JPH021848A - 金属板へ円形パターンを作成する方法 - Google Patents
金属板へ円形パターンを作成する方法Info
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- JPH021848A JPH021848A JP63142272A JP14227288A JPH021848A JP H021848 A JPH021848 A JP H021848A JP 63142272 A JP63142272 A JP 63142272A JP 14227288 A JP14227288 A JP 14227288A JP H021848 A JPH021848 A JP H021848A
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、腐蝕可能な金属板に対し円形の腐蝕パターン
を与える方法に係る。
を与える方法に係る。
（従来の技術）
従来の技術につき、簡単に説明する。従来の円形パター
ンを得ようとするときのマスクはほぼ円形となっている
。その間両方法としては、フォトヘッドタイプのプロッ
ター レーザー光利用、ラスタータイプの電子ビーム露
光装置を用いる方法等がある。
ンを得ようとするときのマスクはほぼ円形となっている
。その間両方法としては、フォトヘッドタイプのプロッ
ター レーザー光利用、ラスタータイプの電子ビーム露
光装置を用いる方法等がある。
このうち、フォトヘッドタイプのプロッターを用いて円
形パターンを描画する方法は、円形を微小な横棒状のパ
ターンに図形分割し、その横棒図形に沿ってその該当す
る区間だけ描画する事により、円形パターンを描く方法
である。
形パターンを描画する方法は、円形を微小な横棒状のパ
ターンに図形分割し、その横棒図形に沿ってその該当す
る区間だけ描画する事により、円形パターンを描く方法
である。
また、レーザー光を用いて円形パターンを描画する方法
は、レーザー光の光収束性の悪さを逆利用するもので、
レーザーを点照射の収束性を調整して光をある一定の範
囲迄拡散する事で円形を得るものである。
は、レーザー光の光収束性の悪さを逆利用するもので、
レーザーを点照射の収束性を調整して光をある一定の範
囲迄拡散する事で円形を得るものである。
また、ラスタータイプの電子ビーム露光装置においては
、次々点で各々円内にある地点を露光していき、結果的
に円形を得るものである。
、次々点で各々円内にある地点を露光していき、結果的
に円形を得るものである。
更に、ベクタータイプの電子ビーム露光装置を用いて円
形を得る方法に於いては、第４図の様に、円形を細かい
台形パターンを平行に積み重ねる事により面とりする事
で多数個の台形に分割し、近似的な円形を得るものであ
る。
形を得る方法に於いては、第４図の様に、円形を細かい
台形パターンを平行に積み重ねる事により面とりする事
で多数個の台形に分割し、近似的な円形を得るものであ
る。
（発明が解決しようとしている課題）
上述の様な各種の円形パターンを溝く方法のうち、ラス
タータイプの電子ビーム露光装置以外では、描画速度や
精度が劣り、品質上問題がある。
タータイプの電子ビーム露光装置以外では、描画速度や
精度が劣り、品質上問題がある。
しかし、残ったラスタータイプの電子ビーム露光装置で
は、平行な台形図形に分割して近似的な円を作成してい
た為に描画に手間がかかり、描画時間が増加していた。
は、平行な台形図形に分割して近似的な円を作成してい
た為に描画に手間がかかり、描画時間が増加していた。
又、その描画時間に応して露光されないマスク非は両部
への側面露光やマスクの変質が起きたり、長時間描画に
よる露光装置のオーバーロードが発生したりする。
への側面露光やマスクの変質が起きたり、長時間描画に
よる露光装置のオーバーロードが発生したりする。
本発明は、少ないデータでしかも品質が高く作成時間が
少ない金属板へ円型パターンを作成する方法を提供しよ
うとするものである。
少ない金属板へ円型パターンを作成する方法を提供しよ
うとするものである。
（課題を解決するための手段）
上述の問題点を解決する為、耐腐蝕性感光樹脂マスクへ
の描画をラスタータイプの電子ビーム露光装置で、台形
に限る事なく六角形六角形等の正多角形で描き、次の腐
蝕工程に於いて腐蝕液で腐蝕する事により、金属板に円
形パターンを得るものである。
の描画をラスタータイプの電子ビーム露光装置で、台形
に限る事なく六角形六角形等の正多角形で描き、次の腐
蝕工程に於いて腐蝕液で腐蝕する事により、金属板に円
形パターンを得るものである。
尚、腐蝕液は一般の塩化第二鉄の他、被腐蝕物の種類に
応じて種々考えられる吉ころである。温度等は常温でも
少々高くても構わない。また、添加剤等を含んでいても
良い。
応じて種々考えられる吉ころである。温度等は常温でも
少々高くても構わない。また、添加剤等を含んでいても
良い。
ビーム露光装置において、二乃至四分割することによっ
て、六角形やへ角形を描けば良い。従って従来の円の分
別に比べて十分の−や二十分の一程度と、非常にデータ
量が少なくなる。また、それに応じて照射時間が少なく
なる為、安定した図形となる。
て、六角形やへ角形を描けば良い。従って従来の円の分
別に比べて十分の−や二十分の一程度と、非常にデータ
量が少なくなる。また、それに応じて照射時間が少なく
なる為、安定した図形となる。
（実施例）
本発明の一実施例を、図面を用いて詳細に説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す平面図である。
金属板（＋１）上に一様に感光樹脂（１２）を塗布し、
ラスタータイプの電子ビーム露光装置で台形の露光パタ
ーン（１３） （１４）を二回照射し、水洗い現象を
行うと、電子ビーム露光装置で照射した部分の怒光樹Ｉ
ＩＷ（ｉ２）は除去され、六角形の露出部分（１５）が
生じマスクとなる。この金属板（１１）全体を常温もし
くは弱加温の腐蝕液中にて通常の液圧で腐蝕する事によ
り第３図の様にサイドエッチされるが、このサイドエッ
チは隅はど腐蝕速）が遅くなり、曲線化してしまう。具
体的には仮ｆｉ５００ μｍ以内であれば腐蝕の曲線化
が仮の厚み方向の中央部分まで及ぶ、また、中心から頂
点の距離と中心から辺の中点との距離の差が１２５ μ
ｍ以内であれば、中心よりのマスクとなった感光樹脂の
端部である腐蝕開始点の中心との距離の差が１２５ μ
ｍ以内になる。また、六角形以上の正多角形であれば腐
蝕隅角度が１２０度以内になり、サイドエッチにより円
形化されてしまう０次に、この残ったマスクとなってい
た感光樹脂（１２）を除去する事により、金属板に円形
パターンを作成する事が出来た。
ラスタータイプの電子ビーム露光装置で台形の露光パタ
ーン（１３） （１４）を二回照射し、水洗い現象を
行うと、電子ビーム露光装置で照射した部分の怒光樹Ｉ
ＩＷ（ｉ２）は除去され、六角形の露出部分（１５）が
生じマスクとなる。この金属板（１１）全体を常温もし
くは弱加温の腐蝕液中にて通常の液圧で腐蝕する事によ
り第３図の様にサイドエッチされるが、このサイドエッ
チは隅はど腐蝕速）が遅くなり、曲線化してしまう。具
体的には仮ｆｉ５００ μｍ以内であれば腐蝕の曲線化
が仮の厚み方向の中央部分まで及ぶ、また、中心から頂
点の距離と中心から辺の中点との距離の差が１２５ μ
ｍ以内であれば、中心よりのマスクとなった感光樹脂の
端部である腐蝕開始点の中心との距離の差が１２５ μ
ｍ以内になる。また、六角形以上の正多角形であれば腐
蝕隅角度が１２０度以内になり、サイドエッチにより円
形化されてしまう０次に、この残ったマスクとなってい
た感光樹脂（１２）を除去する事により、金属板に円形
パターンを作成する事が出来た。
（発明の効果）
本発明により、電子ビームの露光時間を少なくする事が
出来、しかも感光樹脂からなるマスクの変質が少なくな
った為にピンホール欠陥等が生じなくなり、品質の良い
腐蝕パターンの金属板を得る事が出来る。
出来、しかも感光樹脂からなるマスクの変質が少なくな
った為にピンホール欠陥等が生じなくなり、品質の良い
腐蝕パターンの金属板を得る事が出来る。
第１図は、金属板への電子ビーム露光パターンをすると
きの平面図、第２図は、同現像後の平面図、第３図は、
同腐蝕後の平面図である。第４図は、従来の金属板への
電子ビーム露光パターンをするときの平面図や骨咽であ
る。 １１ ・・・金属板 １２ ・・・感光樹脂 １３、１４・・・露光パターン １５ ・・・露光部分 特 許 出 顎 人 第１図 第２図 第３図 第４図
きの平面図、第２図は、同現像後の平面図、第３図は、
同腐蝕後の平面図である。第４図は、従来の金属板への
電子ビーム露光パターンをするときの平面図や骨咽であ
る。 １１ ・・・金属板 １２ ・・・感光樹脂 １３、１４・・・露光パターン １５ ・・・露光部分 特 許 出 顎 人 第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- （１）耐腐蝕性感光樹脂が表面に設けられている板厚５
００μｍ以下の金属板に対して中心から頂点の距離と中
心から辺の中点との距離の差が１２５μｍ以内の正六角
以上の正多角形のパターンに露光現像することで露光領
域の耐腐蝕性感光樹脂を除去してマスクとし、金属板を
腐蝕する事よりなる金属板への円形パターンを作成する
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14227288A JP2658192B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 金属板へ円形パターンを作成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14227288A JP2658192B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 金属板へ円形パターンを作成する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021848A true JPH021848A (ja) | 1990-01-08 |
| JP2658192B2 JP2658192B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=15311494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14227288A Expired - Lifetime JP2658192B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 金属板へ円形パターンを作成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2658192B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000004382A (ko) * | 1998-06-30 | 2000-01-25 | 김영환 | 샷 패턴 형성방법 |
| WO2004077156A1 (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-10 | Fujitsu Limited | フォトマスク及びその作製方法並びにパターン形成方法 |
| JP2006522958A (ja) * | 2003-04-10 | 2006-10-05 | シオプティカル インコーポレーテッド | 非マンハッタン形状光学構造を実現するためにマンハッタン・レイアウトを使用する方法 |
-
1988
- 1988-06-09 JP JP14227288A patent/JP2658192B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000004382A (ko) * | 1998-06-30 | 2000-01-25 | 김영환 | 샷 패턴 형성방법 |
| WO2004077156A1 (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-10 | Fujitsu Limited | フォトマスク及びその作製方法並びにパターン形成方法 |
| JPWO2004077156A1 (ja) * | 2003-02-28 | 2006-06-08 | 富士通株式会社 | フォトマスク及びその作製方法並びにパターン形成方法 |
| US7598005B2 (en) | 2003-02-28 | 2009-10-06 | Fujitsu Microelectronics Limited | Photomask and manufacturing method of the same, and pattern forming method |
| JP4494221B2 (ja) * | 2003-02-28 | 2010-06-30 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | フォトマスク及びその作製方法並びにパターン形成方法 |
| JP2006522958A (ja) * | 2003-04-10 | 2006-10-05 | シオプティカル インコーポレーテッド | 非マンハッタン形状光学構造を実現するためにマンハッタン・レイアウトを使用する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2658192B2 (ja) | 1997-09-30 |
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