、電子ビーム走査手段を液晶基板
の４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸として90度ずつ回
転させる電子ビーム走査系回転手段を設け、この電子ビ
ーム走査系回転手段による電子ビーム走査手段の90度ず
つの回転に連動して走査パターン回転手段が走査パター
ンを90度ずつ回転するようにしたので、液晶基板の各面
に同方向から電子ビームを走査することができる。これ
により、第１の発明の作用と同様の作用となる。
この発明の基板用電子ビームテスタの実施例を第１図
ないし第４図に基づいて説明する。
ないし第４図に基づいて説明する。
この基板用電子ビームテスタは、第１図に示すよう
に、液晶基板たとえば液晶パネル用薄膜トランジスタア
レイ基板を試料９とし、この試料９の４面取りの中心に
鉛直な軸を回転軸として試料９を90度ずつ回転させる回
転手段24を設け、回転手段24の90度ずつの回転に連動し
て走査パターンを90度ずつ回転させる走査パターン回転
手段25を設けている。この場合、回転手段24は、回転テ
ーブル21,駆動用のモータ23およびコントローラ14から
構成している。また、走査パターン回転手段25は、電子
ビーム偏向回路８およびコントローラ14から構成してい
る。
に、液晶基板たとえば液晶パネル用薄膜トランジスタア
レイ基板を試料９とし、この試料９の４面取りの中心に
鉛直な軸を回転軸として試料９を90度ずつ回転させる回
転手段24を設け、回転手段24の90度ずつの回転に連動し
て走査パターンを90度ずつ回転させる走査パターン回転
手段25を設けている。この場合、回転手段24は、回転テ
ーブル21,駆動用のモータ23およびコントローラ14から
構成している。また、走査パターン回転手段25は、電子
ビーム偏向回路８およびコントローラ14から構成してい
る。
そして、減圧された試料室15内で４面取りの試料９の
各面ごとに順次電子ビーム走査手段26により電子ビーム
３を走査しながら照射している。そして、試料９から放
出される２次電子４を検出して試料９の観察を行うよう
にしている。電子ビーム走査手段26は、電子銃１および
電子レンズ系２から構成している。
各面ごとに順次電子ビーム走査手段26により電子ビーム
３を走査しながら照射している。そして、試料９から放
出される２次電子４を検出して試料９の観察を行うよう
にしている。電子ビーム走査手段26は、電子銃１および
電子レンズ系２から構成している。
以下、この基板用電子ビームテスタについて第１図お
よび第２図に基づいて詳しく説明する。
よび第２図に基づいて詳しく説明する。
試料室15の中に、４面取り試料９が回転テーブル21の
上に配置されている。試料室15は、ターボポンプ18によ
り10-5torr程度の真空度に保たれている。電子銃１の周
囲もイオンポンプ20により10-7torrの真空度に保たれて
いる。試料９には、液晶パネル用薄膜トランジスタを駆
動する駆動回路13から出力された信号がプローブ22を介
し与えられている。
上に配置されている。試料室15は、ターボポンプ18によ
り10-5torr程度の真空度に保たれている。電子銃１の周
囲もイオンポンプ20により10-7torrの真空度に保たれて
いる。試料９には、液晶パネル用薄膜トランジスタを駆
動する駆動回路13から出力された信号がプローブ22を介
し与えられている。
電子銃１で発生した熱電子は電子レンズ系２により加
速，偏向され、試料９の表面で収束され、電子ビーム３
となる。この収束された電子ビーム３は、例えばビーム
径がφ５μｍ〜10μｍであり、ビーム電流が10-8A〜10
-10A,加速電圧が１〜15KVである。そして、電子ビーム
３は、電子レンズ系２により試料９の表面を走査しなが
ら照射される。
速，偏向され、試料９の表面で収束され、電子ビーム３
となる。この収束された電子ビーム３は、例えばビーム
径がφ５μｍ〜10μｍであり、ビーム電流が10-8A〜10
-10A,加速電圧が１〜15KVである。そして、電子ビーム
３は、電子レンズ系２により試料９の表面を走査しなが
ら照射される。
また、電子ビーム３を４面取り試料９の１面全体に一
度に走査するためには、電子ビーム３の走査エリアが66
mm×66mm必要である。このため、電子銃１と試料９との
ワーキングディスタンスを例えば約400mmに設定してい
る。このようにして、試料９の１面を電子ビーム３の走
査を一度で行うようにしている。
度に走査するためには、電子ビーム３の走査エリアが66
mm×66mm必要である。このため、電子銃１と試料９との
