JP2600871Y2 - ウォーキングビーム型炉 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、鋼片等の処理材料を加
熱しながら搬送するウォーキングビーム型炉に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、鋼片等の処理材料を加熱しながら
搬送する炉として、ウォーキングビーム型炉が知られて
いる。このウォーキングビーム型炉は、移動ビームと固
定ビームを有し、移動ビームの上下前後運動すなわち矩
形運動に基づいて、処理材料を移動ビームと固定ビーム
で交互に支持しながら搬送するようにしており、例え
ば、特公昭５０−２９６８６号公報に記載されているも
のでは、炉の天井部と底部をそれぞれ対向方向に湾曲し
て突出させ、この突出部にそれぞれ複数のバーナを配置
して、処理材料の搬送方向に向かって火炎を形成するこ
とにより処理材料を上下から加熱するようにしている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】しかしながら、上記ウ
ォーキングビーム型炉は、固定ビームが処理材料の搬送
方向に沿って一直線上に配置されているので、処理材料
の同一部分が繰り返し固定ビームと接触し、この部分に
スキッドマークが発生するという問題点があった。ま
た、個々のバーナの加熱容積が大きく、処理材料がある
場所では極めて効率よく加熱されるが、別の場所では加
熱不足となるという問題点があった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】そこで、本考案は、処理
材料にスキッドマークが発生するのを防止するととも
に、炉内を搬送される処理材料を均一に加熱し得るウォ
ーキングビーム型炉を提供するためになされたもので、
処理材料の搬送通路を挟んで該搬送通路の上方と下方に
それぞれ搬送方向と直交方向に伸びる複数の仕切壁を対
向して設け、前記固定ビームの支持部と下部の仕切壁と
を同一線上に配設するとともに、これら固定ビームを千
鳥状に配置し、上部の仕切壁で仕切られた炉の側壁部分
と下部の仕切壁で仕切られた炉の側壁部分にそれぞれリ
ジェネ・バーナを対向して設けたものである。

【０００５】

【作用】上記構成のウォーキングビーム型炉では、固定
ビームが千鳥状に配置されているので、処理材料はその
異なる部分で固定ビームと接触し、すなわち同一部分が
繰り返し固定ビームと接触するということはなく、処理
材料に発生するスキッドマークが減少する。また、上下
の対向する仕切壁で仕切られた炉の側壁部分にそれぞれ
バーナを配置しているので、隣接する仕切壁により区画
された領域における加熱条件を操作することにより、最
適な加熱状態を得ることができる。

【０００６】

【実施例】以下、添付図面を参照して本考案の実施例に
ついて説明する。図１，２は本考案に係るウォーキング
ビーム型炉１を示し、このウォーキングビーム型炉１の
炉殻２は箱型の耐火構造物で構成されている。炉殻２の
短辺方向（以下「幅方向」という。）に伸びる側壁３，
４には、装入口５と抽出口６がそれぞれ対向して形成さ
れ、これら装入口５と抽出口６がそれぞれ扉７，８で開
閉できるようにしてある。

【０００７】炉殻２の底部９には、幅方向に伸びる複数
の下部仕切壁１０が所定間隔ごとに設けてある。一方、
炉殻２の天井部１１には、上記下部仕切壁１０と所定間
隔を隔てて対向する幅方向の上部仕切壁１２が設けてあ
り、これら下部仕切壁１０と上部仕切壁１２によって炉
内１３の空間が複数の小室１４に区画されている。

【０００８】また、隣接する下部仕切壁１０，１０に
は、それぞれ長辺方向に伸びる複数（本実施例では３
本）の門型固定ビーム１５（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ）
が等間隔に架け渡され、隣接する小室１４に位置する固
定ビーム１５（１５ａ′，１５ｂ′，１５ｃ′）がそれ
ぞれ幅方向に位置をずらして配置されている。すなわ
ち、図２に示すように、固定ビーム１５は平面上千鳥状
に配置されている。

【０００９】さらに、底部９には、長手方向に伸びる２
本の直線（図示せず）に沿って、隣接する仕切壁１０，
１０の間にそれぞれ長手方向に伸びる２つの長方形開口
部１６が形成されており、これら開口部１６にそれぞれ
可動ポスト１７が貫通して配置されている。上記可動ポ
スト１７は、底部９から突出した下端部が基台１８に連
結され、上端部が下部仕切壁１０の上方に配置された移
動ビーム１９に連結されており、上記基台１８が図示し
ない駆動源によって矢印Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄで示す矩形運動
を行うようにしてある。

【００１０】炉殻２の長手方向に伸びる両側壁２０，２
１には、隣接する上部仕切壁１２，１２と下部仕切壁１
０，１０の間の部分２２，２３に、それぞれバーナ２４
（２４ａ，２４ｂ）が設けてある。これらのバーナ２４
は所謂リジェネ・バーナで、図３に示すように、バーナ
本体２８の中央部にセンタエア噴射ノズル２９、このセ
ンタエア噴射ノズル２９の両側に燃焼空気噴射ノズル３
０，３１を有し、上記センタエア噴射ノズル２９の中心
に燃料噴射ノズル３２が挿入されている。また、センタ
エア噴射ノズル２９が燃焼空気供給源（図示せず）、燃
料噴射ノズル３２が燃料供給源（図示せず）にそれぞれ
接続され、燃焼空気噴射ノズル３０，３１が蓄熱器３
３，３４、および切換弁（図示せず）を介して燃焼空気
供給源と吸引排気装置（共に図示せず）に接続されてい
る。

【００１１】上記バーナ２４では、燃料噴射ノズル３２
より噴射される燃料に、センタエア噴射ノズル２９より
噴射される燃焼空気と一方の燃焼空気噴射ノズル３０
（又は３１）より噴射される燃焼空気が混合されて燃焼
され、他方の燃焼空気噴射ノズル３１（又は３０）より
炉内１３の排ガスが吸引され、この排ガスの熱が蓄熱器
３４（又は３３）で回収される。次に、所定時間後、切
換弁が切り換えられ、上記他方の燃焼空気噴射ノズル３
１に燃焼空気が供給され、上記一方の燃焼空気噴射ノズ
ル３０より炉内１３の排ガスが吸引され、この排ガスの
熱が蓄熱器３３で回収される。また、燃焼空気噴射ノズ
ル３１に供給される燃焼空気は、蓄熱器３４を通過する
際に加熱される。したがって、上記バーナ２４によれ
ば、燃焼空気噴射ノズル３０，３１で燃焼空気が交互に
噴射、吸引され、排ガスから蓄熱器３３，３４に回収さ
れた熱によって燃焼空気が予熱されるので、効率のよい
燃焼が得られる。

【００１２】上記構成を有するウォーキングビーム型炉
１では、基台１８の矩形運動に基づいて移動ビーム１９
が固定ビーム１５の上方で前進、下方で後退しながら前
後に移動する。また、バーナ２４には燃料と燃焼空気が
供給され、それぞれの小室１４において上下左右の４箇
所で火炎が形成される。

【００１３】処理材料３５は、装入口５の扉７を開き、
図示しない材料搬送装置によって炉内１３に装入され
る。次に、処理材料３５は移動ビーム１９に受け渡さ
れ、この移動ビーム１９の矩形運動により該移動ビーム
１９と固定ビーム１５に交互に支持されながら搬送路３
６を抽出側に搬送される。そして、炉内で加熱され抽出
側に移動した処理材料３５は、抽出口６の扉８を開き、
図示しない材料抽出装置により炉内１３より抽出され
る。

【００１４】また、処理材料３５は、その搬送過程でそ
れぞれの小室１４の側壁部分２０，２１に設けた４つの
バーナ２４で形成される火炎により加熱される。したが
って、搬送路３６を移動する処理材料３５は、それぞれ
の小室１４において所望の条件に加熱される。

【００１５】さらに、固定ビーム１５は千鳥状に配置さ
れているので、処理材料３５が常にその同一部分で固定
ビーム１５と接触することはなく、スキッドマークの発
生が低減される。

【００１６】なお、上記実施例では、それぞれの小室１
４に位置する上下左右４つのバーナ２４で同時に燃料を
燃焼するものとしたが、図２に示すように、ある時間帯
は対向するリジェネ・バーナ２４のうち一方のリジェネ
・バーナ２４で燃料を燃焼すると共に他方のリジェネ・
バーナ２４では炉内排ガスを排出し、別の時間帯では上
記他方のリジェネ・バーナ２４で燃料を燃焼しつつ一方
のリジェネ・バーナ２４で排ガスを排出し、しかも隣接
する小室１４では常に逆方向に火炎が形成されるように
してもよい。さらに、それぞれのリジェネ・バーナ２４
の燃料燃焼量は同一である必要はなく、最も効率のよい
加熱状態が得られるように調節すればよい。また、上記
実施例では、固定ビーム１５ａと１５ａ′、１５ｂと１
５ｂ′、１５ｃと１５ｃ′はそれぞれ近接して設けてい
るが、図４に示すように、隣接する固定ビーム１５の間
隔を広げ、これらを炉幅方向に等間隔に配置してもよ
い。

【００１７】

【考案の効果】以上の説明で明らかなように、本考案に
係るウォーキングビーム型炉では、固定ビームが千鳥状
に配置されているので、処理材料がその同一部分で繰り
返し固定ビームに接触することがなく、スキッドマーク
の発生が低減されるか、ほとんど無くなる。また、炉内
空間が幅方向に伸びる複数の小室に分割され、それぞれ
の小室の側壁部分には搬送通路を挟んで上下にバーナが
配置されているので、炉内を搬送される処理材料はそれ
ぞれの小室で適正な条件に加熱され、それぞれの小室に
おける加熱条件を変えることによって、最適な加熱状態
を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本考案に係るウォーキングビーム型炉の縦断
面図である。

【図２】 図１に示すウォーキングビーム型炉のII−II
線断面図である。

【図３】 バーナの断面図である。

【図４】 他の実施例に係るウォーキングビーム型炉の
横断面図である。

【符号の説明】

１…ウォーキングビーム型炉、１０…下部仕切壁、１２
…上部仕切壁、１４…小室、１５…固定ビーム、１９…
移動ビーム、２４…リジェネ・バーナ。

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C21D 1/00 114 C21D 1/00 116 F27B 9/24

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 固定ビームと移動ビームとで処理材料を
   交互に支持しながら搬送するウォーキングビーム型炉に
   おいて、処理材料の搬送通路を挟んで該搬送通路の上方
   と下方にそれぞれ搬送方向と直交方向に伸びる複数の仕
   切壁を対向して設け、前記固定ビームの支持部と下部の
   仕切壁とを同一線上に配設するとともに、これら固定ビ
   ームを千鳥状に配置し、上部の仕切壁で仕切られた炉の
   側壁部分と下部の仕切壁で仕切られた炉の側壁部分にそ
   れぞれリジェネ・バーナを対向して設けたことを特徴と
   するウォーキングビーム型炉。