JP2630230B2 - 増幅回路 - Google Patents

増幅回路

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JP2630230B2
JP2630230B2 JP5304686A JP30468693A JP2630230B2 JP 2630230 B2 JP2630230 B2 JP 2630230B2 JP 5304686 A JP5304686 A JP 5304686A JP 30468693 A JP30468693 A JP 30468693A JP 2630230 B2 JP2630230 B2 JP 2630230B2
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differential
transistors
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克治 木村
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Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は増幅回路に関し、特にM
OS型半導体集積回路で実現されるオペレーショナルト
ランスコンダクタンス増幅回路(以下、MOSOTAと
略す)に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のMOSOTAの最も簡単
な構成としては、図2に示されている回路が知られてい
る。すなわち、図2においては、ゲート長Lに対するゲ
ート幅Wの比W/Lが互いに異なる2つの整合差動対の
出力を交叉接続し、入力が共通接続されてなる交叉接続
ソース結合対によりMOSOTAが実現されている。
【0003】より詳細に説明すると、図2においては、
MOS型トランジスタM1及びM2並びに電流源Iss1
により第1の整合差動対が構成され、MOS型トランジ
スタM3及びM4並びに電流源Iss2 により第2の整合
差動対が構成されている。そして、トランジスタM1及
びM4の出力が共通接続され、またトランジスタM2及
びM3の出力が共通接続され、これら共通接続点から差
動対出力電流ΔIが導出されるように構成されている。
【0004】なお、以下の数式においては、トランジス
タM1、M2、M3、M4による出力電流を夫々ID1、
ID2、ID3、ID4とし、差動対出力ΔI=(ID1+ID
4)−(ID2+ID3)とする。また、β=μ(Cox/
2)(W/L)であり、トランジスタM1及びM2につ
いてβ1 、トランジスタM3及びM4についてβ2 であ
るものとする。
【0005】尚、上記βの式において、μはキャリアの
移動度、Coxはεox÷tox,εoxはゲート酸化膜の誘導
率,toxはゲート酸化膜の厚さを夫々示している。
【0006】図2において、第1の整合差動対の差動出
力電流ΔI1 (=ID1−ID2)は、 ΔI1 =β1 Vi {(2Iss1 /β1 )−Vi 2 1/2 但し、|Vi |≦ (Iss1 /β1 )1/2 ……(1a) ΔI1 =Iss1 Sgn (Vi ) 但し、|Vi |≧(Iss1 /β1 )1/2 …… (1b) で表される。
【0007】同様に第2の整合差動対の差動出力電流Δ
I2 (=ID4−ID3)は、 ΔI2 =β2 Vi {(2Iss2 /β2 )−Vi 2 1/2 但し、|Vi |≦ (Iss2 /β2 )1/2 ……(2a) ΔI2 =Iss2 Sgn (Vi ) 但し、|Vi |≧(Iss2 /β1 )1/2 …… (2b) で表される。ここで、(Iss1 /β1 )1/2 >(Iss2
/β1 )1/2 としても、一般性を失わない。
【0008】このとき、交叉接続ソース結合対の差動対
出力電流ΔIは、入力電圧範囲を|Vi |≦(Iss2 /
β2 )1/2 に限定すれば、 ΔI=ΔI1 −ΔI2 =β1 Vi {(2Iss1 /β1 )−Vi 2 1/2 −β2 Vi {(2Iss2 /β2 )−Vi 2 1/2 ……(3) となる。
【0009】式(3)については、文献「K.KIMU
RA,“A Unified Analysis of
Four―Quadrant Analog Mul
tipliers Consisting of Em
itter and Source―Coupled
Transistors Operable onLo
w Supply Voltage,”ICICE T
rans.Electronics,VOL.E76―
C,NO.5,May 1993.」の720頁に記載
されている近似式を用いることができる。
【0010】すなわち、 ΔI=(2β1 Iss1 )1/2 ・Vi {1−(1−1/21/2 )Vi 2 /(I ss1 /β1 )}−(2β2 Iss2 )1/2 ・Vi {1−(1−1/21/2 )Vi 2 /(Iss2 /β2 )}……(4) と近似できる。
【0011】ここで、上記の式(3)のトランスコンダ
クタンスが直線となるためには、入力電圧Vi の二次以
上の項が零であれば良い。このためには、近似式(4)
においてVi 3 の項が零になれば良い。したがって、 β1 (β1 )1/2 /β2 (β2 )1/2 =(Iss1 /Iss2 )1/2 ……(5) と条件が求まる。
【0012】この従来の増幅回路の入出力特性が図3
に、トランスコンダクタンス特性が図4に夫々示されて
いる。そして、図4の各特性T1〜T12の条件が図5
に示されている。
【0013】これらの特性によれば、動作入力範囲の7
0%以上にわたり4%程度しかトランスコンダクタンス
が変化せず、少ない回路数で実質的に十分広い入力電圧
範囲にわたり直線性が改善されることがわかる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】上述の回路をLSI上
で実現するためには、ゲート長Lに対するゲート幅Wの
比W/L、ゲートのW/L、β2 /β1 の値と駆動電流
比Iss2 /Iss1 の値を所定の値に設定する必要があ
る。しかし、正確な比を実現するためには、β2 /β1
の値とIss2 /Iss1 の値とを自然数あるいは自然数の
比にする必要がある。このためには、単位トランジスタ
を用いてβ2 /β1 の値を実現するか、単位トランジス
タを用いてIss2 /Iss1 の値を実現する必要があり、
場合によってはトランジスタ数が増加し、チップ面積が
大きくなるという欠点があった。
【0015】本発明は上述した従来の欠点を解決するた
めになされたものであり、その目的は広い入力電圧範囲
にわたり直線性の良いトランスコンダクタンスを簡単な
構成により得ることのできる増幅回路を提供することで
ある。
【0016】
【課題を解決するための手段】 本発明による増幅回路
は、差動対とされた第1及び第2のトランジスタと第1
の電流源とを有する第1のMOS整合差動増幅手段と、
差動対とされた第3及び第4のトランジスタと第2の電
流源とを有する第2のMOS整合差動増幅手段とを含
み、前記第1及び第4のトランジスタの出力が共通接続
され、前記第2及び第3のトランジスタの出力が共通接
続され、これら共通接続点から差動対出力を導出するよ
うにしたオペレーショナルトランスコンダクタンス増幅
回路であって、前記第1のMOS整合差動増幅手段の入
力信号を分圧して前記第2のMOS整合差動増幅手段へ
の入力信号とする分圧手段を含むことを特徴とする。
【0017】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0018】図1は本発明による増幅回路の一実施例の
構成を示す回路図であり、図2と同等部分は同一符号に
より示されている。図において、本発明の一実施例によ
る増幅回路が図2の従来回路と異なる点は、トランジス
タM1及びM2並びに電流源Iss1 により構成された第
1の整合差動対の入力信号を分圧してトランジスタM3
及びM4並びに電流源Iss2 により構成された第2の整
合差動対への入力信号とする分圧抵抗R1及びR2が追
加された点である。
【0019】この分圧抵抗R1及びR2により第1の整
合差動対の入力電圧Viが抵抗分圧され、第2の整合差
動対の入力電圧はVi/Cとなる。
【0020】このときに、第2の整合差動対の差動出力
電流ΔI2 は、 ΔI2 =β1 Vi /C{(2Iss2 /β1 )−Vi 2 /C2 1/2 但し、 |Vi |≦(Iss2 /β1 )1/2 ……(6a) ΔI2 =Iss2 Sgn (Vi ) 但し、|Vi |≧(Iss2 /β1 )1/2 …… (6b) である。
【0021】但し、 1/C=R2/(2R1+R2)(C>1)……(7) である。したがって、式(2a)と比較して、 C=1/(β2 /β1 )1/2 ……(8) とおくと、式(6a)と式(2a)とは等しくなる。
【0022】したがって、式(8)が成立つように分圧
抵抗R1とR2との比を設定すると、図1の回路で図3
及び図4に示されている入出力特性とトランスコンダク
タンス特性が得られる。
【0023】ここで、抵抗R1及びR2は、通常のMO
S型トランジスタ製造プロセスではポリシリコン抵抗を
用いると、入力信号は抵抗分圧されても歪率は劣化しな
い。また、抵抗の値は製造プロセスのマスクの最小寸法
で設定できるので、ほぼ任意の値が実現できる。
【0024】しかも式(8)に示されているように、C
は抵抗の比で表されることにより、製造バラツキの影響
も少ない。また、この抵抗はトランジスタに比較して占
有面積も大きくなく実現できる。
【0025】以上のように、交叉接続ソース結合対の一
方の入力信号を抵抗分圧して入力することにより、任意
の分圧比に設定できトランジスタサイズを共通化でき、
回路の占有面積も小さくできる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、交叉接続
ソース結合対の一方の入力信号を分圧して入力すること
により、任意の分圧比に設定できトランジスタサイズを
共通化でき、回路の占有面積も小さくできるという効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による増幅回路の構成を示す回
路図である。
【図2】従来の増幅回路の構成を示す回路図である。
【図3】従来の増幅回路の入出力特性図である。
【図4】従来の増幅回路のトランスコンダクタンス特性
図である。
【図5】図4中の各特性T1〜T12の条件を示す図で
ある。
【符号の説明】
M1〜M4 MOS型トランジスタ R1、R2 抵抗 Vi 入力電圧 ΔI 差動対出力電流

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 差動対とされた第1及び第2のトランジ
    スタと第1の電流源とを有する第1の差動増幅手段と、
    差動対とされた第3及び第4のトランジスタと第2の電
    流源とを有する第2の差動増幅手段とを含み、前記第1
    及び第4のトランジスタの出力が共通接続され、前記第
    2及び第3のトランジスタの出力が共通接続され、これ
    ら共通接続点から差動対出力を導出するようにしたオペ
    レーショナルトランスコンダクタンス増幅回路であっ
    て、前記第1及び第2の差動増幅手段は第1及び第2の
    MOS整合差動増幅手段を構成し、前記第1のMOS整
    差動増幅手段の入力信号を分圧して前記第2のMOS
    整合差動増幅手段への入力信号とする分圧手段を含むこ
    とを特徴とする増幅回路。
  2. 【請求項2】 前記分圧手段は、MOSトランジスタ素
    子であり、これら各トランジスタのβは互いに等しく設
    定されていることを特徴とする請求項1記載の増幅回
    路。
  3. 【請求項3】 前記分圧手段は、ポリシリコン抵抗素子
    であることを特徴とする請求項2記載の増幅回路。
JP5304686A 1993-11-10 1993-11-10 増幅回路 Expired - Lifetime JP2630230B2 (ja)

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US08/339,268 US5523717A (en) 1993-11-10 1994-11-10 Operational transconductance amplifier and Bi-MOS multiplier
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8600422A (nl) * 1986-02-20 1987-09-16 Philips Nv Transconductantieversterker.

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