DE2263645C2 - Elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung sowie Herstellungsverfahren hierfür - Google Patents
Elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung sowie Herstellungsverfahren hierfürInfo
- Publication number
- DE2263645C2 DE2263645C2 DE2263645A DE2263645A DE2263645C2 DE 2263645 C2 DE2263645 C2 DE 2263645C2 DE 2263645 A DE2263645 A DE 2263645A DE 2263645 A DE2263645 A DE 2263645A DE 2263645 C2 DE2263645 C2 DE 2263645C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- substrate
- photoresist
- electroluminescent display
- display device
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
- H10K50/865—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. light-blocking layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/26—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the composition or arrangement of the conductive material used as an electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
- H10K71/231—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers
- H10K71/233—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers by photolithographic etching
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Illuminated Signs And Luminous Advertising (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung der im Oberbegriff des r>
Anspruches 1 angegebenen Art, sowie auf ein Herstellungsverfahren hierfür.
Aus der DE-OS 21 04 761 ist eine elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung mit monolithisch integrierten
lichtemittierenden Bauelementen bekannt. Die jn einzelnen Bauelemente befinden sich in matrixförmiger
Anordnung und sind dabei durch in das Halbleitersubstrat in Gitterform eingearbeitete Nuten voneinander
getrennt. Die Nuten sind mit einem für die ausgesandte Strahlung undurchlässigen organischem Material, ζ. Β. !>
einem Epoxyharz, gefüllt, um eine seitliche Abstrahlung der Bauelemente zu verhindern. Bei der bekannten
elektrolumineszenten Wiedergabevorrichtung ist das derartigen Vorrichtungen eigene Problem, daß die
Erkennbarkeit der dargestellten Zeichen bei hoher Umgebungslichtstärke stark beeinträchtigt wird, nicht
angesprochen.
Die Erkennbarkeit ist eine direkte Funktion des Kontrastverhältnisses, welcher aus der Leuchtdichte der
elektrolumineszenten Bauelemente und der Leuchtdich- ί> te der Umgebung dieser Elemente infolge Reflexion des
Umgebungslichtes gebildet ist.
Das Hintergrundreflektionsvermögen in der Umgebung der Wiedergabeelemente der Vorrichtung muß
also möglichst klein gemacht werden.
Darüber hinaus sollte die Umgebung von möglichst gleicher Beschaffenheit wie die lichtemittierenden
Bereiche sein, damit diese Bereiche weitgehend unsichtbar bleiben, solange sie abgeschaltet sind.
Zur Verbesserung der Erkennbarkeit sind verschiede- si
ne Methoden verwendet worden. Eine übliche Methode ist die, ein optisches Filter vorzusehen, daß so
ausgewählt ist, daß es nur Licht der Emissionswellenlänge des Wiedergabeelements durchläßt. Die angestrebte
Kontrastverbesserung stellt an die Qualität des Filters jedoch hohe Ansprüche.
Ein anderer Weg ist der, eine geschwärzte Keramik als Substrat zu verwenden. Diese Methode reduziert
zwar das Reflektionsvermögen des Substrates, beläßt aber die Reflektion an der später aufgebrachten
Metallisierung. Hinzu kommt, daß die Schwärzung die Oberfläche des Substrates rauh und damit als Unterlage
für Dünnschicht-Bauelemente unbrauchbar macht.
Es ist also die Aufgabe zu lösen, wie der Wiedergabe Kontrast und damit die Erkennbarkeit der Zeichen einer
elektrolumineszenten Wiedergabevorrichtung auf einfachste Weise wirksam verbessert werden können, ohne
dabei mit vorgeschalteten Farbfiltern oder aufrauhender Schwärzung der Substratoberfläche arbeiten zu
müssen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruches 1 gelöst
Hiernach wird eine durch Wärmebehandlung dunkel gebrannte Fotolackschicht als kontrastverstärkendes
Umfeld für das lichtemittierende Bauelement benutzt
Da ein Fotolack als Ausgangspunkt für die Herstellung der kontrasterhöhenden Abdeckschicht benutzt
wird, kann auf eine bestehende, ausgereifte Technologie zurückgegriffen werden; die kontrasterhöhenden Abdeckschichten
lassen sich deshalb in außerordentlich gleichförmiger Qualität herstellen.