ワーキングディスタンスを例えば約400mmに設定してい
る。このようにして、試料９の１面を電子ビーム３の走
査を一度で行うようにしている。
電子ビーム３の照射により試料９の表面の電位分布に
対応した強度で試料９から２次電子ビーム４が放出され
る。このとき、試料９から放出される２次電子４の量
は、相対的に正電位の場所よりも負電位の場所の方が多
い。したがって、この２次電子４の放出量により試料９
の表面電位を検出することができる。
対応した強度で試料９から２次電子ビーム４が放出され
る。このとき、試料９から放出される２次電子４の量
は、相対的に正電位の場所よりも負電位の場所の方が多
い。したがって、この２次電子４の放出量により試料９
の表面電位を検出することができる。
試料９から放出された２次電子４は、２次電子増倍管
５で捕捉され加速される。そして、２次電子増倍管５
は、加速した２次電子４を２次電子信号S1に変換し、増
幅器６に加える。増幅器６は、２次電子信号S1を増幅し
アナログ・デジタル変換回路11に加える。アナログ・デ
ジタル変換回路11は、増幅器６からの増幅された２次電
子信号S1を入力し、所定の時間間隔で８ビットデジタル
データに変換し、メモリー回路12に加える。メモリー回
路12は、アナログ・デジタル変換回路11から入力したデ
ジタル化された２次電子信号S1を２次電子像として記録
する。そして、必要に応じてメモリー回路12に記録され
た２次電子像をモニター７に電位コントラスト像として
表示させ、試料９の観察を行う。
５で捕捉され加速される。そして、２次電子増倍管５
は、加速した２次電子４を２次電子信号S1に変換し、増
幅器６に加える。増幅器６は、２次電子信号S1を増幅し
アナログ・デジタル変換回路11に加える。アナログ・デ
ジタル変換回路11は、増幅器６からの増幅された２次電
子信号S1を入力し、所定の時間間隔で８ビットデジタル
データに変換し、メモリー回路12に加える。メモリー回
路12は、アナログ・デジタル変換回路11から入力したデ
ジタル化された２次電子信号S1を２次電子像として記録
する。そして、必要に応じてメモリー回路12に記録され
た２次電子像をモニター７に電位コントラスト像として
表示させ、試料９の観察を行う。
また、液晶パネル用薄膜トランジスタアレイからなる
試料９の駆動と電子ビーム３の走査および回転テーブル
21の回転を同時させる必要があるため、電子ビーム偏向
回路8,アナログ・デジタル変換回路11,液晶パネル用薄
膜トランジスタ駆動回路13および回転テーブル21の駆動
用のモータ23は、コントローラ14により同期して制御さ
れている。
試料９の駆動と電子ビーム３の走査および回転テーブル
21の回転を同時させる必要があるため、電子ビーム偏向
回路8,アナログ・デジタル変換回路11,液晶パネル用薄
膜トランジスタ駆動回路13および回転テーブル21の駆動
用のモータ23は、コントローラ14により同期して制御さ
れている。
16は予備室を示し、スループット向上のための予備排
気を行ない、予備室16の真空度をロータリーポンプおよ
びターボポンプからなるポンプ19により高速で大気から
10-5torrオーダーへ達するようにされている。
気を行ない、予備室16の真空度をロータリーポンプおよ
びターボポンプからなるポンプ19により高速で大気から
10-5torrオーダーへ達するようにされている。
そして、試料９の試料室15への搬送は、ゲート17を通
って行われる。
って行われる。
つぎに、走査パターン回転手段25と、回転手段24につ
いて説明する。
いて説明する。
回転手段24は、回転テーブル21に連結されている駆動
用のモータ23をコントローラ14が制御して、90度単位で
自由に位置決めを行い、回転テーブル21を90度ずつ回転
させる。
用のモータ23をコントローラ14が制御して、90度単位で
自由に位置決めを行い、回転テーブル21を90度ずつ回転
させる。
そして、第２図に示すように、試料９の４面取りの中
心を回転テーブル21の中心に配置し、回転テーブル21を
90度ずつ回転させて試料９の各面Ａ〜Ｄを順次電子銃１
の下に移動させるようにしている。このように、回転手
段24は、試料９を４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸と
して90度ずつ回転することになる。
心を回転テーブル21の中心に配置し、回転テーブル21を
90度ずつ回転させて試料９の各面Ａ〜Ｄを順次電子銃１
の下に移動させるようにしている。このように、回転手
