JP2664670B2 - 合成ガスを造るための装置 - Google Patents

合成ガスを造るための装置

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、円筒形の圧力容器と外部から加熱されかつ
触媒が満たされている多数のリホーミング管とを備えて
いて、この場合管底板内に保持されているリホーミング
管内に炭化水素と水蒸気から成る混合物が流入し、かつ
これらのリホーミング管からリホーミングガスが流出す
るように構成されている接触作用を行う吸熱リホーミン
グ部分内において、 および接続していて直径が上記リホーミング部分より
も拡大されており、内部にリホーミング管の自由端が突
出しておりかつリホーミング管からのリホーミングガス
と付加的な炭化水素並びに酸素或いは酸素を含有してい
るガスが導入される端部が閉じられている圧力容器の様
式の部分酸化部分内において、 高圧下に炭化水素、特に天然ガス、ナフサおよび／又
は精油所ガスから合成ガスを製造する装置に関する。 高圧とは例えば30バールおよびそれ以上の圧力を意味
する。 本質的に水素および一酸化炭素を含んでいる合成ガス
は一連の重要な大規模合成のための、例えばメタノール
或いはアンモニアを製造するための基本物質である。純
粋な水素でも適当な合成ガス調製にしたがって造ること
が可能である。 特許請求の範囲の上位概念に記載した様式の合成ガス
を造るための多数の装置は公知である。これらの装置に
あっては方法段、即ち接触作用の吸熱蒸気リホーミング
（Ｉ）と発熱性の部分酸化（II）が行われ、かつ触媒が
満たされているリホーミング管を加熱するために部分酸
化（II）から得られる温かい反応ガスが使用される。 ドイツ連邦共和国公開特許公報第3244252号から、第
一の部分量である炭化水素が蒸気と混合され、触媒の存
在下にリホーミング管内において蒸気リホーミング反応
される装置が公知になっている。この部分反応の生成ガ
スは円筒形の内壁がある材料で内張りされている上記容
器内に垂直に懸垂して設けられているリホーミング管か
ら管流出面の下方に形成される容器の自由部分−以下に
混合室と称する−内に流入する。部分反応（Ｉ）から来
るガスの温度は一般に700℃以上である。量の点でも種
類の点でも第一の部分量と等しい必要のない第二の部分
量である炭化水素は同時に酸素流或いは酸素を含んでい
る流れと共に混合室に供給される。そこでこれらの物質
は部分反応（II）として互いに反応する。この部分反応
（II）には、供給された反応関与体の直接的な環境を混
合室内に形成するガスも関与する。 部分反応（II）から得られるガスの温度、主として14
00〜2100℃の範囲の温度は部分反応（Ｉ）から得られる
ガスの温度より著しく高い。混合室内では部分反応
（Ｉ）と部分反応（II）から来るガス流は完全に混合さ
れ、混合温度をとる。この場合改めて平衡反応、即ち部
分反応（III）が起こる。その際生じた温度は950℃、特
に1100℃以上である。この温度は生成される合成ガスの
組成を決定する。このガスは接触作用するリホーミング
区域の管領域内に部分反応（Ｉ）から来るガスに対して
向流で流入し、そこで部分反応（Ｉ）を行うためにリホ
ーミング管に顕熱を放出する。 部分反応（Ｉ）は高い残メタン含有量を有するガス
を、部分反応（II）は実際にメタンを含まないガスを、
そして部分反応（III）は意図するかつその反応温度に
属するメタン含有量、例えば１％、特に0.5％より低い
メタン含有量を有するガスを与える。しかし、この反応
温度およびこの反応温度から算出可能なガス組成は、部
分反応（Ｉ）と部分反応（II）から来るガスの混合が完
全である場合、即ちガス痕跡が存在しない場合にのみ生
じる。従って方法を最適に実施するために、合成ガスが
冷却帯域（リホーミング管区域）に流入する以前に、無
条件に完全混合する必要がある。 ドイツ連邦共和国公開特許公報第3244252号による装
置ではガス流の充分な混合品質は得られない。 米国参考文献24311から、炭化水素を蒸気との混合の
形で先ず接触作用の限られた吸熱蒸気リホーミング処理
して行う合成ガスを造るための装置が公知になってい
る。この目的のため円筒形の圧力容器内に部分的に触媒
が満たされているリホーミング管が設けられている。こ
のリホーミング管内の中央には酸素導管が設けられてお
り、従って部分的に分解された炭化水素がリホーミング
管の流出部において加熱された酸素と混合され、部分的
