JPS6132847A - カラ−マトリツクスの製造方法 - Google Patents
カラ−マトリツクスの製造方法Info
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- JPS6132847A JPS6132847A JP15619684A JP15619684A JPS6132847A JP S6132847 A JPS6132847 A JP S6132847A JP 15619684 A JP15619684 A JP 15619684A JP 15619684 A JP15619684 A JP 15619684A JP S6132847 A JPS6132847 A JP S6132847A
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- Japan
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- color
- protein layer
- pattern
- formaldehyde
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、基板上にタンパク質層とフォトレジスト層を
順次設けた積層体を用いるカラーマトリックスの製造方
法に関するものである。
順次設けた積層体を用いるカラーマトリックスの製造方
法に関するものである。
従来、撮像管等に用いられるカラーマトリックス型フィ
ルターを製造するために、基板上に光食刻法により、露
出したタンパク質層の島パタニンを形成し、このタンパ
ク質層の島パターンに染色処理を施すことは知られてい
る。しかしながら、このような従来法の場合、その製造
工程は複雑で、前記露出タンパク質層からなる島パター
ンの形成と、その島パターンの染色処理は、所要数と同
−回数行うことが必要であり、例えば、赤、緑、青（レ
ッド、グリーン、ブルー）の３色のカラーマトリックス
を得る場合、フォトレジスト層の塗布工程を含む前記一
連の工程を３回行うことが必要であった。しかも、この
場合、カラーパターン形式後、次の回の処理を開始する
前には、次回の染色を鮮明に行うために、そのタンパク
質層上に保護層を設けることが必要であった。
ルターを製造するために、基板上に光食刻法により、露
出したタンパク質層の島パタニンを形成し、このタンパ
ク質層の島パターンに染色処理を施すことは知られてい
る。しかしながら、このような従来法の場合、その製造
工程は複雑で、前記露出タンパク質層からなる島パター
ンの形成と、その島パターンの染色処理は、所要数と同
−回数行うことが必要であり、例えば、赤、緑、青（レ
ッド、グリーン、ブルー）の３色のカラーマトリックス
を得る場合、フォトレジスト層の塗布工程を含む前記一
連の工程を３回行うことが必要であった。しかも、この
場合、カラーパターン形式後、次の回の処理を開始する
前には、次回の染色を鮮明に行うために、そのタンパク
質層上に保護層を設けることが必要であった。
また、現在開発中のカラー液晶表示装置用のカラートッ
ドマド・リックスを得る場合、基板上にタンパク質層と
フォトレジスト層を順次設けた積層体を用い、そのフォ
トレジスト層を光食刻法により露光、現像処理を施し、
抜きパターンを形成してタンパク質層を露出させ、この
露出タンパク質層を加温上酸性染料で染色している。し
かじから、このような方法の場合、カラーパターンの作
成毎に、保護層の形成が必要であり、保護層を用いない
場合には、染色されたタンパク質層の膨潤及び溶解が起
り、また、染色に際しては前回の染色されたタンパク質
層の染色が起ったりして、鮮明な多色パターンを得るこ
とができないという欠点があった。
ドマド・リックスを得る場合、基板上にタンパク質層と
フォトレジスト層を順次設けた積層体を用い、そのフォ
トレジスト層を光食刻法により露光、現像処理を施し、
抜きパターンを形成してタンパク質層を露出させ、この
露出タンパク質層を加温上酸性染料で染色している。し
かじから、このような方法の場合、カラーパターンの作
成毎に、保護層の形成が必要であり、保護層を用いない
場合には、染色されたタンパク質層の膨潤及び溶解が起
り、また、染色に際しては前回の染色されたタンパク質
層の染色が起ったりして、鮮明な多色パターンを得るこ
とができないという欠点があった。