段24は、試料９を４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸と
して90度ずつ回転することになる。
一方、試料９のＡ面が電子銃１の下に配置されると、
電子ビーム走査手段26は、第３図（ａ）に示す矢印ｂの
ように、Ａ面に電子ビーム３を矢印Ｘの＋方向に水平偏
向しながら矢印Ｙの＋方向に垂直偏向して走査する。つ
ぎに、回転テーブル21が矢印ａの方向に90度回転してＢ
面が電子銃１の下に移動されると、走査パターン回転手
段25は、試料９に対して、電子ビーム３がＡ面と同方向
から走査されるよう走査パターンを90度回転させ、第３
図（ｂ）に示す矢印ｃのように、電子ビーム３の走査方
向を矢印Ｙの＋方向に水平偏向しながら矢印Ｘの−方向
に垂直偏向して走査するようにする。このように、試料
９に対して、電子ビーム３が同方向から走査されるよう
にしているので、試料９が90度回転しても、メモリー回
路12で得られる２次電子像がＡ面と同じ向きに見ること
ができる。同様にして、回転テーブル21が矢印ａの方向
に90度ずつ回転してＣ面およびＤ面への移動を行うと、
走査パターン回転手段25がＣ面およびＤ面への電子ビー
ム３の走査パターンを順次90度ずつ回転させる。したが
って、Ｃ面への電子ビーム３の走査パターンは、第３図
（ｃ）に示す矢印ｄのように、矢印Ｘの−方向に水平偏
向しながら矢印Ｙの−方向に垂直偏向するようになる。
また、Ｄ面への電子ビーム３の走査パターンは、第３図
（ｄ）に示す矢印ｅのように、矢印Ｙの−方向に水平偏
向しながら矢印Ｘの＋方向に垂直偏向するようになる。
電子ビーム走査手段26は、第３図（ａ）に示す矢印ｂの
ように、Ａ面に電子ビーム３を矢印Ｘの＋方向に水平偏
向しながら矢印Ｙの＋方向に垂直偏向して走査する。つ
ぎに、回転テーブル21が矢印ａの方向に90度回転してＢ
面が電子銃１の下に移動されると、走査パターン回転手
段25は、試料９に対して、電子ビーム３がＡ面と同方向
から走査されるよう走査パターンを90度回転させ、第３
図（ｂ）に示す矢印ｃのように、電子ビーム３の走査方
向を矢印Ｙの＋方向に水平偏向しながら矢印Ｘの−方向
に垂直偏向して走査するようにする。このように、試料
９に対して、電子ビーム３が同方向から走査されるよう
にしているので、試料９が90度回転しても、メモリー回
路12で得られる２次電子像がＡ面と同じ向きに見ること
ができる。同様にして、回転テーブル21が矢印ａの方向
に90度ずつ回転してＣ面およびＤ面への移動を行うと、
走査パターン回転手段25がＣ面およびＤ面への電子ビー
ム３の走査パターンを順次90度ずつ回転させる。したが
って、Ｃ面への電子ビーム３の走査パターンは、第３図
（ｃ）に示す矢印ｄのように、矢印Ｘの−方向に水平偏
向しながら矢印Ｙの−方向に垂直偏向するようになる。
また、Ｄ面への電子ビーム３の走査パターンは、第３図
（ｄ）に示す矢印ｅのように、矢印Ｙの−方向に水平偏
向しながら矢印Ｘの＋方向に垂直偏向するようになる。
したがって、回転手段24の回転テーブル21の90度の回
転に連動して、走査パターン回転手段25が電子ビーム３
の走査パターンを90度回転させて、試料９の各面に電子
ビーム３を同方向から走査することができる。
転に連動して、走査パターン回転手段25が電子ビーム３
の走査パターンを90度回転させて、試料９の各面に電子
ビーム３を同方向から走査することができる。
このように、電子ビーム３をＸ＋,X−,Y＋,Y−の４方
向いずれの方向からも走査できるようにするとともに、
試料９の各面Ａ〜Ｄの移動を回転テーブル21の90度ずつ
の回転で行い、これに伴う電子ビーム３の各面Ａ〜Ｄへ
の走査方向，すなわち走査パターンを回転テーブル21の
90度ずつの回転に連動して90度ずつ回転するようにし
て、メモリー回路12で常に同じ向きの２次電子像を得る
ことができる。
向いずれの方向からも走査できるようにするとともに、
試料９の各面Ａ〜Ｄの移動を回転テーブル21の90度ずつ
の回転で行い、これに伴う電子ビーム３の各面Ａ〜Ｄへ
の走査方向，すなわち走査パターンを回転テーブル21の
90度ずつの回転に連動して90度ずつ回転するようにし
て、メモリー回路12で常に同じ向きの２次電子像を得る
ことができる。
つぎに、電子ビーム３を４方向の走査を行うための偏
向波形を第４図に示す。このとき、試料９を実駆動状態
と同等の状態で検査するため、駆動パルスＰの印加後、
ホールド期間t1をおいてから電子ビーム３をt2の期間走
査する。また、駆動パルスＰの周期をｔとしている。第
