JP2713211B2 - LCD panel - Google Patents

LCD panel

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JP2713211B2
JP2713211B2 JP4974695A JP4974695A JP2713211B2 JP 2713211 B2 JP2713211 B2 JP 2713211B2 JP 4974695 A JP4974695 A JP 4974695A JP 4974695 A JP4974695 A JP 4974695A JP 2713211 B2 JP2713211 B2 JP 2713211B2
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shunt
display panel
scan signal
bath
bus
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明裕 矢島
公二 中嶋
統 助川
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネルの構造
に関し、特にアクティブマトリクス液晶表示パネルのシ
ャント構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a liquid crystal display panel, and more particularly to a shunt structure of an active matrix liquid crystal display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】アクティブマトリクス型液晶表示パネル
は、複数の行列に配置された多数の薄膜トランジスタ
(TFT)を有している。同一の行に配置されたTFT
のゲートは一つのスキャン信号線に共通接続され、同一
の列に配置されたTFTのドレイン(ソース)には一つ
のデータ線に共通接続されている。各TFTのソース
(ドレイン)は画素電極としてITO等の透明電極に接
続されている。
2. Description of the Related Art An active matrix type liquid crystal display panel has a large number of thin film transistors (TFTs) arranged in a plurality of rows and columns. TFTs arranged in the same row
Are commonly connected to one scan signal line, and the drains (sources) of the TFTs arranged in the same column are commonly connected to one data line. The source (drain) of each TFT is connected to a transparent electrode such as ITO as a pixel electrode.

【0003】各TFTは導電体層や半導体層の被着およ
び選択エッチングの工程を繰り返して製造されるが、そ
の製造工程や製造装置間の運搬工程においてしばしば静
電気が発生し、これが原因でTFTが破壊されることが
ある。
[0003] Each TFT is manufactured by repeating the steps of depositing a conductor layer and a semiconductor layer and selectively etching. Static electricity is often generated in the manufacturing process and the transporting process between manufacturing apparatuses. May be destroyed.

【0004】そこで、製造中等に生じる静電気からTF
T等を保護する手段が講じられている。
[0004] Therefore, static electricity generated during manufacturing or the like causes TF
Means to protect T etc. are taken.

【0005】図3はかかる保護手段が講じられた従来の
液晶表示用パネルの概略図である(特開昭63−106
788号公報参照)。本液晶表示用パネルは、マトリク
ス状に配置され夫々がTFTおよび画素電極を有する多
数の画素4と、上述したスキャン信号線1およびデータ
配線3を有し、さらに、実際に液晶パネルとして使用さ
れる部分(点線で囲んでいる)の周囲にシャントバス形
成領域を設けて、同領域にシャントバス線5を有してお
り、このバス線5はすべての信号線1およびデータ線3
に共通接続されている。なお、配線6は電荷保持用のス
トレージ配線用パターンである。
FIG. 3 is a schematic view of a conventional liquid crystal display panel provided with such protection means (Japanese Patent Laid-Open No. 63-106).
788). The present liquid crystal display panel has a large number of pixels 4 arranged in a matrix and each having a TFT and a pixel electrode, the above-described scan signal line 1 and data line 3, and is actually used as a liquid crystal panel. A shunt bus forming region is provided around a portion (surrounded by a dotted line), and a shunt bus line 5 is provided in the shunt bus forming region, and the bus line 5 includes all the signal lines 1 and the data lines 3.
Connected in common. The wiring 6 is a storage wiring pattern for holding electric charges.

【0006】点線ABCDで囲った部分は液晶表示パネ
ルとして後で切断されるが、上述の接地シャントバス線
5の存在により、製造中に発生した静電気は逃がされ、
TFTの破壊が防止される。
Although the portion surrounded by the dotted line ABCD is cut later as a liquid crystal display panel, static electricity generated during manufacturing is released due to the presence of the ground shunt bus line 5 described above.
Destruction of the TFT is prevented.

【0007】なお、点線ABCD内部に残存するシャン
トバス線5の部分は表示パネルを駆動する駆動回路を接
続するためのパッドとして利用される。
The portion of the shunt bus line 5 remaining inside the dotted line ABCD is used as a pad for connecting a drive circuit for driving the display panel.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】近年、液晶パネルにお
いても高密度が進み表示画素数は増加の一途をたどって
いる。すなわち、各信号線の幅は細くまたピッチも小さ
くなり、さらには信号線間隔も狭くなってきている。そ
の結果、隣り合う信号線同士あるいは交差する信号線間
の短絡の危険性、さらには信号線の断線の危険性が高ま
っている。
In recent years, the density of display has been steadily increasing with the increase in the density of liquid crystal panels. That is, the width of each signal line is becoming narrower and the pitch is becoming smaller, and the signal line interval is becoming narrower. As a result, the danger of short-circuiting between adjacent signal lines or intersecting signal lines, and the risk of disconnection of signal lines are increasing.

