JP2637027B2 - 真空用ゲート弁装置 - Google Patents
真空用ゲート弁装置Info
- Publication number
- JP2637027B2 JP2637027B2 JP4340718A JP34071892A JP2637027B2 JP 2637027 B2 JP2637027 B2 JP 2637027B2 JP 4340718 A JP4340718 A JP 4340718A JP 34071892 A JP34071892 A JP 34071892A JP 2637027 B2 JP2637027 B2 JP 2637027B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- gas
- valve plate
- seal member
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Details Of Valves (AREA)
- Sealing With Elastic Sealing Lips (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空用ゲート弁装置に関
し、特に、弁板のシール部材の劣化を防止し、シール部
材の長寿命化を計るための新規な改良に関する。
し、特に、弁板のシール部材の劣化を防止し、シール部
材の長寿命化を計るための新規な改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、用いられていたこの種の真空用ゲ
ート弁装置としては、一般に、弁板に設けられたシール
部材としてのＯリングを用い、このＯリングをシート面
に密合させることにより、開口の閉弁を行っていた。
ート弁装置としては、一般に、弁板に設けられたシール
部材としてのＯリングを用い、このＯリングをシート面
に密合させることにより、開口の閉弁を行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空用ゲート弁
装置は、以上のように構成されていたため、次のような
課題が存在していた。すなわち、従来、一般に、真空用
ゲート弁に用いられていたシート材は、フッ素ゴムＯリ
ングであり、これを半導体製造装置などのガス反応プロ
セス設備に使用した場合、プロセスガスに晒されて非常
に短時間に腐蝕を受け、シールが不可能となって、頻繁
に取り替えなければならない。近年、カルレッツ（米国
のデュポン社の商標）などの高耐蝕性のシール材が用い
られるようになっているが、従来のＯリングよりも若干
の延命効果に止まっているにすぎないのが現状である。
装置は、以上のように構成されていたため、次のような
課題が存在していた。すなわち、従来、一般に、真空用
ゲート弁に用いられていたシート材は、フッ素ゴムＯリ
ングであり、これを半導体製造装置などのガス反応プロ
セス設備に使用した場合、プロセスガスに晒されて非常
に短時間に腐蝕を受け、シールが不可能となって、頻繁
に取り替えなければならない。近年、カルレッツ（米国
のデュポン社の商標）などの高耐蝕性のシール材が用い
られるようになっているが、従来のＯリングよりも若干
の延命効果に止まっているにすぎないのが現状である。
【０００４】本発明は以上のような課題を解決するため
になされたもので、特に、弁板のシール部材の劣化を防
止し、シール部材の長寿命化を計るようにした真空用ゲ
ート弁装置を提供することを目的とする。
になされたもので、特に、弁板のシール部材の劣化を防
止し、シール部材の長寿命化を計るようにした真空用ゲ
ート弁装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明による真空用ゲー
ト装置は、弁箱の開口に連通するシート面に、弁板のシ
ール部材を密合させて前記開口を閉弁するようにした真
空用ゲート弁装置において、前記弁板に設けられたガス
流路を介して前記シール部材に不活性ガスを供給するよ
うに構成である。
ト装置は、弁箱の開口に連通するシート面に、弁板のシ
ール部材を密合させて前記開口を閉弁するようにした真
空用ゲート弁装置において、前記弁板に設けられたガス
流路を介して前記シール部材に不活性ガスを供給するよ
うに構成である。
【０００６】
【作用】本発明による真空用ゲート弁装置においては、
弁板に形成されたガス流路を介して、弁板と開口のシー
ト面近傍の弁箱内面との間に形成されて間隙に対して不
活性ガスを供給するため、この間隙に供給した不活性ガ
スがシール部材の近傍に不活性ガス層を形成し、真空チ
ャンバ（図示せず）に供給されている腐蝕性のプロセス
ガスとシール部材との接触を断つことができる。従っ
て、このプロセスガスによるシール部材の腐蝕を長期間
にわたって防止し、シール部材の長寿命化を達成するこ
とができる。
弁板に形成されたガス流路を介して、弁板と開口のシー
ト面近傍の弁箱内面との間に形成されて間隙に対して不
活性ガスを供給するため、この間隙に供給した不活性ガ
スがシール部材の近傍に不活性ガス層を形成し、真空チ
ャンバ（図示せず）に供給されている腐蝕性のプロセス
ガスとシール部材との接触を断つことができる。従っ
て、このプロセスガスによるシール部材の腐蝕を長期間
にわたって防止し、シール部材の長寿命化を達成するこ
とができる。
【０００７】
【実施例】以下、図面と共に本発明による真空用ゲート
