JP2644707B2 - 金属微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法 - Google Patents
金属微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法Info
- Publication number
- JP2644707B2 JP2644707B2 JP7227151A JP22715195A JP2644707B2 JP 2644707 B2 JP2644707 B2 JP 2644707B2 JP 7227151 A JP7227151 A JP 7227151A JP 22715195 A JP22715195 A JP 22715195A JP 2644707 B2 JP2644707 B2 JP 2644707B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- gel
- particles
- fine particles
- oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 35
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 title description 37
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 title description 10
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 title description 10
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 26
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 claims description 10
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 9
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 claims description 4
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 claims description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 claims description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 claims description 2
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 claims description 2
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 claims description 2
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 2
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 11
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 8
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 copper sulfate Chemical compound 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- AOPCKOPZYFFEDA-UHFFFAOYSA-N nickel(2+);dinitrate;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O AOPCKOPZYFFEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAPKZHDYMQZCB-UHFFFAOYSA-N N-[2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethyl]-2-oxo-3H-1,3-benzoxazole-6-carboxamide Chemical compound C1CN(CCN1CCNC(=O)C2=CC3=C(C=C2)NC(=O)O3)C4=CN=C(N=C4)NC5CC6=CC=CC=C6C5 NEAPKZHDYMQZCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N N-[[(5S)-2-oxo-3-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)-1,3-oxazolidin-5-yl]methyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C1O[C@H](CN1C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N 0.000 description 1
