JP2609983B2 - 窒素酸化物接触還元用触媒構造体 - Google Patents

窒素酸化物接触還元用触媒構造体

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JP2609983B2
JP2609983B2 JP5071775A JP7177593A JP2609983B2 JP 2609983 B2 JP2609983 B2 JP 2609983B2 JP 5071775 A JP5071775 A JP 5071775A JP 7177593 A JP7177593 A JP 7177593A JP 2609983 B2 JP2609983 B2 JP 2609983B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、炭化水素を還元剤とし
て使用する窒素酸化物接触還元用触媒構造体に関し、詳
しくは、工場、自動車等から排出される排ガスの中に含
まれる有害な窒素酸化物を還元除去するのに好適である
高選択性と高活性とを有する窒素酸化物接触還元のため
の触媒構造体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、排ガス中に含まれる窒素酸化物
は、窒素酸化物を酸化した後、アルカリに吸収させる方
法や、アンモニア、水素、一酸化炭素、炭化水素等の還
元剤を用いて、窒素に変換する方法等によつて除去され
ている。しかしながら、前者の方法によれば、生成する
アルカリ廃液を処理して、公害の発生を防止する方策が
必要である。他方、後者の方法によれば、還元剤として
アンモニアを用いるときは、これが排ガス中のイオウ酸
化物と反応して塩類を生成し、その結果、触媒の還元活
性が低下する問題がある。また、水素、一酸化炭素、炭
化水素等を還元剤として用いる場合でも、これらが低濃
度に存在する窒素酸化物よりも高濃度に存在する酸素と
反応するため、窒素酸化物を低減するためには多量の還
元剤を必要とするという問題がある。
【0003】そこで、最近においては、還元剤の不存在
下に窒素酸化物を触媒にて直接分解する方法も提案され
ているが、しかし、従来、知られているそのような触媒
は、窒素酸化物分解活性が低いために、実用に供し難い
という問題がある。また、炭化水素や含酸素化合物を還
元剤として用いる新たな窒素酸化物接触還元用触媒とし
て、H型ゼオライトや銅イオン交換ZSM−5等が提案
されている。特に、H型ZSM−5(SiO2 /Al2
3 モル比が30〜40)が最適であるとされている。
しかしながら、このようなH型ZSM−5でも、未だ十
分な還元活性と選択性とを有するものとはいい難く、特
に、ガス中に水分が含まれるとき、ゼオライト構造体中
のアルミニウムが脱アルミニウムして、性能が急激に低
下するので、一層高い還元活性を有し、更に、ガスが水
分を含有する場合にも、すぐれた耐久性を有する窒素酸
化物接触還元触媒が要望されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うな事情に鑑みてなされたものであつて、その目的とす
るところは、炭化水素を還元剤として用いる場合に、酸
素の共存下においても、そして、特に、酸素及び水分の
共存下においても、窒素酸化物が炭化水素と選択的に反
応するため、多量の還元剤を用いることなく、排ガス中
の窒素酸化物を高活性に且つ高選択性にて還元すること
ができ、しかも、水分の存在下においても、耐久性にす
ぐれる窒素酸化物接触還元用触媒構造体を提供するにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明による炭化水素を
還元剤として用いる窒素酸化物接触還元用触媒構造体の
第1は、触媒構造体を構成する基材上に、触媒成分を有
する内部層と、この内部層の上に触媒成分を担持させて
なる表面層とを備えた多層構造を有する窒素酸化物接触
還元用触媒構造体であつて、内部層が(a) 白金、イリジウム、ロジウム、パラジウム及びルテ
ニウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種の白金族
元素、及び (b) 金 を触媒成分とし、表面層が酸化アルミニウム、二
酸化チタン、酸化ジルコニウム及びH型ゼオライトから
選ばれる少なくとも1種を触媒成分とすることを特徴と
する。
【0006】本発明による窒素酸化物接触還元用触媒構