【0009】したがって、同一レベルの信号線を形成し
た時点で信号線同士の短絡や信号線の断線をチェックす
る方が好ましい。修復できるものは修復し、修復できな
いものはその時点で最初の工程からやり直し、これによ
って、製造コストをトータル的にみて低く抑えることが
できるからである。
Therefore, it is preferable to check for short-circuits between the signal lines and disconnection of the signal lines when the signal lines of the same level are formed. This is because those that can be repaired are repaired, and those that cannot be repaired are restarted from the first step at that point, thereby making it possible to keep the manufacturing costs low overall.

【0010】しかしながら、図3の示すものでは、シャ
ントバス5はスキャン信号線1と同一の工程においてす
べてのスキャン信号線1と連続して形成され、また、デ
ータ線3はこれらの形成時にシャントバス5に接続して
形成される。このため、各信号線間の短絡検出や交差部
分での短絡検出ができない。
However, in the configuration shown in FIG. 3, the shunt bus 5 is formed continuously with all the scan signal lines 1 in the same step as the scan signal line 1, and the data line 3 is formed at the time of these formation. 5 is formed. For this reason, it is impossible to detect a short circuit between signal lines or a short circuit at an intersection.

【0011】したがって、本発明の目的は、静電気から
TFTの破壊を防止しながら、各配線、信号線間の短絡
の検査を容易にした液晶表示パネルを提供することにあ
る。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display panel which can easily inspect a short circuit between each wiring and a signal line while preventing a TFT from being destroyed by static electricity.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示パ
ネルは、TFTがマトリクス状に配置されたアクティブ
マトリクス部分およびこの部分の周囲に設けられたシャ
ントバス形成部分を有し、シャントバス形成部分には第
1および第2のシャントバスが独立して形成されてお
り、第1のシャントバスはアクティブマトリクス部分の
複数のスキャン信号線に接続され、一方、第2のシャン
トバスはアクティブマトリクス部分の複数のデータ線に
接続されているとともに、それぞれが抵抗を介して接地
されていることを特徴とする。
A liquid crystal display panel according to the present invention has an active matrix portion in which TFTs are arranged in a matrix and a shunt bus forming portion provided around the active matrix portion. Has first and second shunt buses formed independently, the first shunt bus is connected to a plurality of scan signal lines in the active matrix portion, while the second shunt bus is connected to a plurality of scan signal lines in the active matrix portion. Data line
Connected and each grounded via a resistor
It is characterized by having been done.

【0013】[0013]

【作用】このように、第1および第2のシャントバスが
独立して設けられているので、両バス間の電気導通度の
チェックにより少なくともスキャン信号線とデータ線と
の間の短絡を検査することができる。しかも、シャント
バス構成であるので、静電気によるTFTの破壊も防止
できる。このとき、上記電気導通度のチェックを容易と
するため、各シャントバスは所定値の抵抗を介して接地
されていることが好ましい。
As described above, since the first and second shunt buses are provided independently, at least a short circuit between the scan signal line and the data line is inspected by checking the electrical continuity between the two buses. be able to. In addition, the shunt bath configuration prevents the TFT from being damaged by static electricity. At this time, it is preferable that each shunt bus is grounded via a resistor having a predetermined value in order to easily check the electrical conductivity.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の実施例につき図面を参照して
詳述する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0015】図1に本発明の第一の実施例を示す液晶表
示パネルを示す。本パネルでは、シャントバス形成部分
に4つのシャントバス9−1乃至9−4が互いに独立し
て形成されている。シャントバス9−1乃至9−4の各
々は抵抗パターン8−1乃至8−4をそれぞれ介してG
NDに接続され(接地され)ており、さらに、所定のス
キャン信号線およびデータ線に接続されている。すなわ
ち、奇数番目のゲート配線1−1,1−3,…,はアク
ティブマトリクス部分の左側にあるシャントバスライン
9−2に接続され、偶数番目のゲート配線1−2,1−
4,…,はマトリクス部分の右側のシャントバスライン
9−4に接続されている。また、奇数番目のデータ線3
−1,3−3,…,はマトリクス部分の上側のシャント
バス9−1に接続され、偶数番目のデータ線3−2,3
−4,…,はマトリクス部分の下側のシャントバス9−
3に接続されている。各シャントバスには検査測定用パ
ッド10−1乃至10−4がそれぞれ設けられている。
FIG. 1 shows a liquid crystal display panel according to a first embodiment of the present invention. In this panel, four shunt buses 9-1 to 9-4 are formed independently of each other in a shunt bath forming portion. Each of the shunt buses 9-1 to 9-4 is connected to the G via a resistance pattern 8-1 to 8-4, respectively.
Connected to ND (grounded), and further connected to predetermined scan signal lines and data lines. That is, the odd-numbered gate lines 1-1, 1-3,... Are connected to the shunt bus line 9-2 on the left side of the active matrix portion, and the even-numbered gate lines 1-2, 1--1.
Are connected to the shunt bus line 9-4 on the right side of the matrix portion. Also, the odd-numbered data lines 3
, 3-3,... Are connected to the upper shunt bus 9-1 of the matrix portion, and the even-numbered data lines 3-2, 3-3 are connected.
−4,..., The shunt bath below the matrix part 9−
3 is connected. Inspection and measurement pads 10-1 to 10-4 are provided in each shunt bath.