Bei einem bevorzugten Herstellungsverfahren der elektrolumineszenten Wiedergabevorrichtung erfolgt
erfindungsgemäß die Wärmebehandlung bei einer Temperatur von mehr als 2000C.
Nachstehend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen sowie anhand der Zeichnung
näher erläutert; es zeigen:
F i g. 1 eine Schrägansicht eines metallisierten Keramik-Substrates
vor dem Befestigen von Licht emittierenden Bauelementen und zu ihrer Ansteuerung
dienenden integrierten Schaltungselementen, und
F i g. 2A bis 2F Schnittansichten zur Darstellung der
verschiedenen Bearbeitungsstufen des Keramik-Substrates.
Das Keramiksubstrat 10 ist mit einer Metallisierung 11 selektiv beschichtet. Die mit 11a bezeichneten
Bereiche sind die sieben Streifen, an denen die Licht emittierenden Bauelemente (LED) befestigt werden; auf
dem Bereich 11 rf wird ein integriertes Schaltungsplättchen befestigt, das zur Ansteuerung der LEDs dient. Die
verbindenden Leitbahnen sind mit 11b und die Befestigungsstellen für äußere Anschlußverbindungen
mit lic bezeichnet. Die Metallisierung ist typischerweise
Gold.
Der übliche Verfahrensablauf zur Herstellung des metallisierten Substrates, wie dieses in F i g. 1 dargestellt
ist, ist in Fig. 2A bis 2C schematisch wiedergegeben.
F i g. 2C ist dabei eine Schnittansicht von F i g. 1 längs der Linien 2C-2C. Dabei wird aas Keramik-Substrat
10 zunächst mit einer gleichförmigen Metallschicht 11 beschichtet (F i g. 2A). Sodann wird die Metallschicht
mit einer üblichen Fotolackmaske 12 (Fig.2B) beschichtet und geätzt, um das in Fig.2C und Fig. 1
dargestellte gedruckte Schaltungsmuster auf dem Keramik-Substrat zu erzeugen.
Als nächstes wird die Licht absorbierende Abdeckschicht z. B. mit folgenden Verfahrensschritten aufgebracht:
1. 5 Minuten langes Eintauchen des Substrates in kochendes Trichloräthylen.
2. Eine Minute langes Abspülen des Substrates in deionisiertem Wasser mit Ultraschallrührung.
3. 5 Minuten langes Eintauchen des noch vom Spülvorgang nassen Substrates in eine Passivierungslösung
aus einem Teil Ammoniumpersulfat auf zehn Teile deionisiertes Wasser bei 23° C.
4. 3 Minuten langes Spülen in deionisiertem Wasser (drei vollständige Spülvorgänge) mit Ultraschallrührung
5. 30 Minuten langes Erhitzen auf 120°C in Stickstoffgas.
6. Abblasen mit gefiltertem Stickstoff gas und gegebenenfalls Aufbewahren des Substrates in einer
Trocknungskammer, da die Haftung der Fotolackschicht schlechter wird, wenn das Substrat beim
Auftragen feucht ist
7. Aufbringen der Fotolackschicht.
Der bei einem ersten Ausführungsbeispiel benutzte Fotolack war eine Lösung in organischem Lösungsmittel
aus Kresol-Formaldehyd-Harzen mit photolytisch zersetzbaren Napthochinondiaziden. Das Kresol-Formaldehyd-Harz,
77 Gewichtsprozent, war
Das verwendete Naphthochinondiazid, 23 Gewichtsprozent,
war
Das Lösungsmittel war 81% Äthylglycolacetat, 10% Xylol und 9% n-Butylacetat. Es handelte sich dabei um
einen Positiv-Fotolack, der in wäßrigen alkalischen Entwicklern nach Belichtung mit UV-Licht löslich wird.
Die Änderung in der Löslichkeit ist das Ergebnis einer fotochemischen Zersetzung des Diazides, gefolgt von
einer Umordnung und Hydrolyse:
N2 j +
C==O
Der Fotolack wurde vor Gebrauch mit einem 0,8 Mikrometer Membranfilter gefiltert und dann auf das
auf einem Drehtisch befestigte Substrat aufgebracht. Sodann wird das Substrat 30 Sekunden lang mit a;
Umdrehungen pro Minute unter einer abgeschlossenen Vakuumhaube geschleudert.