弁装置の好適な実施例について詳細に説明する。図１か
ら図４迄は本発明による真空用ゲート弁装置を示すもの
で、図１は正面図、図２は図１の一部断面を含む正面
図、図３は図１の要部の拡大斜視図、図４は図１の横断
面図である。
弁装置の好適な実施例について詳細に説明する。図１か
ら図４迄は本発明による真空用ゲート弁装置を示すもの
で、図１は正面図、図２は図１の一部断面を含む正面
図、図３は図１の要部の拡大斜視図、図４は図１の横断
面図である。
【０００８】図１から図４において符号１で示されるも
のは、半導体製造装置のチャンバ（図示せず）に接続し
て設けられる弁箱であり、この弁箱１には開口２が形成
されていると共に、この弁箱１の上部１ａには、油圧、
空圧及びモータ等の何れかの手段からなる弁板駆動装置
３を有するボンネットフランジ４が載置して設けられて
いる。
のは、半導体製造装置のチャンバ（図示せず）に接続し
て設けられる弁箱であり、この弁箱１には開口２が形成
されていると共に、この弁箱１の上部１ａには、油圧、
空圧及びモータ等の何れかの手段からなる弁板駆動装置
３を有するボンネットフランジ４が載置して設けられて
いる。
【０００９】前記弁板駆動装置３に設けられ矢印Ａの方
向に沿って往復移動する弁棒５の下端にはほぼ台形状を
なす弁板６が設けられており、この弁板６は前記開口２
を開閉弁できるように構成されている。
向に沿って往復移動する弁棒５の下端にはほぼ台形状を
なす弁板６が設けられており、この弁板６は前記開口２
を開閉弁できるように構成されている。
【００１０】前記弁板６の外面６ａは、前記弁箱１の弁
座７に設けられたシート面７ａに対面し、この外面６ａ
に設けられたＯリング等からなるシール部材８が前記シ
ート面７ａと密合するように構成されており、前記開口
２はこの弁板６のシール部材８がシート面７ａに密合す
ることによって閉弁される。前記弁板６の板面６ａとシ
ート面７ａとの間には所定の間隔を有する間隙９が形成
されており、この間隙９は後述のガス流路１０に連通し
ている。
座７に設けられたシート面７ａに対面し、この外面６ａ
に設けられたＯリング等からなるシール部材８が前記シ
ート面７ａと密合するように構成されており、前記開口
２はこの弁板６のシール部材８がシート面７ａに密合す
ることによって閉弁される。前記弁板６の板面６ａとシ
ート面７ａとの間には所定の間隔を有する間隙９が形成
されており、この間隙９は後述のガス流路１０に連通し
ている。
【００１１】前記弁箱１の側部１ｂにはガス分岐管１１
が設けられ、このガス分岐管１１はガス導入管１２を介
して不活性ガスのガス源１３に接続されていると共に、
前記弁板６の中心位置に図４に示すように前記ガス分岐
管１１に接続された連絡ガス流路１０ａが形成され、こ
の連絡ガス流路１０ａが弁板６に形成された前記各ガス
流路１０に連通されている。
が設けられ、このガス分岐管１１はガス導入管１２を介
して不活性ガスのガス源１３に接続されていると共に、
前記弁板６の中心位置に図４に示すように前記ガス分岐
管１１に接続された連絡ガス流路１０ａが形成され、こ
の連絡ガス流路１０ａが弁板６に形成された前記各ガス
流路１０に連通されている。
【００１２】前記各ガス流路１０は、前述のように、弁
板６と弁座７のシート面７ａ近傍の弁座内面との間に形
成された間隙９に連通しており、前記ガス分岐管１１に
接続された不活性ガスのガス源１３からの不活性ガスが
各ガス流路１０を介して前記間隙９に供給されることに
より、シール部材８の劣化を防止することができる。な
お、前述のガス分岐管１１とガス源１３との間のガス導
入管１２は、弁板６の往復移動に追従できるように柔軟
性のあるフレキシブルガス管が用いられている。
板６と弁座７のシート面７ａ近傍の弁座内面との間に形
成された間隙９に連通しており、前記ガス分岐管１１に
接続された不活性ガスのガス源１３からの不活性ガスが
各ガス流路１０を介して前記間隙９に供給されることに
より、シール部材８の劣化を防止することができる。な
お、前述のガス分岐管１１とガス源１３との間のガス導
入管１２は、弁板６の往復移動に追従できるように柔軟
性のあるフレキシブルガス管が用いられている。
【００１３】従って、前述の構成において、例えば、図
示しない半導体製造装置に前記弁箱１が接続され、閉弁
状態で図示しない半導体用ウェハ上への薄膜形成のため
に使用される腐蝕性ガスが注入されて開口２及び弁板６
等がこの腐蝕性ガス雰囲気下に存在する状態で、前記ガ
ス流路１０から半導体製造プロセスに悪影響のない性質
の不活性ガス（例えば、窒素ガス）を前記間隙９に注入
すると、各シール部材８の近傍に不活性ガス層（図示せ
ず）が形成され、この不活性ガス層によって各シール部
材８と前記腐蝕性ガスとの接触が断たれる。従って、各
シール部材８の腐蝕性ガスによる劣化は極めて良好に防
止され、従来構成に比較すると、各シール部材８の交換
時期を大幅に延期することが可能となった。
示しない半導体製造装置に前記弁箱１が接続され、閉弁
状態で図示しない半導体用ウェハ上への薄膜形成のため
に使用される腐蝕性ガスが注入されて開口２及び弁板６
等がこの腐蝕性ガス雰囲気下に存在する状態で、前記ガ
ス流路１０から半導体製造プロセスに悪影響のない性質
の不活性ガス（例えば、窒素ガス）を前記間隙９に注入
すると、各シール部材８の近傍に不活性ガス層（図示せ
ず）が形成され、この不活性ガス層によって各シール部