【0016】このように、各シャントバス9は対応する
抵抗8を介するが接地されており、したがって、工程中
に発生する静電気は逃がされTFTが保護される。しか
も、独立したシャントバス構成であるため、スキャン信
号線1同士、データ線3同士、あるいはそれらの短絡の
検査も可能となる。かかる検査についてはその詳細を後
述する。
As described above, each shunt bus 9 is grounded via the corresponding resistor 8, but static electricity generated during the process is released and the TFT is protected. In addition, because of the independent shunt bus configuration, it is possible to inspect the scan signal lines 1, the data lines 3, or a short-circuit between them. The details of such inspection will be described later.

【0017】さらに、本実施例では、各画素4内にキャ
パシタと示す信号電荷保持用容量部の一端を各画素4間
で共通に接続するストレージ配線2を、図3との比較か
らも明らかなとおり、配線としては各スキャン信号線1
に沿って蛇行した一本の配線として構成している。かか
る1本の蛇行ストレージ配線2の一端は検査測定用パッ
ト12に接続され、他端は抵抗8−4を介して接地され
ている。さらに、各スキャン信号線1とストレージ配線
2間、各データ信号線3とストレージ配線2間の静電気
放電を行うために、放電用ダイオード7が図示のように
設けられている。
Further, in the present embodiment, the storage wiring 2 for connecting one end of the signal charge holding capacitance portion, which is shown as a capacitor, in each pixel 4 to the pixels 4 in common is apparent from comparison with FIG. As described above, each scan signal line 1
As a single wire meandering along. One end of the one meandering storage wiring 2 is connected to the inspection and measurement pad 12, and the other end is grounded via the resistor 8-4. Further, a discharge diode 7 is provided as shown in the figure for performing electrostatic discharge between each scan signal line 1 and the storage wiring 2 and between each data signal line 3 and the storage wiring 2.

【0018】従って、本実施例では、静電気からストレ
ージ配線2自体および同配線2を介するTFTを保護で
きる。しかも、ストレージ配線2と隣接する配線との間
の短絡の検査が可能となる。
Therefore, in the present embodiment, the storage wiring 2 itself and the TFT via the wiring 2 can be protected from static electricity. In addition, a short circuit between the storage wiring 2 and the adjacent wiring can be inspected.

【0019】すなわち、パッド10−2と12にテスタ
の測定針を置き、両者の間の電気導電度をチェックす
る。これによって奇数番目のスキャン信号線1とストレ
ージ配線2との短絡有無が検査できる。このときに、短
絡が生じていれば抵抗値としては実質0となり、一方、
短絡がなければ抵抗8−2,8−4の和が検知される。
同様に、パッド10−4とパッド12にテスタ針を置い
て、偶数番目のスキャン信号線1とストレージ配線2と
の間の状態がチェックできる。
That is, the measuring needle of the tester is placed on the pads 10-2 and 12 and the electric conductivity between them is checked. This makes it possible to inspect whether or not the odd-numbered scan signal line 1 and the storage line 2 are short-circuited. At this time, if a short circuit occurs, the resistance value becomes substantially 0, while
If there is no short circuit, the sum of the resistors 8-2 and 8-4 is detected.
Similarly, the state between the even-numbered scan signal line 1 and the storage line 2 can be checked by placing a tester needle on the pad 10-4 and the pad 12.