本発明は従来法に見られる前記欠点を克服し、工業的に
有利なカラーマトリックス製造方法を提供することを目
的とする。
有利なカラーマトリックス製造方法を提供することを目
的とする。
本発明によれば、基板上に多色のカラーパターンを有す
るカラーマトリックスを製造する方法において、基板上
に水溶性タンパク質層とフォトレジスト層を順次設けた
積層体を用い、該フォトレジスト層を光食刻法により除
去してタンパク質層を露出させ、該露出されたタンパク
質層を染色し、次いで該染色さ九た蛋白質層をホルムア
ルデヒドで処理することよりなり、カラーパターンの色
数に応じて上記処理を任意繰り返して行うことを特徴と
するカラーマトリックスの製造方法が提供される。
るカラーマトリックスを製造する方法において、基板上
に水溶性タンパク質層とフォトレジスト層を順次設けた
積層体を用い、該フォトレジスト層を光食刻法により除
去してタンパク質層を露出させ、該露出されたタンパク
質層を染色し、次いで該染色さ九た蛋白質層をホルムア
ルデヒドで処理することよりなり、カラーパターンの色
数に応じて上記処理を任意繰り返して行うことを特徴と
するカラーマトリックスの製造方法が提供される。
本発明においては、基板上にタンパク質層とフォトレジ
スト層を順次設けた積層体をカラーマトリックス製造基
板として用いるが、このようなものは従来公知である。
スト層を順次設けた積層体をカラーマトリックス製造基
板として用いるが、このようなものは従来公知である。
例えば、基板としては、ガラス、石英、アルミナ等の無
機物の他、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリメタクリレート、ポリカーボネート等の有機高
分子フィルム等が用いられる。また、この基板表面には
、その上に設けるタンパク質層との接着性を向上させる
ために、酸素ラジカル等でスパッタしたり、有機シラン
化合物等をプライマーとして塗布する等の表面処理を施
すことができ、また、光学的特性を付与するための下引
層を設けることもできる。またＩＴＯ、ネサ等の電極を
形成し電気的特性を付与した基板も使用できる。タンパ
ク質層としては、分子中に染色性基−ＣＯＮＨ−を有す
る水溶性のものであればよく、例えば、ゼラチン等が用
いられる。
機物の他、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリメタクリレート、ポリカーボネート等の有機高
分子フィルム等が用いられる。また、この基板表面には
、その上に設けるタンパク質層との接着性を向上させる
ために、酸素ラジカル等でスパッタしたり、有機シラン
化合物等をプライマーとして塗布する等の表面処理を施
すことができ、また、光学的特性を付与するための下引
層を設けることもできる。またＩＴＯ、ネサ等の電極を
形成し電気的特性を付与した基板も使用できる。タンパ
ク質層としては、分子中に染色性基−ＣＯＮＨ−を有す
る水溶性のものであればよく、例えば、ゼラチン等が用
いられる。
このタンパク質層の形成は、スプレーコーティング、ロ
ールコーティング、スピンコーティング、バーコータコ
ーティング、ドクターナイフコーティング等の方法によ
り実施されるが、特に、スピンコーティングが有効であ
る。タンパク質層としては、あらかじめ溶媒による膨潤
及び溶解を抑制ないし阻止処理されたものを用いても良
い。
ールコーティング、スピンコーティング、バーコータコ
ーティング、ドクターナイフコーティング等の方法によ
り実施されるが、特に、スピンコーティングが有効であ
る。タンパク質層としては、あらかじめ溶媒による膨潤
及び溶解を抑制ないし阻止処理されたものを用いても良
い。
前記タンパク質層の上面に設けるフォトレジスト層は、
ネガ型又はポジ型の画像を与える従来公知の先鞭・化性
又は光分解性のレジストを用いて形成されるが、以下、
フォトレジストとしてポジ型を用いた例について説明す
る。
ネガ型又はポジ型の画像を与える従来公知の先鞭・化性
又は光分解性のレジストを用いて形成されるが、以下、
フォトレジストとしてポジ型を用いた例について説明す
る。
本発明の方法を実施するには、前記した基板上にタンパ
ク質層とフォトレジスト層を有する積層体に対し、先ず
、光食刻法により、所要パターン状に露光、現像処理を
施して、下層のタンパク質層をパターン状に露出させる
。この光食刻法は従来公知の方法であり、使用するフォ