４図（ａ）は、駆動パルスＰの波形を示している。第４
図（ｂ）は試料９のＡ面、同図（ｃ）はＢ面、同図
（ｄ）はＣ面、同図（ｅ）はＤ面にそれぞれ走査される
電子ビーム３の偏向波形を示している。この実施例の場
合、例えば、駆動パルスＰの周期ｔを16msとし、ホール
ド期間t1を8msとし、走査期間t2を8msとしている。
向波形を第４図に示す。このとき、試料９を実駆動状態
と同等の状態で検査するため、駆動パルスＰの印加後、
ホールド期間t1をおいてから電子ビーム３をt2の期間走
査する。また、駆動パルスＰの周期をｔとしている。第
４図（ａ）は、駆動パルスＰの波形を示している。第４
図（ｂ）は試料９のＡ面、同図（ｃ）はＢ面、同図
（ｄ）はＣ面、同図（ｅ）はＤ面にそれぞれ走査される
電子ビーム３の偏向波形を示している。この実施例の場
合、例えば、駆動パルスＰの周期ｔを16msとし、ホール
ド期間t1を8msとし、走査期間t2を8msとしている。
この実施例の基板用電子ビームテスタは、回転手段24
により試料９を４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸とし
て90度ずつ回転させ、走査パターン回転手段25により回
転手段の90度ずつの回転に連動して電子ビーム３の走査
パターンを90度ずつ回転させるようにしたので、試料９
を順次90度ずつ回転させるだけで４面取りの試料９の各
面を順次移動することができ、しかも試料９の各面とも
同方向から電子ビーム３を走査することができる。した
がって、テーブルをX,Y方向に移動する場合に比べて、
テーブルの移動時間が大幅に短縮され、またテーブルの
移動のためのスペースも狭くてよく、試料室の容積を小
さくすることができる。
により試料９を４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸とし
て90度ずつ回転させ、走査パターン回転手段25により回
転手段の90度ずつの回転に連動して電子ビーム３の走査
パターンを90度ずつ回転させるようにしたので、試料９
を順次90度ずつ回転させるだけで４面取りの試料９の各
面を順次移動することができ、しかも試料９の各面とも
同方向から電子ビーム３を走査することができる。した
がって、テーブルをX,Y方向に移動する場合に比べて、
テーブルの移動時間が大幅に短縮され、またテーブルの
移動のためのスペースも狭くてよく、試料室の容積を小
さくすることができる。
また、この実施例の基板用電子ビームテスタは、電子
ビーム３の走査エリアを66mm×66mmと大きくして、一度
で試料９の１面を走査できるようにしたので、試料９の
電子ビーム３の走査時間を大幅に短縮することができ
る。
ビーム３の走査エリアを66mm×66mmと大きくして、一度
で試料９の１面を走査できるようにしたので、試料９の
電子ビーム３の走査時間を大幅に短縮することができ
る。
なお、前記の実施例の基板用電子ビームテスタにおい
ては、回転手段24により試料９を４面取りの中心に鉛直
な軸を回転軸として90度ずつ回転するようにしたが、回
転手段24（液晶基板回転手段）に代えて、電子ビーム走
査手段26を試料９の４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸
として90度ずつ回転させる電子ビーム走査系回転手段
（図示せず）を設け、この電子ビーム走査系回転手段に
よる電子ビーム走査手段26の90度ずつの回転に連動して
走査パターン回転手段25が走査パターンを90度ずつ回転
することにより、同様の作用，効果を得ることができ
る。
ては、回転手段24により試料９を４面取りの中心に鉛直
な軸を回転軸として90度ずつ回転するようにしたが、回
転手段24（液晶基板回転手段）に代えて、電子ビーム走
査手段26を試料９の４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸
として90度ずつ回転させる電子ビーム走査系回転手段
（図示せず）を設け、この電子ビーム走査系回転手段に
よる電子ビーム走査手段26の90度ずつの回転に連動して
走査パターン回転手段25が走査パターンを90度ずつ回転
することにより、同様の作用，効果を得ることができ
る。
第１の発明の基板用電子ビームテスタは、液晶基板回
転手段により液晶基板を４面取りの中心に鉛直な軸を回
転軸として90度ずつ回転させ、走査パターン回転手段に
より液晶基板回転手段の90度ずつの回転に連動して電子
ビームの走査パターンを90度ずつ回転させるようにした