【0020】また、パッド10−1とパッド12にテス
タの針を置くことにより、奇数番目のデータ配線3とス
トレージ配線2との短絡が検査できる。このときに、短
絡が生じていれば抵抗値としては0となり、短絡がなけ
れば抵抗8−1,8−4の和が検知される。偶数番目の
データ配線3とストレージ配線2との間については、パ
ッド10−3とパッド12にテスタ針を置いて検査す
る。
Further, by placing the needle of a tester on the pads 10-1 and 12, a short circuit between the odd-numbered data wiring 3 and the storage wiring 2 can be inspected. At this time, if a short circuit occurs, the resistance value becomes 0, and if there is no short circuit, the sum of the resistances 8-1 and 8-4 is detected. A tester needle is placed on the pads 10-3 and the pads 12 for inspection between the even-numbered data wiring 3 and the storage wiring 2.

【0021】さらにまた、パッド10−2とパッド10
−1にテスタの針を置くことにより、奇数番目のデータ
配線3と奇数番目のスキャン信号線1との短絡が検知で
きる。このときに、短絡が生じていれば抵抗値は0とな
り、短絡がなければ抵抗8−1,8−2の和が検知され
る。同様にして、パッド10−2とパッド10−3,パ
ッド10−4とパッド10−1,パッド10−4とパッ
ド10−3にテスタ針を置いて対応する信号線間の短絡
が検出される。
Furthermore, the pad 10-2 and the pad 10
By placing the tester needle at -1, a short circuit between the odd-numbered data wiring 3 and the odd-numbered scan signal line 1 can be detected. At this time, if a short circuit occurs, the resistance value becomes 0, and if there is no short circuit, the sum of the resistances 8-1 and 8-2 is detected. Similarly, a tester needle is placed on the pad 10-2 and the pad 10-3, the pad 10-4 and the pad 10-1, the pad 10-4 and the pad 10-3, and a short circuit between the corresponding signal lines is detected. .

【0022】このように、検査対象となる二つのパッド
を適宜選択することにより、様々な配線間の短絡検査が
可能となる。したがって、パネルの製造の一連の工程に
おいて適宜かかる検査工程を行うことにより、不所望な
短絡を早期に発見でき、修復が可能となったり、製造の
やり直しが容易となる。
As described above, by appropriately selecting the two pads to be inspected, a short circuit inspection between various wirings can be performed. Therefore, by appropriately performing such an inspection step in a series of panel manufacturing steps, an undesired short circuit can be found early, and repair can be performed, and manufacturing can be easily restarted.

【0023】次に、本実施例における液晶表示用パネル
の製造方法につき上述の検査も含めて説明する。
Next, a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to this embodiment will be described, including the above-described inspection.

【0024】まず、ガラス等の透明絶縁基板上全面にC
r等の金属をスパッタ法により設け、かくして設けられ
た金属層を選択的に除去して、図1(b)のようにスキ
ャン信号線1,ストレージ配線2−1,シャントバスラ
イン9−2および9−4,抵抗パターン8−2,8−
4,8−5を形成する。
First, C is applied to the entire surface of a transparent insulating substrate such as glass.
Metal such as r is provided by a sputtering method, and the thus provided metal layer is selectively removed, and as shown in FIG. 1B, the scan signal line 1, the storage line 2-1 and the shunt bus line 9-2 and 9-4, resistance pattern 8-2, 8-
4, 8-5 are formed.

【0025】ここで、抵抗パターン8−2,8−4,8
−5は、シャントバスライン9−2および9−4等と同
様の金属で形成されるが、そのパターンの線幅をシャン
トバスライン9−2等に比べ十分細くし、また長さを十
分とることで抵抗としての機能を有することになる。こ
れらの抵抗値は各パターンの値を異らせてもかまわない
が、製造の簡単化を考慮すれば、同一の方が望ましい。
Here, the resistance patterns 8-2, 8-4, 8
-5 is made of the same metal as the shunt bus lines 9-2 and 9-4, etc., but the line width of the pattern is made sufficiently thinner and longer than the shunt bus lines 9-2 and the like. This has a function as a resistor. These resistance values may be different for each pattern, but are preferably the same in view of simplification of manufacturing.

