JPH0715763U - ウォーキングビーム型炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ウォーキングビーム型炉１に、処理材料３５
の搬送通路３６を挟んで該搬送通路３６の上方と下方に
それぞれ搬送方向と直交方向に伸びる複数の仕切壁１
２，１０を対向して設け、下部の仕切壁１０に固定ビー
ム１５を架け渡すとともに、これら固定ビーム１５を千
鳥状に配置し、上部の仕切壁１２で仕切られた炉の側壁
部分２２と下部の仕切壁１０で仕切られた炉の側壁部分
２３にそれぞれバーナ２４を対向して設けた。 【効果】 処理材料３５の同一部分が繰り返し固定ビー
ム１５に接触することがなく、スキッドマークの発生が
低減される。また、炉内を搬送される処理材料３５はそ
れぞれの小室１４で適正条件に加熱され、小室１４にお
ける加熱条件を変えることによって、最適な加熱状態を
得ることができる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、鋼片等の処理材料を加熱しながら搬送するウォーキングビーム型炉 に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来、鋼片等の処理材料を加熱しながら搬送する炉として、ウォーキングビー ム型炉が知られている。このウォーキングビーム型炉は、移動ビームと固定ビー ムを有し、移動ビームの上下前後運動すなわち矩形運動に基づいて、処理材料を 移動ビームと固定ビームで交互に支持しながら搬送するようにしており、例えば 、特公昭５０−２９６８６号公報に記載されているものでは、炉の天井部と底部 をそれぞれ対向方向に湾曲して突出させ、この突出部にそれぞれ複数のバーナを 配置して、処理材料の搬送方向に向かって火炎を形成することにより処理材料を 上下から加熱するようにしている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記ウォーキングビーム型炉は、固定ビームが処理材料の搬送 方向に沿って一直線上に配置されているので、処理材料の同一部分が繰り返し固 定ビームと接触し、この部分にスキッドマークが発生するという問題点があった 。また、個々のバーナの加熱容積が大きく、処理材料がある場所では極めて効率 よく加熱されるが、別の場所では加熱不足となるという問題点があった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

そこで、本考案は、処理材料にスキッドマークが発生するのを防止するととも に、炉内を搬送される処理材料を均一に加熱し得るウォーキングビーム型炉を提 供するためになされたもので、処理材料の搬送通路を挟んで該搬送通路の上方と 下方にそれぞれ搬送方向と直交方向に伸びる複数の仕切壁を対向して設け、下部 の仕切壁に固定ビームを架け渡すとともに、これら固定ビームを千鳥状に配置し 、上部の仕切壁で仕切られた炉の側壁部分と下部の仕切壁で仕切られた炉の側壁 部分にそれぞれバーナを対向して設けたものである。

【０００５】

【作用】

上記構成のウォーキングビーム型炉では、固定ビームが千鳥状に配置されてい るので、処理材料はその異なる部分で固定ビームと接触し、すなわち同一部分が 繰り返し固定ビームと接触するということはなく、処理材料に発生するスキッド マークが減少する。また、上下の対向する仕切壁で仕切られた炉の側壁部分にそ れぞれバーナを配置しているので、隣接する仕切壁により区画された領域におけ る加熱条件を操作することにより、最適な加熱状態を得ることができる。

【０００６】

【実施例】

以下、添付図面を参照して本考案の実施例について説明する。図１，２は本考 案に係るウォーキングビーム型炉１を示し、このウォーキングビーム型炉１の炉 殻２は箱型の耐火構造物で構成されている。炉殻２の短辺方向（以下「幅方向」 という。）に伸びる側壁３，４には、装入口５と抽出口６がそれぞれ対向して形 成され、これら装入口５と抽出口６がそれぞれ扉７，８で開閉できるようにして ある。

【０００７】 炉殻２の底部９には、幅方向に伸びる複数の下部仕切壁１０が所定間隔ごとに 設けてある。一方、炉殻２の天井部１１には、上記下部仕切壁１０と所定間隔を 隔てて対向する幅方向の上部仕切壁１２が設けてあり、これら下部仕切壁１０と 上部仕切壁１２によって炉内１３の空間が複数の小室１４に区画されている。

【０００８】 また、隣接する下部仕切壁１０，１０には、それぞれ長辺方向に伸びる複数（ 本実施例では３本）の門型固定ビーム１５（１５ａ，１５ｂ，１５ｃ）が等間隔 に架け渡され、隣接する小室１４に位置する固定ビーム１５（１５ａ′，１５ｂ ′，１５ｃ′）がそれぞれ幅方向に位置をずらして配置されている。すなわち、 図２に示すように、固定ビーム１５は平面上千鳥状に配置されている。

【０００９】 さらに、底部９には、長手方向に伸びる２本の直線（図示せず）に沿って、隣 接する仕切壁１０，１０の間にそれぞれ長手方向に伸びる２つの長方形開口部１ ６が形成されており、これら開口部１６にそれぞれ可動ポスト１７が貫通して配 置されている。上記可動ポスト１７は、底部９から突出した下端部が基台１８に 連結され、上端部が下部仕切壁１０の上方に配置された移動ビーム１９に連結さ れており、上記基台１８が図示しない駆動源によって矢印Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄで示す 矩形運動を行うようにしてある。

【００１０】 炉殻２の長手方向に伸びる両側壁２０，２１には、隣接する上部仕切壁１２， １２と下部仕切壁１０，１０の間の部分２２，２３に、それぞれバーナ２４（２ ４ａ，２４ｂ）が設けてある。これらのバーナ２４は所謂リジェネ・バーナで、 図３に示すように、バーナ本体２８の中央部にセンタエア噴射ノズル２９、この センタエア噴射ノズル２９の両側に燃焼空気噴射ノズル３０，３１を有し、上記 センタエア噴射ノズル２９の中心に燃料噴射ノズル３２が挿入されている。また 、センタエア噴射ノズル２９が燃焼空気供給源（図示せず）、燃料噴射ノズル３ ２が燃料供給源（図示せず）にそれぞれ接続され、燃焼空気噴射ノズル３０，３ １が蓄熱器３３，３４、および切換弁（図示せず）を介して燃焼空気供給源と吸 引排気装置（共に図示せず）に接続されている。

【００１１】 上記バーナ２４では、燃料噴射ノズル３２より噴射される燃料に、センタエア 噴射ノズル２９より噴射される燃焼空気と一方の燃焼空気噴射ノズル３０（又は ３１）より噴射される燃焼空気が混合されて燃焼され、他方の燃焼空気噴射ノズ ル３１（又は３０）より炉内１３の排ガスが吸引され、この排ガスの熱が蓄熱器 ３４（又は３３）で回収される。次に、所定時間後、切換弁が切り換えられ、上 記他方の燃焼空気噴射ノズル３１に燃焼空気が供給され、上記一方の燃焼空気噴 射ノズル３０より炉内１３の排ガスが吸引され、この排ガスの熱が蓄熱器３３で 回収される。また、燃焼空気噴射ノズル３１に供給される燃焼空気は、蓄熱器３ ４を通過する際に加熱される。したがって、上記バーナ２４によれば、燃焼空気 噴射ノズル３０，３１で燃焼空気が交互に噴射、吸引され、排ガスから蓄熱器３ ３，３４に回収された熱によって燃焼空気が予熱されるので、効率のよい燃焼が 得られる。

【００１２】 上記構成を有するウォーキングビーム型炉１では、基台１８の矩形運動に基づ いて移動ビーム１９が固定ビーム１５の上方で前進、下方で後退しながら前後に 移動する。また、バーナ２４には燃料と燃焼空気が供給され、それぞれの小室１ ４において上下左右の４箇所で火炎が形成される。

【００１３】 処理材料３５は、装入口５の扉７を開き、図示しない材料搬送装置によって炉 内１３に装入される。次に、処理材料３５は移動ビーム１９に受け渡され、この 移動ビーム１９の矩形運動により該移動ビーム１９と固定ビーム１５に交互に支 持されながら搬送路３６を抽出側に搬送される。そして、炉内で加熱され抽出側 に移動した処理材料３５は、抽出口６の扉８を開き、図示しない材料抽出装置に より炉内１３より抽出される。

【００１４】 また、処理材料３５は、その搬送過程でそれぞれの小室１４の側壁部分２０， ２１に設けた４つのバーナ２４で形成される火炎により加熱される。したがって 、搬送路３６を移動する処理材料３５は、それぞれの小室１４において所望の条 件に加熱される。

【００１５】 さらに、固定ビーム１５は千鳥状に配置されているので、処理材料３５が常に その同一部分で固定ビーム１５と接触することはなく、スキッドマークの発生が 低減される。

【００１６】 なお、上記実施例では、バーナ２４はリジェネ・バーナを使用するものとした が、これに限るものではない。また、それぞれの小室１４に位置する上下左右４ つのバーナ２４で同時に燃料を燃焼するものとしたが、図２に示すように、ある 時間帯は対向するリジェネ・バーナ２４のうち一方のリジェネ・バーナ２４で燃 料を燃焼すると共に他方のリジェネ・バーナ２４では炉内排ガスを排出し、別の 時間帯では上記他方のリジェネ・バーナ２４で燃料を燃焼しつつ一方のリジェネ ・バーナ２４で排ガスを排出し、しかも隣接する小室１４では常に逆方向に火炎 が形成されるようにしてもよい。さらに、それぞれのリジェネ・バーナ２４の燃 料燃焼量は同一である必要はなく、最も効率のよい加熱状態が得られるように調 節すればよい。また、上記実施例では、固定ビーム１５ａと１５ａ′、１５ｂと １５ｂ′、１５ｃと１５ｃ′はそれぞれ近接して設けているが、図４に示すよう に、隣接する固定ビーム１５の間隔を広げ、これらを炉幅方向に等間隔に配置し てもよい。

【００１７】

【考案の効果】

以上の説明で明らかなように、本考案に係るウォーキングビーム型炉では、固 定ビームが千鳥状に配置されているので、処理材料がその同一部分で繰り返し固 定ビームに接触することがなく、スキッドマークの発生が低減されるか、ほとん ど無くなる。また、炉内空間が幅方向に伸びる複数の小室に分割され、それぞれ の小室の側壁部分には搬送通路を挟んで上下にバーナが配置されているので、炉 内を搬送される処理材料はそれぞれの小室で適正な条件に加熱され、それぞれの 小室における加熱条件を変えることによって、最適な加熱状態を得ることができ る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本考案に係るウォーキングビーム型炉の縦断
面図である。

【図２】 図１に示すウォーキングビーム型炉のII−II
線断面図である。

【図３】 バーナの断面図である。

【図４】 他の実施例に係るウォーキングビーム型炉の
横断面図である。

【符号の説明】

１…ウォーキングビーム型炉、１０…下部仕切壁、１２
…上部仕切壁、１４…小室、１５…固定ビーム、１９…
移動ビーム、２４…リジェネ・バーナ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 固定ビームと移動ビームで処理材料を交
   互に支持しながら搬送するウォーキングビーム型炉にお
   いて、処理材料の搬送通路を挟んで該搬送通路の上方と
   下方にそれぞれ搬送方向と直交方向に伸びる複数の仕切
   壁を対向して設け、下部の仕切壁に固定ビームを架け渡
   すとともに、これら固定ビームを千鳥状に配置し、上部
   の仕切壁で仕切られた炉の側壁部分と下部の仕切壁で仕
   切られた炉の側壁部分にそれぞれバーナを対向して設け
   たことを特徴とするウォーキングビーム型炉。