JP2630078B2 - 半導体集積回路のレイアウト設計方法 - Google Patents

半導体集積回路のレイアウト設計方法

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JP2630078B2
JP2630078B2 JP3008251A JP825191A JP2630078B2 JP 2630078 B2 JP2630078 B2 JP 2630078B2 JP 3008251 A JP3008251 A JP 3008251A JP 825191 A JP825191 A JP 825191A JP 2630078 B2 JP2630078 B2 JP 2630078B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路のレイ
アウト設計方法に関し、特にチップ周辺部のI/Oバッ
ファの配置方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図6に半導体集積回路のレイアウトの概
要図を示す。
【0003】従来、この種の半導体集積回路の設計方法
は、I/Oバッファ(以下バッファと記す)48から構
成されるチップ周辺部46と機能ブロック(以下ブロッ
クと記す)49から構成される内部領域47との2つの
部分のレイアウト設計からなっている。
【0004】チップ周辺部46のレイアウト設計では、
通常デザインルール等がチップ周辺部46と内部領域4
7とでは異なるため、チップ周辺部46と内部領域47
の設計は別に行われる。
【0005】図7のフロー図に示すようにチップ周辺部
のバッファ配置位置決定50を行い、決定された位置に
バッファ配置51を行ってチップ周辺部決定52を完了
した後に、チップ周辺部は既定の固定されたものとして
扱って内部領域にブロック配置53を行う設計方法が取
られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
集積回路の設計方法では、全てのバッファの配置位置が
決まらなければ内部領域が設計できず、またバッファ配
置位置の変更が不可能なため内部領域のレイアウト時に
配線の迂回等無駄が生じ効率の悪いレイアウトになると
いう問題があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
の設計方法は、配置位置既定のバッファを所定位置に配
置し、配置位置が未定のバッファは仮の位置に配置して
おき、配置された配置位置既定のバッファと接続の強い
ブロックをそのバッファの付近に配置して内部領域の全
ブロックを配置し終えた後に、仮の位置に配置された配
置位置未定のバッファをブロックとの接続が強いものが
そのブロックの近くに配置されるように配置位置の交換
を行ってバッファの配置位置を決定する手段を有してい
る。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【0009】図1は、本発明の一実施例のフロー図、図
2(A),(B)はバッファ配置位置決定処理の概要図
である。
【0010】バッファ初期配置1で配置位置既定のバッ
ファを所定位置へ、配置位置未定のバッファは仮の位置
を決めて(例えば入力に現れる順に時計周りに並べる等
して)配置しておく。その後配置位置既定のバッファと
の接続の強いものがその付近にくるようブロック配置処
理2を行う。これは図8に示す様に、配置しようとする
未配置ブロック54と接続する配置位置既定のバッファ
b0〜bn及びブロック54と接続する配置済ブロック
B0〜Bnの配置位置座標(xb0、yb0)〜(xb
n、ybn)、(xB0、yB0)〜(xBn、yB
n)を接続の強さwb0〜wbn、wb0〜wbnで重
み付けした平均座標(以下重心位置と記す)55の座標
(xt、yt)を式(1)
【0011】
【0012】として求め、重心位置55に既に他のブロ
ックが配置されていたときは重心位置付近の空き位置、
重心位置55が空きならばその位置へ未配置ブロックを
配置していくことを未配置ブロックがなくなるまで繰り
返すことにより行う。ブロック配置後に、配置位置未定
のバッファの位置を並び替え、バッファ配置位置決定3
を行う。
【0013】バッファ配置位置決定3について図2を参
照して説明する。配置位置未定のバッファ10と接続す
るブロックをすべて選び(ブロック12,13)、これ
らのブロックの配置座標とバッファ10との接続強度か
ら重心位置15を求める。チップ周辺部上で配置位置決
定済みのバッファが配置されていない、重心位置15に
最も近い位置16を求め、位置16にバッファが配置さ
れていなければそこへバッファ10を移動する。位置1
6に別な配置位置未定のバッファ11がある場合、まず
バッファ10,11についてバッファ−ブロック間を配
線するときに要する配線の長さL1をバッファ10とブ
ロック12との間の配線17の長さをA1、バッファ1
0とブロック13との間の配線18の長さをB1、及び
バッファ11とブロック14との間の配線19の長さを
C1としたときL1=A1+B1+C1として求める
(図2(A))。次にバッファ10とバッファ11の配
置位置を交換したとした時のバッファ−ブロック間を配