ので、４面取りの液晶基板の各面を順次移動することが
でき、しかも液晶基板の各面とも同方向から電子ビーム
を走査することができる。したがって、テーブルをX,Y
方向に移動する場合に比べて、テーブルの移動時間を大
幅に短縮でき、またテーブルの移動のためのスペースも
狭くてよく、試料室の容積を小さくすることができる。
この結果、小型で、検査時間を大幅に短縮した基板用電
子ビームテスタを提供することができる。
転手段により液晶基板を４面取りの中心に鉛直な軸を回
転軸として90度ずつ回転させ、走査パターン回転手段に
より液晶基板回転手段の90度ずつの回転に連動して電子
ビームの走査パターンを90度ずつ回転させるようにした
ので、４面取りの液晶基板の各面を順次移動することが
でき、しかも液晶基板の各面とも同方向から電子ビーム
を走査することができる。したがって、テーブルをX,Y
方向に移動する場合に比べて、テーブルの移動時間を大
幅に短縮でき、またテーブルの移動のためのスペースも
狭くてよく、試料室の容積を小さくすることができる。
この結果、小型で、検査時間を大幅に短縮した基板用電
子ビームテスタを提供することができる。
第２の発明の基板用電子ビームテスタは、第１の発明
における液晶基板回転手段に代えて、電子ビーム走査手
段を液晶基板の４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸とし
て90度ずつ回転させる電子ビーム走査系回転手段を設
け、この電子ビーム走査系回転手段による電子ビーム走
査手段の90度ずつの回転に連動して走査パターン回転手
段が走査パターンを90度ずつ回転するようにしたので、
第１の発明の効果と同様の効果が得られる。
における液晶基板回転手段に代えて、電子ビーム走査手
段を液晶基板の４面取りの中心に鉛直な軸を回転軸とし
て90度ずつ回転させる電子ビーム走査系回転手段を設
け、この電子ビーム走査系回転手段による電子ビーム走
査手段の90度ずつの回転に連動して走査パターン回転手
段が走査パターンを90度ずつ回転するようにしたので、
第１の発明の効果と同様の効果が得られる。
第１図はこの発明の実施例の構成を示すブロック図、第
２図は回転テーブルの斜視図、第３図は試料の移動およ
び電子ビームの走査を説明するための試料の上面図、第
４図は駆動パルスの波形および電子ビームの偏向波形
図、第５図は従来の基板用電子ビームテスタの構成を示
すブロック図、第６図は第５図の電子ビームの走査を説
明するための試料の上面図である。 ３……電子ビーム、４……２次電子、９……試料、15…
…試料室、24……回転手段、25……走査パターン回転手
段、26……電子ビーム走査手段
２図は回転テーブルの斜視図、第３図は試料の移動およ
び電子ビームの走査を説明するための試料の上面図、第
４図は駆動パルスの波形および電子ビームの偏向波形
図、第５図は従来の基板用電子ビームテスタの構成を示
すブロック図、第６図は第５図の電子ビームの走査を説
明するための試料の上面図である。 ３……電子ビーム、４……２次電子、９……試料、15…
…試料室、24……回転手段、25……走査パターン回転手
段、26……電子ビーム走査手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−290643（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−43276（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−225965（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−76658（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】減圧された試料室内で４面取りの液晶基板
の各面ごとに順次電子ビーム走査手段により電子ビーム
を走査しながら照射し、前記液晶基板から放出される２
次電子を検出して前記液晶基板の観察を行う基板用電子
ビームテスタであって、前記４面取りの中心に鉛直な軸
を回転軸として前記液晶基板を90度ずつ回転させる液晶
基板回転手段を設け、この液晶基板回転手段による前記
液晶基板の90度ずつの回転に連動して走査パターンを90
度ずつ回転させる走査パターン回転手段を設けたことを
特徴とする基板用電子ビームテスタ。 - 【請求項２】減圧された試料室内で４面取りの液晶基板
の各面ごとに順次電子ビーム走査手段により電子ビーム