造体の第は、内部層が (a) 白金、イリジウム、ロジウム、パラジウム及びルテ
ニウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種の白金族
元素、 (b) 金、及び (c) 酸化セリウム、酸化ランタン及び酸化ネオジムより
なる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を触媒
成分とし、表面層が酸化アルミニウム、二酸化チタン、
酸化ジルコニウム及びH型ゼオライトから選ばれる少な
くとも1種を触媒成分とすることを特徴とする。
【0007】本発明において、活性成分とは、窒素酸化
物の接触還元に有効に触媒として作用する成分を意味
し、担体とは、このような活性成分を担持する成分を意
味し、触媒成分とは、活性成分が担体に担持されている
ときは、このような活性成分と担体とからなる。しか
し、触媒成分が担体を含まないときは、活性成分が即
ち、触媒成分を意味する。
【0008】本発明による炭化水素を還元剤として用い
る窒素酸化物を接触還元するための触媒構造体は、触媒
構造体を構成する基材上に、第1の触媒成分を有する内
部層と、この内部層の上に第2の触媒成分を担持させて
なる表面層と含む多層構造を有する。即ち、表面層と
は、窒素酸化物を含有する処理すべき排ガス、即ち、反
応ガスの触媒による接触還元処理において、反応ガスが
最初に直接に触媒と接触する層であつて、触媒構造体の
最表面側に位置する触媒層を意味し、内部層とは、この
表面層の内側にあつて、反応ガスが上記表面層を内側に
拡散移動してはじめて到達し得る触媒層を意味する。
【0009】本発明による触媒構造体において、上記基
材とは、ハニカム、球状物、ペレツト等の立体的な構造
体を意味し、その上に上述したように、内部層と表面層
との触媒層の多層構造を形成させる基材である。このよ
うな基材は、触媒反応に何ら関与しない不活性な構造体
であつてもよいが、また、内部層の担体を兼ねることも
できる。内部層の担体を兼ねる場合は、例えば、後述す
るように、好ましくは、従来より知られているγ−アル
ミナ等のような無機酸化物や、或いはゼオライト等のナ
トリウム及びアルミニウムを主成分とするケイ酸塩から
なるハニカム、球状物、ペレツト等の立体的な構造体を
形成する。しかし、本発明においては、上記基材は、そ
の上に多層構造の触媒層を支持し得る立体的な形状を有
する限りは、その他の形状であつてもよい。
【0010】一般に、内部層は、第1の活性成分を担体
に含浸させ、沈着させ、又はイオン交換させる方法や、
これらの方法の組合わせ等によつて、活性成分を基材又
は担体に担持させることによつて形成させることができ
る。本発明においては、このように、第1の活性成分を
上述したような不活性な基材上に担持させて、内部層を
形成してもよく、また、基材自体を担体から形成し、こ
の担体に第1の活性成分を担持させて、内部層を形成し
てもよい。
【0011】表面層は、このように内部層を形成した
後、その上に、例えば、第2の触媒成分を含むスラリー
等をウオッシュ・コート法等によつてコーテイングし
て、第2の触媒成分を担持させることによつて、上記内
部層の上に形成させることができる。
【0012】本発明による窒素酸化物接触還元用触媒構
造体は、基本的に上記のような多層構造を有する。先
ず、表面層について説明する。
【0013】本発明による触媒構造体において、表面層
の活性成分は、酸化アルミニウム(アルミナ)、二酸化
チタン(チタニア)、酸化ジルコニウム(ジルコニア)
及びH型ゼオライトから選ばれる少なくとも1種であ
る。上記酸化アルミニウム(アルミナ)には、市販のγ
−アルミナを用いることができるが、しかし、アルカリ
又はアルカリ含有率の極めて低い高純度γ−アルミナを
用いることが好ましい。二酸化チタン(チタニア)は、
硫酸法による二酸化チタンの製造工程から得られるメタ
チタン酸を焼成して得られる硫酸イオンを含有するもの
が好ましい。酸化ジルコニウム(ジルコニア)は、市販
の水酸化ジルコニウムに硫酸を含有させ、これを焼成し
て得られる硫酸イオンを含有する酸化ジルコニウムが好
ましい。
【0014】また、H型ゼオライトは、アルカリ金属又
はアルカリ土類金属−ZSM−5、モルデナイト、US
Y等のゼオライトをアンモニアにてイオン交換させ、焼
成して得られるものや、或いはこれらのゼオライトを酸
性条件下で水素イオン交換させることによつて得られる