線するときに要する配線の長さL2をバッファ10とブ
ロック12との間の配線20の長さをA2、ブロック1
3との間の配線21の長さをB2、及びバッファ11と
ブロック14との間の配線22の長さをC22としてL
2=A2+B2+C2として求める(図2(B))。L
1>L2ならばバッファ10,11を交換する。L1≦
L2ならば交換しない。
【0014】以上の処理を配置位置未定のバッファ全て
について行い、バッファ配置位置を決定する。
【0015】図3は、本発明の他の実施例のフロー図、
図4はそのブロック配置処理の概要図である。
【0016】前実施例と同様にバッファの初期配置処理
23を行った後、ブロック配置処理24を行うが、この
際、後のバッファ配置位置決定30で有利になるよう同
じ配置位置未定のバッファに接続があるブロック同士は
近くにくるように配置する。
【0017】ブロック配置処理24について図4を参照
して説明する。未配置ブロックを一つ選び、そのブロッ
ク31に接続する既配置ブロックと、ブロック31に接
続する配置位置既定のバッファとをすべて選ぶ(ブロッ
ク32,33及びバッファ36,37)。さらにブロッ
ク31が接続する配置位置未定のバッファ40に接続す
るブロックをすべて選ぶ(ブロック34,35)。ブロ
ック32,33,34,35とバッファ36,37の位
置をブロック31との接続強度で重み付けした重心位置
38を求める。但し、ブロック34,35はブロック3
1との直接的な接続がないので仮の接続強度を各々W
1,W2として求め、重み付けする。仮の接続強度は例
えばブロック35とブロック31の間であればバッファ
40とブロック31との接続強度をw1、バッファ40
とブロック35との接続強度をw2としてW1=αw1
+βw2(α、β:定数)の様に求める。
【0018】求めた位置38にブロックが配置されてい
なければブロック31を配置する。位置38にブロック
が配置済みならそのブロックの近くで空き位置を探し、
その位置に配置する。以上を未配置ブロックがなくなる
まで行う。ブロック配置24終了後、実施例1と同様な
方法でバッファの配置位置を並び替えてバッファ配置位
置決定30を行う。
【0019】これにより、同じ配置位置未定のバッファ
に接続するブロックは近くに配置されるため、実施例2
を用いない場合、図5(A)のバッファ40とブロック
31との間の配線42がバッファ配置位置を交換しても
配線43の様になり交換の効果がないが、用いた場合は
同図(B)の配線44が配線45の様になり、配線長を
減少させることができる。
【0020】通常、ブロック配置の際は配線が短くなる
ように、配置しようとするブロックと接続のある配置済
みのブロックやバッファの位置の近くにそのブロックを
配置するため、実施例1のように配置位置未定のバッフ
ァがあるとそのバッファとの接続は考慮しないブロック
配置を行わざるを得ないが、実施例2の場合は配置位置
未定のバッファとの接続についても考慮されたブロック
配置が行えるという利点がある。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように本発明は配置位置既
定のバッファと接続の強いブロックをそのバッファの近
くへ配置した後、配置位置未定のバッファの配置位置を
そのバッファと接続の強いブロックの近くになるよう決
めるため、バッファ配置位置が全て決定済みでなくても
内部領域の設計を始めることができ、またレイアウト結
果も接続の強いバッファとブロックが近くに配置される
ため無駄な配線の回り込み等の少ない効率のよいレイア
ウトとなるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のフロー図である。
【図2】本発明の一実施例のバッファ配置位置決定処理
の説明図である。
【図3】本発明の他の実施例2のフロー図である。
【図4】本発明の他の実施例のブロック配置処理の説明
図である。
【図5】本発明の他の実施例の効果の説明図である。
【図6】半導体集積回路のレイアウトの構成図である。
【図7】従来の半導体集積回路のバッファ/ブロック配
置のフロー図である。
【図8】重心位置の説明図である。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 I/Oバッファからなるチップ周辺部と
    機能ブロックからなるチップ内部領域を持つ半導体集積
    回路の設計方法において、配置位置既定のI/Oバッフ
    ァを所定位置に配置し、配置位置未定のI/Oバッファ
    は仮の位置に配置しておき、配置された配置位置既定の
    I/Oバッファと接続の強い機能ブロックをそのI/O
    バッファの付近に配置して内部領域の全機能ブロックを
    配置し終えた後に、仮の位置に配置された配置位置未定
    のI/Oバッファを機能ブロックとの接続が強いものが
    その機能ブロックの近くに配置されるように配置位置の
    交換を行ってI/Oバッファの配置位置を決定すること
    を特徴とする半導体集積回路のレイアウト設計方法。
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