を走査しながら照射し、前記液晶基板から放出される２
次電子を検出して前記液晶基板の観察を行う基板用電子
ビームテスタであって、前記４面取りの中心に鉛直な軸
を回転軸として前記電子ビーム走査手段を90度ずつ回転
させる電子ビーム走査系回転手段を設け、この電子ビー
ム走査系回転手段による前記電子ビーム走査手段の90度
ずつの回転に連動して走査パターンを90度ずつ回転させ
る走査パターン回転手段を設けたことを特徴とする基板
用電子ビームテスタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63150960A JP2713734B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 基板用電子ビームテスタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63150960A JP2713734B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 基板用電子ビームテスタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH023254A JPH023254A (ja) | 1990-01-08 |
| JP2713734B2 true JP2713734B2 (ja) | 1998-02-16 |
Family
ID=15508197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63150960A Expired - Fee Related JP2713734B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 基板用電子ビームテスタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2713734B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004109376A1 (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-16 | Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. | アレイ基板の検査方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07208964A (ja) * | 1994-01-13 | 1995-08-11 | Fujitsu Ltd | 回路パターン検査装置及び方法並びにこの方法に適した回路パターン配置 |
| US7256606B2 (en) * | 2004-08-03 | 2007-08-14 | Applied Materials, Inc. | Method for testing pixels for LCD TFT displays |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5117385B2 (ja) * | 1971-10-01 | 1976-06-02 | ||
| JPS61290643A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Hitachi Ltd | 検査装置 |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP63150960A patent/JP2713734B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004109376A1 (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-16 | Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. | アレイ基板の検査方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH023254A (ja) | 1990-01-08 |
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|---|---|---|---|
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