JP2679933B2 - 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents
超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法Info
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- JP2679933B2 JP2679933B2 JP5043812A JP4381293A JP2679933B2 JP 2679933 B2 JP2679933 B2 JP 2679933B2 JP 5043812 A JP5043812 A JP 5043812A JP 4381293 A JP4381293 A JP 4381293A JP 2679933 B2 JP2679933 B2 JP 2679933B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は主として変圧器その他の
電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素鋼板の
製造方法に関するものである。特に、その表面を効果的
に仕上げることにより、鉄損特性の向上を図ろうとする
ものである。
電気機器等の鉄心として利用される一方向性珪素鋼板の
製造方法に関するものである。特に、その表面を効果的
に仕上げることにより、鉄損特性の向上を図ろうとする
ものである。
【０００２】
【従来の技術】一方向性珪素鋼板は、磁気鉄心として多
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝〈００１〉方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ8 値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に、最近では省エネルギーの見地から
電力損失の低減に対する要求が高まっている。この要求
に応え、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段とし
て、磁区を細分化する技術が開発された。
くの電気機器に用いられている。一方向性珪素鋼板は、
Ｓｉを０．８〜４．８％含有し製品の結晶粒の方位を
｛１１０｝〈００１〉方位に高度に集積させた鋼板であ
る。その磁気特性として磁束密度が高く（Ｂ8 値で代表
される）、鉄損が低い（Ｗ17/50 値で代表される）こと
が要求される。特に、最近では省エネルギーの見地から
電力損失の低減に対する要求が高まっている。この要求
に応え、一方向性珪素鋼板の鉄損を低減させる手段とし
て、磁区を細分化する技術が開発された。
【０００３】積み鉄心の場合、仕上げ焼鈍後の鋼板にレ
ーザービームを照射して局部的な微少歪を与えることに
より、磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例え
ば特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。ま
た、巻き鉄心の場合には、鉄心に加工した後、歪取り焼
鈍を施しても磁区細分化効果の消失しない方法も、例え
ば特開昭６２−８６１７号公報に開示されている。これ
らの技術的手段により磁区を細分化することにより鉄損
は大きく低減されるようになってきている。
ーザービームを照射して局部的な微少歪を与えることに
より、磁区を細分化して鉄損を低減させる方法が、例え
ば特開昭５８−２６４０５号公報に開示されている。ま
た、巻き鉄心の場合には、鉄心に加工した後、歪取り焼
鈍を施しても磁区細分化効果の消失しない方法も、例え
ば特開昭６２−８６１７号公報に開示されている。これ
らの技術的手段により磁区を細分化することにより鉄損
は大きく低減されるようになってきている。
【０００４】しかしながら、これらの磁区の動きを観察
すると動かない磁区も存在していることが分かり、一方
向性珪素鋼板の鉄損値を更に低減させるためには、磁区
細分化と合わせて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラ
ス皮膜からのピン止め効果をなくすことが重要であるこ
とが分かった。
すると動かない磁区も存在していることが分かり、一方
向性珪素鋼板の鉄損値を更に低減させるためには、磁区
細分化と合わせて磁区の動きを阻害する鋼板表面のグラ
ス皮膜からのピン止め効果をなくすことが重要であるこ
とが分かった。
【０００５】そのためには、磁区の動きを阻害する鋼板
表面のグラス皮膜を形成させないことが有効である。そ
の手段として、焼鈍分離材として粗大高純アルミナを用
いることによりグラス皮膜を形成させない方法が、例え
ばＵ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３，７８５，８８２に開示され
ている。しかしながらこの方法では表面直下の介在物を
なくすことができず、鉄損の向上代はＷ15/60 で高々２
％に過ぎない。
表面のグラス皮膜を形成させないことが有効である。そ
の手段として、焼鈍分離材として粗大高純アルミナを用
いることによりグラス皮膜を形成させない方法が、例え
ばＵ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３，７８５，８８２に開示され
ている。しかしながらこの方法では表面直下の介在物を
なくすことができず、鉄損の向上代はＷ15/60 で高々２
％に過ぎない。
【０００６】また、鉄損を向上させるためには材質の方
位集積度を高めることが有効であり、その方法として田
口・坂倉（特公昭４０−１５６４４号公報）、小松等
（特公昭６２−４５２８５号公報）等によりインヒビタ
ーとしてＡｌの窒化物を使用する方法が開示されてい
る。しかしながら、アルミナを焼鈍分離材とするＵ．
Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３，７８５，８８２の方法をＡｌの窒
化物をインヒビターとするこれらの方法に適用した場
合、二次再結晶が不安定になってしまい、鉄損の向上を
達成できない。
位集積度を高めることが有効であり、その方法として田
口・坂倉（特公昭４０−１５６４４号公報）、小松等
（特公昭６２−４５２８５号公報）等によりインヒビタ
ーとしてＡｌの窒化物を使用する方法が開示されてい
る。しかしながら、アルミナを焼鈍分離材とするＵ．
Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ３，７８５，８８２の方法をＡｌの窒
化物をインヒビターとするこれらの方法に適用した場
合、二次再結晶が不安定になってしまい、鉄損の向上を
達成できない。
【０００７】一方、表面直下の介在物を制御し、かつ表
面の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に化学
研磨或いは電解研磨を行う方法が、例えば特開昭６４−
８３６２０号公報に開示されている。しかしながら、化
学研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの小試料
の材料を加工することは可能であるが、工業的規模で行
うには薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等の
点で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至ってい
ない。
面の鏡面化を達成する方法として、仕上げ焼鈍後に化学
研磨或いは電解研磨を行う方法が、例えば特開昭６４−
８３６２０号公報に開示されている。しかしながら、化
学研磨・電解研磨等の方法は、研究室レベルでの小試料
の材料を加工することは可能であるが、工業的規模で行
うには薬液の濃度管理、温度管理、公害設備の付与等の
点で大きな問題があり、いまだ実用化されるに至ってい
ない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、グラス皮膜
を形成させない方法（例えば、Ｕ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ
３，７８５，８８２）を基に、先に述べた問題点（１）
田口・坂倉（特公昭４０−１５６４４号公報）、小松等
（特公昭６２−４５２８５号公報）等のＡｌの窒化物を
インヒビターとして使用する高磁束密度材の二次再結晶
が不安定であること、及び（２）表面下の介在物が存在
することを解決することにより鉄損の向上を図る方法を
提供するものである。
を形成させない方法（例えば、Ｕ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ
３，７８５，８８２）を基に、先に述べた問題点（１）
田口・坂倉（特公昭４０−１５６４４号公報）、小松等
（特公昭６２−４５２８５号公報）等のＡｌの窒化物を
インヒビターとして使用する高磁束密度材の二次再結晶
が不安定であること、及び（２）表面下の介在物が存在
することを解決することにより鉄損の向上を図る方法を
提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等はまず、問題
点（１）田口・坂倉（特公昭４０−１５６４４号公
報）、小松等（特公昭６２−４５２８５号公報）等のＡ
ｌの窒化物のインヒビターとして使用する高磁束密度材
の二次再結晶が不安定であることの原因の調査を行っ
た。その結果、グラス皮膜を形成させない場合では、仕
上げ焼鈍中のインヒビターが急激に弱体化することが二
次再結晶が不安定になる原因であることをつきとめた。
点（１）田口・坂倉（特公昭４０−１５６４４号公
報）、小松等（特公昭６２−４５２８５号公報）等のＡ
ｌの窒化物のインヒビターとして使用する高磁束密度材
の二次再結晶が不安定であることの原因の調査を行っ
た。その結果、グラス皮膜を形成させない場合では、仕
上げ焼鈍中のインヒビターが急激に弱体化することが二
次再結晶が不安定になる原因であることをつきとめた。
【００１０】これは、グラス皮膜がないと鋼中の固溶窒
素が系外に容易に出てしまうからである。そこで、この
脱窒を抑制する手段を種々検討し、鋼中に界面偏析元素
を添加して二次再結晶前にこれらの元素を表面に濃化さ
せることが有効であることを見いだした（例えば特願平
４−１１６４５３号）。
素が系外に容易に出てしまうからである。そこで、この
脱窒を抑制する手段を種々検討し、鋼中に界面偏析元素
を添加して二次再結晶前にこれらの元素を表面に濃化さ
せることが有効であることを見いだした（例えば特願平
４−１１６４５３号）。
【００１１】その後、更に検討をすすめ、これら界面偏
析元素を溶鋼時に添加しなくても、これらの元素の単体
またはその化合物を仕上げ焼鈍前に付着または焼鈍分離
材に添加して、仕上げ焼鈍中に鋼板表面に濃化させるこ
とにより、二次再結晶を安定化させることができること
を新たに見いだした。また、問題点（２）表面直下の介
在物の制御に関する研究を行った結果、脱炭焼鈍で形成
された酸化層がこの介在物に大きな影響を及ぼすことを
見いだした。この介在物をなくす方策を種々検討した結
果、脱炭後の板の酸化層を除去することが非常に有効
で、鉄損が格段に良くなることを見いだした。
析元素を溶鋼時に添加しなくても、これらの元素の単体
またはその化合物を仕上げ焼鈍前に付着または焼鈍分離
材に添加して、仕上げ焼鈍中に鋼板表面に濃化させるこ
とにより、二次再結晶を安定化させることができること
を新たに見いだした。また、問題点（２）表面直下の介
在物の制御に関する研究を行った結果、脱炭焼鈍で形成
された酸化層がこの介在物に大きな影響を及ぼすことを
見いだした。この介在物をなくす方策を種々検討した結
果、脱炭後の板の酸化層を除去することが非常に有効
で、鉄損が格段に良くなることを見いだした。
【００１２】また、問題点（２）表面直下の介在物の制
御に関する研究を行った結果、脱炭焼鈍で形成された酸
化層がこの介在物に大きな影響を及ぼすことを見いだし
た。この介在物をなくす方策を種々検討した結果、脱炭
後の板の酸化層を除去することが非常に有効で、鉄損が
格段に良くなることを見いだした。
御に関する研究を行った結果、脱炭焼鈍で形成された酸
化層がこの介在物に大きな影響を及ぼすことを見いだし
た。この介在物をなくす方策を種々検討した結果、脱炭
後の板の酸化層を除去することが非常に有効で、鉄損が
格段に良くなることを見いだした。
【００１３】以下に本発明を詳細に説明する。重量で、
Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、
Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：
０．００８％、残部、実質的にＦｅ及び不可避的不純物
からなる珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板厚
２．３mmに熱延した。この熱延板を１１００℃で２分間
焼鈍した後最終板厚０．２３mmに冷延した。この冷延板
を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８５０℃で７０秒焼鈍し一次
再結晶させた。
Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｃ：０．０５％、
Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：
０．００８％、残部、実質的にＦｅ及び不可避的不純物
からなる珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した後、板厚
２．３mmに熱延した。この熱延板を１１００℃で２分間
焼鈍した後最終板厚０．２３mmに冷延した。この冷延板
を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８５０℃で７０秒焼鈍し一次
再結晶させた。
【００１４】その後、アンモニア窒化により窒素量を
０．０２％まで高めインヒビターを強化し、その後酸洗
により表面酸化層を除去した後、試料の一部を（Ａ）Ｓ
ｎメッキ、（Ｂ）Ｐｂメッキ、また（Ｃ）そのままの状
態で、アルミナを主成分とする焼鈍分離材を静電塗布
し、仕上げ焼鈍を施した。仕上げ焼鈍は１２００℃まで
はＮ2 ：２５％−Ｈ2 ：７５％の雰囲気ガス中で１０℃
／hrの昇温速度で行い、１２００℃でＨ2 ：１００％に
切りかえ２０時間純化焼鈍を行った。
０．０２％まで高めインヒビターを強化し、その後酸洗
により表面酸化層を除去した後、試料の一部を（Ａ）Ｓ
ｎメッキ、（Ｂ）Ｐｂメッキ、また（Ｃ）そのままの状
態で、アルミナを主成分とする焼鈍分離材を静電塗布
し、仕上げ焼鈍を施した。仕上げ焼鈍は１２００℃まで
はＮ2 ：２５％−Ｈ2 ：７５％の雰囲気ガス中で１０℃
／hrの昇温速度で行い、１２００℃でＨ2 ：１００％に
切りかえ２０時間純化焼鈍を行った。
【００１５】これらの試料について、張力コーティング
処理とレーザー照射による磁区細分化処理を行った後の
磁気特性及び製品の二次再結晶組織を図１に示す。図１
より、Ｓｎ及びＰｂをメッキした試料で二次再結晶組織
が安定的に発達したことが分かる。これは、Ｓｎ及びＰ
ｂが表面に濃化すると脱窒素のバリアーになり、Ａｌ
Ｎ，（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ等のＡｌの窒化物インヒビターが
二次再結晶温度域まで安定化するためであると考えられ
る。
処理とレーザー照射による磁区細分化処理を行った後の
磁気特性及び製品の二次再結晶組織を図１に示す。図１
より、Ｓｎ及びＰｂをメッキした試料で二次再結晶組織
が安定的に発達したことが分かる。これは、Ｓｎ及びＰ
ｂが表面に濃化すると脱窒素のバリアーになり、Ａｌ
Ｎ，（Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ等のＡｌの窒化物インヒビターが
二次再結晶温度域まで安定化するためであると考えられ
る。
【００１６】次に実施形態を述べる。鋼板の磁束密度を
高めるためには、田口・坂倉等によるＡｌＮとＭｎＳを
主インヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭４０
−１５６４４号公報）、または小松等による（Ａｌ，Ｓ
ｉ）Ｎを主インヒビターとして用いる製造法（例えば特
公昭６２−４５２８５号公報）を適用すれば良い。
高めるためには、田口・坂倉等によるＡｌＮとＭｎＳを
主インヒビターとして用いる製造法（例えば特公昭４０
−１５６４４号公報）、または小松等による（Ａｌ，Ｓ
ｉ）Ｎを主インヒビターとして用いる製造法（例えば特
公昭６２−４５２８５号公報）を適用すれば良い。
【００１７】この場合、界面偏析元素またはその化合物
を仕上げ焼鈍前に付着または焼鈍分離材に添加して、仕
上げ焼鈍中に鋼板表面に濃化させることにより、界面か
らの脱窒素を抑制して、Ａｌの窒化物のインヒビターを
安定化することが必須の要件となる。
を仕上げ焼鈍前に付着または焼鈍分離材に添加して、仕
上げ焼鈍中に鋼板表面に濃化させることにより、界面か
らの脱窒素を抑制して、Ａｌの窒化物のインヒビターを
安定化することが必須の要件となる。
【００１８】界面偏析元素としては、これまでＳｎ，Ｓ
ｂ，Ｐｂが有効であることを見いだしている。これら
は、単体もしくは化合物の形態で使用すれば良く、その
付着方法としてはメッキ、または粉体として焼鈍分離材
に添加する等によれば良い。粉体として焼鈍分離材に添
加する方法としては、焼鈍分離材としてのシリカと反応
しない物質もしくは反応し難い物質に添加混合して、水
和水分を持ち込まない状態で用いるか、焼鈍分離材とし
てのシリカと反応しない物質もしくは反応し難い物質に
添加混合して、鋼板表面に塗布した鋼板として用いる
か、あるいは、０．５〜１０μｍの平均粒径の焼鈍分離
材の粉末に添加混合し、水スラリー状にして塗布した
後、乾燥して水和水分を除去して用いる等の方法が適用
できる。
ｂ，Ｐｂが有効であることを見いだしている。これら
は、単体もしくは化合物の形態で使用すれば良く、その
付着方法としてはメッキ、または粉体として焼鈍分離材
に添加する等によれば良い。粉体として焼鈍分離材に添
加する方法としては、焼鈍分離材としてのシリカと反応
しない物質もしくは反応し難い物質に添加混合して、水
和水分を持ち込まない状態で用いるか、焼鈍分離材とし
てのシリカと反応しない物質もしくは反応し難い物質に
添加混合して、鋼板表面に塗布した鋼板として用いる
か、あるいは、０．５〜１０μｍの平均粒径の焼鈍分離
材の粉末に添加混合し、水スラリー状にして塗布した
後、乾燥して水和水分を除去して用いる等の方法が適用
できる。
【００１９】また、脱炭焼鈍板を積層する際の焼鈍分離
材としては鋼板表面のシリカと反応しない物質もしくは
反応しにくい物質を用いれば良い。（１）Ａｌ2 Ｏ3 ，
ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，Ｍｇ2
ＳｉＯ4 の物質の粉末を、静電塗布法等の方法で水和水
分を持ち込まない状態で用いること、または（２）Ａｌ
2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，Ｓｒ
Ｏ，Ｍｇ2 ＳｉＯ4 等の物質が表面に存在している板を
用いること、または（３）０．５〜１０μｍの平均粒径
のＡｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＳｒＯ，Ｍｇ2 Ｓ
ｉＯ4 粉末を水スラリー状にして塗布した後乾燥して水
和水分を除去する方法が有効である。
材としては鋼板表面のシリカと反応しない物質もしくは
反応しにくい物質を用いれば良い。（１）Ａｌ2 Ｏ3 ，
ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，Ｍｇ2
ＳｉＯ4 の物質の粉末を、静電塗布法等の方法で水和水
分を持ち込まない状態で用いること、または（２）Ａｌ
2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，Ｓｒ
Ｏ，Ｍｇ2 ＳｉＯ4 等の物質が表面に存在している板を
用いること、または（３）０．５〜１０μｍの平均粒径
のＡｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，ＳｒＯ，Ｍｇ2 Ｓ
ｉＯ4 粉末を水スラリー状にして塗布した後乾燥して水
和水分を除去する方法が有効である。
【００２０】水スラリーとして塗布する場合、粒径が１
０μｍ以上だと鋼板に粗大アルミナが食い込んでしま
う。また、０．５μｍ以下だと活性で鋼板に焼き付き易
くなってしまう。仕上げ焼鈍後の製品は、張力コーティ
ング処理及びレーザー照射等の磁区細分化処理を行う。
０μｍ以上だと鋼板に粗大アルミナが食い込んでしま
う。また、０．５μｍ以下だと活性で鋼板に焼き付き易
くなってしまう。仕上げ焼鈍後の製品は、張力コーティ
ング処理及びレーザー照射等の磁区細分化処理を行う。
【００２１】
実施例１ 重量で、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１２％、Ｃ：０．
０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２６
％、Ｎ：０．００８％、残部、実質的にＦｅ及び不可避
的不純物からなる珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した
後、板厚２．０mmに熱延した。この熱延板を１１００℃
で２分間焼鈍した後最終板厚０．２３mmに冷延した。こ
の冷延板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８５０℃で７０秒焼
鈍し一次再結晶させた。
０５％、Ｓ：０．００７％、酸可溶性Ａｌ：０．０２６
％、Ｎ：０．００８％、残部、実質的にＦｅ及び不可避
的不純物からなる珪素鋼スラブを１１５０℃で加熱した
後、板厚２．０mmに熱延した。この熱延板を１１００℃
で２分間焼鈍した後最終板厚０．２３mmに冷延した。こ
の冷延板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね８５０℃で７０秒焼
鈍し一次再結晶させた。
【００２２】次いでアンモニア雰囲気中で７５０℃で焼
鈍することにより、窒素量を０．０２％に増加して、イ
ンヒビターの強化を行った。その後酸洗により表面の酸
化層を除去した後、この板を一部は（Ａ）Ａｌ2 Ｏ3 、
（Ｂ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｓｎ、（Ｃ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｓｂ、
（Ｄ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｐｂ、（Ｅ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＳｎＯ、
（Ｆ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＰｂＯの粉末を静電塗布し、一部は
（Ｇ）ＭｇＯを水スラリー状にして塗布し積層して、仕
上げ焼鈍を施した。
鈍することにより、窒素量を０．０２％に増加して、イ
ンヒビターの強化を行った。その後酸洗により表面の酸
化層を除去した後、この板を一部は（Ａ）Ａｌ2 Ｏ3 、
（Ｂ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｓｎ、（Ｃ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｓｂ、
（Ｄ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｐｂ、（Ｅ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＳｎＯ、
（Ｆ）Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＰｂＯの粉末を静電塗布し、一部は
（Ｇ）ＭｇＯを水スラリー状にして塗布し積層して、仕
上げ焼鈍を施した。
【００２３】仕上げ焼鈍は１２００℃まではＮ2 ：２５
％＋Ｈ2 ７５％の雰囲気ガス中で１５℃／hrの昇温速度
で行い、１２００℃でＨ2 ：１００％に切りかえ２０時
間純化焼鈍を行った。これらの試料を張力コーティング
処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化した。得
られた製品の磁気特性を表１に示す。
％＋Ｈ2 ７５％の雰囲気ガス中で１５℃／hrの昇温速度
で行い、１２００℃でＨ2 ：１００％に切りかえ２０時
間純化焼鈍を行った。これらの試料を張力コーティング
処理を施した後、レーザー照射して磁区細分化した。得
られた製品の磁気特性を表１に示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】界面偏析元素またはその化合物を焼鈍分離
材に添加して、仕上げ焼鈍中に鋼板表面に濃化させるこ
とにより、二次再結晶が安定的に発達することが分か
る。また、アルミナを静電塗布すると、マグネシアを水
スラリー状で塗布した場合に比べて、鉄損値が低い（良
い）ことが分かる。
材に添加して、仕上げ焼鈍中に鋼板表面に濃化させるこ
とにより、二次再結晶が安定的に発達することが分か
る。また、アルミナを静電塗布すると、マグネシアを水
スラリー状で塗布した場合に比べて、鉄損値が低い（良
い）ことが分かる。
【００２６】実施例２ 重量で、Ｓｉ：３．２％、Ｍｎ：０．０８％、Ｃ：０．
０８％、Ｓ：０．０２５％、酸可溶性Ａｌ：０．０２５
％、Ｎ：０．００９％、残部、実質的にＦｅ及び不可避
的不純物からなる珪素鋼スラブを１３２０℃で加熱した
後、板厚２．０mmに熱延した。この熱延板を１０５０℃
で２分間焼鈍した後１．４mmまで圧延しその後１０００
℃で２分間焼鈍した。
０８％、Ｓ：０．０２５％、酸可溶性Ａｌ：０．０２５
％、Ｎ：０．００９％、残部、実質的にＦｅ及び不可避
的不純物からなる珪素鋼スラブを１３２０℃で加熱した
後、板厚２．０mmに熱延した。この熱延板を１０５０℃
で２分間焼鈍した後１．４mmまで圧延しその後１０００
℃で２分間焼鈍した。
【００２７】この板を一部は（Ａ）Ｓｎメッキ（０．０
１ｇ／ｍ2 ）し、一部は（Ｂ）そのままで更に０．１４
mm厚に冷延した。この冷延板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね
８５０℃で９０秒焼鈍し一次再結晶させた。この鋼板を
酸洗して表面の酸化層を除去し、平均粒径２．０μｍの
アルミナを水スラリーで塗布・乾燥して、仕上げ焼鈍を
施した。
１ｇ／ｍ2 ）し、一部は（Ｂ）そのままで更に０．１４
mm厚に冷延した。この冷延板を湿潤ガス中で脱炭を兼ね
８５０℃で９０秒焼鈍し一次再結晶させた。この鋼板を
酸洗して表面の酸化層を除去し、平均粒径２．０μｍの
アルミナを水スラリーで塗布・乾燥して、仕上げ焼鈍を
施した。
【００２８】仕上げ焼鈍は１２００℃まではＡｒ：１０
０％の雰囲気ガス中で１５℃／hrの昇温速度で行い、１
２００℃でＨ2 ：１００％に切りかえ２０時間純化焼鈍
を行った。これらの試料を張力コーティング処理を施し
た後、レーザー照射して磁区細分化した。得られた製品
の磁気特性を表２に示す。
０％の雰囲気ガス中で１５℃／hrの昇温速度で行い、１
２００℃でＨ2 ：１００％に切りかえ２０時間純化焼鈍
を行った。これらの試料を張力コーティング処理を施し
た後、レーザー照射して磁区細分化した。得られた製品
の磁気特性を表２に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】
【発明の効果】本発明により、仕上げ焼鈍中に（１）鉄
損特性を劣化させる要因である鋼板表面の凸凹の平滑化
と（２）磁束密度を向上させる二次再結晶による結晶の
方位制御を同時に達成できるので、磁気特性の良い一方
向性珪素鋼板を低コストで製造することができる。
損特性を劣化させる要因である鋼板表面の凸凹の平滑化
と（２）磁束密度を向上させる二次再結晶による結晶の
方位制御を同時に達成できるので、磁気特性の良い一方
向性珪素鋼板を低コストで製造することができる。
【図１】（ａ），（ｂ），（ｃ）は仕上げ焼鈍後の各試
料の磁気特性（Ｂ8 ）及び粒組織の模式図である。
料の磁気特性（Ｂ8 ）及び粒組織の模式図である。
Claims (6)
- 【請求項１】 重量で、 Ｓｉ：０．８〜４．８％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１２〜０．０５％、 Ｎ ≦０．０１％、 残部、実質的にＦｅ及び不可避的不純物からなる珪素熱
延鋼帯を、焼鈍した後或いは焼鈍を行わずに、一回もし
くは中間焼鈍を挟む二回以上の冷間圧延により最終板厚
とし、次いで脱炭焼鈍・増窒素処理を行った後、該鋼板
を積層する際の板間の焼鈍分離材としてシリカと反応し
ないもしくは反応しにくい物質を用いることにより、仕
上げ焼鈍後に表面を鏡面にする鏡面方向性珪素鋼板の製
造方法において、界面偏析元素またはその化合物を仕上
げ焼鈍前に付着、または焼鈍分離材に添加して、仕上げ
焼鈍中に鋼板表面に濃化させることにより、二次再結晶
を安定化せしめることを特徴とする超低鉄損一方向性珪
素鋼板の製造方法。 - 【請求項２】 重量で、 Ｓｉ：０．８〜４．８％、 酸可溶性Ａｌ：０．０１２〜０．０５％、 Ｎ ≦０．０１％、 Ｍｎ：０．０２〜０．３％、 Ｓ ：０．００５〜０．０４０％、 残部、実質的にＦｅ及び不可避的不純物からなる珪素熱
延鋼帯を、焼鈍した後或いは焼鈍を行わずに、一回もし
くは中間焼鈍を挟む二回以上の冷間圧延により最終板厚
とし、次いで脱炭焼鈍を行った後、該鋼板を積層する際
の板間の焼鈍分離材としてシリカと反応しないもしくは
反応しにくい物質を用いることにより、仕上げ焼鈍後に
表面を鏡面にする鏡面方向性珪素鋼板の製造方法におい
て、界面偏析元素またはその化合物を仕上げ焼鈍前に付
着、または焼鈍分離材に添加して、仕上げ焼鈍中に鋼板
表面に濃化させることにより、二次再結晶を安定化せし
めることを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造
方法。 - 【請求項３】 脱炭焼鈍後、脱炭焼鈍により形成された
酸化層を除去することを特徴とする請求項１または２記
載の方法。 - 【請求項４】 焼鈍分離材として、Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，Ｍｇ2 ＳｉＯ
4 の１種または２種以上からなる粉末を水和水分を持ち
込まない状態で用いることを特徴とする請求項１〜３の
いずれかに記載の方法。 - 【請求項５】 焼鈍分離材として、Ａｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，ＢａＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，Ｍｇ2 ＳｉＯ
4 の１種または２種以上からなる物質が表面に存在して
いる板を用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項６】 焼鈍分離材として、０．５〜１０μｍの
平均粒径のＡｌ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，Ｍｇ2 Ｓ
ｉＯ4 の１種または２種以上からなる粉末をスラリー状
にして鋼板に塗布することを特徴とする請求項１〜３の
いずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5043812A JP2679933B2 (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5043812A JP2679933B2 (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06256850A JPH06256850A (ja) | 1994-09-13 |
| JP2679933B2 true JP2679933B2 (ja) | 1997-11-19 |
Family
ID=12674158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5043812A Expired - Lifetime JP2679933B2 (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2679933B2 (ja) |
-
1993
- 1993-03-04 JP JP5043812A patent/JP2679933B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06256850A (ja) | 1994-09-13 |
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