ものが好ましく用いられる。
【0015】次に、本発明による触媒構造体における内
部層について説明する。本発明による第1の窒素酸化物
還元用触媒において、内部層は、(a) 白金、イリジウム、ロジウム、パラジウム及びルテ
ニウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種の白金族
元素、及び (b) 金 を触媒成分とする。
【0016】必要に応じて、これら触媒成分は、従来よ
り知られている適宜の担体に担持させてもよいが、しか
し、本発明においては、表面層の活性成分であるアルミ
ナ、チタニア、ジルコニア又はH型ゼオライトを担体と
して用いるのが好ましい
【0017】一般に、触媒の活性成分を担体に担持させ
る方法は、従来より種々知られており、本発明におい
て、活性成分である白金族元素を担体に担持させる方法
は何ら限定されるものではなく、例えば、従来より知ら
れている適宜の方法、例えば、前述した含浸法、沈着
法、イオン交換法、又はこれらの組み合わせ等によるこ
とができるが、なかでも、前記γ−アルミナ等の担体
に、イオン交換法によつて、前記白金族元素を高分散さ
せて、担持させるのが好ましい。
【0018】従つて、の触媒構造体における内部層
は、好ましくは、前記したような担体に、イオン交換法
によつて、前記白金族元素を高分散させて、担持させた
後、更に、金をイオン交換法によつて担持させるか、又
はコロイド状の水酸化金等を高分散させて、担持させる
ことによつて得ることができる。本発明によれば、この
ようにして形成された内部層をこの後、更に、水素等に
よつて還元処理することが好ましい。
【0019】本発明によるかかる第の触媒構造体の内
部層において、白金族元素に対する金の比率は、白金族
元素100重量部に対して、金が0.0001〜0.1重量
部の範囲であり、好ましくは、0.001〜0.01重量部
の範囲である。このような比率にて白金族元素と金とを
有する内部層によれば、白金族元素が炭化水素及び窒素
酸化物の吸着活性化のサイトとして、また、金が炭化水
素の吸着活性化を調調節するサイトとして、それぞれ機
能して、反応が選択的に進行するので、炭化水素を還元
剤として用いる窒素酸化物の接触還元反応において、広
い温度範囲において、高い活性と選択性とを有するもの
とみられる。
【0020】第の触媒構造体において、かかる活性成
分を前述したような担体に担持させて、内部層を構成す
る場合、その担持率は、通常、0.1〜10重量%であ
る。活性成分の担持率が0.1重量%よりも少ないとき
は、十分な触媒活性を得ることができず、他方、担持率
が10重量%を越えても、それに見合う触媒活性の増大
を得ることができない。
【0021】本発明によるこのような第の触媒構造体
の内部層においては、白金錯体イオンや前記その他の白
金族元素のイオンがアルミナ等の前記担体の有するイオ
ン交換基(例えば、アルミナの場合であれば水素イオン
であり、ゼオライトであれば、多くの場合アルカリ金属
イオン)とイオン交換し、このようにして、白金等の前
記白金族元素高分散して担持させ、更に、そのような
担体に金を高分散させて、担持させることによつて、触
媒層における白金族元素の酸化作用を適度に調整するこ
とができ、かくして、内部層が高い活性と選択性とを有
するものとみられる。
【0022】更に、本発明による第の触媒構造体は、
その内部層が (a) 白金、イリジウム、ロジウム、パラジウム及びルテ
ニウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種の白金族
元素、 (b) 金、及び (c) 酸化セリウム、酸化ランタン及び酸化ネオジムより
なる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を触媒
成分とするものである。
【0023】このような第の触媒構造体における内部
層は、好ましくは、上記金属酸化物を含浸法や沈着法に
よつて前記したような担体に担持させた後、イオン交換
法によつて、前記白金族元素を高分散させて担持させ、
更に、この後、金をイオン交換法によつて担持させる
か、又はコロイド状の水酸化金等を高分散させて、担持
させることによつて得ることができる。本発明によれ
ば、更に、この後、このようにして得られた内部層を水
素等によつて還元処理することが好ましい。
【0024】このような第の触媒構造体の内部層にお