8. Das Substrat mit seiner gleichförmigen, etwa 8 Mikrometer dicken Fotolackschicht wird dann 20
Minuten lang unter Stickstoff bei 70°C erhitzt. Das Substrat hat dann das in Fig. 2D dargestellte
Stadium erreicht. In F i g. 2D ist die Fotolackschicht mit 13 bezeichnet.
9. Nach visueller Prüfung auf Risse und schlechte Haftung wird die Fotolackschicht 4 Minuten lang
mit UV-Licht durch eine Maske hindurch im gewünschten Muster belichtet. Die Maske ist so
gewählt, daß diejenigen Gebiete belichtet werden, wo der Fotolack entfernt werden soll, d. h. auf den
Befestigungsgebieten lla, llcund Hu. ω
10. Die belichtete Fotolackschicht wird durch einen alkalischen Entwickler in wäßriger (deionisiertes
Wasser) Lösung (1:1) durch Besprühen und 2 Minuten langes Einweichen entfernt.
11. Das Substrat wird dann in 6O0C warmem b5
deionisiertem Wasser gespült.
12. Das Substrat wird in Stickstoffgas getrocknet und auf richtige Schichtbeseitigung geprüft.
13. Das Substrat wird dann einem Warmbehandlungszyklus auf 350°C in Luftumgebung unterzogen, und
zwar beginnend bei 150°C mit einem Temperaturanstieg
von 50°C pro 5 Minuten während des gesamten Warmbehandlungszyklus.
Das resultierende Substrat ist in Fig. 2E dargestellt.
Als Ergebnis der Warmbehandlung, nimmt die Fotolackschicht eine tiefbraune Farbe an, sie gibt daher
einen hohen Kontrast für die fertige Wiedergabevorrichtung.
Schließlich werden die LEDs und die integrierte Schaltung an den Anschlußstellen befestigt, die vom
dunkel gebrannten Fotolack nicht bedeckt worden sind. Die fertige Wiedergabevorrichtung ist in Fig. 2F
dargestellt, in der die LEDs mit 14 bezeichnet sind. Die LEDs können aus GaP oder GaAsP aufgebaut sein.
Es wurde gefunden, daß das Dunkelwerden des Fotolackes bei Temperaturen oberhalb 200° C auftritt.
Es sind dieses inbesondere auch die Temperaturen, bei denen die anderen Bauteile am Substrat befestigt
werden. Alternativ kann daher beides auch gleichzeitig erfolgen. Die zur Anwendung gelangenden Temperaturer,
liegen deutlich oberhalb jener Temperaturen, welche für die übliche Wärme-Nachbehandlung von
Fotolackschichten empfohlen sind, wenn diese ihrem eigentlichen Verwendungszweck entsprechend benutzt
werden sollen. Die ausgezeichnete Haftung des Fotolackes, die mit der Farbänderung einhergeht, ist ein
beachtlicher Vorteil für den hier vorgesehenen Zweck. Die dunkel gebrannte Beschichtung hat noch den
Vorteil weitgehend Kratzbeständig zu sein und bietet deshalb der Wiedergabevorrichtung während ihrer
weiteren Verarbeitung einen gewissen Schutz.
Die Dicke der Fotolackschicht ist nicht kritisch. Die Schichtdicken liegen üblicherweise zwischen 0,1 bis 10
Mikrometer. Die Schichten werden /.. B. im Schleuder-, Sprüh-, Tauch- oder Warmaufwalzverfahren aufgebracht.
Es wurden auch Beschichtungen anderer Fotolackmaterialien auf Keramik-Substrate aufgebracht, um das
gleichförmige Verhalten der Fotolackmaterialien für den vorliegenden Zweck zu demonstrieren. Alternativ
zu dem unter Schritt 7. genannten Fotolack kann auch eine Xylol-Lösung von zyklischem Polyisopren
CH,-
CH3
eines durchschnittlichen Molekulargewichtes von 65.000 verwandt werden. Die lichtempfindliche Komponente
war 2,6-Bis(p-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon
CH3
Die Photolyse dieses Azides führt zur Entwicklung von Stickstof! und zur Bildung einer aktiven Nitren-Zwischenstefe:
Dieses Nitren vermag sich mit dem benachbarten Polyisopren entweder durch Wasserstoffentzug mit
Additionsreaktion zu verbinden oder durch eine Substitutiorisreaktion in gesättigte oder ungesättigte
Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen. Das Resultat ist ein vernetztes Polymer verringerter Löslichkeit. Der
Fotolack ist also ein Negativ-Photolack. Dieser
Fotolack ist gegenüber Wellenlängen von 350 bis 450 nm fotoempfindlich und kann mit einer üblichen
Quecksilberbogenlampe belichtet werden. Ein geeigneter Entwickler ist eine niedrig siedende Petroleumfraktion,
und der Spülvorgang kann in Methanol erfolgen. Der Dunkelbrennvorgang war derselbe wie zuvor. Der
resultierende dunkel gebrannte Film war qualitativ dem vorher erhaltenen äquivalent.