トレジストとの関連において適宜実施される。次に、こ
のようにしてパターン状に露出されたタンパク質層番ヒ
対して、染色処理を施す。この場合、染色剤としては、
酸性染料等のタンパク質層に含まれる一ＣＯＮＨ−基を
染色し得るものであればよく、従来公知の種々のものが
使用される。またこの染色処理は従来公知の方法に従っ
て実施される。
ク質層とフォトレジスト層を有する積層体に対し、先ず
、光食刻法により、所要パターン状に露光、現像処理を
施して、下層のタンパク質層をパターン状に露出させる
。この光食刻法は従来公知の方法であり、使用するフォ
トレジストとの関連において適宜実施される。次に、こ
のようにしてパターン状に露出されたタンパク質層番ヒ
対して、染色処理を施す。この場合、染色剤としては、
酸性染料等のタンパク質層に含まれる一ＣＯＮＨ−基を
染色し得るものであればよく、従来公知の種々のものが
使用される。またこの染色処理は従来公知の方法に従っ
て実施される。
本発明においては、前記のようにして染色された露出タ
ンパク質層に対して、ホルムアルデヒド処理を施す。こ
のホルムアルデヒド処理は、ホルムアルデヒド又は解重
合してホルムアルデヒドを形成する物質、例えばパラホ
ルムアルデヒド等を溶媒に溶解させたホルムアルデヒド
含有溶液を用いて実施される。この場合、溶媒としては
、一般に、水性溶媒、通常、水が用いられ、また、場合
によっては、メタノールやエタノール等のアルコール又
はアルコールと水との混合溶媒等が用いられる。本発明
で用いるホルムアルデヒド含有溶液としては、好ましく
は、ホルマリン（ホルムアルデヒト濃度約４０％程度の
水溶液）又はそのホルマリン希釈溶液を用いることがで
きる。このホルムアルデヒド処理は、塗布法、浸漬法等
で実施され、処理温度は一般的には３０〜１００℃であ
る。
ンパク質層に対して、ホルムアルデヒド処理を施す。こ
のホルムアルデヒド処理は、ホルムアルデヒド又は解重
合してホルムアルデヒドを形成する物質、例えばパラホ
ルムアルデヒド等を溶媒に溶解させたホルムアルデヒド
含有溶液を用いて実施される。この場合、溶媒としては
、一般に、水性溶媒、通常、水が用いられ、また、場合
によっては、メタノールやエタノール等のアルコール又
はアルコールと水との混合溶媒等が用いられる。本発明
で用いるホルムアルデヒド含有溶液としては、好ましく
は、ホルマリン（ホルムアルデヒト濃度約４０％程度の
水溶液）又はそのホルマリン希釈溶液を用いることがで
きる。このホルムアルデヒド処理は、塗布法、浸漬法等
で実施され、処理温度は一般的には３０〜１００℃であ
る。
前記ホルムアルデヒド処理においては、染色された露出
タンパク質層中に存在する未反応の染色性基−ＣＯＮＨ
−の活性水素にホルムアルデヒドが反応して、Ｎ−メチ
ロール基を経由して最後にＮ−ＣＨ２−Ｎ型の架橋を生
じ、３次元構造を形成する。なお、ホルムアルデヒド処
理において、ホルムアルデヒドのメタノール溶液を用い
る場合、Ｎ−メトキシメチル化反応が副反応として起る
が、このＮ−メトキシメチル基のタンパク質層への残存
は特に問題はない。また、このホルムアルデヒド処理は
、タンパク質層の少なくとも表面部であればよく、必ず
しもタンパク質層の全層に対して行う必要はない。
タンパク質層中に存在する未反応の染色性基−ＣＯＮＨ
−の活性水素にホルムアルデヒドが反応して、Ｎ−メチ
ロール基を経由して最後にＮ−ＣＨ２−Ｎ型の架橋を生
じ、３次元構造を形成する。なお、ホルムアルデヒド処
理において、ホルムアルデヒドのメタノール溶液を用い
る場合、Ｎ−メトキシメチル化反応が副反応として起る
が、このＮ−メトキシメチル基のタンパク質層への残存
は特に問題はない。また、このホルムアルデヒド処理は
、タンパク質層の少なくとも表面部であればよく、必ず
しもタンパク質層の全層に対して行う必要はない。
前記のようにして、積層体表面には、第１色のカラーパ
ターンが形成されるが、本発明の場合、前記と同様にし
て、２色目及び３色目の別色のカラーパターンを順次得
ることができる。即ち、前記で得た第１色のカラーパタ
ーンを有する積層体表面上に、所望する第２色のパター
ンに応じて残存′するフォトレジスト層を露光、現像、
染色及びホルムアルデヒド処理して第２色のカラーパタ
ーンを得ることができ、さらに、所望する第３色のパタ
ーンに応じて残存するフォトレジスト層を露光、現像、
染色し、第３色のカラーパターンを得る。カラーパター
ンの色数は、通常１〜３色であるが、この場合、ホルム
アルデヒド処理の回数はｎ−１回（ｎは染色回数）で、
最終回のホルムアルデヒド処理は省略することができる
。
ターンが形成されるが、本発明の場合、前記と同様にし
て、２色目及び３色目の別色のカラーパターンを順次得
ることができる。即ち、前記で得た第１色のカラーパタ
ーンを有する積層体表面上に、所望する第２色のパター
ンに応じて残存′するフォトレジスト層を露光、現像、
染色及びホルムアルデヒド処理して第２色のカラーパタ
ーンを得ることができ、さらに、所望する第３色のパタ
ーンに応じて残存するフォトレジスト層を露光、現像、
染色し、第３色のカラーパターンを得る。カラーパター
ンの色数は、通常１〜３色であるが、この場合、ホルム
アルデヒド処理の回数はｎ−１回（ｎは染色回数）で、
最終回のホルムアルデヒド処理は省略することができる
。
本発明においては、１つの色のカラーパターンの作成後
、次のカラーパターン作成前に、染色されたタンパク質
層はホルムアルデヒド処理され、タンパク質層中に存在
する未反応の染色性基−ＣＯＮＨ−は、ホルムアルデヒ
ドとの反応により封鎖され、非染色性のものとな゛って
いる。従って、カラーパターン形成後、次回の染色にお
いて、このカラーパターンが別の色に染色されることば
ない。
、次のカラーパターン作成前に、染色されたタンパク質
層はホルムアルデヒド処理され、タンパク質層中に存在
する未反応の染色性基−ＣＯＮＨ−は、ホルムアルデヒ
ドとの反応により封鎖され、非染色性のものとな゛って
いる。従って、カラーパターン形成後、次回の染色にお
いて、このカラーパターンが別の色に染色されることば
ない。
本発明においては、従来のように染色されたタンパク質
層の上に染色パターンを形成するごとに保護層を設ける
必要がなく、フォトレジスト層面に、その染色を施した
い箇所を順次露光分解し、タンパク質層を露出させ、染
色させるので、フォトレジスト層の塗布は１回で十分で
あり、露光、現像、染色、ホルムアルデヒド処理の各工
程を繰返し行うことによって、所望のカラーマトリック
スを得ることができる。従って、本発明では、著しく短
縮された工程でカラーマトリックスを得ることができる
。
層の上に染色パターンを形成するごとに保護層を設ける
必要がなく、フォトレジスト層面に、その染色を施した
い箇所を順次露光分解し、タンパク質層を露出させ、染
色させるので、フォトレジスト層の塗布は１回で十分で
あり、露光、現像、染色、ホルムアルデヒド処理の各工
程を繰返し行うことによって、所望のカラーマトリック
スを得ることができる。従って、本発明では、著しく短
縮された工程でカラーマトリックスを得ることができる
。
本発明は、特に、カラー液晶表示装置用のカラートッド
マトリックスの製造方法として好適であり、この場合、
フォトレジスト層としてはポジ型のものを用いることに
より、高解像性のカラーマトリックスを得ることができ
る。
マトリックスの製造方法として好適であり、この場合、
フォトレジスト層としてはポジ型のものを用いることに
より、高解像性のカラーマトリックスを得ることができ
る。
次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例
ガラスウェハー上に５μｍのゼラチン層を形成し、この
上にポジ型フォトレジスト（ヘキスト社製、ＡＺ１３５
０Ｊ）をスピンコーティングし、プリベークした後、露
光、現像し、線巾４０μｍの露出ゼラチン層のパターン
を形成した。次に、これを、約５０℃赤色酸性染料（ヘ
キスト社製、ラナパールスカーレットＧ）０．１％水溶
液に５分間浸漬して染色を行った。次に、この染色され
たパターン上に、触媒量の酢酸を含むホルマリン水溶液
を塗布し、ホットプレート上で８５℃で５分間加温処理
した。
上にポジ型フォトレジスト（ヘキスト社製、ＡＺ１３５
０Ｊ）をスピンコーティングし、プリベークした後、露
光、現像し、線巾４０μｍの露出ゼラチン層のパターン
を形成した。次に、これを、約５０℃赤色酸性染料（ヘ
キスト社製、ラナパールスカーレットＧ）０．１％水溶
液に５分間浸漬して染色を行った。次に、この染色され
たパターン上に、触媒量の酢酸を含むホルマリン水溶液
を塗布し、ホットプレート上で８５℃で５分間加温処理
した。
次いで、再びこの着色パターンを有する表面上の未露光
