JP2657885B2 - 転写層を有するエンボシングホイル - Google Patents

転写層を有するエンボシングホイル

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JP2657885B2 JP5111480A JP11148093A JP2657885B2 JP 2657885 B2 JP2657885 B2 JP 2657885B2 JP 5111480 A JP5111480 A JP 5111480A JP 11148093 A JP11148093 A JP 11148093A JP 2657885 B2 JP2657885 B2 JP 2657885B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は転写層を有するエンボシ
ングホイルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、熱エンボシングホイルのような
エンボシングホイルの1つの形態、より詳しくはくじ引
きの券のような基体への用途を意図したエンボシングホ
イルは、支持ホイルと、その上に剥離可能に付設され、
支持ホイルに隣接した剥離層、ワックス接着層および剥
離層と接着層の間にある装飾層からなる転写層とからな
る。支持ホイルをそこから除去する場合、基体またはそ
の表面に損傷を与えずに引掻くことにより、転写層が基
体から除去されるような状態で、その転写層は適切な基
体に固定できる。その種のエンボシングホイルが日本国
特許第1,609,583号に開示されている。
【0003】そのようなエンボシングホイルにおいて、
装飾層はただ1つの層からなり、例えば、少なくとも1
つの色彩顔料を含有するラッカー層からなる。しかしな
がら、そのようなエンボシングホイルの装飾層を、保護
ラッカー層、好ましくは蒸着操作により施される金属
層、および基体から引掻き取られるワックス接着層に金
属層を接合する結合層からなるようにすることもでき
る。それゆえ、そのような基体上のエンボシングホイル
により作られた光学効果は、そのような場合には1つ以
上の層部分からなり、平坦構造または平面構造である装
飾層によって達成される。
【0004】独国特許第34 22 908 号に開示されている
ようなエンボシングホイルの別の形態において、ホイル
は、支持ホイルと、その支持ホイルから剥離可能であ
り、少なくとも1つのラッカー層またはその上に記入で
き、エンボシングホイルがエンボシングにより適切な基
体に施されて支持ホイルが除去された後にホイルの表面
を形成する署名層よりなる転写層とからなる。転写層は
ことによると、支持ホイルから離れた側に、基体に転写
層を固定せしめる接着層を含むこともある。一方では、
そのエンボシングホイルの上に満足に記入できるよう
に、他方では、エンボシングホイルは、ホイルを基体に
施す特別な装置または方法の必要性なく、実質的に偽造
に対抗できるように、光学回折効果とさらに詳しくはホ
ログラフィック効果を有する構造を担持する少なくとも
1つの回折を有する支持ホイルから離れた署名層の側
に、そのホイルの転写層が設けられている。署名層は、
ある区域のみに記入できるラッカーを有し、光学回折効
果を有する構造が署名層の側から識別されるようなもの
である。
【0005】独国特許第34 22 910 号に開示されている
ようなエンボシングホイルの別の形態において、ホイル
は、支持ホイルと、その支持ホイルから剥離可能であ
り、結合剤中の磁気化可能粒子の分散物からなる少なく
とも1つの磁気層を有し、支持ホイルから離れた側に基
体に転写層を固定せしめる接着層、並びに支持ホイルに
向いた側に保護ラッカー層を担持することもある転写層
とからなる。転写層は、磁気層と支持ホイルとの間に、
光学回折効果、特にホログラフィック効果を有する構造
を提供する少なくとも1つの回折層を含む。回折層は、
同様にエンボシングされる上述した構造を有する磁気層
のための保護層から形成される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、くじ
引き券に関する使用に特に適したエボシングホイルを提
供することにある。
【0007】本発明の別の目的は、偽造に対する保護に
関してさらに改善された熱エンボシングホイルのような
エンボシングホイルを提供することにある。
【0008】本発明のさらに別の目的は、構造の多才性
を高め、それゆえ広範囲に使用できるエンボシングホイ
ルを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によると、前述し
た目的および他の目的は、支持ホイルと、その支持ホイ
ルから剥離可能で、支持ホイルに隣接した剥離層、基体
に接着するワックス接着層、および剥離層と接着層の間
にある装飾層よりなる転写層とからなるエンボシングホ