Als weitere Alternative wurde eine Xylol-Lösung von Polyisobutylen, gemischt mit bitfunktionellen aromatischen
Säureverbindungen, die eine Azidobenzol-Gruppe wie
50 -CH = CH-C
enthalten, verwendet. Diese brtfunktionelle Verbindung
vernetzt zwei der Polyisobutylen-Moleküle mit Hilfe von Kopplungsreaktionen.
Dieser Fotolack kann ebenfalls mit einer Quecksilberbogenlampe belichtet und mit einer niedrig siedenden
Petroleumfraktion entwickelt werden. Eine Warmbehandlung bei einer Temperatur oberhalb 2000C führt zu
einem Dunkelwerden des Films und erhöht die Filmhaftung in praktisch gleicher Weise, wie dieses
oben beschrieben worden ist
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung
mit einem Substrat, auf dem wenigstens ein Licht emittierendes Bauelement nebst einer seiner Kontaktierung
dienenden Metallisierung und eine Abdeckschicht aus einem Licht absorbierenden organischen Material aufgebracht ist, dadurch
gekennzeichnet, daß das Material ein Fotolack ist, der durch eine Wärmebehandlung dunkel
gebrannt ist, so daß er auffallendes Umgebungslicht stark absorbiert
2. Elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Schicht eine Dicke zwischen 0,1 und 10 μίτι aufweist
3. Verfahren zum Herstellen der elektrolumineszenten Wiedergabevorrichtung nach Anspruch 1
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmebehandlung bei einer Temperatur von mehr als 2000C
erfolgt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US21413471A | 1971-12-30 | 1971-12-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2263645A1 DE2263645A1 (de) | 1973-07-05 |
DE2263645C2 true DE2263645C2 (de) | 1982-05-27 |
Family
ID=22797915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2263645A Expired DE2263645C2 (de) | 1971-12-30 | 1972-12-27 | Elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung sowie Herstellungsverfahren hierfür |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5741827B2 (de) |
KR (1) | KR780000567B1 (de) |
AT (1) | AT323250B (de) |
AU (1) | AU467387B2 (de) |
BE (1) | BE793561A (de) |
CA (1) | CA970066A (de) |
CH (1) | CH582397A5 (de) |
DE (1) | DE2263645C2 (de) |
FR (1) | FR2212737B1 (de) |
GB (1) | GB1411600A (de) |
HK (1) | HK45377A (de) |
IT (1) | IT976173B (de) |
NL (1) | NL177957C (de) |
PH (1) | PH11256A (de) |
SE (1) | SE397147B (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4598823A (en) * | 1984-02-13 | 1986-07-08 | Martin Engineering Company | Conveyor belt cleaner |
DE102007029369A1 (de) * | 2007-06-26 | 2009-01-02 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements |
DE102014103133A1 (de) * | 2014-03-10 | 2015-09-10 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3501676A (en) * | 1968-04-29 | 1970-03-17 | Zenith Radio Corp | Solid state matrix having an injection luminescent diode as the light source |
FR2080849A6 (de) * | 1970-02-06 | 1971-11-26 | Radiotechnique Compelec |
-
0
- BE BE793561D patent/BE793561A/xx not_active IP Right Cessation
-
1972
- 1972-07-10 CA CA146,726A patent/CA970066A/en not_active Expired
- 1972-12-20 AT AT1089172A patent/AT323250B/de not_active IP Right Cessation
- 1972-12-21 AU AU50395/72A patent/AU467387B2/en not_active Expired
- 1972-12-22 SE SE7216880A patent/SE397147B/xx unknown
- 1972-12-22 PH PH14197A patent/PH11256A/en unknown
- 1972-12-23 GB GB5976972A patent/GB1411600A/en not_active Expired
- 1972-12-27 IT IT71102/72A patent/IT976173B/it active
- 1972-12-27 DE DE2263645A patent/DE2263645C2/de not_active Expired
- 1972-12-28 CH CH1895972A patent/CH582397A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-12-28 JP JP399773A patent/JPS5741827B2/ja not_active Expired