【0026】この段階では、ストレージ配線はスキャン
信号線と並行する部分2−1のみが形成されることに注
意されたい。したがって、ストレージ配線2の各部分2
−1の部分は電気的にフローティングの状態にある。こ
の状態で、パッド10−2と10−4間に測定探針をあ
てて電気的短絡状態を検査する。もし電気的短絡状態が
検出されれば、これは隣接する二つの配線1間にこれら
を導通せしめる不要導体が残っていることを示してい
る。したがって、その箇所をさがし出し、不要導体を例
えばレーザ等により切断することにより修復が可能とな
る。また、電気的にオープンとなっておれば、配線1,
2のどこかに切断状態の箇所があることを示すので、同
箇所に対し、修復を施すことも可能となる。
At this stage, it should be noted that only the portion 2-1 of the storage wiring parallel to the scan signal line is formed. Therefore, each part 2 of the storage wiring 2
The -1 portion is in an electrically floating state. In this state, a measuring probe is applied between the pads 10-2 and 10-4 to inspect an electrical short circuit state. If an electrical short circuit condition is detected, this indicates that there is an unnecessary conductor remaining between the two adjacent wires 1 to make them conductive. Therefore, it is possible to repair by cutting out the unnecessary conductor by using a laser or the like, for example, to find the location. If it is electrically open, wiring 1,
Since it indicates that there is a cut-off portion somewhere in 2, it is possible to repair the same portion.

【0027】次に基板全面にシリコン酸化膜や窒化膜等
のゲート絶縁膜を設け、さらにTFTのチャネル領域と
なるアモルファスシリコン等の半導体膜を選択的に設け
る。また、ゲート絶縁膜には選択的に開孔を施す。その
後、再びCr等の金属を基板上全面に設け、選択的に除
去することによりデータ線3,シャントバスライン9−
1,9−3,前述の抵抗パターン8−2,8−4,8−
5と同様の抵抗パターン8−1,8−3等を選択的に設
ける。さらにこのとき、図1(b)に示すようにストレ
ージ配線の残りの部分2−2が形成され、同部分はゲー
ト絶縁膜に設けた開孔を介して形成済の部分2−2と接
続される。この結果、配線として1本の蛇行するストレ
ージ配線2が形成される。勿論、スキャン信号線1とス
トレージ配線2の交差部13や、図1(a)のスキャン
信号線1とデータ線3との交差部は絶縁膜により絶縁さ
れている。よく知られているように、スキャン信号線1
の一部はTFTのゲート電極となり、データ線3の一部
はTFTのドレイン(ソース)電極となる。また、デー
タ線3の形成と同時にTFTのソース(ドレイン)電極
が形成される。
Next, a gate insulating film such as a silicon oxide film or a nitride film is provided on the entire surface of the substrate, and a semiconductor film such as amorphous silicon to be a channel region of the TFT is selectively provided. Further, a hole is selectively formed in the gate insulating film. Thereafter, a metal such as Cr is provided again on the entire surface of the substrate, and is selectively removed to thereby form the data line 3 and the shunt bus line 9-.
1, 9-3, the aforementioned resistance patterns 8-2, 8-4, 8-
5 and the like resistance patterns 8-1, 8-3 and the like are selectively provided. Further, at this time, as shown in FIG. 1B, the remaining portion 2-2 of the storage wiring is formed, and the same portion is connected to the formed portion 2-2 via an opening provided in the gate insulating film. You. As a result, one meandering storage wiring 2 is formed as the wiring. Of course, the intersection 13 between the scan signal line 1 and the storage line 2 and the intersection between the scan signal line 1 and the data line 3 in FIG. 1A are insulated by an insulating film. As is well known, scan signal line 1
Of the data line 3 becomes a drain (source) electrode of the TFT. Further, a source (drain) electrode of the TFT is formed simultaneously with the formation of the data line 3.

【0028】この工程後、所望のパッド間に探針をあて
て測定することにより、絶縁すべき配線の交差部に生じ
ているかもしれない短絡を検出できる。また、パッド1
0−1と10−3間に探針をあてて測定することによ
り、隣接する二つのデータ線3間の短絡がチェックでき
る。短絡があれば、場所によっては修復することもでき
る。
After this step, a short may be detected at the intersection of the wiring to be insulated by measuring the probe by placing the probe between the desired pads. Also, pad 1
By measuring with a probe between 0-1 and 10-3, a short circuit between two adjacent data lines 3 can be checked. If there is a short circuit, it can be repaired in some places.

【0029】この後、ITO等の透明電極を選択的に設
けて画素電極を形成し、基板全面を保護用の絶縁膜で覆
い、そしてパネル組立工程へと進むことになる。
Thereafter, a pixel electrode is formed by selectively providing a transparent electrode of ITO or the like, the entire surface of the substrate is covered with a protective insulating film, and the process proceeds to a panel assembling process.