- 229910002656 O–Si–O Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- QGUAJWGNOXCYJF-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O QGUAJWGNOXCYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SXTLQDJHRPXDSB-UHFFFAOYSA-N copper;dinitrate;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O SXTLQDJHRPXDSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- QZRHHEURPZONJU-UHFFFAOYSA-N iron(2+) dinitrate nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Fe+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O QZRHHEURPZONJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N iron(2+);dinitrate Chemical compound [Fe+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000011817 metal compound particle Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属微粒子又は金
属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法に関
する。
属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法に関
する。
【0002】
【従来技術】粒径10nm以下の金属微粒子又は金属酸
化物微粒子を含有する酸化物セラミックスは、光学材
料、触媒材料、電子材料、センサー材料等に幅広く利用
することができる。
化物微粒子を含有する酸化物セラミックスは、光学材
料、触媒材料、電子材料、センサー材料等に幅広く利用
することができる。
【0003】これに関し、金属又は金属酸化物の粒子を
セラミックスに分散させる方法としては、以下のような
方法が知られている。
セラミックスに分散させる方法としては、以下のような
方法が知られている。
【0004】(1)金属イオン溶液と珪酸エチル等の金属
アルコキシレートを混合した後、それをゲル化させ、乾
燥後に400℃程度の高温で加熱することにより金属又
は金属酸化物粒子を含有するシリカを得るゾルーゲル
法、(2)金属イオン溶液中にセラミックスを浸漬し、加
熱等により溶媒を除去した後、これを乾燥し、400℃
程度の高温で加熱することにより金属又は金属酸化物粒
子を含有するセラミックスを得る含浸法、(3)金属イオ
ン溶液中にセラミックスを浸漬し、沈殿形成剤(例え
ば、炭酸ナトリウム等)を含む溶液を加えてセラミック
ス表面に金属化合物又は金属を析出させる析出沈殿法、
(4)金属イオンとセラミックスを構成する金属イオンと
を含有する溶液に、沈殿形成剤を含有する溶液を加えて
金属イオンを沈殿物とし、その沈殿物を乾燥し、400
℃程度の高温で加熱することにより金属又は金属イオン
粒子を含有するセラミックスを調製する共沈法等が挙げ
られる。
アルコキシレートを混合した後、それをゲル化させ、乾
燥後に400℃程度の高温で加熱することにより金属又
は金属酸化物粒子を含有するシリカを得るゾルーゲル
法、(2)金属イオン溶液中にセラミックスを浸漬し、加
熱等により溶媒を除去した後、これを乾燥し、400℃
程度の高温で加熱することにより金属又は金属酸化物粒
子を含有するセラミックスを得る含浸法、(3)金属イオ
ン溶液中にセラミックスを浸漬し、沈殿形成剤(例え
ば、炭酸ナトリウム等)を含む溶液を加えてセラミック
ス表面に金属化合物又は金属を析出させる析出沈殿法、
(4)金属イオンとセラミックスを構成する金属イオンと
を含有する溶液に、沈殿形成剤を含有する溶液を加えて
金属イオンを沈殿物とし、その沈殿物を乾燥し、400
℃程度の高温で加熱することにより金属又は金属イオン
粒子を含有するセラミックスを調製する共沈法等が挙げ
られる。
【0005】しかしながら、これらの方法では、特に金
属の含有量が多くなるとその金属粒子の粒径が大きくな
るという問題がある。例えば、上記(1)の方法では、金
属の含有量が少ない場合には比較的粒径の小さな金属粒
子又は金属化合物粒子が得られるものの、その含有量が
約30重量%を超えると粒径がかなり大きくなってしま
う。また、上記(2)〜(4)の方法では、金属とセラミック
スとの組合せによっては金属微粒子が得られることもあ
るが、金属の含有量が約30重量%を超えるとやはり粒
径がかなり大きくなる。
属の含有量が多くなるとその金属粒子の粒径が大きくな
るという問題がある。例えば、上記(1)の方法では、金
属の含有量が少ない場合には比較的粒径の小さな金属粒
子又は金属化合物粒子が得られるものの、その含有量が
約30重量%を超えると粒径がかなり大きくなってしま
う。また、上記(2)〜(4)の方法では、金属とセラミック
スとの組合せによっては金属微粒子が得られることもあ
るが、金属の含有量が約30重量%を超えるとやはり粒
径がかなり大きくなる。
【0006】いずれにしても、これらの方法では、セラ
ミックス中に粒径10nm以下の金属微粒子又は金属酸
化物微粒子を高含有量で分散させることは実質上不可能
である。
ミックス中に粒径10nm以下の金属微粒子又は金属酸
化物微粒子を高含有量で分散させることは実質上不可能
である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、特
に金属微粒子又は金属酸化物微粒子を分散させたセラミ
ックスを提供することを主な目的とする。
に金属微粒子又は金属酸化物微粒子を分散させたセラミ
ックスを提供することを主な目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記従来技
術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定のゲル状
物に沈殿形成剤を一定条件下で加える場合には、金属
微粒子又は金属酸化物微粒子をセラミックス中に高含有
量で分散できること、及びその含有量が比較的少ない
ときにはより微細な粒子をセラミックス中に分散できる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定のゲル状
物に沈殿形成剤を一定条件下で加える場合には、金属
微粒子又は金属酸化物微粒子をセラミックス中に高含有
量で分散できること、及びその含有量が比較的少ない
ときにはより微細な粒子をセラミックス中に分散できる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】即ち、本発明は、下記の製造方法に係るも
のである。
のである。
【0010】1.金属イオンを含有する溶液に酸化物セ
ラミックス前駆体を混合攪拌してゲル状物を得て、次い
で該ゲル状物を沈殿形成剤と接触させた後、得られた沈
殿物を乾燥し、加熱処理することを特徴とする金属酸化
物微粒子を含有するセラミックスの製造方法。
ラミックス前駆体を混合攪拌してゲル状物を得て、次い
で該ゲル状物を沈殿形成剤と接触させた後、得られた沈
殿物を乾燥し、加熱処理することを特徴とする金属酸化
物微粒子を含有するセラミックスの製造方法。
【0011】2.金属イオンを含有する溶液に酸化物セ
ラミックス前駆体を混合攪拌してゲル状物を得て、次い
で該ゲル状物を沈殿形成剤と接触させた後、得られた沈
殿物を乾燥し、還元性雰囲気中で熱処理することを特徴
とする金属微粒子を含有するセラミックスの製造方法。
ラミックス前駆体を混合攪拌してゲル状物を得て、次い
で該ゲル状物を沈殿形成剤と接触させた後、得られた沈
殿物を乾燥し、還元性雰囲気中で熱処理することを特徴
とする金属微粒子を含有するセラミックスの製造方法。
【0012】3.上記1項に記載の製造方法より得られ
たセラミックスをさらに還元性雰囲気中で熱処理するこ
とを特徴とする金属微粒子を含むセラミックスの製造方
法。
たセラミックスをさらに還元性雰囲気中で熱処理するこ
とを特徴とする金属微粒子を含むセラミックスの製造方
法。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施の形態と
ともに詳細に説明する。
ともに詳細に説明する。
【0014】本発明ではまず金属イオンを含有する溶液
に酸化物セラミックス前駆体を混合攪拌してゲル化す
る。
に酸化物セラミックス前駆体を混合攪拌してゲル化す
る。
【0015】金属イオンを含有する溶液としては、後記
の沈殿形成反応が可能である限り金属イオン及び溶液の
種類は特に限定されない。例えば、所望の金属化合物を
水或いは有機溶媒(アルコール類、親水性有機溶剤等)
に溶解させたものを使用することができる。金属化合物
としては、例えば硝酸ニッケル、硝酸銅、硝酸鉄等の硝
酸塩、硫酸銅等の硫酸塩、その他酢酸塩、塩化物等が挙
げられる。また、アルコール類としては、例えばエタノ
ール、メタノール、プロパノール等が挙げられる。親水
性有機溶剤としては、例えばアセトン等が挙げられる。
なお、上記の場合、必要に応じて加熱溶解させることも
できる。
の沈殿形成反応が可能である限り金属イオン及び溶液の
種類は特に限定されない。例えば、所望の金属化合物を
水或いは有機溶媒(アルコール類、親水性有機溶剤等)
に溶解させたものを使用することができる。金属化合物
としては、例えば硝酸ニッケル、硝酸銅、硝酸鉄等の硝
酸塩、硫酸銅等の硫酸塩、その他酢酸塩、塩化物等が挙
げられる。また、アルコール類としては、例えばエタノ
ール、メタノール、プロパノール等が挙げられる。親水
性有機溶剤としては、例えばアセトン等が挙げられる。
なお、上記の場合、必要に応じて加熱溶解させることも
できる。
【0016】上記溶液における金属イオンの濃度は、金
属微粒子又は金属酸化物微粒子の最終的な含有量が通常
5〜90重量%程度、好ましくは10〜85重量%とな
るようにすれば良い。但し、用いる金属化合物の種類、
反応条件、最終製品の用途等により上記範囲外となって
も差し支えない。また、上記溶液として有機溶媒を用い
る場合は、その濃度は用いる金属化合物の種類、反応条
件等により適宜変更することができる。
属微粒子又は金属酸化物微粒子の最終的な含有量が通常
5〜90重量%程度、好ましくは10〜85重量%とな
るようにすれば良い。但し、用いる金属化合物の種類、
反応条件、最終製品の用途等により上記範囲外となって
も差し支えない。また、上記溶液として有機溶媒を用い
る場合は、その濃度は用いる金属化合物の種類、反応条
件等により適宜変更することができる。
【0017】酸化物セラミックス前駆体としては、上記
溶液とともに比較的安定したゲル体を形成するものであ
れば特に制限されないが、特に金属アルコキシド等が好
ましい。金属アルコキシドとしては、例えば珪酸メチ
ル、珪酸エチル、ジルコニウムプロポキシド、ジルコニ
ウムブトキシド、チタンプロポキシド、アルミニウムプ
ロポキシド、珪酸テトライソプロピル、珪酸テトラブチ
ル、チタンエトキシド、チタンブトキシド等が挙げら
れ、これらは単独又は2種以上併用することができる。