いて、白金族元素に対する金の比率は、前述したと同じ
である。また、第の触媒構造体の内部層において、白
金族元素に対する上記酸化セリウム、酸化ランタン又は
酸化ネオジムのような金属酸化物の比率は、白金族元素
100重量部に対して、前記金属酸化物100〜100
000重量部の範囲であり、好ましくは、1000〜1
0000重量部の範囲である。このような比率にて金と
共に白金族元素と金属酸化物とを有する内部層によれ
ば、白金族元素及び金属酸化物が炭化水素及び/又は窒
素酸化物の吸着活性化のサイトとして、また、金が炭化
水素の吸着活性化を調節するサイトとして、それぞれ機
能して、反応が選択的に進行するので、炭化水素を還元
剤として用いる窒素酸化物の接触還元反応において、広
い温度範囲において、高い活性と選択性とを有するもの
とみられる。
【0025】更に、本発明によれば、かかる活性成分を
前述したような担体に担持させる場合、その担持率は、
通常、0.1〜10重量%である。本発明において、活性
成分の担持率が0.1重量%よりも少ないときは、十分な
触媒活性を得ることができず、他方、担持率が10重量
%を越えても、それに見合う触媒活性の増大を得ること
ができない。しかし、必要に応じて、担持率10重量%
を越えて、担体に触媒活性成分を担持させてもよい。
【0026】本発明による第の触媒構造体の内部層に
おいては、予め調製した金属酸化物のイオン交換基(多
くの場合、水酸基)と白金錯体イオン、イリジウムイオ
ン、ロジウムイオン、パラジウムイオン及びルテニウム
イオンよりなる群から選ばれる少なくとも1種のイオン
とがイオン交換し、かくして、これらの酸化物上に白金
族元素が高分散され、これら白金族元素と前記金属酸化
物との相乗作用と共に、金属酸化物上に更に金を高分散
して、担持させることによつて、内部層における白金族
元素の酸化作用を適度に調整することができ、このよう
にして、高い活性と選択性とを有するものとみられる。
【0027】本発明による多層構造を有する窒素酸化物
接触還元用触媒構造体において、有効な窒素酸化物接触
還元活性を得るには、表面層の厚みは、5μm以上であ
ることが好ましく、厚みの増大と共に活性も向上する。
特に、本発明によれば、表面層の厚みは、20〜100
μmの範囲である。他方、内部層の厚みは、5μm以上
であり、好ましくは、10〜50μmの範囲である。内
部層の厚みが50μmを越えても、特に支障はないが、
50μmを越える層は、担体の内部の深すぎる位置にあ
つて、反応ガスと接触し難く、触媒として有効に機能し
ない。
【0028】本発明による窒素酸化物接触還元用触媒構
造体は、上述したように、多層構造、代表的には上述し
てきたような二層構造を有し、高い活性と選択性を有す
る。その理由は、未だ詳細には明らかではないが、反応
ガスが先ず触媒に接触する表面層が還元剤としての炭化
水素類を完全酸化することなく、主として、吸着活性化
し、他方、この表面層の内側にある内部層が主として窒
素酸化物を吸着活性化するので、表面層と内部層との界
面において、窒素酸化物との反応性が著しく高められた
結果、活性化された上記炭化水素類又はそのような炭化
水素類から生成された含酸素化合物と、上記活性化され
た窒素酸化物が反応するので、高活性高選択性にて、窒
素酸化物が還元されるとみられる。
【0029】本発明による触媒構造体は、前述したよう
に、ハニカム状、ペレツト状、球状等、種々の形状を有
することができる。このような構造体の成形乃至製造の
際に、成形助剤、成形体補強体、無機繊維、有機バイン
ダー等が適宜用いられてもよい。
【0030】本発明による触媒構造体を用いる窒素酸化
物の接触還元において、炭化水素からなる還元剤として
は、例えば、気体状のものとして、メタン、エタン、プ
ロパン、プロピレン、ブチレン等の炭化水素ガス、液体
状のものとして、ペンタン、ヘキサン、オクタン、ヘプ
タン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の単一成分系の
炭化水素、ガソリン、灯油、軽油、重油等の鉱油系炭化
水素等を用いることができる。特に、本発明によれば、
上記したなかでも、アセチレン、メチルアセチレン、1
−ブチン等の低級アルキン、エチレン、プロピレン、イ
ソブチレン、1−ブテン、2−ブテン等の低級アルケ
ン、ブタジエン、イソプレン等の低級ジエン、プロパ
ン、ブタン等の低級アルカン等が還元剤として好ましく
用いられる。これら炭化水素は、単独で用いてもよく、
又は必要に応じて二種以上併用してもよい。
【0031】上記還元剤としての炭化水素は、用いる具
体的な炭化水素によつて異なるが、通常、窒素酸化物に
対するモル比にて、0.1〜2程度の範囲にて用いられ
る。炭化水素の使用量が窒素酸化物に対するモル比に
て、0.1よりも小さいときは、窒素酸化物に対して十分
な還元活性を得ることができず、他方、モル比が2を越
えるときは、未反応の炭化水素の排出量が多くなるため
に、窒素酸化物の接触還元処理の後に、これを回収する
ための後処理が必要となる。
【0032】尚、排ガス中に存在する燃料等の未燃焼物
乃至不完全燃焼生成物、即ち、炭化水素類やパティキュ
レート類等も還元剤として有効であり、これらも本発明
における炭化水素に含まれる。このことから、見方を変
えれば、本発明による触媒構造体は、排ガス中の炭化水
素類やパティキュレート類等の減少或いは除去触媒とし
ても有用であるということができる。
【0033】上記還元剤が窒素酸化物に対して選択的還
元反応を示す温度は、アルキン<アルケン<芳香族系炭
化水素<アルカンの順に高くなる。また、同系の炭化水
素においては、炭素数が大きくなるに従つて、その温度
は低くなる。本発明による触媒構造体が窒素酸化物に対
して還元活性を示す最適な温度は、使用する還元剤や触
媒成分により異なるが、通常、100〜800℃であ
る。この温度領域においては、空間速度(SV)500
〜100000程度で排ガスを流通させることが好まし
い。本発明において特に好適な温度領域は200〜50
0℃である。
【0034】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
【0035】(1)触媒構造体の調製 実施例 塩化テトラアンミン白金(II)(Pt(NH3 )4Cl2
・ H2 O)1.08gをイオン交換水50mlに溶解させ
て、〔Pt(NH3 )42+イオンの水溶液を調製した。
これを予め120℃にて24時間乾燥させた径3mmのγ
−アルミナのペレツト(住友化学製NK−324)10
0ml(60g)を含む水200mlに十分な攪拌下に加え
て、上記〔Pt(NH3 )42+イオンとアルミナにおけ
る水素イオンとを交換させた。この間、pHの低下に伴つ
て、0.2重量%のアンモニア水を加え、pHを5.5に保持
した。このようにして、所定量の塩化テトラアンミン白
金(II)水溶液を上記γ−アルミナのペレツトを含む水
に加えた後、70℃にて2時間攪拌した。
【0036】次いで、このようにして、〔Pt(NH
3 )42+イオンとイオン交換させたγ−アルミナのペレ
ツトを濾過し、pH5.5の硝酸水溶液にて水洗し、120
℃で18時間乾燥させた後、500℃で4時間焼成し
て、白金1重量%を担持させたγ−アルミナを得た。こ
のようにしてγ−アルミナに担持させた白金層の厚みを
電子線プローブマイクロアナライザーによるシリカの線
分析から求めた結果、約20μmであつた。
【0037】別に、塩化金酸水溶液(金として0.126
g/l)47.6mlをイオン交換水100mlに加え、これ
に上記した白金を担持させたγ−アルミナを十分な攪拌
下に加え、γ−アルミナに塩化金酸水溶液を含浸させ
て、塩化金イオンをγ−アルミナにイオン交換によつて
担持させた。次いで、このγ−アルミナを濾過し、イオ
ン交換水にて水洗し、120℃で18時間乾燥させた
後、500℃で4時間焼成し、更に、この後、窒素/水
素(容量比4/1)混合気流中、400℃で1時間還元
処理した。このようにして、γ−アルミナに白金1重量
%と金0.01重量%を担持させた触媒を得た。
【0038】市販の水酸化ジルコニウム(第一希元素
(株)製)を500℃にて3時間焼成して、酸化ジルコ
ニウムを得た。
【0039】上記金と白金を担持させたγ−アルミナの
ペレツトを転動造粒機に仕込み、更に、上記酸化ジルコ
ニウムとバインダーとして用いるシリカゲル(日産化学
製スノーテックスN)の10倍希釈水を仕込んで、上記
γ−アルミナペレツトの表面に上記酸化ジルコニウムを
コーテイングした。この際に、コーテイング層厚みを電
子線プローブマイクロアナライザーによるシリカの線分
析にて調べて、平均50μmになるように調節し、かく
して、コーテイング層厚みが平均で約50μmのジルコ
ニアを表面にコーテイングした白金及び金担持γ−アル
ミナからなる触媒構造体A−を得た。
【0040】実施例 硝酸ランタン(La(NO 3 3 ・6H 2 O)60.07
gをイオン交換水5リットルに溶解させた。 これに予め
120℃にて24時間乾燥させた径3mmのγ−アルミナ
のペレツト(住友化学製N4−324)100ml(60
g)を投入し、30分間放置して、上記硝酸ランタン水
溶液をγ−アルミナの細孔内に十分に含浸させた。次い
で、γ−アルミナのペレツトを上記水溶液から取出し、
ペレツトの表面に付着した過剰の上記水溶液を除去した
後、γ−アルミナのペレツトを6重量%のアンモニア水
300mlに投入し、1時間放置して、γ−アルミナの細
孔内で硝酸ランタンを中和加水分解させた。
【0041】次いで、このようにして得られたランタン
イオン(La 3+ )を担持させたγ−アルミナをイオン交
換水で十分に洗浄した後、500℃で3時間焼成して、
酸化ランタンを担持率30重量%にて担持させたγ−ア
ルミナのペレツト98gを得た。
【0042】この酸化ランタンを担持させたγ−アルミ
ナのペレツトをイオン交換水250mlに投入した。この
とき、pHは6.5であつた。これに1/10N硝酸を加
え、pHを3.0とした。
【0043】別に、硝酸ロジウム(Rh((NO33
・2H2 O)6.31gをイオン交換水50mlに溶解させ
て、ロジウムイオン(Rh3+)水溶液を調製した。これ
を上記酸化ランタンを担持させたγ−アルミナのペレツ
トの分散液に十分な攪拌下に加えて、ロジウムイオンを
アルミナ又は酸化ランタンにおける水素イオンとイオン
交換させた。この間、pHの低下に伴つて、2重量%のア
ンモニア水を加え、pHを3.0に維持した。このようにし
て、所定量の硝酸ロジウム水溶液を加えた後、70℃に
て2時間攪拌した。
【0044】次いで、このようにしてイオン交換させた
ランタンイオン担持γ−アルミナペレツトを濾過し、pH
3.0の硝酸水溶液にて水洗し、120℃で18時間乾燥
させた後、700℃にて5時間焼成し、更に、窒素/水
素(容量比4/1)混合気流中、400℃で1時間還元
した。このようにして、γ−アルミナに酸化ランタン3
0重量%及びロジウム2重量%を担持させた。
【0045】この後、実施例1と同様にして、更に、金
を0.005重量%担持させた。以下、ジルコニアに代え
て、H型モルデナイトを用いた以外は、実施例1と同様
にして、コーテイング層厚みが平均で約50μmのH型
モルデナイトを表面にコーテイングしたロジウム、金及
び酸化ランタン担持γ−アルミナからなる触媒構造体A
を得た。
【0046】比較例1 日本モービル社製のナトリウム型ZSM−5(SiO2
/Al23 モル比=34)を水素置換して、H型ZS
M−5とし、これをシリカゾル(日産化学製スノーテツ
クスN)をバインダーとして用いて、直径2.4mmの球状
体に成形した。これを120℃で18時間乾燥させた
後、500℃で4時間焼成して、触媒構造体B−1を得
た。
【0047】比較例2 塩化白金酸(H2 PtCl6 ・ 6H2 O)1.59gをイ
オン交換水100mlに溶解させた。これに実施例1と同
じγ−アルミナ100mlを投入し、1時間放置した後、
γ−アルミナから過剰の溶液を除去した。次いで、γ−
アルミナを120℃で18時間乾燥させた後、500℃
で4時間焼成し、更に、窒素/水素(4/1)混合気流
中、400℃で1時間還元処理した。かくして、γ−ア
ルミナに白金1重量%を担持させてなる触媒構造体B−
2を得た。
【0048】(2)評価試験 上記した本発明による触媒構造体(A−1〜)及び比
較例の触媒構造体(B−1及び2)を用いて、下記の試
験条件にて、窒素酸化物含有ガスの窒素酸化物接触還元
を行ない、窒素酸化物の除去率をケミカルルミネツセン
ス法にて求めた。 (試験条件) (1)ガス組成 NO 500 ppm O2 10容量% 還元剤 500 ppm 水 6容量% 窒素 残部 (2)空間速度 10000又は20000Hr-1 (3)反応温度 200℃、250℃、300℃、350℃、400℃又 は450℃ 結果を表1に示す。
【0049】
【表1】
【0050】表1に示す結果から明らかなように、本発
明による触媒構造体は、いずれも窒素酸化物の窒素の除
去率が高いのに対して、比較例による触媒構造体は、総
じて、除去率が低い。比較例1による触媒構造体は、H
型ZSM−5からなる従来より知られている代表的な窒
素酸化物接触還元用触媒構造体であつて、概して、窒素
酸化物の窒素の除去率が低い。比較例2は、γ−アルミ
ナに白金を担持させてなる単層構造の触媒構造体であ
る。
【0051】
【発明の効果】以上のように、本発明による窒素酸化物
接触還元用触媒構造体は、所定の触媒成分を有する表面
層と、所定の触媒成分を有し、上記表面層の内側に位置
する内部層との多層構造を有し、炭化水素を還元剤とし
て用いる窒素酸化物の接触還元において、従来の触媒構
造体に比べて、高活性高選択性を有し、更に、酸素及び
水分の共存下においても、排ガス中の窒素酸化物を広い
温度範囲において効率よく接触還元することができ、更
に、耐久性にすぐれる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/36 102B (72)発明者 仲辻 忠夫 大阪府堺市戎島町5丁1番地 堺化学工 業株式会社 中央研究所内 (72)発明者 清水 宏益 大阪府堺市戎島町5丁1番地 堺化学工 業株式会社 中央研究所内 (72)発明者 安川 律 大阪府堺市戎島町5丁1番地 堺化学工 業株式会社 中央研究所内 (72)発明者 菅沼 藤夫 埼玉県北葛飾郡庄和町新宿新田228−16 (72)発明者 金田一 嘉昭 茨城県つくば市東一丁目一番地 工業技 術院 物質工学工業技術研究所内 (72)発明者 佐々木 基 茨城県つくば市東一丁目一番地 工業技 術院 物質工学工業技術研究所内 審査官 大黒 浩之 (56)参考文献 特開 平4−267951(JP,A) 特開 昭60−227837(JP,A)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】触媒構造体を構成する基材上に、触媒成分
    を有する内部層と、この内部層の上に触媒成分を担持さ
    せてなる表面層とを備えた多層構造を有する窒素酸化物
    接触還元用触媒構造体であつて、 内部層が (a) 白金、イリジウム、ロジウム、パラジウム及びルテ
    ニウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種の白金族
    元素、及び (b) 金を触媒成分とし、 表面層が酸化アルミニウム、二酸化チタン、酸化ジルコ
    ニウム及びH型ゼオライトから選ばれる少なくとも1種
    を触媒成分とすることを特徴とする炭化水素を還元剤と
    して用いる窒素酸化物接触還元用触媒構造体。
  2. 【請求項2】内部層が白金族元素100重量部に対し
    て、金0.0001〜0.1重量部を有することを特徴とす
    る請求項記載の窒素酸化物接触還元用触媒構造体。
  3. 【請求項3】内部層が白金族元素と金とを担体に担持さ
    せてなる触媒成分を有し、担持率が0.1〜10重量%の
    範囲であることを特徴とする請求項記載の窒素酸化物
    接触還元用触媒構造体。
  4. 【請求項4】触媒構造体を構成する基材上に、触媒成分
    を有する内部層と、この内部層の上に触媒成分を担持さ
    せてなる表面層とを備えた多層構造を有する窒素酸化物
    接触還元用触媒構造体であつて、 内部層が (a) 白金、イリジウム、ロジウム、パラジウム及びルテ
    ニウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種の白金族
    元素、 (b) 金、及び (c) 酸化セリウム、酸化ランタン及び酸化ネオジムより
    なる群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を触媒
    成分とし、 表面層が酸化アルミニウム、二酸化チタン、酸化ジルコ
    ニウム及びH型ゼオライトから選ばれる少なくとも1種
    を触媒成分とすることを特徴とする炭化水素を還元剤と
    して用いる窒素酸化物接触還元用触媒構造体。
  5. 【請求項5】内部層が白金族元素100重量部に対し
    て、金0.0001〜0.1重量部を有すると共に、白金族
    元素100重量部に対して、金属酸化物100〜100
    000重量部を有することを特徴とする請求項記載の
    窒素酸化物接触還元用触媒構造体。
  6. 【請求項6】内部層が担体に白金族元素と金と金属酸化
    物とを担持させてなる触媒成分を有し、担持率が0.1〜
    10重量%の範囲であることを特徴とする請求項記載
    の窒素酸化物接触還元用触媒構造体。
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