JP2602337B2 - 有機塩素化合物の分解燃焼処理方法 - Google Patents
有機塩素化合物の分解燃焼処理方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は有機塩素化合物を燃焼処理する方法に関し、
詳しくは、有機塩素化合物中の塩素をHClに転化し、更
には該HClを塩基性物質により吸収除去して完全燃焼さ
せる有機塩素化合物の分解燃焼処理方法に関するもので
ある。
詳しくは、有機塩素化合物中の塩素をHClに転化し、更
には該HClを塩基性物質により吸収除去して完全燃焼さ
せる有機塩素化合物の分解燃焼処理方法に関するもので
ある。
［従来の技術］ 有機塩素化合物を燃焼処理する方法としては、有機塩
素化合物を800℃以上で燃焼する方法が知られている。
しかしこの方法は800℃以上の高熱が必要であり、多量
の燃料を必要とし、また操作条件によっては毒性の強い
塩素ガスを発生する危険を含み、二次公害を引き起こす
という問題がある。
素化合物を800℃以上で燃焼する方法が知られている。
しかしこの方法は800℃以上の高熱が必要であり、多量
の燃料を必要とし、また操作条件によっては毒性の強い
塩素ガスを発生する危険を含み、二次公害を引き起こす
という問題がある。
また有機塩素化合物を遷移金属酸化物触媒を用いて酸
化分解する方法も知られている（特開昭51−22699
号）。この方法は前記燃焼法よりも低温で処理できるも
のの、毒性の強い塩素ガスが発生する点については依然
として問題がある。
化分解する方法も知られている（特開昭51−22699
号）。この方法は前記燃焼法よりも低温で処理できるも
のの、毒性の強い塩素ガスが発生する点については依然
として問題がある。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、有機塩素化合物を燃焼処理するにあ
たり、有機塩素化合物を低温で効率よく、且つ毒性の強
い塩素ガスを発生させずに燃焼処理する方法を提供する
ことにある。
たり、有機塩素化合物を低温で効率よく、且つ毒性の強
い塩素ガスを発生させずに燃焼処理する方法を提供する
ことにある。
［課題を解決する為の手段］ 本発明者等は、上記目的に沿って研究した結果、特定
の複合酸化物触媒を用いることにより有機塩素化合物を
効率良く酸化分解でき、更には分解して発生したHClを
塩基性物質によって吸収除去することにより、上記目的
を達成し得ることを見いだし、更に鋭意検討を重ねて本
発明を完成した。即ち本発明は、有機塩素化合物を酸素
含有ガスとともに、チタン−珪素からなる二元系複合酸
化物、チタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化
物、チタン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸
化物触媒の中から選ばれる少なくとも１種の複合酸化物
触媒と接触、燃焼させて有機塩素化合物中の塩素を選択
的にHClに転化させることを要旨とする有機塩素化合物
の分解燃焼処理方法である。更には引続き該HClを塩基
性物質により吸収除去することによって、以後の反応で
有害な二次塩素化合物が生成する可能性を除き、ついで
ガス中に残存する不完全燃焼分を完全燃焼させる方法で
ある。また更には有機塩素化合物を触媒と接触させるに
際して水素源の存在下に接触させる方法である。
の複合酸化物触媒を用いることにより有機塩素化合物を
効率良く酸化分解でき、更には分解して発生したHClを
塩基性物質によって吸収除去することにより、上記目的
を達成し得ることを見いだし、更に鋭意検討を重ねて本
発明を完成した。即ち本発明は、有機塩素化合物を酸素
含有ガスとともに、チタン−珪素からなる二元系複合酸
化物、チタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化
物、チタン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸
化物触媒の中から選ばれる少なくとも１種の複合酸化物
触媒と接触、燃焼させて有機塩素化合物中の塩素を選択
的にHClに転化させることを要旨とする有機塩素化合物
の分解燃焼処理方法である。更には引続き該HClを塩基
性物質により吸収除去することによって、以後の反応で
有害な二次塩素化合物が生成する可能性を除き、ついで
ガス中に残存する不完全燃焼分を完全燃焼させる方法で
ある。また更には有機塩素化合物を触媒と接触させるに
際して水素源の存在下に接触させる方法である。
［作用］ 本発明において処理の対象となる有機塩素化合物は、
分子内に少なくとも１個以上の塩素原子を有する有機化
合物であり、例えば、塩化メチル，塩化エチル，ジクロ
ロエチレン，トリクロロエチレン，塩化ビニル等の脂肪
族有機塩素化合物、モノクロロベンゼン，ジクロロベン
ゼン等の芳香族有機塩素化合物、塩化アセチル、クロロ
酢酸等、各種の有機塩素化合物が挙げられる。また、F1
1,F12,F13,F22,F113,F114等の略称で知られるフロンガ
ス類も本発明において処理の対象となる。この場合、フ
ロン中の塩素のみならず弗素も触媒によって分解され、
HFに転化して以下HClと同様に塩基性物質によって吸収
除去される。更に、PCB、2,4,5−トリクロロフェノキシ
酢酸などの固体有機塩素化合物を無触媒燃焼させる場
合、該燃焼後の排ガスに対して本接触燃焼法を適用し、
処理を確実にすることもできる。
分子内に少なくとも１個以上の塩素原子を有する有機化
合物であり、例えば、塩化メチル，塩化エチル，ジクロ
ロエチレン，トリクロロエチレン，塩化ビニル等の脂肪
族有機塩素化合物、モノクロロベンゼン，ジクロロベン
ゼン等の芳香族有機塩素化合物、塩化アセチル、クロロ
酢酸等、各種の有機塩素化合物が挙げられる。また、F1
1,F12,F13,F22,F113,F114等の略称で知られるフロンガ
ス類も本発明において処理の対象となる。この場合、フ
ロン中の塩素のみならず弗素も触媒によって分解され、
HFに転化して以下HClと同様に塩基性物質によって吸収
除去される。更に、PCB、2,4,5−トリクロロフェノキシ
酢酸などの固体有機塩素化合物を無触媒燃焼させる場
合、該燃焼後の排ガスに対して本接触燃焼法を適用し、
処理を確実にすることもできる。
本発明における酸素含有ガスは、有機塩素化合物を燃
焼させるのに十分な酸素を供給するものであればよく、
通常の空気、酸素濃度を高めた空気などが用いられる。
焼させるのに十分な酸素を供給するものであればよく、
通常の空気、酸素濃度を高めた空気などが用いられる。
本発明においては、チタン−珪素からなる二元系複合
酸化物、チタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化
物、チタン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸
化物の中から選ばれる少なくとも１種の複合酸化物触媒
を使用することが必須である。該触媒を用いることによ
り、低温で効率よく有機塩素化合物中の塩素をHClに転
化することができ、しかも炭化物が触媒表面に析出する
ことがないので触媒活性が長く持続する。他の触媒、例
えば前述した遷移金属酸化物触媒を用いる場合には、前
述したとおり、有機塩素化合物から毒性の強い塩素ガス
が発生し、また、他のシリカ−アルミナ、モルデナイ
ト、ゼオライト等の通常よく用いられる固体酸触媒を用
いる場合には、分解率が低下したり、あるいは炭化物が
触媒表面に析出して触媒活性が低下したりする。
酸化物、チタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化
物、チタン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸
化物の中から選ばれる少なくとも１種の複合酸化物触媒
を使用することが必須である。該触媒を用いることによ
り、低温で効率よく有機塩素化合物中の塩素をHClに転
化することができ、しかも炭化物が触媒表面に析出する
ことがないので触媒活性が長く持続する。他の触媒、例
えば前述した遷移金属酸化物触媒を用いる場合には、前
述したとおり、有機塩素化合物から毒性の強い塩素ガス
が発生し、また、他のシリカ−アルミナ、モルデナイ
ト、ゼオライト等の通常よく用いられる固体酸触媒を用
いる場合には、分解率が低下したり、あるいは炭化物が
触媒表面に析出して触媒活性が低下したりする。
一般に、チタン−珪素からなる二元系複合酸化物、チ
タン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化物、チタン
−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸化物はいず
れも固体酸として知られ、構成する各々単独の元素の酸
化物を混合したものには見られない顕著な酸性と高表面
積を有する。即ち、単に各々単独の元素の酸化物を混合
したものとは異なり、複合していることによって特異な
性質が発現しているのである。この特異な性質によって
有機塩素化合物を低温でも効率よく分解し、有機塩素化
合物中の塩素を選択的にHClに転化するものと思われ
る。かくして、有機塩素化合物中の塩素を選択的にHCl
に転化することによって、その後塩基性物質によって容
易に吸収除去でき、処理が容易になる。
タン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化物、チタン
−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸化物はいず
れも固体酸として知られ、構成する各々単独の元素の酸
化物を混合したものには見られない顕著な酸性と高表面
積を有する。即ち、単に各々単独の元素の酸化物を混合
したものとは異なり、複合していることによって特異な
性質が発現しているのである。この特異な性質によって