溶液とともに比較的安定したゲル体を形成するものであ
れば特に制限されないが、特に金属アルコキシド等が好
ましい。金属アルコキシドとしては、例えば珪酸メチ
ル、珪酸エチル、ジルコニウムプロポキシド、ジルコニ
ウムブトキシド、チタンプロポキシド、アルミニウムプ
ロポキシド、珪酸テトライソプロピル、珪酸テトラブチ
ル、チタンエトキシド、チタンブトキシド等が挙げら
れ、これらは単独又は2種以上併用することができる。
【0018】上記溶液に酸化物セラミックス前駆体を混
合攪拌してゲル化する際における混合攪拌条件(両者の
配合割合、攪拌温度・時間など)は、用いる酸化物セラ
ミックス前駆体の種類、製品の用途等に応じて適宜設定
することができる。なお、ゲル化する方法としては、通
常のゾルーゲル法に従えば良い。
合攪拌してゲル化する際における混合攪拌条件(両者の
配合割合、攪拌温度・時間など)は、用いる酸化物セラ
ミックス前駆体の種類、製品の用途等に応じて適宜設定
することができる。なお、ゲル化する方法としては、通
常のゾルーゲル法に従えば良い。
【0019】次いで、得られたゲル状物に沈殿形成剤を
接触させる。沈殿形成剤は、上記ゲル状物中の金属イオ
ンと反応して沈殿物を生成するものであれば良く、その
中でも直ちに沈殿物が定量的に形成されるものが好まし
い。沈殿形成速度が遅い場合には、ゲル状物中の金属イ
オンの移動が生じ、金属イオンが後述するミセル状物外
部に出て沈殿を形成したり、沈殿粒子の凝集を招くこと
がある。沈殿形成剤としては、アルカリ性化合物等が望
ましい。アルカリ性化合物としては、例えば水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸アンモニウム等、アンモニア、炭酸カリ
ウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、これらは単独又
は2種以上併用することができる。接触させる方法とし
ては、特に限定はされず、例えば沈殿形成剤の水溶液中
にゲル状物を浸漬することにより行うことができる。
接触させる。沈殿形成剤は、上記ゲル状物中の金属イオ
ンと反応して沈殿物を生成するものであれば良く、その
中でも直ちに沈殿物が定量的に形成されるものが好まし
い。沈殿形成速度が遅い場合には、ゲル状物中の金属イ
オンの移動が生じ、金属イオンが後述するミセル状物外
部に出て沈殿を形成したり、沈殿粒子の凝集を招くこと
がある。沈殿形成剤としては、アルカリ性化合物等が望
ましい。アルカリ性化合物としては、例えば水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸アンモニウム等、アンモニア、炭酸カリ
ウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、これらは単独又
は2種以上併用することができる。接触させる方法とし
ては、特に限定はされず、例えば沈殿形成剤の水溶液中
にゲル状物を浸漬することにより行うことができる。
【0020】この場合、上記水溶液の濃度は、反応条件
等によって適宜選択することができるが、通常0.1〜
2mol/l程度、好ましくは0.5〜1mol/lとし、かつ、
ゲル状物中の金属イオンを水酸化物又は炭酸塩として沈
殿させるのに必要な当量数の通常1.2倍以上、好まし
くは2倍以上の液量とすれば良い。
等によって適宜選択することができるが、通常0.1〜
2mol/l程度、好ましくは0.5〜1mol/lとし、かつ、
ゲル状物中の金属イオンを水酸化物又は炭酸塩として沈
殿させるのに必要な当量数の通常1.2倍以上、好まし
くは2倍以上の液量とすれば良い。
【0021】沈殿形成後、その沈殿物を通常の方法によ
りろ別、水洗し、乾燥し、これを酸化性雰囲気中(空気
等)、通常300〜600℃程度で0.5〜5時間程度
熱処理することによって、主に金属酸化物微粒子を含有
するセラミックスを得ることができる。また、還元性雰
囲気中で上記熱処理をすれば、金属微粒子を含有するセ
ラミックスを得ることができる。これらのセラミックス
は、通常は粉末乃至粒状、板状、棒状等として得られ
る。
りろ別、水洗し、乾燥し、これを酸化性雰囲気中(空気
等)、通常300〜600℃程度で0.5〜5時間程度
熱処理することによって、主に金属酸化物微粒子を含有
するセラミックスを得ることができる。また、還元性雰
囲気中で上記熱処理をすれば、金属微粒子を含有するセ
ラミックスを得ることができる。これらのセラミックス
は、通常は粉末乃至粒状、板状、棒状等として得られ
る。
【0022】さらに、上記の金属酸化物微粒子を含有す
るセラミックスを水素気流、一酸化炭素等の還元性雰囲
気中、通常300〜600℃程度で0.5〜5時間程度
加熱することにより、上記金属酸化物が還元される結
果、金属微粒子を含有するセラミックスを得ることがで
きる。これも粉末乃至粒状、板状、棒状等として得られ
る。
るセラミックスを水素気流、一酸化炭素等の還元性雰囲
気中、通常300〜600℃程度で0.5〜5時間程度
加熱することにより、上記金属酸化物が還元される結
果、金属微粒子を含有するセラミックスを得ることがで
きる。これも粉末乃至粒状、板状、棒状等として得られ
る。
【0023】このように得られた上記の金属酸化物微粒
子又は金属微粒子を含有するセラミックスは、そのまま
の状態で使用できることはもとより、バインダー等の公
知の各種の添加剤を加えて成形体とすることも可能であ
る。さらに、公知の無機材料、有機材料、金属材料等と
複合化して用いることもできる。
子又は金属微粒子を含有するセラミックスは、そのまま
の状態で使用できることはもとより、バインダー等の公
知の各種の添加剤を加えて成形体とすることも可能であ
る。さらに、公知の無機材料、有機材料、金属材料等と
複合化して用いることもできる。
【0024】
【作用】本発明で特に重要なことは、金属イオンを含有
する溶液のゲル状物中における存在状態である。上記溶
液は、ゲル状物を形成する一部が水和或いはアルコキシ
ル化された網状の酸化物に包接されている。
する溶液のゲル状物中における存在状態である。上記溶
液は、ゲル状物を形成する一部が水和或いはアルコキシ
ル化された網状の酸化物に包接されている。
【0025】例えば、ゲル状物がシリカゲルである場
合、シリカゲルは−Si−O−Si−Oの構造をもつ連
続的な高分子であるため、そのゲル状物はこの構造が網
目を形成し、これが溶液を取り囲んだ状態になってい
る。即ち、その網目構造がいわば細胞壁のようになって
溶液を包み込んでいる。
合、シリカゲルは−Si−O−Si−Oの構造をもつ連
続的な高分子であるため、そのゲル状物はこの構造が網
目を形成し、これが溶液を取り囲んだ状態になってい
る。即ち、その網目構造がいわば細胞壁のようになって
溶液を包み込んでいる。
【0026】この包接体(ミセル状物)中の金属イオン
は包接している網状の酸化物によってその移動が制限さ
れる。しかしながら、ゲル状であるために溶液の移動は
可能である。
は包接している網状の酸化物によってその移動が制限さ
れる。しかしながら、ゲル状であるために溶液の移動は
可能である。
【0027】この場合、ミセル状物の外部からミセル状
物中の金属イオンの沈殿形成剤を加えれば、ミセル状物
内部で金属化合物の沈殿が形成される。形成した沈殿粒
子は、上記の網状の酸化物に包接されているために、ミ
セル状物の外部に出ることはない。
物中の金属イオンの沈殿形成剤を加えれば、ミセル状物
内部で金属化合物の沈殿が形成される。形成した沈殿粒
子は、上記の網状の酸化物に包接されているために、ミ
セル状物の外部に出ることはない。
【0028】このため、ミセル状物中で沈殿形成反応が
ほぼ同時に生ずれば沈殿粒子の大きさはミセル状物中に
存在していた金属イオンの量と相関関係がなりたつ。す
なわち、沈殿形成反応がミセル状物という非常に小さな
反応場で生じるために通常の沈殿形成反応で生じる沈殿
の成長が阻害され、生成した沈殿粒子がミセル状物によ
って保護される。その結果、金属又は金属化合物の微粒
子がゲル状物中に形成されることとなる。
ほぼ同時に生ずれば沈殿粒子の大きさはミセル状物中に
存在していた金属イオンの量と相関関係がなりたつ。す
なわち、沈殿形成反応がミセル状物という非常に小さな
反応場で生じるために通常の沈殿形成反応で生じる沈殿
の成長が阻害され、生成した沈殿粒子がミセル状物によ
って保護される。その結果、金属又は金属化合物の微粒
子がゲル状物中に形成されることとなる。
【0029】より具体的には、その一例として、ニッケ
ルイオンを含有したシリカゲルについてみると、まず硝
酸ニッケルの水溶液と珪酸エチルを混合することにより
硝酸ニッケル、水及びエタノールを含有したシリカゲル
を得ることができる。
ルイオンを含有したシリカゲルについてみると、まず硝
酸ニッケルの水溶液と珪酸エチルを混合することにより
硝酸ニッケル、水及びエタノールを含有したシリカゲル
を得ることができる。
【0030】ここでかりに、このゲルを水に浸漬すると
シリカゲル中の硝酸ニッケルがゲルの外部に溶出する。
このことは、シリカゲルに含有される溶液と水が交換さ
れることを示している。よって、水に浸漬する代わりに
適当な沈殿形成剤を含んだ溶液中に硝酸ニッケル溶液を
含むシリカゲルを浸漬すれば、沈殿形成剤とシリカゲル
中の硝酸ニッケル溶液が接触する。ここで沈殿形成剤と
して水酸化ナトリウム溶液を用いれば、ミセル状物中の
ニッケルイオンと水酸化ナトリウム溶液が接触し、直ち
にミセル状物中に水酸化ニッケルの沈殿が生成すること
になる。この場合、ミセル状物間の壁によってミセル状
物外部への水酸化ニッケルの移動は制限されるので、一
つのミセル状物中の水酸化ニッケル沈殿の粒子の数と大
きさは、そのミセル中に存在していたニッケルイオンの
量にほぼ依存する。また、ミセル状物間の水酸化ニッケ
ル粒子の移動は生じにくいので、いったんミセル状物中
で生じた粒子の凝集はミセル内部に限定され、よって水
酸化ニッケルの著しい成長は起こらない。
シリカゲル中の硝酸ニッケルがゲルの外部に溶出する。
このことは、シリカゲルに含有される溶液と水が交換さ
れることを示している。よって、水に浸漬する代わりに
適当な沈殿形成剤を含んだ溶液中に硝酸ニッケル溶液を
含むシリカゲルを浸漬すれば、沈殿形成剤とシリカゲル
中の硝酸ニッケル溶液が接触する。ここで沈殿形成剤と
して水酸化ナトリウム溶液を用いれば、ミセル状物中の
ニッケルイオンと水酸化ナトリウム溶液が接触し、直ち
にミセル状物中に水酸化ニッケルの沈殿が生成すること
になる。この場合、ミセル状物間の壁によってミセル状
物外部への水酸化ニッケルの移動は制限されるので、一
つのミセル状物中の水酸化ニッケル沈殿の粒子の数と大
きさは、そのミセル中に存在していたニッケルイオンの
量にほぼ依存する。また、ミセル状物間の水酸化ニッケ
ル粒子の移動は生じにくいので、いったんミセル状物中
で生じた粒子の凝集はミセル内部に限定され、よって水
酸化ニッケルの著しい成長は起こらない。
【0031】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、特にゲル状
の化合物に沈殿形成剤を接触させることにより、例えば
粒径約10nm以下という金属微粒子又は金属酸化物微
粒子を高含有量でセラミックス中に分散させることが可
能となる。従って、反応条件等によってはその含有量を
80重量%以上にすることも可能である。
の化合物に沈殿形成剤を接触させることにより、例えば
粒径約10nm以下という金属微粒子又は金属酸化物微
粒子を高含有量でセラミックス中に分散させることが可
能となる。従って、反応条件等によってはその含有量を
80重量%以上にすることも可能である。
【0032】また、金属微粒子等の含有量を低くする場
合には、その粒径のより小さな金属微粒子等を分散させ
ることが可能である。従って、金属イオンの種類等によ
ってはその粒径を2nm以下にすることも可能である。
合には、その粒径のより小さな金属微粒子等を分散させ
ることが可能である。従って、金属イオンの種類等によ
ってはその粒径を2nm以下にすることも可能である。
【0033】このように本発明方法により得られた金属
微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックス
は、例えば磁性体、電子材料、非線形特性を有する光学
材料等の用途に特に有用である。
微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックス
は、例えば磁性体、電子材料、非線形特性を有する光学
材料等の用途に特に有用である。
【0034】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明の特徴とすると
ころを明確にする。
ころを明確にする。
【0035】実施例1 硝酸ニッケル6水和物52gにエタノール10gを加え
て加熱溶解した。これに珪酸エチル9gを加え、約80
℃で混合攪拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室
温下で1Mの炭酸アンモニウム水溶液に加え、15分間
攪拌した後、ろ別、水洗した。得られた固体を120℃
で乾燥した後、空気中400℃で5時間加熱することに
より、酸化ニッケル微粒子を含有したシリカを得た。X
線回折分析法により測定された酸化ニッケル粒子の平均
粒径は4nmであった。
て加熱溶解した。これに珪酸エチル9gを加え、約80
℃で混合攪拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室
温下で1Mの炭酸アンモニウム水溶液に加え、15分間
攪拌した後、ろ別、水洗した。得られた固体を120℃
で乾燥した後、空気中400℃で5時間加熱することに
より、酸化ニッケル微粒子を含有したシリカを得た。X
線回折分析法により測定された酸化ニッケル粒子の平均
粒径は4nmであった。
【0036】次に、この化合物を水素気流中500℃で
1時間処理することにより金属ニッケル微粒子を含有し
たシリカを得た。X線回折分析法により測定された酸化
ニッケル粒子の平均粒径は9nmであった。また、この
金属ニッケルを含有したセラミックス中のニッケル含有
量は80重量%であった。
1時間処理することにより金属ニッケル微粒子を含有し
たシリカを得た。X線回折分析法により測定された酸化
ニッケル粒子の平均粒径は9nmであった。また、この
金属ニッケルを含有したセラミックス中のニッケル含有
量は80重量%であった。
【0037】実施例2 硝酸銅3水和物15gにエタノール16gを加えて加熱
溶解した。これに珪酸エチル31gを加え、約80℃で
混合攪拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室温下
で1Mの炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、15分間攪
拌した後、ろ別、水洗した。得られた固体を120℃で
乾燥した後、空気中400℃で5時間加熱することによ
り、酸化銅微粒子を含有したシリカを得た。X線回折分
析法により測定された酸化ニッケル粒子の平均粒径は1
0nmであった。また、この酸化銅を含有したセラミッ
クス中のニッケル含有量は35重量%であった。
溶解した。これに珪酸エチル31gを加え、約80℃で
混合攪拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室温下
で1Mの炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、15分間攪
拌した後、ろ別、水洗した。得られた固体を120℃で
乾燥した後、空気中400℃で5時間加熱することによ
り、酸化銅微粒子を含有したシリカを得た。X線回折分
析法により測定された酸化ニッケル粒子の平均粒径は1
0nmであった。また、この酸化銅を含有したセラミッ
クス中のニッケル含有量は35重量%であった。
【0038】実施例3 硝酸ニッケル6水和物4gにエタノール8gを加えて加
熱溶解した。これをチタンプロポキシド28gにエタノ
ール4gを混合した溶液に加えた。室温で混合攪拌して
ゲル化させた。得られたゲル化物を室温下で1Mの炭酸
アンモニウム水溶液に加え、15分間攪拌した後、ろ
別、水洗した。得られた固体を120℃で乾燥した後、
空気中400℃で5時間加熱することにより、酸化ニッ
ケル微粒子を含有したチタニアを得た。X線回折分析法
により測定された酸化ニッケル粒子の平均粒径は5nm
であった。
熱溶解した。これをチタンプロポキシド28gにエタノ
ール4gを混合した溶液に加えた。室温で混合攪拌して
ゲル化させた。得られたゲル化物を室温下で1Mの炭酸
アンモニウム水溶液に加え、15分間攪拌した後、ろ
別、水洗した。得られた固体を120℃で乾燥した後、
空気中400℃で5時間加熱することにより、酸化ニッ
ケル微粒子を含有したチタニアを得た。X線回折分析法
により測定された酸化ニッケル粒子の平均粒径は5nm
であった。
【0039】次に、この化合物を水素気流中500℃で
1時間処理することにより金属ニッケル微粒子を含有し
たシリカを得た。X線回折分析法により測定された酸化
ニッケル粒子の平均粒径は4nmであった。また、この
金属ニッケルを含有したセラミックス中のニッケル含有
量は10重量%であった。
1時間処理することにより金属ニッケル微粒子を含有し
たシリカを得た。X線回折分析法により測定された酸化
ニッケル粒子の平均粒径は4nmであった。また、この
金属ニッケルを含有したセラミックス中のニッケル含有
量は10重量%であった。
【0040】実施例4 硝酸コバルト6水和物2gをエタノール13gに溶解
し、これをジルコニアノルマルブトキシド15gにエタ
ノール13gを混合した溶液に加えた。80℃で混合攪
拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室温下で1M
の炭酸カリウム水溶液に加え、15分間攪拌した後、ろ
別、水洗した。得られた固体を120℃で乾燥した後、
空気中400℃で5時間加熱することにより、酸化コバ
ルト微粒子を含有したジルコニアを得た。X線回折分析
法では、酸化ジルコニアに帰属するピークが検出された
のみで、酸化コバルト等のコバルト化合物に帰属される
ピークは検出されず、これにより生成した酸化コバルト
の平均粒径が非常に小さいことがわかる。この酸化コバ
ルトを含有したセラミックス中の酸化コバルト含有量は
12重量%であった。
し、これをジルコニアノルマルブトキシド15gにエタ
ノール13gを混合した溶液に加えた。80℃で混合攪
拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室温下で1M
の炭酸カリウム水溶液に加え、15分間攪拌した後、ろ
別、水洗した。得られた固体を120℃で乾燥した後、
空気中400℃で5時間加熱することにより、酸化コバ
ルト微粒子を含有したジルコニアを得た。X線回折分析
法では、酸化ジルコニアに帰属するピークが検出された
のみで、酸化コバルト等のコバルト化合物に帰属される
ピークは検出されず、これにより生成した酸化コバルト
の平均粒径が非常に小さいことがわかる。この酸化コバ
ルトを含有したセラミックス中の酸化コバルト含有量は
12重量%であった。
【0041】実施例5 硝酸鉄9水和物7gをエタノール16g及び水5gを加
えて溶解させた。これを珪酸メチル23gを加え、80
℃で混合攪拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室
温下で1Mの炭酸ナトリウム水溶液に加え、15分間攪
拌した後、ろ別、水洗した。得られた固体を120℃で
乾燥した後、空気中300℃で5時間加熱することによ
り、酸化鉄微粒子を含有したシリカを得た。X線回折分
析法では、酸化鉄等の鉄化合物に帰属するピークが検出
されず、これより生成した酸化鉄の平均粒径が非常に小
さいことがわかる。また、得られた固体は、黄色透明の
化合物であった。この酸化鉄を含有したセラミックス中
の酸化鉄含有量は12重量%であった。
えて溶解させた。これを珪酸メチル23gを加え、80
℃で混合攪拌してゲル化させた。得られたゲル化物を室
温下で1Mの炭酸ナトリウム水溶液に加え、15分間攪
拌した後、ろ別、水洗した。得られた固体を120℃で
乾燥した後、空気中300℃で5時間加熱することによ
り、酸化鉄微粒子を含有したシリカを得た。X線回折分
析法では、酸化鉄等の鉄化合物に帰属するピークが検出
されず、これより生成した酸化鉄の平均粒径が非常に小
さいことがわかる。また、得られた固体は、黄色透明の
化合物であった。この酸化鉄を含有したセラミックス中
の酸化鉄含有量は12重量%であった。
Claims (9)
- 【請求項1】金属イオンを含有する溶液に酸化物セラミ
ックス前駆体を混合攪拌してゲル状物を得て、次いで該
ゲル状物を沈殿形成剤と接触させた後、得られた沈殿物
を乾燥し、酸化性雰囲気中で熱処理することを特徴とす
る金属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方
法。 - 【請求項2】金属イオンを含有する溶液に酸化物セラミ
ックス前駆体を混合攪拌してゲル状物を得て、次いで該
ゲル状物を沈殿形成剤と接触させた後、得られた沈殿物
を乾燥し、還元性雰囲気中で熱処理することを特徴とす
る金属微粒子を含有するセラミックスの製造方法。 - 【請求項3】酸化物セラミックス前駆体が、金属アルコ
キシドである請求項1又は2に記載の製造方法。 - 【請求項4】金属アルコキシドが、珪酸メチル、珪酸エ
チル、ジルコニウムプロポキシド、ジルコニウムブトキ
シド、チタンプロポキシド、アルミニウムプロポキシ
ド、珪酸テトライソプロピル、珪酸テトラブチル、チタ
ンエトキシド及びチタンブトキシドの少なくとも1種で
ある請求項3記載の製造方法。 - 【請求項5】沈殿形成剤が、アルカリ性化合物である請
求項1又は2記載の製造方法。 - 【請求項6】アルカリ性化合物が、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸アンモニウム、アンモニア、炭酸カリウム及び
炭酸水素カリウムの少なくとも1種である請求項5記載
の製造方法。 - 【請求項7】金属イオンを含有する溶液が、金属化合物
を水又は有機溶媒に溶解させたものである請求項1又は
2記載の製造方法。 - 【請求項8】金属化合物が、金属の硝酸塩、硫酸塩、酢
酸塩及び塩化物の少なくとも1種である請求項7記載の
製造方法。 - 【請求項9】請求項1乃至8のいずれかに記載の製造方
法より得られた金属酸化物微粒子を含むセラミックスを
さらに還元性雰囲気中で熱処理することを特徴とする金