な発熱酸化が行われる。円筒形の圧力容器の下部分は自
由反応室方向に拡大されている。この自由反応室からリ
ホーミング管を加熱するために反応ガスが方向転換した
後上方へと流れる。酸素管が熱を帯びているリホーミン
グ管を通して案内されていることは作業技術的におよび
冶金的に極めて問題があり、従ってこの装置は何ら使用
されなかった。その上、この装置は種々の使用物質のた
めにおよび使用炭化水素を二つの部分反応に分割するの
に汎用使用可能ではない。 本発明の根底をなす課題は、必要とする熱反応が作業
信頼性を以てかつ充分に確実に行われ、また色々な組成
の合成ガスを得るために部分反応を制御することが可能
な、装置を造ることである。 この課題は、特許請求の範囲第２項から第10項に記載
の構成との組合わせの下に特許請求の範囲第１項記載の
特徴により解決される。 本発明によって達せられる利点は、部分酸化部分、即
ち混合室内において明白な流動挙動が得られることであ
る。反応相手、例えばリホーミングガス、付加的な炭化
水素および酸素もしくは酸素を含んでいるガスの本発明
による特別な供給により混合室内に軸に対応する渦流が
形成され、これによりこの渦流の中央部において低圧領
域が生じ、この低圧領域によりリホーミングガスがリホ
ーミング管端部から、即ち接触作用の吸熱蒸気リホーミ
ング部から混合室の下部分内へと投出される。この場合
このリホーミングガスは供給装置から来る部分酸化ガス
と激しく混合され、合成ガスが形成される。ループ状流
動の外側領域内での混合ガスもしくは合成ガスの大部分
は供給装置間の自由面を通ってリホーミング部分方向で
部分酸化部分から流出する温かい合成ガスは次いでリホ
ーミング管の周囲を流れ、吸熱反応に必要な熱量を管内
に流する混合ガスに放出する。 装置の作用能力にとっては、リホーミング部分が部分
酸化部分の上方に設けられていようが、或いは下方に設
けられていようが関係ない。重要なことは処理すべきガ
スを考慮して或る限界条件を維持することである。即
ち、例えばリホーミング管の流出面内の開口のピツチｔ
が以下の要件、即ち ｔｄ＋0.317×ｈ を満足し、これにより管区域内への不所望なガス逆流が
回避されるのでなければならない。上記の式中ｄ＝リホ
ーミング管内径であり、ｈ＝リホーミング管端部の面に
対する二つの供給装置の結合線の間隔であり、さらにこ
の間隔ｈは、好ましくは下記の式を満たすものである。 式中m0はリホーミング管の流出面内の開口から流出する
量流 m1は流れm0によって吸引される量流ρ１とρ０はその都
度の量流の密度 および ｄはリホーミング管の流出面内の開口の直径 を意味する。 リホーミング管からの流出における個々の放流の流れ
のレイノルズ数は５×103、特に５×104よりも大きくな
ければならない。この流動条件から得られる運動量はこ
れらのガス流の渦流内への侵入と、この渦流の内部を通
過して混合室の下部分内への侵入を可能にする。この流
動により渦流輪に特有の転動様の運動も生じ、この運動
によりガスは混合室の周面に沿つて実際に螺旋状に上方
へと逆送される。 ノズルの出口における供給装置にとって特有なレイノ
ルズ数は４×103、特に４×104より大きくなければなら
ない。この数は仮想の流出速度、仮想の直径および関与
するガスの平均粘ちよう性から形成され、この場合仮想
値は運動量と容積流とを互いに均一であると仮定して得
られる。仮想値は供給装置の混合室に面した端部の構造
上の形状から与えられる。供給された媒体の流動特性は
常に維持されなければならない。その際負荷変更の際避
けられ得ないかつ生成ガス成分の調整に絶対必要な流入
速度の変化は混合室内の流動形態の変化を誘起すること
がなく、従って反応経過の品質も何ら変化をこおむらな
い。 供給装置のその水平な混合室面に対する軸線に関する
整向に関してプラス記号はリホーミング管区域の或る方
向での相違を意味する。 反応体は混合室内に、部分反応（III）の平衡への意
図する接近が達せられるのに充分な長い時間滞留しなけ
ればならない。これは、或る直径が与えられている場合
この室の深さが少なくとも４秒の滞留時間を許容するこ
とによって達せられる。混合室の直径は少なくともリホ
ーミング管区域の包絡環直径の1.1倍に相当しなければ
ならず、かつこの直径は第一にリホーミング管区域内で
低減されなければならない。こうして、部分反応（II
I）から来る生成ガスが部分反応（Ｉ）から来るガスに
よって妨げられることなく半径方向で上方へとリホーミ
ング管区域内に流入する。しかし直径があまり大き過ぎ
ると、流動形態（流動模式）が失われてしまう。 その上公知のように、部分反応（III）から来る合成
ガスは、冷却がゆっくりと行われる場合変化する平衡条
件に相応するかつメタン含有量が高いガス組成をとる傾
向を示す。しかもこのことは達せられるリホーミングの
一部を減退させる。従って、方法の実施には平衡状態で
得られる生成ガスを迅速に冷却し、これによりこの状態
が一様に固定されるようにすることが必要である。この
安定化は本発明により、600℃以下の温度で達せられ
る。 リホーミング管のための温かい合成ガスによる一様な
かつ有効な加熱を達するために、早い冷却速度が適用さ
れる。これにより、同時にメタンの再生とカーボンの析
出が回避される。リホーミング管はこの目的のためこの
リホーミング管の流出面から或る程度の距離をおいて被
覆管を有している。この被覆管とリホーミング管間で環
状間隙内で温かい合成ガスが流れる。 その上、本発明による装置は公知の方法技術上の変形
の適用を、しかも合成ガスの製造の完結としての接触反
応の使用を許容する。この目的で、リホーミング管の流
出口端部間の空間は触媒で、其処で流入する合成ガスが
この触媒を通過せざるを得ないように満たされている。
この後接続された接触作用の発熱性の部分反応はメタン
平衡へのより著しい接近を可能にし、これにより合成ガ
スの残余メタン含有量が低下するか、もしくは先行する
反応から出る温度が低く抑えられる。 組込まれた触媒層の他の利点は、この層内に流入する
ガスの混合および反応の万一の不完全さが補償されるこ
とである。引続き触媒層に接続して不活性充填体を充填
することもしくはリホーミング管のための被覆管による
特別な支持構造とすることが可能である。 リホーミング管の流出口端部もしくはノズルの構成は
本発明の対象ではない。この構成は公知の技術に従って
自由に選択可能である。 以下に添付した図面に図示した実施例に付き本発明を
詳しく説明する。 第１図による反応器はリホーミング部分１と部分酸化
のための酸化部分２とから成る。リホホーミング部分１
内の流入室４内に蒸気と混合されて第一の部分量の炭化
水素が流入し、触媒５が充填されたリホーミング管６上
に分配される。この物質のこれらの触媒を経る流過は接
触的に蒸気リホーミング−反応、即ち部分反応（Ｉ）に
従って熱吸収と転換の下に行われる。この部分反応
（Ｉ）から来るリホーミングガス７は高い速度でノズル
８から混合室９内に流入する。ノズル８の流出速度並び
にピツチ、直径および配設はノズル面の供給装置10の面
に対する必要な間隔にとって重要である。供給装置10か
らの流出速度、その直径および配設は混合室９の内径の
リホーミング管６の周囲の包絡環11の直径に対する比率
と相まって第１図、第２図第３図および第４図において
矢印で示した所望の流動形態の形成を保証する。混合室
９の軸方向への充分な延びはこの領域内で反応するガス
にとって必要な滞留時間のための前提要件である。 供給装置10を介して装填される媒体、例えば酸化剤12
と付加的に蒸気を含んでいてもよい第二の炭化水素部分
量13は互いにおよび部分的酸化の形で周辺のガスと反応
する。 装填された媒体の方向、速度および質量は混合室９内
において垂直方向の軸線と中央部に低圧領域を備えた渦
流を形成する。渦流を形成する供給装置10のノズル８に
対する一定の配設により、ノズル８から出るリホーミン
グガスが混合室９の下部分内に放出され、リホーミング
ガス７と酸化ガス14とが連続的な混合と反応下に内方へ
と螺旋状に流動し、混合室底部の近傍で転向し、管が組
込まれている反応部分の方向で螺旋状に逆流し、最後に
合成ガスとして反応器の壁とリホーミング管区域とによ
って形成された室16から実際に半径方向でかつ上方へと
管区分内へと流入する。 被覆されていないリホーミング管６の領域内で先細り
になっている環状室16は、ガス15が妨げられることなく
ガス７から上記の形で流入することを保証する。この領
域において合成ガス15はその熱を本質的に放射によって
リホーミング管６に放出する。リホーミング管に対する
熱推移は被覆管17内に入った後始めは対流に経過する。
被覆管17とリホーミング管６間の環状の間隙18は、合成
ガス15が極めて短い時間に冷却されるように選択され
る。この際生じる流動速度はリホーミング管６に対する
極めて良好な熱推移を保証する。合成ガス15は可能な限
り充分に冷却されて接続管19の位置で装置を去る。環状
間隙18は例えば螺旋、軸平行な円板、針金或いはカムの
ようなスペーサ20によって調節されかつ保持される。合
成ガス15を可能な限り均一にすべての環状間隙18上に配
分するため、リホーミング管は外部で、被覆管17は内部
で、特に環状間隙の領域内で加工されている。スペーサ
20は被覆管とリホーミング管の異なる延びを許容する。
更にこのスペーサは、リホーミング管をフランジ21を開
いた後個別に或いはまとめて被覆管から取外すこと、も
しくは被覆管内に挿入することを許容する。 被覆管は互いに少なくとも一つの面で互いに支持し合
っている。これらの支持部22は被覆管の各々が個別に延
びることを許容する。 被覆管17は一方の側で部分酸化部分２もしくは混合室
９方向におよび他方の側で流出室23の方向に開いてい
る。このことは分離板24の負荷を取り除く。分離壁25は
リホーミング管６のための管底部である。 両反応器部分内において高い温度が支配しているので
これらの反応器部分は適当な耐火性の内張26を備えてい
る。この内張の少なくとも加熱されたガスに面した側は
還元雰囲気のため技術的観点からみてSiO2を含んでいて
はならない。装置の耐圧ジヤケツトを高温に対してより
以上に或いは非常時にあって保護するために、装置は公
知の様式で水ジヤケツト或いはスプリンクラー装置を備
えていてもよい。 第１図は部分酸化部分２が下方に存在しておりかつリ
ホーミング管６が懸垂されている装置を示している。こ
の装置をリホーミング管の入口において触媒格子を挿入
した後これらの装置部分の位置を逆に取付けて運転する
こともできる。 第２図は本発明による装置の変形した実施例の縦断面
図を示している。この場合第一の部分量である炭化水素
は蒸気と混合されて位置３において流入室４内に流入
し、触媒５が充填されているリホーミング管６上に分配
される。炭化水素は接触作用の蒸気リホーミング反応、
即ち部分反応（Ｉ）に従って熱吸収と変換の下でこのリ
ホーミング管を流過する。部分反応（Ｉ）から来るガス
７は高い速度でノズル８から混合室９内に流入する。ノ
ズル８のこの流出速度並びにピツチ、直径および配設は
ノズル８の面の供給装置10の面からの必要な間隔にとっ
て重要である。供給装置10の流出速度、ノズル直径およ
び配設と混合室９の内径のリホーミング管６の周囲の被
覆管の直径に対する比率と相まって第２図および第３図
において矢印で示した所望の流動形態の形成を保証す
る。混合室９の軸方向での充分な延びはつまるところこ
の領域内での反応するガスの必要な滞留時間を生む。 供給装置10により装填される酸化剤12である媒体と蒸
気を含んでいてもよい第二の炭化水素量13は互いにおよ
び周辺のガスと反応する。これらの物質はガスを部分反
応（II）に与える。装填された媒体の方向、速度および
質量は垂直軸線とその中央部に低圧領域を備えた渦流を
混合室９内に発生させる。渦流を発生させる供給装置10
のノズル８に対する一定の配設により、ノズル８から来
るガス７が実際に渦流の中央部を通り混合室の下方部分
内に放出され、ガス７と14は連続的に混合および反応し
ながら渦状に混合室周面近傍で管を敷設された反応器部
分の方向に逆流させられ、最後に反応器壁とリホーミン
グ管区域によって区画されている、環状のかつ触媒27が
満たされている室16内に流入し、触媒層を流渦する。 触媒はメタン平衡へのより良好な接近を可能にし、こ
れによりガスの残メタン含有量が更に還元される。ガス
はこの部分反応（IV）の熱需要ため以外に熱を触媒ベツ
ド内に設けられているリホーミング管６に供給する。こ
の領域内でのリホーミング管６に対する熱放出は、例え
ば管の内部或いは外部絶縁および／又は直径縮小によ
り、もしくはリホーミング管の配設ピツチを適当に選択
することにより或いは環状室16の大きさによりおよび／
又は触媒容量の選択によって部分反応（IV）の要件に適
合させることが可能である。触媒層27を高い温度で去る
ガスは接触作用を行わない物体のばら積体、例えば充填
体28をその顕熱をリホーミング管６に更に放出しながら
流過する。このガスは冷却された生成ガスとして有孔壁
29を経て流出室23内に流入し、其処から位置19で流出す
る。 形状および材料に応じて充填体28を適当に選択するこ
とにより所望の熱推移および所望の冷却速度を達するこ
とができる。この目的を達するための可能な他の手段は
例えば管導管の選択、大きなディスプレイサーの使用或