有機塩素化合物を低温でも効率よく分解し、有機塩素化
合物中の塩素を選択的にHClに転化するものと思われ
る。かくして、有機塩素化合物中の塩素を選択的にHCl
に転化することによって、その後塩基性物質によって容
易に吸収除去でき、処理が容易になる。
複合酸化物触媒としては、TiO2が20〜95モル％であ
り、かつSiO2,ZrO2若しくはSiO2とZrO2の和が５〜80モ
ル％（いずれもTiO2＋SiO2＋ZrO2＝100モル％として）
の範囲の組成が好ましい。また表面積は30m2/g以上が好
ましい。該複合酸化物は例えば以下のようにして調製で
きる。
り、かつSiO2,ZrO2若しくはSiO2とZrO2の和が５〜80モ
ル％（いずれもTiO2＋SiO2＋ZrO2＝100モル％として）
の範囲の組成が好ましい。また表面積は30m2/g以上が好
ましい。該複合酸化物は例えば以下のようにして調製で
きる。
（１）四塩化チタンをシリカゾルとともに混合し、アン
モニアを添加して沈殿を生成せしめ、この沈殿を洗浄、
乾燥後300〜650℃で焼成せしめてチタン−珪素からなる
二元系複合酸化物を得る。
モニアを添加して沈殿を生成せしめ、この沈殿を洗浄、
乾燥後300〜650℃で焼成せしめてチタン−珪素からなる
二元系複合酸化物を得る。
（２）四塩化チタンに珪酸ナトリウム水溶液を添加し、
反応せしめて沈殿を生成させ、この沈殿を洗浄、乾燥後
300〜650℃で焼成せしめてチタン−珪素からなる二元系
複合酸化物を得る。
反応せしめて沈殿を生成させ、この沈殿を洗浄、乾燥後
300〜650℃で焼成せしめてチタン−珪素からなる二元系
複合酸化物を得る。
（３）四塩化チタンの水−アルコール溶液にエチルシリ
ケートを添加し、加水分解反応せしめて沈殿を生成さ
せ、この沈殿を洗浄、乾燥後300〜650℃で焼成せしめて
チタン−珪素からなる二元系複合酸化物を得る。
ケートを添加し、加水分解反応せしめて沈殿を生成さ
せ、この沈殿を洗浄、乾燥後300〜650℃で焼成せしめて
チタン−珪素からなる二元系複合酸化物を得る。
（４）酸化塩化チタン（TiOCl2）とエチルシリケートの
水−アルコール溶液にアンモニアを加えて沈殿を生成さ
せ、この沈殿を洗浄、乾燥後300〜650℃で焼成せしめて
チタン−珪素からなる二元系複合酸化物を得る。
水−アルコール溶液にアンモニアを加えて沈殿を生成さ
せ、この沈殿を洗浄、乾燥後300〜650℃で焼成せしめて
チタン−珪素からなる二元系複合酸化物を得る。
これらの方法の中では、（１）の方法が好ましい。ま
たチタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化物、チ
タン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸化物
も、ジルコニウム源として塩化ジルコニウム、硫酸ジル
コニウムなどの無機シルコニウム化合物や蓚酸ジルコニ
ウムなどの有機ジルコニウム化合物を用いて、同様の方
法で調製できる。
たチタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化物、チ
タン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸化物
も、ジルコニウム源として塩化ジルコニウム、硫酸ジル
コニウムなどの無機シルコニウム化合物や蓚酸ジルコニ
ウムなどの有機ジルコニウム化合物を用いて、同様の方
法で調製できる。
このようにして得られた複合酸化物を、例えば、粉末
にして成形助剤とともに適量の水を添加しつつ混練し、
押出成形機でペレット状やハニカム状等に成形し、成形
物を50〜120℃で乾燥した後、300〜800℃、好ましくは3
50〜600℃にて１〜10時間、好ましくは２〜６時間、空
気気流中で焼成して完成触媒が得られる。
にして成形助剤とともに適量の水を添加しつつ混練し、
押出成形機でペレット状やハニカム状等に成形し、成形
物を50〜120℃で乾燥した後、300〜800℃、好ましくは3
50〜600℃にて１〜10時間、好ましくは２〜６時間、空
気気流中で焼成して完成触媒が得られる。
本発明においては、まず有機塩素化合物を酸素含有ガ
スとともに、チタン−珪素からなる二元系複合酸化物、
チタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化物、チタ
ン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸化物の中
から選ばれる少なくとも１種の複合酸化物触媒と接触、
燃焼させて有機塩素化合物中の塩素をHClに転化する。
該接触、燃焼させる温度は300〜700℃が好ましい。
スとともに、チタン−珪素からなる二元系複合酸化物、
チタン−ジルコニウムからなる二元系複合酸化物、チタ
ン−珪素−ジルコニウムからなる三元系複合酸化物の中
から選ばれる少なくとも１種の複合酸化物触媒と接触、
燃焼させて有機塩素化合物中の塩素をHClに転化する。
該接触、燃焼させる温度は300〜700℃が好ましい。
次に、接触分解後の生成物を塩基性物質と接触させ、
生成したHClを吸収除去する。従来行なわれたように、
有機塩素化合物が分解して塩素ガスに転化している場合
には、塩基性物質と接触させても吸収除去は十分できな
かった。しかし本発明においては、前記のように有機塩
素化合物中の塩素は選択的にHClに転化しており、塩基
性物質と接触させることによって容易にHClが吸収除去
され、該工程を経た後には塩素は無くなっている。
生成したHClを吸収除去する。従来行なわれたように、
有機塩素化合物が分解して塩素ガスに転化している場合
には、塩基性物質と接触させても吸収除去は十分できな
かった。しかし本発明においては、前記のように有機塩
素化合物中の塩素は選択的にHClに転化しており、塩基
性物質と接触させることによって容易にHClが吸収除去
され、該工程を経た後には塩素は無くなっている。
塩基性物質としては、酸化カルシウム，酸化マグネシ
ウム等のアルカリ土類金属の酸化物；水酸化ナトリウ
ム，水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物などが
挙げられる。
ウム等のアルカリ土類金属の酸化物；水酸化ナトリウ
ム，水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物などが
挙げられる。
更に、HCl除去後のガスを完全燃焼させてガス中に残
存する一酸化炭素を炭酸ガスに転化する。この場合、酸
化用触媒を用いると低温で処理できるので、好ましい。
酸化用触媒としては、白金、パラジウムなどの貴金属；
鉄、コバルト、ニッケル、銅、マンガンなどの遷移金属
などが挙げられる。
存する一酸化炭素を炭酸ガスに転化する。この場合、酸
化用触媒を用いると低温で処理できるので、好ましい。
酸化用触媒としては、白金、パラジウムなどの貴金属；
鉄、コバルト、ニッケル、銅、マンガンなどの遷移金属
などが挙げられる。
これまでの説明では有機塩素化合物中に水素原子を十
分に含んでいる場合を想定して述べてきたが、有機塩素
化合物中に水素原子を含まない場合や有機塩素化合物中
の水素原子が塩素原子に比べて少ない場合等において
は、水素源の存在下に有機塩素化合物と触媒を接触させ
ることも有効である。即ち有機塩素化合物中の塩素をHC
lに転化するには水素原子が必要となるが、水素源を外
部から積極的に導入することによってHClの転化反応を
促進できる。但し、このことは有機塩素化合物中に水素
原子を含んでいる場合においては水素源を導入しなくて
もよいことを意味するのではなく、この様な場合におい
てもHCl転化反応を促進するという観点からすれば水素
源の積極導入は極めて効果的である。水素源としては水
蒸気，水素，アンモニア等が用いられるが、水蒸気の使
用は安全性，コスト，効果の面でもっとも有利である。
添加する水素源の量は、有機塩素化合物中の塩素原子に
対して全水素量が当モル以上となる量であれば効果を発
揮するが、あまり多すぎても経済的ではないので、10倍
モル以下が好ましい。
分に含んでいる場合を想定して述べてきたが、有機塩素
化合物中に水素原子を含まない場合や有機塩素化合物中
の水素原子が塩素原子に比べて少ない場合等において
は、水素源の存在下に有機塩素化合物と触媒を接触させ
ることも有効である。即ち有機塩素化合物中の塩素をHC
lに転化するには水素原子が必要となるが、水素源を外
部から積極的に導入することによってHClの転化反応を
促進できる。但し、このことは有機塩素化合物中に水素
原子を含んでいる場合においては水素源を導入しなくて
もよいことを意味するのではなく、この様な場合におい
てもHCl転化反応を促進するという観点からすれば水素
源の積極導入は極めて効果的である。水素源としては水
蒸気，水素，アンモニア等が用いられるが、水蒸気の使
用は安全性，コスト，効果の面でもっとも有利である。
添加する水素源の量は、有機塩素化合物中の塩素原子に
対して全水素量が当モル以上となる量であれば効果を発
揮するが、あまり多すぎても経済的ではないので、10倍
モル以下が好ましい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は下記実施例のみに限定されるものではな
い。尚有機塩素化合物の転化率、CO収率、CO2収率はガ
スクロマトグラフにより、HCl,HF収率はVolhard法によ
り、またCl2,F2収率はヨウ素滴定法により測定した。
が、本発明は下記実施例のみに限定されるものではな
い。尚有機塩素化合物の転化率、CO収率、CO2収率はガ
スクロマトグラフにより、HCl,HF収率はVolhard法によ
り、またCl2,F2収率はヨウ素滴定法により測定した。
［実施例］ 実施例１ （ａ）複合酸化物触媒の調製 チタン−珪素からなる複合酸化物を以下述べる方法に
より調製した。
より調製した。
チタン源として以下の組成の硫酸チタニルの硫酸水溶
液を用いた。
液を用いた。
TiOSO4（TiO2換算） 250g/ 全H2SO4 1100g/ 別に水40に25重量％アンモニア水28を添加し、こ
れにスノーテックス−NCS−30（日産化学製シリカゾル;
SiO2として約30重量％含有）2.4kgを加えた。得られた
溶液中に、上記硫酸チタニルの硫酸水溶液15.3を水30
に添加し希釈したチタン含有硫酸水溶液を撹拌下徐々
に滴下してTiO2−SiO2共沈ゲルを生成させ、更に15時間
静置した。得られたゲルを濾過、水洗後、200℃で10時
間乾燥した。
れにスノーテックス−NCS−30（日産化学製シリカゾル;
SiO2として約30重量％含有）2.4kgを加えた。得られた
溶液中に、上記硫酸チタニルの硫酸水溶液15.3を水30
に添加し希釈したチタン含有硫酸水溶液を撹拌下徐々
に滴下してTiO2−SiO2共沈ゲルを生成させ、更に15時間
静置した。得られたゲルを濾過、水洗後、200℃で10時
間乾燥した。
次いで、550℃で６時間空気雰囲気下で焼成し、粉砕
して得られた粉体をペレット状に成型し、チタン−珪素
複合酸化物触媒（モル比、TiO2:SiO2＝4:1）を得た。こ
の触媒のBET表面積は185m2/gであった。
して得られた粉体をペレット状に成型し、チタン−珪素
複合酸化物触媒（モル比、TiO2:SiO2＝4:1）を得た。こ
の触媒のBET表面積は185m2/gであった。
（ｂ）有機塩素化合物の分解燃焼処理 1,2−ジクロロエタン10,000ppmを含む空気を上記チタ
ン−珪素複合酸化物触媒に400℃、空間速度360hr-1にて
通じた。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、
白金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通
じた。
ン−珪素複合酸化物触媒に400℃、空間速度360hr-1にて
通じた。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、
白金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通
じた。
条件および結果を後記第１表に示した。尚白金触媒処
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
比較例１ チタン−珪素複合酸化物触媒の代わりにモルデナイト
を用いた他は実施例１と同様に有機塩素化合物の分解燃
焼処理を行なった。条件および結果を第１表に示した。
尚モルデナイト処理後のガス中にはCl2は検出されなか
ったものの、白金触媒処理後の排ガス中にはCl2が検出
され、更にこれを除去する工程が必要であった。これは
モルデナイト処理で分解されずに残った1,2−ジクロロ
エタンが白金触媒処理によって分解してCl2を生成した
ものである。また分解燃焼処理後、モルデナイトの表面
には炭化物の析出が認められた。
を用いた他は実施例１と同様に有機塩素化合物の分解燃
焼処理を行なった。条件および結果を第１表に示した。
尚モルデナイト処理後のガス中にはCl2は検出されなか
ったものの、白金触媒処理後の排ガス中にはCl2が検出
され、更にこれを除去する工程が必要であった。これは
モルデナイト処理で分解されずに残った1,2−ジクロロ
エタンが白金触媒処理によって分解してCl2を生成した
ものである。また分解燃焼処理後、モルデナイトの表面
には炭化物の析出が認められた。
比較例２ チタン−珪素複合酸化物触媒の代わりにシリカ−アル
ミナを用いた他は実施例１と同様に有機塩素化合物の分
解燃焼処理を行なった。条件および結果を第１表に示し
た。尚シリカ−アルミナ処理後のガス中にはCl2は検出
されなかったものの、白金触媒処理後の排ガス中にはCl
2が検出され、更にこれを除去する工程が必要であっ
た。これは比較例１と同様に、シリカ−アルミナ処理で
分解されずに残った1,2−ジクロロエタンが白金触媒処
理によって分解してCl2を生成したものである。また分
解燃焼処理後、シリカ−アルミナの表面には炭化物の析
出が認められた。
ミナを用いた他は実施例１と同様に有機塩素化合物の分
解燃焼処理を行なった。条件および結果を第１表に示し
た。尚シリカ−アルミナ処理後のガス中にはCl2は検出
されなかったものの、白金触媒処理後の排ガス中にはCl
2が検出され、更にこれを除去する工程が必要であっ
た。これは比較例１と同様に、シリカ−アルミナ処理で
分解されずに残った1,2−ジクロロエタンが白金触媒処
理によって分解してCl2を生成したものである。また分
解燃焼処理後、シリカ−アルミナの表面には炭化物の析
出が認められた。
実施例２ （ａ）複合酸化物触媒の調製 チタン−ジルコニウムからなる複合酸化物を以下に述
べる方法により調製した。
べる方法により調製した。
水100にオキシ塩化ジルコニウム［ZrOCl2・8H2O］
1.93kgを溶解させ、実施例１で用いたのと同じ組成の硫
酸チタニルの硫酸水溶液7.8を添加しつつよく混合し
た。これを温度約30℃に維持してよく撹拌しながらアン
モニウム水をpHが７になるまで徐々に滴下し、更に15時
間静置した。得られたゲルを濾過、水洗後、200℃で10
時間乾燥した。
1.93kgを溶解させ、実施例１で用いたのと同じ組成の硫
酸チタニルの硫酸水溶液7.8を添加しつつよく混合し
た。これを温度約30℃に維持してよく撹拌しながらアン
モニウム水をpHが７になるまで徐々に滴下し、更に15時
間静置した。得られたゲルを濾過、水洗後、200℃で10
時間乾燥した。
次いで、550℃で６時間空気雰囲気下で焼成し、粉砕
して得られた粉体をペレット状に成型し、チタン−ジル
コニア複合酸化物触媒（モル比、TiO2−ZrO2＝4:1）を
得た。この触媒のBET表面積は140m2/gであった。
して得られた粉体をペレット状に成型し、チタン−ジル
コニア複合酸化物触媒（モル比、TiO2−ZrO2＝4:1）を
得た。この触媒のBET表面積は140m2/gであった。
（ｂ）有機塩素化合物の分解燃焼処理 塩化エチル10,000ppmを含む空気を上記チタン−ジル
コニア複合酸化物触媒に400℃、空間速度3600hr-1にて
通じた。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、
白金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通
じた。
コニア複合酸化物触媒に400℃、空間速度3600hr-1にて
通じた。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、
白金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通
じた。
条件および結果を第１表に示した。尚白金触媒処理後
の排ガス中にはHClは検出されなかった。
の排ガス中にはHClは検出されなかった。
実施例３ （ａ）複合酸化物触媒の調製 実施例１および実施例２の方法に準じて、チタン−珪
素−ジルコニウムからなる複合酸化物（モル比、TiO2:S
iO2:ZrO2＝7:2:1）を調製した。
素−ジルコニウムからなる複合酸化物（モル比、TiO2:S
iO2:ZrO2＝7:2:1）を調製した。
（ｂ）有機塩素化合物の分解燃焼処理 ジクロロベンゼン10,000ppmを含む空気を上記チタン
−珪素−ジルコニウム複合酸化物触媒に500℃、空間速
度3600hr-1にて通じた。排出されるガスを酸化カルシウ
ムに通じた後、白金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触
媒）に400℃で通じた。
−珪素−ジルコニウム複合酸化物触媒に500℃、空間速
度3600hr-1にて通じた。排出されるガスを酸化カルシウ
ムに通じた後、白金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触
媒）に400℃で通じた。
条件および結果を第１表に示した。尚白金触媒処理後
の排ガス中にはHClは検出されなかった。
の排ガス中にはHClは検出されなかった。
実施例４ トリクロロエチレン10,000ppm（v/v）を含む空気に水
５容量％添加しながら、実施例１で得られたチタン−珪
素複合酸化物触媒に500℃、空間速度3600hr-1にて通じ
た。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、白金
触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通じ
た。
５容量％添加しながら、実施例１で得られたチタン−珪
素複合酸化物触媒に500℃、空間速度3600hr-1にて通じ
た。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、白金
触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通じ
た。
条件および結果を後記第２表に示した。尚白金触媒処
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
実施例５ トリクロロエチレン5000ppm（v/v）を含む空気に水素
1.2容量％添加しながら、実施例１で得られたチタン−
珪素複合酸化物触媒に500℃、空間速度3600hr-1にて通
じた。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、白
金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に300℃で通じ
た。
1.2容量％添加しながら、実施例１で得られたチタン−
珪素複合酸化物触媒に500℃、空間速度3600hr-1にて通
じた。排出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、白
金触媒（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に300℃で通じ
た。
条件および結果を後記第２表に示した。尚白金触媒処
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
実施例６ 1,2−ジクロロエタン10,000ppmを含む空気に水２容量
％添加しながら、実施例１で得られたチタン−珪素複合
酸化物触媒に400℃、空間速度3600hr-1にて通じた。排
出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、白金触媒
（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通じた。
％添加しながら、実施例１で得られたチタン−珪素複合
酸化物触媒に400℃、空間速度3600hr-1にて通じた。排
出されるガスを酸化カルシウムに通じた後、白金触媒
（Pt0.2重量％担持アルミナ触媒）に400℃で通じた。
条件および結果を後記第２表に示した。尚白金触媒処
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
理後の排ガス中にはHClは検出されなかった。
実施例７ （ａ）複合酸化物触媒の調製 実施例１と同じ方法でチタン−珪素複合酸化物触媒
（モル比TiO2:SiO2＝4:1）を得た。
（モル比TiO2:SiO2＝4:1）を得た。
（ｂ）有機塩素化合物の分解燃焼処理 フロン31（CH2ClF）5000ppm（v/v）を含む空気を、上
記チタン−珪素複合酸化物触媒に温度550℃、空間速度2
000hr-1の条件下で流した。排出されるガスを酸化カル
シウム充填層に通した。
記チタン−珪素複合酸化物触媒に温度550℃、空間速度2
000hr-1の条件下で流した。排出されるガスを酸化カル
シウム充填層に通した。
ガス流通開始後２時間目にチタン−珪素複合酸化物触
媒出口部のガス分析を行い、フロン分解率および生成物
の分析を行った後、触媒を抜き出してその強度を測定
し、調製直後の新品触媒の強度と比較した。
媒出口部のガス分析を行い、フロン分解率および生成物
の分析を行った後、触媒を抜き出してその強度を測定
し、調製直後の新品触媒の強度と比較した。
触媒強度の測定には木屋式強度計を用い、サンプル10
個の平均圧壊強度を測定した。表示は新品触媒に対する
比で表わしたガス分析及び圧壊強度比を第３表に示す。
個の平均圧壊強度を測定した。表示は新品触媒に対する
比で表わしたガス分析及び圧壊強度比を第３表に示す。
尚フロン分解反応中は、酸化カルシウム充填層出口部
排ガス中にはHCl,HFは検出されなかった。
排ガス中にはHCl,HFは検出されなかった。
実施例８ （ａ）複合酸化物触媒の調製 実施例１と同じ方法で−チタン珪素複合酸化物触媒
（モル比TiO2:SiO2＝4:1）を得た。
（モル比TiO2:SiO2＝4:1）を得た。
（ｂ）有機塩素化合物の分解燃焼処理 フロン12（CF2Cl2）5000ppm（v/v）を含む空気に水分
5vol％添加しながら、上記チタン−珪素複合酸化物触媒
に温度550℃、空間速度2000hr-1の条件で流した。排出
されるガスを酸化カルシウム充填層に通した。
5vol％添加しながら、上記チタン−珪素複合酸化物触媒
に温度550℃、空間速度2000hr-1の条件で流した。排出
されるガスを酸化カルシウム充填層に通した。
実施例７−（ｂ）と同様の手順でガス分析及び触媒の
圧壊強度を測定した。得られた測定値を第３表に示す。
圧壊強度を測定した。得られた測定値を第３表に示す。
尚フロン分解反応中は、酸化カルシウム充填層出口部
排ガス中にはHCl,HFは検出されなかった。
排ガス中にはHCl,HFは検出されなかった。
実施例９ （ａ）複合酸化物触媒の調製 実施例１と同じ方法で−チタン珪素複合酸化物触媒
（モル比TiO2:SiO2＝4:1）を得た。
（モル比TiO2:SiO2＝4:1）を得た。
（ｂ）有機塩素化合物の分解燃焼処理 フロン12（CF2Cl2）2000ppm（v/v）を含む空気にH2を
5000ppm（v/v）添加しながら、上記チタン−珪素複合酸
化物触媒に温度550℃、空間速度2000hr-1の条件で流し
た。排出されるガスを酸化カルシウム充填層に通した。
5000ppm（v/v）添加しながら、上記チタン−珪素複合酸
化物触媒に温度550℃、空間速度2000hr-1の条件で流し
た。排出されるガスを酸化カルシウム充填層に通した。
実施例７−（ｂ）と同様の手順でガス分析及び触媒の
圧壊強度を測定した。得られた測定値を第３表に示す。
圧壊強度を測定した。得られた測定値を第３表に示す。
尚フロン分解反応中は、酸化カルシウム充填層出口部
排ガス中にはHCl,HFは検出されなかった。
排ガス中にはHCl,HFは検出されなかった。
［発明の効果］ 以上述べた如く本発明によれば、有機塩素化合物を低
温で効率よく、且つ毒性の強い塩素ガスを発生させずに
燃焼処理できる様になった。
温で効率よく、且つ毒性の強い塩素ガスを発生させずに
燃焼処理できる様になった。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 21/08 7106−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 19/00 Ｃ０７Ｃ 19/00 Ｂ０１Ｄ 53/34 １３４Ａ (72)発明者 西川 和良 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地 の１ 日本触媒化学工業株式会社触媒研 究所内 (72)発明者 井上 明 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地 の１ 日本触媒化学工業株式会社触媒研 究所内 (56)参考文献 特開 昭51−26852（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−22699（ＪＰ，Ａ) 特表 昭64−500330（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】有機塩素化合物を燃焼処理する方法におい
て、有機塩素化合物を酸素含有ガスとともに、チタン−
珪素からなる二元系複合酸化物、チタン−ジルコニウム
からなる二元系複合酸化物、チタン−珪素−ジルコニウ
ムからなる三元系複合酸化物の中から選ばれる少なくと
も１種の複合酸化物触媒と接触、燃焼させて有機塩素化
合物中の塩素をHClに転化させることを特徴とする有機
塩素化合物の分解燃焼処理方法。 - 【請求項２】有機塩素化合物を燃焼処理する方法におい
て、有機塩素化合物を酸素含有ガスとともに、チタン−
珪素からなる二元系複合酸化物、チタン−ジルコニウム
からなる二元系複合酸化物、チタン−珪素−ジルコニウ
ムからなる三元系複合酸化物の中から選ばれる少なくと
も１種の複合酸化物触媒と接触、燃焼させて有機塩素化
合物中の塩素をHClに転化し、該HClを塩基性物質により
吸収除去し、ガス中に残存する不完全燃焼分を完全燃焼
させることを特徴とする有機塩素化合物の分解燃焼処理
方法。 - 【請求項３】有機塩素化合物を水素源の存在下に触媒と
接触させる請求項（１）または（２）に記載の有機塩素
化合物の分解燃焼処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003089A JP2602337B2 (ja) | 1989-01-09 | 1990-01-09 | 有機塩素化合物の分解燃焼処理方法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP116189 | 1989-01-09 | ||
| JP1-1161 | 1989-01-09 | ||
| JP1-292067 | 1989-11-08 | ||
| JP29206789 | 1989-11-08 | ||
| JP2003089A JP2602337B2 (ja) | 1989-01-09 | 1990-01-09 | 有機塩素化合物の分解燃焼処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03289973A JPH03289973A (ja) | 1991-12-19 |
| JP2602337B2 true JP2602337B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=27274787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003089A Expired - Fee Related JP2602337B2 (ja) | 1989-01-09 | 1990-01-09 | 有機塩素化合物の分解燃焼処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2602337B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69231273T2 (de) * | 1991-04-30 | 2001-03-15 | Nippon Shokubai Co. Ltd., Osaka | Verfahren zur Entsorgung einer organischen Halogenverbindung durch Oxidation |
| JP5793804B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-10-14 | 株式会社ジンテク | 塩素系揮発性有機化合物の浄化方法 |
-
1990
- 1990-01-09 JP JP2003089A patent/JP2602337B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03289973A (ja) | 1991-12-19 |
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