属微粒子を含むセラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7227151A JP2644707B2 (ja) | 1995-08-10 | 1995-08-10 | 金属微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7227151A JP2644707B2 (ja) | 1995-08-10 | 1995-08-10 | 金属微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0952772A JPH0952772A (ja) | 1997-02-25 |
| JP2644707B2 true JP2644707B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=16856301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7227151A Expired - Lifetime JP2644707B2 (ja) | 1995-08-10 | 1995-08-10 | 金属微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2644707B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100460102B1 (ko) * | 2002-07-15 | 2004-12-03 | 한화석유화학 주식회사 | 금속산화물 초미립자의 제조방법 |
| JP2007153646A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Nagoya Institute Of Technology | 金属内包型導電性セラミックスの製造方法 |
-
1995
- 1995-08-10 JP JP7227151A patent/JP2644707B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0952772A (ja) | 1997-02-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Ansari et al. | Simple sol-gel synthesis and characterization of new CoTiO3/CoFe2O4 nanocomposite by using liquid glucose, maltose and starch as fuel, capping and reducing agents | |
| US7727909B2 (en) | Method for producing fine-grained particles | |
| KR20080078864A (ko) | 금속 산화물 나노 입자의 제조 방법, 및 그 방법으로제조된 나노 입자 및 조제물 | |
| JP5066090B2 (ja) | 金属(m1)酸化物粒子の表面に金属(m2)酸化物超微粒子をコートする方法 | |
| JP5105503B2 (ja) | ε酸化鉄の製法 | |
| JP3985111B2 (ja) | ジルコニア−セリア組成物の製造方法 | |
| JP4841029B2 (ja) | 酸化錫添加酸化インジウム粉末及びその製造方法 | |
| CN105197981A (zh) | 高活性纳米氧化锌的制备 | |
| JP2644707B2 (ja) | 金属微粒子又は金属酸化物微粒子を含有するセラミックスの製造方法 | |
| US5221657A (en) | Process for producing the precursor of a precipitated catalyst for the ammonia synthesis | |
| CN107445202A (zh) | 一种小尺寸、超分散纳米氧化锆基涂层粉体的制备方法 | |
| KR20200043060A (ko) | 용매열 합성법을 이용한 금속이온 도핑 세리아의 제조방법 | |
| JP3359606B2 (ja) | 導電配向性フレーク状酸化亜鉛およびその製法 | |
| KR20030087853A (ko) | 후막 및 박막형 가스센서용 귀금속 및 금속함유이산화주석 나노분말의 제조공법 | |
| JPH0368923B2 (ja) | ||
| JPS62241827A (ja) | 磁気記録用強磁性微粉末の製造方法 | |
| JP2003119023A (ja) | Ito粉末の製造方法及びito粉末 | |
| JP3289358B2 (ja) | 磁性酸化物粉末の製造方法 | |
| JPS6235970B2 (ja) | ||
| EP0981498B1 (en) | Low temperature production of metal oxides | |
| JPS6339287B2 (ja) | ||
| JP2004115325A (ja) | ウニ状酸化亜鉛及びその製造方法 | |
| JP2000290018A (ja) | 酸化鉄系粉末およびその製造方法 | |
| CN101704505B (zh) | 基于钙掺杂的高热稳定性氧化锡纳米粉体的制备方法 | |
| Yoshikawa et al. | Susceptibility to agglomeration of fine PLZT powders prepared from nitrate solutions |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |