JP2658192B2 - 金属板へ円形パターンを作成する方法 - Google Patents
金属板へ円形パターンを作成する方法Info
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- JP2658192B2 JP2658192B2 JP14227288A JP14227288A JP2658192B2 JP 2658192 B2 JP2658192 B2 JP 2658192B2 JP 14227288 A JP14227288 A JP 14227288A JP 14227288 A JP14227288 A JP 14227288A JP 2658192 B2 JP2658192 B2 JP 2658192B2
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- Japan
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- metal plate
- circular pattern
- pattern
- corrosion
- photosensitive resin
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、腐蝕可能な金属板に対し円形の腐蝕パター
ンを与える方法に係る。
ンを与える方法に係る。
（従来の技術） 従来の技術につき、簡単に説明する。従来の円形パタ
ーンを得ようとするときのマスクはぼほ円形となってい
る。その描画方法としては、フォトヘッドタイプのプロ
ッター、レーザー光利用、ラスタータイプの電子ビーム
露光装置を用いる方法等がある。
ーンを得ようとするときのマスクはぼほ円形となってい
る。その描画方法としては、フォトヘッドタイプのプロ
ッター、レーザー光利用、ラスタータイプの電子ビーム
露光装置を用いる方法等がある。
このうち、フォトヘッドタイプのプロッターを用いて
円形パターンを描画する方法は、円形を微小な横棒状の
パターンに図形分割し、その横棒図形に沿ってその該当
する区間だけ描画する事により、円形パターンを描く方
法である。
円形パターンを描画する方法は、円形を微小な横棒状の
パターンに図形分割し、その横棒図形に沿ってその該当
する区間だけ描画する事により、円形パターンを描く方
法である。
また、レーザー光を用いて円形パターンを描画する方
法は、レーザー光の光収束性の悪さを逆利用するもの
で、レーザーを点照射の収束性を調整して光をある一定
の範囲迄拡散する事で円形を得るものである。
法は、レーザー光の光収束性の悪さを逆利用するもの
で、レーザーを点照射の収束性を調整して光をある一定
の範囲迄拡散する事で円形を得るものである。
また、ラスタータイプの電子ビーム露光装置において
は、次々点で各々円内にある地点を露光していき、結果
的に円形を得るものである。
は、次々点で各々円内にある地点を露光していき、結果
的に円形を得るものである。
更に、ベクタータイプの電子ビーム露光装置を用いて
円形を得る方法に於いては、第４図の様に、円形を細か
い台形パターンを平行に積み重ねる事により面とする事
で多数個の台形に分割し、近似的な円形を得るものであ
る。
円形を得る方法に於いては、第４図の様に、円形を細か
い台形パターンを平行に積み重ねる事により面とする事
で多数個の台形に分割し、近似的な円形を得るものであ
る。
（発明が解決しようとしている課題） 上述の様な各種の円形パターンを描く方法のうち、ラ
スタータイプの電子ビーム露光装置以外では、描画速度
や精度が劣り、品質上問題がある。しかし、残ったラス
タータイプの電子ビーム露光装置では、平行な台形図形
に分割して近似的な円形を作成していた為に描画に手間
がかかり、描画時間が増加していた。
スタータイプの電子ビーム露光装置以外では、描画速度
や精度が劣り、品質上問題がある。しかし、残ったラス
タータイプの電子ビーム露光装置では、平行な台形図形
に分割して近似的な円形を作成していた為に描画に手間
がかかり、描画時間が増加していた。
又、その描画時間に応じて露光されないマスク非描画
部への側面露光やマスクの変質が起きたり、長時間描画
による露光装置のオーバーロードが発生したりする。
部への側面露光やマスクの変質が起きたり、長時間描画
による露光装置のオーバーロードが発生したりする。
本発明は、少ないデータでしかも品質が高く作成時間
が少ない金属板へ円型パターンを作成する方法を提供し
ようとするものである。
が少ない金属板へ円型パターンを作成する方法を提供し
ようとするものである。
（課題を解決するための手段） 上述の問題点を解決する為、耐腐蝕性感光樹脂マスク
への描画をラスタータイプの電子ビーム露光装置で、台
形に限る事なく六角形八角形等の正多角形で描き、次の
腐蝕工程に於いて腐蝕液で腐蝕する事により、金属板に
円形パターンを得るものである。
への描画をラスタータイプの電子ビーム露光装置で、台
形に限る事なく六角形八角形等の正多角形で描き、次の
腐蝕工程に於いて腐蝕液で腐蝕する事により、金属板に
円形パターンを得るものである。
尚、腐蝕液は一般の塩化第二鉄の他、被腐蝕物の種類
に応じて種々考えられるところである。温度等は常温で
も少々高くても構わない。また、添加剤等を含んでいて
も良い。
に応じて種々考えられるところである。温度等は常温で
も少々高くても構わない。また、添加剤等を含んでいて
も良い。
（作用） 本発明を用いる事により、ラスタータイプの電子ビー
ム露光装置において、二乃至四分割することによって、
六角形や八角形を描けば良い。従って従来の円の分割に
比べて十分の一や二十分の一程度と、非常にデータ量が
少なくなる。また、それに応じて照射時間が少なくなる
為、安定した図形となる。
ム露光装置において、二乃至四分割することによって、
六角形や八角形を描けば良い。従って従来の円の分割に
比べて十分の一や二十分の一程度と、非常にデータ量が
少なくなる。また、それに応じて照射時間が少なくなる
為、安定した図形となる。
（実施例） 本発明の一実施例を、図面を用いて詳細に説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す平面図である。
金属板（11）上に一様に感光樹脂（12）を塗布し、ラ
スタータイプの電子ビーム露光装置で台形の露光パター
ン（13）（14）を二回照射し、水洗い現象を行うと、電
子ビーム露光装置で照射した部分の感光樹脂（12）は除
去され、六角形の露出部分（15）が生じマスクとなる。
この金属板（11）全体を常温もしくは弱加温の腐蝕液中
にて通常の液圧で腐蝕する事により第３図の様にサイド
エッチされるが、このサイドエッチは隅ほど腐蝕速度が
遅くなり、曲線化してしまう。具体的には板厚500μｍ
以内であれば腐蝕の曲線化が板の厚み方向の中央部分ま
で及ぶ、また、中心から頂点の距離と中心から辺の中点
との距離の差が125μｍ以内であれば、中心よりのマス
クとなった感光樹脂の端部である腐蝕開始点の中心との
距離の差が125μｍ以内になる。また、六角形以上の正
多角形であれば腐蝕隅角度が120度以内になり、サイド
エッチにより円形化されてしまう。次に、この残ったマ
スクとなっていた感光樹脂（12）を除去する事により、
金属板に円形パターンを作成する事が出来た。
スタータイプの電子ビーム露光装置で台形の露光パター
ン（13）（14）を二回照射し、水洗い現象を行うと、電
子ビーム露光装置で照射した部分の感光樹脂（12）は除
去され、六角形の露出部分（15）が生じマスクとなる。
この金属板（11）全体を常温もしくは弱加温の腐蝕液中
にて通常の液圧で腐蝕する事により第３図の様にサイド
エッチされるが、このサイドエッチは隅ほど腐蝕速度が
遅くなり、曲線化してしまう。具体的には板厚500μｍ
以内であれば腐蝕の曲線化が板の厚み方向の中央部分ま
で及ぶ、また、中心から頂点の距離と中心から辺の中点
との距離の差が125μｍ以内であれば、中心よりのマス
クとなった感光樹脂の端部である腐蝕開始点の中心との
距離の差が125μｍ以内になる。また、六角形以上の正
多角形であれば腐蝕隅角度が120度以内になり、サイド
エッチにより円形化されてしまう。次に、この残ったマ
スクとなっていた感光樹脂（12）を除去する事により、
金属板に円形パターンを作成する事が出来た。
（発明の効果） 本発明により、電子ビームの露光時間を少なくする事
が出来、しかも感光樹脂からなるマスクの変質が少なく
なった為にピンホール欠陥等が生じなくなり、品質の良
い腐蝕パターンの金属板を得る事が出来る。
が出来、しかも感光樹脂からなるマスクの変質が少なく
なった為にピンホール欠陥等が生じなくなり、品質の良
い腐蝕パターンの金属板を得る事が出来る。
第１図は、金属板への電子ビーム露光パターンをすると
きの平面図、第２図は、同現像後の平面図、第３図は、
同腐蝕後の平面図である。第４図は、従来の金属板への
電子ビーム露光パターンをするときの平面図である。 11……金属板 12……感光樹脂 13,14……露光パターン 15……露光部分
きの平面図、第２図は、同現像後の平面図、第３図は、
同腐蝕後の平面図である。第４図は、従来の金属板への
電子ビーム露光パターンをするときの平面図である。 11……金属板 12……感光樹脂 13,14……露光パターン 15……露光部分
Claims (1)
- 【請求項１】耐腐蝕性感光樹脂が表面に設けられている
板厚500μｍ以下の金属板に対して中心から頂点の距離
と中心から辺の中点との距離の差が125μｍ以内の正六
角形以上の正多角形のパターンに露光現像することで露
光領域の耐腐蝕性感光樹脂を除去してマスクとし、金属
板を腐蝕する事よりなる金属板への円形パターンを作成
する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14227288A JP2658192B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 金属板へ円形パターンを作成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14227288A JP2658192B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 金属板へ円形パターンを作成する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021848A JPH021848A (ja) | 1990-01-08 |
| JP2658192B2 true JP2658192B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=15311494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14227288A Expired - Lifetime JP2658192B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 金属板へ円形パターンを作成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2658192B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000004382A (ko) * | 1998-06-30 | 2000-01-25 | 김영환 | 샷 패턴 형성방법 |
| CN100590523C (zh) * | 2003-02-28 | 2010-02-17 | 富士通微电子株式会社 | 光掩模和其制造方法及图形形成方法 |
| US7000207B2 (en) * | 2003-04-10 | 2006-02-14 | Sioptical, Inc. | Method of using a Manhattan layout to realize non-Manhattan shaped optical structures |
-
1988
- 1988-06-09 JP JP14227288A patent/JP2658192B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH021848A (ja) | 1990-01-08 |
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