部のフォトレジスト部分を前記と同様にして、露光、現
像して、線４０μｍの露出ゼラチン層のパターンを形成
した後、約５０℃の黄色酸性染料（ヘキスト社製、アル
ファノールファーストブリリアントイエローＦ３３３）
０．１％水溶液に５分間浸漬して染色した。この場合、
黄色の染色は、前回の染色で得た赤色の染色部分には起
らず、基板上には赤色と黄色の鮮明な２色画像が得られ
た。
部のフォトレジスト部分を前記と同様にして、露光、現
像して、線４０μｍの露出ゼラチン層のパターンを形成
した後、約５０℃の黄色酸性染料（ヘキスト社製、アル
ファノールファーストブリリアントイエローＦ３３３）
０．１％水溶液に５分間浸漬して染色した。この場合、
黄色の染色は、前回の染色で得た赤色の染色部分には起
らず、基板上には赤色と黄色の鮮明な２色画像が得られ
た。
Claims (1)
- （１）基板上に多色のカラーパターンを有するカラーマ
トリックスを製造する方法において、基板上にタンパク
質層とフォトレジスト層を順次設けた積層体を用い、該
フォトレジスト層を光食刻法により除去してタンパク質
層を露出させ、該露出されたタンパク質層を染色し、次
いで該染色された蛋白質層をホルムアルデヒドで処理す
ることよりなり、カラーパターンの色数に応じて上記処
理を任意繰り返して行うことを特徴とするカラーマトリ
ックスの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15619684A JPS6132847A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | カラ−マトリツクスの製造方法 |
| DE8585108928T DE3581671D1 (de) | 1984-07-25 | 1985-07-17 | Verfahren und material zur herstellung mehrfarbiger reproduktionen. |
| EP19850108928 EP0169492B1 (de) | 1984-07-25 | 1985-07-17 | Verfahren und Material zur Herstellung mehrfarbiger Reproduktionen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15619684A JPS6132847A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | カラ−マトリツクスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6132847A true JPS6132847A (ja) | 1986-02-15 |
Family
ID=15622466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15619684A Pending JPS6132847A (ja) | 1984-07-25 | 1984-07-25 | カラ−マトリツクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6132847A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4835496A (ja) * | 1971-08-05 | 1973-05-24 | ||
| JPS57198452A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Formation of colored picture |
-
1984
- 1984-07-25 JP JP15619684A patent/JPS6132847A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4835496A (ja) * | 1971-08-05 | 1973-05-24 | ||
| JPS57198452A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Formation of colored picture |
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