いは表面を拡大した管６の使用である。 触媒層27は充填体28上に載っており、この充填体はま
た有孔壁29に支持されており、この有孔壁29はリホーミ
ング管６に支持されている。この支持を直接分離壁25上
で或いは反応器の壁部で行うことも可能である。リホー
ミング管６は少なくとも一つの穿孔されかつ区分けされ
たスペーサ板30によってそのピツチで固定されており、
従って各々の管は個別に延びることが可能である。スペ
ーサ板30は充填体で支持されている。 この装置の特徴はまた、第１図に示すような大きな装
置フランジ21を必要としないことでもある。触媒５と27
並びに充填体28はマンホール31を経て吸引して取出され
る。触媒５を、触媒格子32を取出し可能に構成した場
合、室４内でマンホールを経て放出することも可能であ
る。 第３図は第１図および第２図の装置の線Ｉ−Ｉに沿っ
た断面図である。六個の供給装置10が混合室の周囲に同
じ間隔で、それらの流出ノズルの方向−ガス流14の方向
で示されている−がその都度の半径方向流の方向で、例
えば半径方向流33で角度α34を形成するように、設けら
れている。ガス流14は流動矢印で示されている所望の渦
流35を発生させる。 第４図は第１図による装置の混合室領域内の縦断面図
を示している。ガス流14は水平面に対して角度β36だけ
傾斜して混合室９内に流入している。供給装置10のノズ
ルはすべての水平面に存在する面を形成する。この面の
ノズルによってリホーミング管端部８の近傍に形成され
る面との間の間隔ｈは第３図にあって図示されている渦
流35によって重塁される矢印で示した流動形態にとって
重要である。必要な場合供給装置を一つの面よりも多い
面に設けることも可能である。 第５図には供給装置11が詳しく図示されている。酸化
剤12のためのノズル37に通じている導管38は別個に供給
装置11内に導入されている。同様に第二の部分流である
炭化水素13は個々に導管39を介してノズル40に供給され
る。導管38と39は供給装置内に挿入された後すべて円筒
形のジヤケツトで囲繞され、このジヤケツトは混合室９
に面していてかつノズル壁を形成している底部41および
底部42と43と溶接される。上記の導管が底部41,42およ
び43を経て引通される引通部も同様に溶接されている。
このようにジヤケツト44、上記の底部および上記の導管
によって区画されている中空室45は水で流過され、この
水はフランジ46を介して流入し、隔壁47を経て最も強い
温度負荷に曝される底部41の近傍にまで案内され、次い
でフランジ48を経て再び流出する。 例えば6634m3/hCO＋H2のための工業的な規模での合成
ガス製造のための本発明による装置は以下の主要寸法を
有している。即ち 部分反応（Ｉ）の内径 800mm リホーミング部分の長さ 10.000mm リホーミング管６の数 19 包絡環直径（11） 750mm リホーミング管の流出口におけるレイノルズ数 97.000 酸化部分（２）の内径 1.000mm 混合室（９）の長さ 2.200mm 間隔ｈ（リホーミング管端部から供給装置の面まで）60
0mm 供給装置の数 ６ 角度α 15゜ 角度β ０゜ レイノルズ数 260.00 を有している。 表１と２は第１図および第２図による装置に関する作
業データを含んでいる。この場合欄の数は相当する図面
内の参照符号に相当する。
【図面の簡単な説明】 第１図は懸垂されたリホーミング管を有する反応器の断
面図、 第２図は起立しているリホーミング管を有する反応器の
断面図、 第３図は供給装置の領域内での反応器の横断面図、 第４図は湾曲された供給装置を有するこの場合の断面
図、 第５図は供給装置の断面図、 図中符号は、 １……リホーミング部分 ２……部分酸化部分 ６……リホーミング管 ８……自由端 10……供給装置 19……流出接続管 25……管底板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−107901（ＪＰ，Ａ) 特公 昭59−30128（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭39−22824（ＪＰ，Ｂ１) 実公 昭37−11532（ＪＰ，Ｙ１)

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 １．円筒形の圧力容器と外部から加熱されかつ触媒が満
    たされている多数のリホーミング管（６）とを備えてい