イル、例えば熱エンボシングホイルにより達成される。
支持ホイルが転写層から除去される場合、基体またはそ
の表面に損傷を与えることなく引掻くことにより転写層
を基体から除去できるような方法で、転写層を基体に固
定できる。装飾層は、光学回折効果、例えば詳しくはホ
ログラフィク効果を有する構造を有する。
【0010】装飾層の上述した構造は、本発明によるエ
ンボシングホイルが擦り取りホイルとして知られている
もの、すなわちくじ引き券のような基体を擦り取れる転
写層を提供し、一方で偽造に対して優れた保護を与える
ものを提供することを意味する。その理由で、エンボシ
ングホイルは、例えば比較的価値のあるくじ引き券等に
用いられる。
【0011】本発明によるエンボシングホイルにおい
て、その好ましい特徴に関して、装飾層は、異なる屈折
率を有する少なくとも第1と第2の層部分を有し、光学
回折効果を有する構造が隣接する層部分の界面に付設さ
れ、言い換えれば、上述した構造は剥離層または保護ラ
ッカー層の適応後直ちに形成できる。その点におけるも
う1つの選択は、剥離層または保護ラッカー層自身が直
接複製されない場合には、そのような層が施された後に
のみ、上述した構造をその目的に適した特別の複製層に
形成することである。本発明の別の好ましい特性による
と、剥離層の側を向いた装飾層の層部分は透明材料から
なり、接着層の側を向いた装飾層の層部分は不透明材料
からなる。本発明の別の好ましい特性によると、不透明
層は、例えば蒸着により施される金属層により形成され
る。金属層は、装飾層の異なる屈折率を有する層部分の
間の界面で上述した構造に蒸着により施される。しかし
ながら、金属層を施した後にその構造を製造することも
できる。
【0012】金属層は有利には、少なくとも約5nmの
厚さ、好ましくは約10から60nmの間の厚さにあり、一
方接着層は、少なくとも約5μmの厚さ、好ましくは約
5から25μmの間の厚さにある。都合のよいことには、
接着層は、合成ワックス、溶媒および少なくとも1つの
顔料の分散物から調製される。
【0013】接着層は以下の組成からなる:25から45重
量%の間の20%複素環式ワックス分散物、4から10重量
%の間の24%ポリエチレンワックス分散物、4から10重
量%の間のエチレン酢酸ビニル共重合体、10から20重量
%の間のトルエン、5から8重量%の間の酢酸エチル、
および30から40重量%の間の顔料。
【0014】本発明のさらなる詳細、特性および利点は
好ましい実施態様の記載から明白になる。
【0015】
【実施例】以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を
詳細に説明する。
【0016】図面に示す本発明によるエンボシングホイ
ルの実施態様は、高度に図面化され、拡大された形態で
説明したものであり、一方各層または層部分の厚さは正
確な寸法や互いに対する正確な比率で示されていない。
【0017】ここで最初に図1を参照すると、そこには
基体12上に配され、概して参照番号10として認識される
エンボシングホイルが示されている。特に詳しくは熱エ
ンボシングホイルであるエンボシングホイル10は、支持
ホイル14、その上に付設された剥離層16、該剥離層16の
上に配され、透明保護ラッカー層部分18と透明結合層部
分30とからなる装飾層24、および該装飾層24の上に配さ
れたワックス接着層20よりなる。それゆえ、装飾層24
は、異なる屈折率を有する2つの層部分18と30からな
り、光学回折効果、特に詳しくはホログラフィック効果
を有する26で示される構造を提供する。剥離層16、保護
ラッカー層部分18、層部分30および接着層20は概して22
で示される転写層を構成する。
【0018】剥離層16、エンボシングホイル10が、より
詳しくは熱エンボシング工程により基体12に施された後
に、転写層12から支持ホイル14を剥離できるようにす
る。それゆえ、支持ホイル14を剥離した後、転写層22お
よび接着層20は基体12に接着されたままになっている。
【0019】一定の厚さの層部分として、支持ホイル14
または剥離層16に施される透明材料の保護ラッカー層部
分18を適切にエンボシングすることにより、構造26を製
造できる。保護ラッカー層部分18中に構造26を形成した
後、支持ホイル14上に転写層22を形成するために、次い
で透明層部分30を層部分18に施し、次いで不透明材料の
接着層20を透明層部分30に施す。転写層22は、エンボシ
ングホイル10を基体12に施した後に支持ホイル14を転写
層から剥離した際に、転写層22が覆っている基体12また
は表面28に損傷を与えることなく、(例えばくじ引き券
等の)基体12から引掻き取れるような様式で基体12に固
定できるものである。
【0020】図2は基体12上の本発明によるエンボシン
グホイルの実施態様を示すものであり、ここでエンボシ
ングホイル10は、支持ホイル14、剥離層16、装飾層24を