【0030】かくして、本実施例では、製造工程中に生
じ得る静電気からTFTを保護することと同時に製造中
のゴミ等による不所望な配線間短絡もチェックすること
ができ、適宜修復を加えられ、あるいはその結果を各工
程の管理や見直しにフィードバックできる。さらに、修
復不可能な短絡を早期に発見でき、その後の無駄な工程
への搬送を阻止できる。
Thus, in the present embodiment, it is possible to protect the TFT from static electricity which may be generated during the manufacturing process, and at the same time, check for an undesired short circuit between wirings due to dust or the like during the manufacturing process. Alternatively, the results can be fed back to management and review of each process. Furthermore, an unrepairable short circuit can be found at an early stage, and subsequent transportation to a useless process can be prevented.

【0031】上記実施例では、スキャン信号線1と同時
に形成されるストレージ配線部分2−1は前述のとおり
フローティング状態となっている。このため、同工程中
あるいは次の工程への搬送時に生じる静電気がフローテ
ィング状態の配線部分2−1にたまり、不所望な放電が
生じて配線部分2−1が破壊することが考える。
In the above embodiment, the storage wiring portion 2-1 formed simultaneously with the scan signal line 1 is in a floating state as described above. For this reason, it is conceivable that static electricity generated during the same step or during transfer to the next step accumulates in the floating wiring portion 2-1 and an undesirable discharge occurs to destroy the wiring portion 2-1.

【0032】そこで、図2に本発明の第二の実施例とし
て示すように、ストレージ配線2の全てをスキャン信号
線1と同時に形成する方が好ましい。なお、図2で図1
と同一の構成部は同一の番号を付してそれらの説明を省
略する。
Therefore, as shown in FIG. 2 as a second embodiment of the present invention, it is preferable to form all of the storage lines 2 at the same time as the scan signal lines 1. Note that FIG.
The same components as those described above are denoted by the same reference numerals, and their description is omitted.

【0033】本実施例では、図2(b)に示すように、
ガラス等の透明絶縁基板上全面にCr等の金属を設け、
フォトレジスト法でエッチングしてスキャン信号線1,
シャントバスライン9−2,9−4,抵抗パターン8−
2,8−5等の形成と同時に、蛇行したストレージ配線
2および接地用抵抗パターン8−4とパッド12が同時
に形成される。
In this embodiment, as shown in FIG.
A metal such as Cr is provided on the entire surface of a transparent insulating substrate such as glass,
Etching by photoresist method, scan signal line 1,
Shunt bus lines 9-2, 9-4, resistance pattern 8-
Simultaneously with the formation of 2, 8-5, etc., the meandering storage wiring 2, the grounding resistance pattern 8-4, and the pad 12 are simultaneously formed.

【0034】この構成により、ストレージ配線2もその
形成時点から静電気による破壊から防止することができ
る。さらに、スキャン信号線1とストレージ配線2が交
差する部分がないため、第一の実施例に比べ、配線間で
短絡が生じる可能性を減少させることができる。しか
も、パッド10−2と12間、10−4と12間で短絡
状態をチェックすることにより、隣接する配線1−2間
の短絡が検出でき、あれば修復が可能となる。修復にあ
たっては、レーザ光線で走査して短絡部分を発見し、同
部分に対しパワーを上げて切断することができる。
With this configuration, the storage wiring 2 can also be prevented from being damaged by static electricity from the time of its formation. Further, since there is no portion where the scan signal line 1 and the storage wiring 2 intersect, the possibility of a short circuit between the wirings can be reduced as compared with the first embodiment. Moreover, by checking the short-circuit state between the pads 10-2 and 12 and between the pads 10-4 and 12, a short-circuit between the adjacent wirings 1-2 can be detected, and if it is detected, the wiring can be repaired. In repairing, a short-circuit portion is found by scanning with a laser beam, and the portion can be cut with increased power.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、静電気
による破壊からの防止を実現しつつ、配線間の短絡検査
も容易に実行できるシャントバス構造が提供される。
As described above, according to the present invention, there is provided a shunt bus structure capable of easily performing a short-circuit inspection between wirings while realizing prevention from destruction due to static electricity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施例を示す液晶表示用パネル
の概略図。
FIG. 1 is a schematic view of a liquid crystal display panel showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第二の実施例を示す液晶表示用パネル
の概略図。
FIG. 2 is a schematic view of a liquid crystal display panel according to a second embodiment of the present invention.