    て、この場合管底板（25）内に保持されているリホーミ
    ング管（６）内に炭化水素と水蒸気からなる混合物が流
    入し、かつこれらのリホーミング管からリホーミングガ
    スが流出するように構成されている接触作用を行う吸熱
    リホーミング部分（１）内において、 および接続していて直径が上記リホーミング部分よりも
    拡大されており、内部にリホーミング管（６）の自由端
    （８）が突出しておりかつリホーミング管からのリホー
    ミングガスの付加的な炭化水素並びに酸素あるいは酸素
    を含有しているガスが導入される端部が閉じられている
    圧力容器の様式の部分酸化部分（２）内において、 高圧下で炭化水素、特に天然ガス、ナフサおよび／また
    は精油所ガスから合成ガスを製造する装置において、部
    分酸化部分（２）の円筒形の壁内に炭化水素および／ま
    たは酸素あるいは酸素を含有しているガスのための多数
    の供給装置（10）が設けられており、これらの供給装置
    の中心軸線が半径方向に対して角度をもってかつ水平面
    に対して平行あるいは傾斜して整向されておりかつこれ
    らの供給装置のリホーミング管の流出端部に対する間隔
    ｈが、部分酸化部分（２）内においてガスの回転するル
    ープ状流が形成されかつ生成ガスが外方へと流出し、次
    いでリホーミング管の周囲を流れ、リホーミング管を加
    熱し、流出接続管（19）を経てリホーミング部分（１）
    を去るように、設定されていることを特徴とする合成ガ
    ス製造装置。 ２．供給装置（10）が部分酸化部分（２）の壁内に以下
    のように、即ちガス流の流出方向が、 ａ） それぞれの半径方向に対して１゜〜30゜、特に５
    ゜〜20゜の角度を、そして ｂ） 水平面に対して＋５゜〜−15゜、特に０゜〜−10
    ゜の角度を形成し、 ｃ） リホーミング管端部（８）の面に対する二つの供
    給装置の結合線の間隔ｈがリホーミング管部分の包絡管
    直径の0.15〜１倍であるように、 設けられている特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ３．リホーミング管端部の面に対する二つの供給装置の
    結合線の間隔ｈ、リホーミング管端部（８）のガス流出
    開口部の直径ｄ並びに全てのこれらのガス流出開口部の
    最大ピッチｔが以下の条件、即ち ｔ≦ｄ＋0.317×ｈ を満たす特許請求の範囲第１または２項に記載の装置。 ４．リホーミング管端部（８）の流出口におけるガス流
    の流動条件にとって特性のあるレイノルズ数が５×1
    03、特に５×104よりも大きい特許請求の範囲第１〜３
    項のいずれかに記載の装置。 ５．ノズルの流出口における供給装置にとって特性のあ
    るレイノルズ数が仮想流出速度、仮想直径および関与す
    るガスの平均粘性（仮想値は運動量と容積流とを互いに
    均一であると仮定して得られる）を基準として、４×10
    3、特に104よりも大きい特許請求の範囲第１〜４項のい
    ずれかに記載の装置。 ６．混合室（９）の内径が、リホーミング管部分の包絡
    管直径の少なくとも1.1倍、しかも最高２倍に相当しか
    つリホーミング管部分の領域内ではじめて減少するよう
    に構成されている特許請求の範囲第１〜５項のいずれか
    に記載の装置。 ７．混合室の深さが、反応体または反応生成物が実質的
    に４秒滞留するように選択されている特許請求の範囲第
    １〜６項のいずれかに記載の装置。 ８．接触水蒸気改質段階のための触媒が付加的にリホー
    ミング管端部（８）の面の近傍に配置されかつこれらの
    管またはその延長部が触媒床を貫通している特許請求の
    範囲第１項に記載の装置。 ９．支持作用する機能以外に管（６）の良好な熱推移お
    よび十分な冷却時間を保証する物体、特に充填体によっ
    て、接触が支持されている特許請求の範囲第１〜８項の
    いずれかに記載の装置。 １０．供給装置（10）の底部（41）が多数のノズル開口
    部（37、40）を備えている特許請求の範囲第１〜９項の
    いずれかに記載の装置。
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