JPS5917070A - 真空用ゲ−トバルブ - Google Patents

真空用ゲ−トバルブ

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Publication number
JPS5917070A
JPS5917070A JP57125478A JP12547882A JPS5917070A JP S5917070 A JPS5917070 A JP S5917070A JP 57125478 A JP57125478 A JP 57125478A JP 12547882 A JP12547882 A JP 12547882A JP S5917070 A JPS5917070 A JP S5917070A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
port
seal
seal ring
opened
discharge port
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57125478A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Sonobe
園部 正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP57125478A priority Critical patent/JPS5917070A/ja
Publication of JPS5917070A publication Critical patent/JPS5917070A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K51/00Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
    • F16K51/02Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10Nuclear fusion reactors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Sliding Valves (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は真空用ゲートバルブに係り、特にパルプハウジ
ング内に設けられたシールリングと、このシールリング
の開閉を行なうゲートンールとを有する真空用ゲートバ
ルブに関するものである。
最近の核融合装置のような超高真空装置には、ボート群
にプラズマ観測装置や粒子入射装置等の各種装置が取り
付けられるが、真空用ゲートバルブ(以下、ゲートパル
プと称する)はこれらポートと各種装置の接続部に配設
使用される。このような目的に使用されるゲートバルブ
の従来例が第1図および第2図に示されている。ゲート
パルプは、ゲートバルブを使用機器のポート間に取シ付
けるための給口1a側および排口2a側接続フランジ1
,2を有するバルブハウジング3と、このバルブハウジ
ング3の接続フラン22部分に取り付けられ、かつ排口
2aを形成しているシールリング4と、バルブノ・ウジ
ング3の中空室5内を移動してシールリング4との相互
作用によりゲートバルブの開閉動作を行なうゲートシー
ル6とから構成されている。そして閉動作すなわち給口
1a側と排口2a側との間のシールは、ゲートシール6
を実線で示す位置6aから捷ず1点鎖線で示す位置6b
に移動し、次いで2点鎖線で示す位置6Cに移動し、適
切な押付力下でのゲートシール6とシールリング4との
緊密な接触によって行なわれる。開動作は閉動作とは逆
に、2点鎖線の位置6Cから1点鎖線で示す位置6bに
移動し、次いで実線で示す位置6aに移動する順序で行
なわれている。
ところでこの種ゲートパルプで最も重要なことはシール
性能の保持(真空の保持)であるが、そのシール性能の
保持が困難になることがある。すなわちポート群にプラ
ズマ観測装置や粒子入射装置等の各種装置を取り付ける
場合に細心の注意を払っているにもかかわらす、微細な
塵埃等が空気中等からポート内部に侵入し、シールリン
グ4のシール面4aに付着し、ひいてはシール面4aを
傷つけるからである。その塵埃等の汚染物の/−ル面4
aへの付着の状態が第3図に示されている。
シールリング4のシール面4a上に付着した汚染物7a
、7b、7C等はゲートシール6の押し付けによりシー
ルリング4のシール面4aを傷つけることになる。この
ためノール性能が低下する事故が発生している。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであシ、その目的
とするところは、シール性能保持の良好な真空用ゲート
バルブを提供するにある。
すなわち本発明は、給口部側に、給排口の開放時にシー
ルリングのシール面をしや蔽するようにした筒状カバー
を設けたことを特徴とするものである。
以下、図示した実施例に基づいて本発明を説明する。第
4図および第5図には本発明の一実施例が示されている
。なお従来と同じ部品には同じ符号を付したので説明は
省略する。本実施例では給口1a部側に、給排口1a、
2aの開放時にシールリング4のシール面4aをしや蔽
するようにした筒状カバー8aを設けた。このようにす
ることにより、開放時においてもシール面4aがじゃ蔽
されるようになって、シール性能保持の良好な真空用ゲ
ートバルブを得ることができる。
すなわち筒状カバー8aを、伸縮自在で、かつその給口
1a部側は給口1a部より幅広に、その排口2a部側は
排日28部より幅狭に形成すると共に、開放時には駆動
装置9によって排日23部側の一部が排口2a部内に挿
入されるようにしだ。
このようにするとゲートバルブの組込時から運転開始時
までの間のような給排口1a、2aの開放時においても
シール面4aは筒状カバー8aで魚われるようになるの
で、ポート10側から侵入してきた汚染物7aは図中実
線表示の位置12aから図中点線表示の位置12b、1
2Cのように、筒状カバー83からポート11側へ落下
してゆき、ポート10側から侵入してきた汚染物7aが
シール面4aに付着することがなくなり、/−ル面4a
が常に清浄で、シール性能が長期にわたり良好に保持さ
れる。給排口1a、2aの閉鎖時においては、筒状カバ
ー8aを1駆動装置9によって給口1a部側に上げ、ゲ
ートシール6でこれまでと同様にシールする。
第6図および第7図には本発明の他の実施例が示されて
いる。本実施例では筒状カッ・−8bを、その給口1a
部側は給口1a部より幅広に、その排日23部側は排日
28部よυ幅狭に形成すると共に、開放時には駆動装置
9によって排口2a部上に駆動設置されるようにした。
この場合にも前述の場合と同様な作用効果を奏すること
ができる。
なお本実施例ではこれら筒状カバーBa、Bbを伸縮あ
るいは移動することによってその効果を発揮させるよう
にしたが、これに限るものではなく給口la部側は給口
1a部より幅広で、排口2a部側は排日28部より幅狭
に形成した筒状カバーをゲートノール6の開閉の邪魔に
ならないようにして給口1a部側に固定するようにして
もよい。
上述のように本発明は、給口部側に、給排口の開放時に
シールリングのシール面をしや蔽するようにした筒状カ
バーを設けたので、開放時においてもシール面かしや蔽
されるようになって、シール面に汚染物が付着しないよ
うになり、シール性能保持の良好な真空用ゲートパルプ
ブを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の真空用ゲートパルプの斜視図、第2図は
従来の真空用ゲートパルプの縦断側面図、第3図は従来
の真空用ゲートパルプのシールリングのシール面におけ
る汚染物の付着状態を示す斜視図、第4図は本発明の真
空用ゲートパルプの一実施例の開放時の状態を示す縦断
側面図、第5図は同じく一実施例の閉鎖時の状態を示す
縦断側面図、第6図は本発明の真空用ゲートパルプの他
の実施例の開放時の状態を示す縦断側面図、第7図は同
じく他の実施例の閉鎖時の状態を示す縦断側面南である
。 1a・・・給口、2a・・・排口、3・・・バルプノ・
ウジング、4・・・・/−ルリング、4a・・・シール
面、5・・・中空室、6・・・ケ−)シール、8a、8
b・・油状カバー、9(eまか1名) 第1図 第2図 / 第40 第5図 第7図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、給排口および中空室を有する・くルブノ・ウジング
    と、前記給排口の排日部に設けられ、かつ前記、給排口
    の排日を形成しているシールリングと、このシールリン
    グを開閉して前記給排口を開閉するように前記・・ルブ
    ・・ウジング内を移動するゲートンールとからなる真空
    用ゲート・・ルブにおいて、前記給口部側に、前記給排
    口の開放時に前記・シールリングのソール面をしや蔽す
    るようにした筒状カバーを設けたことを特徴とする真空
    用ゲートバルブ。 2、前記筒状カッ・−が、伸縮自在で、かつその給口部
    側は前記給口部より幅広に、その排日部側は前記排日部
    より幅狭に形成されると共に、前記開放時には駆動装置
    によって前記排日部側の一部が前記排口部内に挿入され
    るものである特許請求の範囲第1項記載の真空用ゲート
    ノ<ルプ。 3、前記筒状カバーが、その給口部側は前記給口部より
    幅広に、その排日部側は前記排日部より幅狭に形成され
    ると共に、前記開放時には、駆動装置によって前記排口
    部上に駆動・設置されるものである特許請求の範囲第1
    項記載の真空用ゲートバルブ。
JP57125478A 1982-07-19 1982-07-19 真空用ゲ−トバルブ Pending JPS5917070A (ja)

Priority Applications (1)

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JP57125478A JPS5917070A (ja) 1982-07-19 1982-07-19 真空用ゲ−トバルブ

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JP57125478A JPS5917070A (ja) 1982-07-19 1982-07-19 真空用ゲ−トバルブ

Publications (1)

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JPS5917070A true JPS5917070A (ja) 1984-01-28

Family

ID=14911079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57125478A Pending JPS5917070A (ja) 1982-07-19 1982-07-19 真空用ゲ−トバルブ

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JP (1) JPS5917070A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62108763A (ja) * 1985-11-06 1987-05-20 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62113754A (ja) * 1985-11-11 1987-05-25 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62113752A (ja) * 1985-11-11 1987-05-25 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62158155A (ja) * 1985-12-30 1987-07-14 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62158154A (ja) * 1985-12-28 1987-07-14 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62108763A (ja) * 1985-11-06 1987-05-20 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62113754A (ja) * 1985-11-11 1987-05-25 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62113752A (ja) * 1985-11-11 1987-05-25 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62158154A (ja) * 1985-12-28 1987-07-14 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物
JPS62158155A (ja) * 1985-12-30 1987-07-14 株式会社アイジー技術研究所 セラミツク組成物

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