- 1972-12-28 KR KR7201964A patent/KR780000567B1/ko active
- 1972-12-28 NL NLAANVRAGE7217733,A patent/NL177957C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-12-29 FR FR7246995A patent/FR2212737B1/fr not_active Expired
-
1977
- 1977-09-08 HK HK453/77A patent/HK45377A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2212737A1 (de) | 1974-07-26 |
AU5039572A (en) | 1974-06-27 |
IT976173B (it) | 1974-08-20 |
HK45377A (en) | 1977-09-16 |
AU467387B2 (en) | 1974-06-27 |
NL177957C (nl) | 1985-12-16 |
GB1411600A (en) | 1975-10-29 |
CA970066A (en) | 1975-06-24 |
JPS5741827B2 (de) | 1982-09-04 |
NL177957B (nl) | 1985-07-16 |
CH582397A5 (de) | 1976-11-30 |
NL7217733A (de) | 1973-07-03 |
DE2263645A1 (de) | 1973-07-05 |
BE793561A (fr) | 1973-04-16 |
KR780000567B1 (en) | 1978-11-08 |
AT323250B (de) | 1975-06-25 |
PH11256A (en) | 1977-10-28 |
FR2212737B1 (de) | 1975-11-07 |
SE397147B (sv) | 1977-10-17 |
JPS4879995A (de) | 1973-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102012106859B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines mehrfarbigen LED-Displays | |
DE69735611T2 (de) | Herstellungsverfahren für Farbfilter und Flüssigkristallanzeigevorrichtung | |
DE2448535C2 (de) | Verfahren zum Niederschlagen dünner leitfähiger Filme auf einem anorganischen Substrat | |
DE2420589C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von Photolackmustern | |
EP0000702B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer fliessbeständigen Resistmaske aus strahlungsempfindlichem Resistmaterial | |
DE2460988C2 (de) | Verfahren zum Niederschlagen eines Musters aus einem dünnen Film auf einem anorganischen Substrat | |
EP0195106B1 (de) | Herstellung einer Abhebemaske und ihre Anwendung | |
EP0143437B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Resistmustern und für dieses Verfahren geeigneter Trockenresist | |
DE2638799B2 (de) | Verfahren zur Verbesserung der Haftung von metallischen Leiterzügen auf Polyimidschichten in integrierten Schaltungen | |
DE3231147A1 (de) | Positiv arbeitendes verfahren zur herstellung von reliefbildern oder resistmustern | |
EP0057738A2 (de) | Verfahren zum Herstellen und Füllen von Löchern in einer auf einem Substrat aufliegenden Schicht | |
CH639499A5 (de) | Verfahren zur herstellung eines fluessigkristallanzeigeelementes. | |
DE2227344C3 (de) | ||
DE2227344B2 (de) | Verfahren zum aetzen von oeffnungen in eine schicht aus organischem material | |
DE3729733A1 (de) | Verfahren zur herstellung gedruckter schaltungen | |
DE2263645C2 (de) | Elektrolumineszente Wiedergabevorrichtung sowie Herstellungsverfahren hierfür | |
DE10219122A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Hardmasken | |
EP0391200B1 (de) | Herstellung hochwärmebeständiger Reliefstrukturen | |
DE4200038C2 (de) | Verfahren zum Aushärten einer entwickelten Photolackschicht | |
DE2452326A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer aetzmaske mittels energiereicher strahlung | |
DE19518512C2 (de) | Palladiumhaltiges Precursormaterial und Verfahren zur Herstellung von metallischen Mikrostrukturen auf dielektrischen Substraten mit einem palladiumhaltigen Precursormaterial | |
DE2048366C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Leuchtschirmes für eine Farbbildröhre | |
DE2855723C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Negativmusters einer Vorlage aus einem Positivlack | |
DE3133350A1 (de) | "verfahren zur herstellung von maskierungsschichten auf einer zu strukturierenden flaeche eines festkoerpers" | |
CH643956A5 (de) | Verfahren zur herstellung eines aufzeichnungstraegers mit einer aufzeichnung hoher informationsdichte. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |