JP2625711B2 - カラーフイルターの製造方法 - Google Patents
カラーフイルターの製造方法Info
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- JP2625711B2 JP2625711B2 JP7101087A JP7101087A JP2625711B2 JP 2625711 B2 JP2625711 B2 JP 2625711B2 JP 7101087 A JP7101087 A JP 7101087A JP 7101087 A JP7101087 A JP 7101087A JP 2625711 B2 JP2625711 B2 JP 2625711B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、カチオン性基を含有する重合性単量体に由
来する構成単位を有する重合体を被染色性高分子膜とし
て使用するカラーフィルターの製造方法に関する。
来する構成単位を有する重合体を被染色性高分子膜とし
て使用するカラーフィルターの製造方法に関する。
[従来の技術] 従来のカチオン性基を含有する重合性単量体に由来す
る構成単位を有する重合体を被染色性高分子膜として用
いるカラーフィルターの製造工程において、被染色性高
分子膜上に有機溶剤を溶媒とする溶液を塗ったり、基板
ごと被染色性高分子膜を有機溶剤に浸漬する等、被染色
性高分子膜中に有機溶剤が浸透する工程が多く存在して
いる。
る構成単位を有する重合体を被染色性高分子膜として用
いるカラーフィルターの製造工程において、被染色性高
分子膜上に有機溶剤を溶媒とする溶液を塗ったり、基板
ごと被染色性高分子膜を有機溶剤に浸漬する等、被染色
性高分子膜中に有機溶剤が浸透する工程が多く存在して
いる。
[発明が解決しようとする問題点] 有機溶剤が極性溶媒である場合、被染色性高分子膜に
体積の収縮がおこり、割れが生じやすい。そこで従来の
カラーフィルター製造においては、被染色性高分子膜の
割れによって歩留りや品質が低下するという問題点を有
する。
体積の収縮がおこり、割れが生じやすい。そこで従来の
カラーフィルター製造においては、被染色性高分子膜の
割れによって歩留りや品質が低下するという問題点を有
する。
そこで本発明はカラーフィルターの製造方法におい
て、被染色性高分子膜中に極性を有する有機溶剤が浸透
しても、被染色性高分子膜の割れが発生しない高品質・
高歩留りを確保することができるカラーフィルターの製
造方法を提供することを目的とする。
て、被染色性高分子膜中に極性を有する有機溶剤が浸透
しても、被染色性高分子膜の割れが発生しない高品質・
高歩留りを確保することができるカラーフィルターの製
造方法を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明のカラーフィルターの製造方法は,カチオン性
基を含有する重合性単量体に由来する構成単位を有する
重合体からなる被染色性高分子膜を染色して形成される
カラーフィルターの製造方法において,被染色部以外が
レジストにより被覆された前記被染色性高分子膜を染色
した後に40℃から200℃の温度範囲の高温雰囲気中にて
乾燥する工程と,該工程の後に有機溶剤に浸漬して前記
レジストを除去する工程とを有することを特徴とする。
基を含有する重合性単量体に由来する構成単位を有する
重合体からなる被染色性高分子膜を染色して形成される
カラーフィルターの製造方法において,被染色部以外が
レジストにより被覆された前記被染色性高分子膜を染色
した後に40℃から200℃の温度範囲の高温雰囲気中にて
乾燥する工程と,該工程の後に有機溶剤に浸漬して前記
レジストを除去する工程とを有することを特徴とする。
また,本発明のカラーフィルターの製造方法は,カチ
オン性基を含有する重合性単量体に由来する構成単位を
有する重合体からなる被染色性高分子膜を染色して形成
されるカラーフィルターの製造方法において,被染色部
以外がレジストにより被覆された前記被染色性高分子膜
を染色した後に40℃から200℃の温度範囲の高温雰囲気
中にて乾燥する工程と,該工程の後に有機溶剤に浸漬し
て前記レジストを除去する工程と,該レジストが除去さ
れた基板を40℃から200℃の温度範囲の高温雰囲気中に
て乾燥する工程と,該工程の後に,染色された前記被染
色性高分子膜上に高分子膜を塗布し防染膜を形成する工
程とを有することを特徴とする。
オン性基を含有する重合性単量体に由来する構成単位を
有する重合体からなる被染色性高分子膜を染色して形成
されるカラーフィルターの製造方法において,被染色部
以外がレジストにより被覆された前記被染色性高分子膜
を染色した後に40℃から200℃の温度範囲の高温雰囲気
中にて乾燥する工程と,該工程の後に有機溶剤に浸漬し
て前記レジストを除去する工程と,該レジストが除去さ
れた基板を40℃から200℃の温度範囲の高温雰囲気中に
て乾燥する工程と,該工程の後に,染色された前記被染
色性高分子膜上に高分子膜を塗布し防染膜を形成する工
程とを有することを特徴とする。
本発明のカチオン性基を含有する重合性単量体に由来
する構成単位を有する重合体の具体例としては、 2−メタクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウ
ムクロリドなどのアクリル酸エステルまたはメタクリル
酸エステルの誘導体; N,N−ジアルキルアミノアルキルメタクリルアミドな
どのアクリルアミドまたはメタクリルアミドの誘導体; をあげることができる。これらカチオン性基を含有する
単量体は単独で重合しても良いし、他の重合性単量体と
共重合しても良い。
する構成単位を有する重合体の具体例としては、 2−メタクリロイロキシエチルトリメチルアンモニウ
ムクロリドなどのアクリル酸エステルまたはメタクリル
酸エステルの誘導体; N,N−ジアルキルアミノアルキルメタクリルアミドな
どのアクリルアミドまたはメタクリルアミドの誘導体; をあげることができる。これらカチオン性基を含有する
単量体は単独で重合しても良いし、他の重合性単量体と
共重合しても良い。
上記カチオン性基を含有する単量体と共重合可能な他
の単量体としては、 アクリル酸ビドロキシエチルなどの官能性アクリル化
合物; N−ビニルピロリドンなどの含窒素単量体をあげるこ
とができる。これらは単独または2種以上組合せて用い
ることができる。
の単量体としては、 アクリル酸ビドロキシエチルなどの官能性アクリル化
合物; N−ビニルピロリドンなどの含窒素単量体をあげるこ
とができる。これらは単独または2種以上組合せて用い
ることができる。
またカチオン性単量体と他の重合性単量体の共重合体
の共重合形態は特に制限されない。
の共重合形態は特に制限されない。
本発明において、被染色性高分子膜は紫外線、電子線
などの放射線を照射することによってその機能を発揮す
る重クロム酸塩、ジアゾニウム塩によって形成される。
などの放射線を照射することによってその機能を発揮す
る重クロム酸塩、ジアゾニウム塩によって形成される。
本発明における前記被染色性高分子膜は、浸漬法、ス
ピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法など
の各種塗布方法によって基板上に塗布され、塗布後乾燥
し、放射線によって架橋することによって得られる。被
染色性高分子膜の膜厚は0.1〜10μmが適当であり、0.1
μm未満では染色されにくいという問題があり、10μm
以上では膜の形成が難しいという問題がある。
ピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法など
の各種塗布方法によって基板上に塗布され、塗布後乾燥
し、放射線によって架橋することによって得られる。被
染色性高分子膜の膜厚は0.1〜10μmが適当であり、0.1
μm未満では染色されにくいという問題があり、10μm
以上では膜の形成が難しいという問題がある。
本発明における被染色性高分子膜を乾燥状態とする手
段としては、40〜200℃の加熱が適当であり、40℃未満
では乾燥が十分行なわれず200℃以上では被染色性高分
子膜が熱によって変質又は分解するという問題点を有す
る。また、加熱時間は、1秒以上が必要であり、100分
以下が望ましい。1秒未満では十分乾燥が行なわれない
し、必要以上に乾燥することもないので100分が望まし
く、さらに好ましくは1分〜30分である。また加熱の手
段としては特に限定されるものではないが、オーブン等
を用いた高温低湿雰囲気中への放置や遠赤外炉、ホット
プレートなどがあげられる。雰囲気としては大気中でも
良いし、N2ガス等の不活性ガス中でも良い。
段としては、40〜200℃の加熱が適当であり、40℃未満
では乾燥が十分行なわれず200℃以上では被染色性高分
子膜が熱によって変質又は分解するという問題点を有す
る。また、加熱時間は、1秒以上が必要であり、100分
以下が望ましい。1秒未満では十分乾燥が行なわれない
し、必要以上に乾燥することもないので100分が望まし
く、さらに好ましくは1分〜30分である。また加熱の手
段としては特に限定されるものではないが、オーブン等
を用いた高温低湿雰囲気中への放置や遠赤外炉、ホット
プレートなどがあげられる。雰囲気としては大気中でも
良いし、N2ガス等の不活性ガス中でも良い。
本発明における水以外の有極性液体としては、エタノ
ール、メタノール、イソプロパノール、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のアルコール系の有機溶剤、 アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン系の有機溶剤、 エチレグリコールモノエチルエーテルアセテート等の
エステル系有機溶剤をあげることができる。これらの有
機溶剤は、単独あるいは二種以上を混合して用いる。
ール、メタノール、イソプロパノール、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のアルコール系の有機溶剤、 アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン系の有機溶剤、 エチレグリコールモノエチルエーテルアセテート等の
エステル系有機溶剤をあげることができる。これらの有
機溶剤は、単独あるいは二種以上を混合して用いる。
[実施例 1] 一実施例としてN・N−ジアルキルアミノアルキルメ
タクリルアミドとヒドロキシアルキルメタクリレートの
共重合体をジアゾニウム塩を用いて放射線架橋すること
によって形成した被染色性高分子膜(以下被染色性高分
子膜という)をアセトンに浸漬する場合について述べ
る。尚、ここでは液晶パネル用のカラーフィルターを具
体例として記述する。
タクリルアミドとヒドロキシアルキルメタクリレートの
共重合体をジアゾニウム塩を用いて放射線架橋すること
によって形成した被染色性高分子膜(以下被染色性高分
子膜という)をアセトンに浸漬する場合について述べ
る。尚、ここでは液晶パネル用のカラーフィルターを具
体例として記述する。
まず、ガラス基板上(ITO等の透明電極が形成されて
いても良いし、形成されていなくても良い)に上述の被
染色性高分子膜となる溶液をスピンコートで塗布して高
温雰囲気中(40〜150℃)で10分〜30分間放置して乾燥
する。次にポジ型フォトレジストを塗布し、乾燥工程を
終了した後、所定のパターンを有する露光マスクを用い
て染色領域だけに選択的に紫外線を照射する。この後KO
H、NaOH等や専用のアルカリ水溶液に浸漬して前記染色
領域のレジストを除く。次に酸性染料(赤、緑、青等任
意の色を有している)を用い20〜80℃、1〜30分の範囲
で浸漬を行ない染色する。この後乾燥工程を行なう。本
実施例では被染色性高分子膜の膜厚を変えたいくつかの
例を示す。
いても良いし、形成されていなくても良い)に上述の被
染色性高分子膜となる溶液をスピンコートで塗布して高
温雰囲気中(40〜150℃)で10分〜30分間放置して乾燥
する。次にポジ型フォトレジストを塗布し、乾燥工程を
終了した後、所定のパターンを有する露光マスクを用い
て染色領域だけに選択的に紫外線を照射する。この後KO
H、NaOH等や専用のアルカリ水溶液に浸漬して前記染色
領域のレジストを除く。次に酸性染料(赤、緑、青等任
意の色を有している)を用い20〜80℃、1〜30分の範囲
で浸漬を行ない染色する。この後乾燥工程を行なう。本
実施例では被染色性高分子膜の膜厚を変えたいくつかの
例を示す。
1)被染色性高分子膜が約0.1〜0.3μmの時、100℃の
大気中で約5分間放置して乾燥 2)被染色性高分子膜が約1〜2μmの時、100℃のN2
雰囲気中で約30分間放置して乾燥 3)被染色性高分子膜が約1〜2μmの時、180℃の大
気中で約20分間放置して乾燥 4)被染色性高分子膜が約5μmの時、100℃のN2雰囲
気中で約60分放置して乾燥 5)被染色性高分子膜が約10μmの時、100℃のN2雰囲
気中で約100分間放置して乾燥 以上1)〜5)において、十分な乾燥が得られた。こ
の沿い、高温雰囲気は大気中でもN2等の不活性ガス中で
も同様の効果が得られた。
大気中で約5分間放置して乾燥 2)被染色性高分子膜が約1〜2μmの時、100℃のN2
雰囲気中で約30分間放置して乾燥 3)被染色性高分子膜が約1〜2μmの時、180℃の大
気中で約20分間放置して乾燥 4)被染色性高分子膜が約5μmの時、100℃のN2雰囲
気中で約60分放置して乾燥 5)被染色性高分子膜が約10μmの時、100℃のN2雰囲
気中で約100分間放置して乾燥 以上1)〜5)において、十分な乾燥が得られた。こ
の沿い、高温雰囲気は大気中でもN2等の不活性ガス中で
も同様の効果が得られた。
このようにして乾燥された基板を、アセトンに浸漬
(1〜10分)してレジストを剥離することにより、カラ
ーフィルターが形成される。
(1〜10分)してレジストを剥離することにより、カラ
ーフィルターが形成される。
ここで注意することは染色後の乾燥を終了後に室内等
に放置しておくと、大気中の水分を吸湿してしまい、こ
のままアセトンに浸漬すると、従来と同様に割れが発生
してしまう。この場合は再度乾燥工程を行ない、引き続
きアセトン浸漬することが必要である。
に放置しておくと、大気中の水分を吸湿してしまい、こ
のままアセトンに浸漬すると、従来と同様に割れが発生
してしまう。この場合は再度乾燥工程を行ない、引き続
きアセトン浸漬することが必要である。
上述の如く形成された被染色性高分子膜には割れは発
生せず、高品質のカラーフィルターが製造できる。
生せず、高品質のカラーフィルターが製造できる。
[比較例] 染色法によって製造されるカラーフィルターの代表的
な製造方法について述べる。
な製造方法について述べる。
まず実施例1と同様にして、被染色性高分子膜を形成
した後、この上に例えばノボラック樹脂とキノンジアジ
ドを主成分とするポジ型フォトレジストを塗布し、乾燥
後露光マスクを用いて染色領域だけに選択的に紫外線を
照射し、アルカリ水溶液に浸漬して前記染色領域のレジ
ストを除去する。そして染色を行なった後アセトン等の
有機溶剤に浸漬してレジストを剥離する方法である。
した後、この上に例えばノボラック樹脂とキノンジアジ
ドを主成分とするポジ型フォトレジストを塗布し、乾燥
後露光マスクを用いて染色領域だけに選択的に紫外線を
照射し、アルカリ水溶液に浸漬して前記染色領域のレジ
ストを除去する。そして染色を行なった後アセトン等の
有機溶剤に浸漬してレジストを剥離する方法である。
上述の製造方法では、染色工程によって被染色性高分
子膜が吸湿しており、そのままアセトン浸漬されるた
め、被染色性高分子膜は急激に収縮して割れが発生して
しまうのである。
子膜が吸湿しており、そのままアセトン浸漬されるた
め、被染色性高分子膜は急激に収縮して割れが発生して
しまうのである。
[実施例 2] 実施例1のようにして染色された被染色性高分子膜上
に防染処理する場合においても本発明が有効に作用する
ものであるので以下に述べる。
に防染処理する場合においても本発明が有効に作用する
ものであるので以下に述べる。
実施例1の染色、乾燥、アセトン浸漬が終了した基板
を実施例1の染色後の乾燥と同様にして乾燥し、グリシ
ジルクリレートと4′−メチルカルコンメタクリレート
の共重合体をポリマーとし、エチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテートを主溶媒とする高分子溶液を塗
布する。次に40〜120℃の大気中、1〜30分で放置し乾
燥後、放射線を照射し防染膜を形成した。この場合、防
染処理を目的とする高分子溶液の主溶媒であるエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテートが被染色性高
分子膜に浸透することになる。しかし、本実施例におい
ても被染色性高分子膜に割れは発生しなかった。
を実施例1の染色後の乾燥と同様にして乾燥し、グリシ