【図3】従来例を示す液晶表示用パネルの概略図。FIG. 3 is a schematic view of a liquid crystal display panel showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スキャン信号線 2 ストレージ配線 3 データ線 4 1画素分の構成 5 シャントバス線 6 ストレージ配線用パターン 7 リングダイオード 8 抵抗パターン 9 シャントバスライン 10 パッド 11 パッド 12 ストレージ配線用パッド 13 スキャン信号線・ストレージ配線交差部パター
ン 14 外部回路接続用パッド 15 精密検査用パッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Scan signal line 2 Storage wiring 3 Data line 4 1 pixel composition 5 Shunt bus line 6 Storage wiring pattern 7 Ring diode 8 Resistance pattern 9 Shunt bus line 10 Pad 11 Pad 12 Storage wiring pad 13 Scan signal line / storage Wiring intersection pattern 14 External circuit connection pad 15 Precision inspection pad

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−292113(JP,A) 特開 平2−135490(JP,A) 特開 平2−157896(JP,A) 特開 昭63−10558(JP,A) 特開 平2−310536(JP,A) 特開 平6−59283(JP,A) 特開 平6−317810(JP,A) 特開 平7−64517(JP,A) 実開 昭63−33130(JP,U) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-63-292113 (JP, A) JP-A-2-135490 (JP, A) JP-A-2-157896 (JP, A) JP-A-63-292 10558 (JP, A) JP-A-2-310536 (JP, A) JP-A-6-59283 (JP, A) JP-A-6-317810 (JP, A) JP-A-7-64517 (JP, A) Actual opening 63-33130 (JP, U)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数のスキャン信号線およびデータ線を
有する表示パネル部分とこの部分の周囲に設けられたシ
ャントバス形成部分とを備え、前記シャントバス形成部
分には互いに独立した第1および第2のシャントバスが
形成され、前記第1のシャントバスは前記複数のスキャ
ン信号線にそれぞれ接続され、前記第2のシャントバス
は前記複数のデータ線にそれぞれ接続されているととも
前記第1のシャントバスは第1の抵抗を介して接地
され、前記第2のシャントバスは第2の抵抗を介して接
地されていることを特徴とする液晶表示パネル。
1. A display panel portion having a plurality of scan signal lines and data lines, and a shunt bus forming portion provided around the display panel portion, wherein the shunt bus forming portion has first and second independent parts. Tomo shunt bus is formed, the first shunt bus are respectively connected to the plurality of scan signal lines, when the second shunt bus is connected to each of the plurality of data lines
To the first shunt bus grounded via a first resistor
And the second shunt bus is connected via a second resistor.
A liquid crystal display panel characterized by being grounded.
【請求項2】 前記第1および第2のシャントバスには
第1および第2のパッドがそれぞれ設けられ、これらパ
ッドが隣接する位置に配置されるように前記第1のシャ
ントバスの一部と前記第2のシャントバスの一部が平行
配列されている請求項1記載の液晶表示パネル。
2. The first and second shunt baths
First and second pads are provided, respectively.
So that the first chassis is positioned at an adjacent position.
Part of the shunt bath and part of the second shunt bath are parallel
2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the liquid crystal display panels are arranged .
【請求項3】 複数のスキャン信号線、複数のデータ線
ならびに各々が対応するスキャン信号線およびデータ線
に接続された複数の薄膜トランジスタを有する表示パネ
ル部分と、この部分の周囲に設けられたシャントバス形
成部分とを備え、前記シャントバス形成部分には第1,
第2,第3および第4のシャントバスが互いに独立して
形成され、前記第1のシャントバスは前記複数のスキャ
ン信号線のうち偶数番目のスキャン信号線にそれぞれ接
続され、前記第2のシャントバスは前記複数のスキャン
信号線のうち奇数番目のスキャン信号線にそれぞれ接続
され、前記第3のシャントバスは前記複数のデータ線の
うち偶数番目のデータ線にそれぞれ接続され、前記第4
のシャントバスは前記複数のデータ線のうち奇数番目の
データ線にそれぞれ接続されているとともに、前記第1
のシャントバスは第1の抵抗を介して接地され、前記第
2のシャントバスは第2の抵抗を介して接地され、前記
第3のシャントバスは第3の抵抗を介して接地され、前
記第4のシャントバスは第4の抵抗を介して接地されて
おり、かつ前記表示パネル部分はストレージ配線をさら
に有し、前記ストレージ配線は抵抗を介して接地されて
いるものであり、さらに前記第1のシャントバスは第1
のパッドを有し、前記第2のシャントバスは第2のパッ
ドを有し、前記第3のシャントバスは第3のパッドを有
し、前記第4のシャントバスは第4のパッドを有し、さ
らに前記ストレー ジ配線はストレージ配線用パッドを有
する構造であり、前記各パッドを用いて回路配線間の短
絡検査を可能としたことを特徴とする液晶表示パネル。
3. A display panel portion having a plurality of scan signal lines, a plurality of data lines, and a plurality of thin film transistors each connected to the corresponding scan signal line and data line, and a shunt bus provided around the display panel portion. And a shunt bath forming portion.
Second, third, and fourth shunt buses are formed independently of each other, and the first shunt bus is connected to an even-numbered scan signal line of the plurality of scan signal lines, respectively, and the second shunt bus is A bus connected to an odd-numbered scan signal line among the plurality of scan signal lines; a third shunt bus connected to an even-numbered data line among the plurality of data lines;
Are connected to odd-numbered data lines of the plurality of data lines, respectively , and
Shunt bus is grounded via a first resistor, and
The second shunt bus is grounded via a second resistor, and
The third shunt bus is grounded via a third resistor, and
The fourth shunt bus is grounded via a fourth resistor.
And the display panel has exposed storage wiring.
And the storage wiring is grounded via a resistor.
And the first shunt bath is a first shunt bath.
Pads, and the second shunt bath has a second pad.
And the third shunt bath has a third pad.
And the fourth shunt bath has a fourth pad,
The storage wiring La have a pad storage line
And a short circuit between circuit wirings by using the pads.
A liquid crystal display panel characterized in that a short-circuit inspection can be performed .
【請求項4】 前記第1乃至第4の抵抗の値が同一であ
ことを特徴とする請求項記載の液晶表示パネル。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said first to fourth resistors have the same value.
The liquid crystal display panel of claim 3, wherein the that.
【請求項5】 前記第1乃至第4の抵抗パターンは前記
シャントバスと同様の金属で形成されるとともに、前記
抵抗パターンの線幅は前記シャントバスの線幅に比べて
充分に細くして抵抗機能を有することを特徴とする請求
記載の液晶表示パネル。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first to fourth resistance patterns are
It is made of the same metal as the shunt bath,
The line width of the resistance pattern is smaller than the line width of the shunt bath.
4. The liquid crystal display panel according to claim 3 , wherein the liquid crystal display panel is sufficiently thin to have a resistance function .
【請求項6】 前記第1乃至第4のパッドが前記表示パ
ネル部分の一辺近傍に集合配置されていることを特徴と
する請求項記載の液晶表示パネル。
6. The display pad according to claim 1, wherein the first to fourth pads are provided for the display pad.
4. The liquid crystal display panel according to claim 3 , wherein the liquid crystal display panel is collectively arranged near one side of the tunnel portion .
【請求項7】 マトリクス状に配置され夫々が薄膜トラ
ンジスタおよびストレージ容量を有する複数の画素と、
夫々が対応する行に配置された画素の薄膜トランジスタ
を互いに接続する複数のスキャン信号線と、前記複数の
画素内のストレージ容量の夫々の一端が接続されたスト
レージ配線とを備え、前記ストレージ配線は、前記複数
のスキャン信号線の隣り合うスキャン信号線間にそれぞ
れ形成された複数の第1部分と、これら第1部分と直交
する方向に形成された複数の第2部分とを有し、前記複
数の第2部分は前記複数の第1部分を互いに直列に接続
するように配置されているとともに、前記複数の第1お
よび第2部分は、同一平面上に連続して形成されて接地
用抵抗パターンを介して接地されている液晶表示パネ
ル。
7. A plurality of pixels arranged in a matrix and each having a thin film transistor and a storage capacitance,
Each of the plurality of scan signal lines connecting the thin film transistors of the pixels arranged in the corresponding row to each other, and a storage line to which one end of each of the storage capacitors in the plurality of pixels is connected, the storage line includes A plurality of first portions formed between adjacent ones of the plurality of scan signal lines, and a plurality of second portions formed in a direction orthogonal to the first portions; The second part is arranged to connect the plurality of first parts in series with each other, and the plurality of first parts are connected to each other .
And the second part is formed continuously on the same plane and is grounded.
LCD panel that is grounded via a resistor pattern for the LCD.
【請求項8】 前記スキャン信号線の奇数番目には第1
のパッドを有する第1のシャントバスが共通に接続さ
れ、前記スキャン信号線の偶数番目には第2のパッドを
有する第2のシャントバスが共通に接続されており、か
つ前記第1のシャントバスと前記第2のシャントバスと
は前記スキャン信号線を間に挟んで対向するように独立
して配置されているとともにそれぞれ抵抗を介して接地
されている請求項7記載の液晶表示パネル。
8. An odd-numbered first scan signal line.
A first shunt bus having pads is commonly connected.
A second pad is provided on even-numbered scan signal lines.
Have a second shunt bath connected in common,
The first shunt bath and the second shunt bath
Are independent so that they face each other with the scan signal line in between
And grounded via respective resistors
The liquid crystal display panel of which according to claim 7, wherein the.
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