材８と前記腐蝕性ガスとの接触が断たれる。従って、各
シール部材８の腐蝕性ガスによる劣化は極めて良好に防
止され、従来構成に比較すると、各シール部材８の交換
時期を大幅に延期することが可能となった。
【００１４】
【発明の効果】本発明による真空用ゲート弁装置は、以
上のように構成されているため、次のような効果を得る
ことができる。すなわち、弁板に形成されたガス流路を
介して弁板と弁座間に形成された間隙内に不活性ガスを
供給し、シール部材の近傍に形成した不活性ガス層によ
ってシール部材と腐蝕性ガスとの接触を避けることがで
き、シール部材の劣化を効果的に防止し、その交換期間
を従来構成よりも大幅に延期させて半導体製造装置等の
信頼性を大幅に向上できる。
上のように構成されているため、次のような効果を得る
ことができる。すなわち、弁板に形成されたガス流路を
介して弁板と弁座間に形成された間隙内に不活性ガスを
供給し、シール部材の近傍に形成した不活性ガス層によ
ってシール部材と腐蝕性ガスとの接触を避けることがで
き、シール部材の劣化を効果的に防止し、その交換期間
を従来構成よりも大幅に延期させて半導体製造装置等の
信頼性を大幅に向上できる。
【図１】本発明による真空用ゲート弁装置を示す正面図
である。
である。
【図２】図１の一部断面を含む正面図である。
【図３】図１の要部の拡大斜視図である。
【図４】図１の横断面図である。
１ 弁箱 ２ 開口 ３ 弁板駆動装置 ４ ボンネットフランジ ５ 弁棒 ６ 弁板 ７ａ シート面 ８ シール部材 ９ 間隙 １０ ガス流路
Claims (1)
- 【請求項１】 弁箱(1)の開口(2)に連通するシート面(7
a)に、弁板(6)のシール部材(8)を密合させて前記開口
(2)を閉弁するようにした真空用ゲート弁装置におい
て、前記弁板(6)に設けられたガス流路(10)を介して前
記シール部材(8)に不活性ガスを供給するように構成し
たことを特徴とする真空用ゲート弁装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340718A JP2637027B2 (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 真空用ゲート弁装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340718A JP2637027B2 (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 真空用ゲート弁装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06185672A JPH06185672A (ja) | 1994-07-08 |
| JP2637027B2 true JP2637027B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=18339652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4340718A Expired - Lifetime JP2637027B2 (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 真空用ゲート弁装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2637027B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5703652A (en) * | 1995-07-28 | 1997-12-30 | Sony Corporation | Information signal encoding system and method for adaptively encoding an information signal |
| US6602346B1 (en) | 2000-08-22 | 2003-08-05 | Novellus Systems, Inc. | Gas-purged vacuum valve |
| JP4319434B2 (ja) * | 2003-03-11 | 2009-08-26 | 東京エレクトロン株式会社 | ゲートバルブ及び真空容器 |
| CN113074156B (zh) * | 2021-04-15 | 2023-04-28 | 华北电力大学 | 一种加装接触密封的液压换向阀 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0313013Y2 (ja) * | 1986-06-10 | 1991-03-26 | ||
| JP3059575U (ja) * | 1998-12-02 | 1999-07-09 | 株式会社ジヌンジャパン | カップホルダー等の物入れを備えた野外用家具 |
-
1992
- 1992-12-21 JP JP4340718A patent/JP2637027B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06185672A (ja) | 1994-07-08 |
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