形成する透明材料の保護ラッカー層部分18、好ましくは
蒸着により施される金属層22、およびワックス接着層
20からなる。層18、32および20は連帯的にエンボシン
グホイル10の転写層22を形成する。
【0021】エンボシングホイル10のこの実施態様にお
いて、光学回折効果、特に詳しくはホログラフィック効
果を有する構造26を、保護ラッカー層部分18の適用後直
ちに形成できる。その点に関して別の選択として、保護
ラッカー層部分18に金属層32を適用した後に構造26を作
成できる。
【0022】ここで図3は、基体12に接着しているエン
ボシングホイル10の配置を示すものであり、これは、金
属層32が保護ラッカー層部分18上に直ちに直接付設され
ておらず、複製層部分34と称される層部分上に付設され
ている点で特に図2に示した配置とは異なっている。保
護ラッカー層部分18が直接複製できない場合に、そのよ
うな層34が用いられて必要な構造26を提供する。層部分
34は好ましくは0.2 から0.8 μmの間の厚さである。そ
れゆえ図3の実施態様において、転写層22は、透明材料
の保護ラッカー層部分18、層部分18上に配された透明材
料の層部分34、好ましくは蒸着により層34上に配された
金属層32、省略することもできる結合剤層部分30、およ
びワックス接着層20からなる。転写層22は、剥離層16に
より支持ホイル14に接合せしめられている。
【0023】本発明の上述した実施態様において、金属
層により形成された不透明層は、少なくとも5nm、好
ましくは10から60nmの間の厚さであり、一方接着層20
は、少なくとも5μm、好ましくは5から25μmの間の
厚さである。層20は、人工または合成ワックス、溶媒お
よび少なくとも1つの顔料の分散物から調製され、25か
ら45重量%の間の20%複素環式ワックス分散物、4から
10重量%の間の24%ポリエチレンワックス分散物、4か
ら10重量%の間のエチレン酢酸ビニル共重合体、10から
20重量%の間のトルエン、5から8重量%の間の酢酸エ
チル、および30から40重量%の間の顔料よりなる。その
ような接着層およびその利点は、ここに参照している上
述した日本国特許第1,609,583 号に詳しく記載されてい
る。
【0024】望まれるように、本発明によるエンボシン
グホイルの転写層は、上述した配置にあって、くじ引き
券のような適した基体上に担持され、基体の印付け、同
定等が、転写層をその基体から除去した後に見えるよう
に、基体またはその表面に損傷を与えることなく基体か
ら引掻きとれる。
【0025】本発明の上述した実施態様は、単に実施と
説明のために述べられたものであり、本発明の特許請求
の範囲と目的から逸脱することなくさらなる変更と選択
が行なわれることは当然のことである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるエンボシングホイルの第1の実施
態様を示す断面図
【図2】本発明によるエンボシングホイルの第2の実施
態様を示す断面図
【図3】本発明によるエンボシングホイルの第3の実施
態様を示す断面図
【符号の説明】
10 エンボシングホイル 12 基体 14 支持ホイル 16 剥離層 18 保護ラッカー層部分 20 ワックス接着層 22 転写層 24 装飾層 26 構造 28 表面 30 透明層 32 金属層 34 複製層部分

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体に施すエンボシングホイルであっ
    て、支持ホイルと前記基体に施されるように適合された
    転写層からなり、 該転写層が、該転写層を前記支持ホイルから剥がすため
    の、該支持ホイルに隣接する剥離層と、前記基体への接
    着をもたらすワックス接着層と、前記剥離層と該ワック
    ス接着層との間にある装飾層からなり、 該装飾層が光学的回折効果を有する構造を有することを
    特徴とするホイル。
  2. 【請求項2】 前記装飾層が異なる屈折率を有する少な
    くとも第1と第2の層部分を有し、前記光学的回析効果
    を有する構造がそれら隣接する層部分の界面に設けられ
    ていることを特徴とする請求項1記載のホイル。
  3. 【請求項3】 前記接着層が、25重量%から45重量
    %の範囲の20%複素環式ワックス分散物、4重量%か
    ら10重量%の範囲の24%ポリエチレンワックス分散
    物、4重量%から10重量%の範囲のエチレン酢酸ビニ
    ル共重合体、10重量%から20重量%の範囲のトルエ
    ン、5重量%から8重量%の範囲の酢酸エチル、および
    30重量%から40重量%の範囲の顔料より調製される
    ことを特徴とする請求項1記載のホイル。
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