ジルクリレートと4′−メチルカルコンメタクリレート
の共重合体をポリマーとし、エチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテートを主溶媒とする高分子溶液を塗
布する。次に40〜120℃の大気中、1〜30分で放置し乾
燥後、放射線を照射し防染膜を形成した。この場合、防
染処理を目的とする高分子溶液の主溶媒であるエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテートが被染色性高
分子膜に浸透することになる。しかし、本実施例におい
ても被染色性高分子膜に割れは発生しなかった。
以上述べたように本発明は被染色性高分子膜を有機溶
剤に浸漬する工程、あるいは被染色性高分子膜中に有機
溶剤が浸漬する工程の前に実施すると効果的である。
剤に浸漬する工程、あるいは被染色性高分子膜中に有機
溶剤が浸漬する工程の前に実施すると効果的である。
[発明の効果] 上述の如く,本発明によれば,被染色性高分子膜が有
機溶剤に浸漬されることにより発生していた割れを防ぐ
ことができる。したがって,高品質・高歩留まりのカラ
ーフィルターの製造方法が実現できる。
機溶剤に浸漬されることにより発生していた割れを防ぐ
ことができる。したがって,高品質・高歩留まりのカラ
ーフィルターの製造方法が実現できる。
Claims (2)
- 【請求項1】カチオン性基を含有する重合性単量体に由
来する構成単位を有する重合体からなる被染色性高分子
膜を染色して形成されるカラーフィルターの製造方法に
おいて, 被染色部以外がレジストにより被覆された前記被染色性
高分子膜を染色した後に40℃から200℃の温度範囲の高
温雰囲気中にて乾燥する工程と, 該工程の後に有機溶剤に浸漬して前記レジストを除去す
る工程とを有することを特徴とするカラーフィルターの
製造方法。 - 【請求項2】カチオン性基を含有する重合性単量体に由
来する構成単位を有する重合体からなる被染色性高分子
膜を染色して形成されるカラーフィルターの製造方法に
おいて, 被染色部以外がレジストにより被覆された前記被染色性
高分子膜を染色した後に40℃から200℃の温度範囲の高
温雰囲気中にて乾燥する工程と, 該工程の後に有機溶剤に浸漬して前記レジストを除去す
る工程と, 該レジストが除去された基板を40℃から200℃の温度範
囲の高温雰囲気中にて乾燥する工程と, 該工程の後に,染色された前記被染色性高分子膜上に高
分子膜を塗布し防染膜を形成する工程とを有することを
特徴とするカラーフィルターの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-66402 | 1986-03-25 | ||
JP6640286 | 1986-03-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6311901A JPS6311901A (ja) | 1988-01-19 |
JP2625711B2 true JP2625711B2 (ja) | 1997-07-02 |
Family
ID=13314774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7101087A Expired - Fee Related JP2625711B2 (ja) | 1986-03-25 | 1987-03-25 | カラーフイルターの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2625711B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4863739A (ja) * | 1971-12-06 | 1973-09-04 |
-
1987
- 1987-03-25 JP JP7101087A patent/JP2625711B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6311901A (ja) | 1988-01-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |