JP2578411B2 - 光磁気情報記録装置 - Google Patents
光磁気情報記録装置Info
- Publication number
- JP2578411B2 JP2578411B2 JP20053286A JP20053286A JP2578411B2 JP 2578411 B2 JP2578411 B2 JP 2578411B2 JP 20053286 A JP20053286 A JP 20053286A JP 20053286 A JP20053286 A JP 20053286A JP 2578411 B2 JP2578411 B2 JP 2578411B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- protrusion
- outer frame
- optical
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光磁気情報記録装置、特にテイスク状の光磁
気記録媒体面に所定方向に磁界を生じさせると共に、光
ビームの照射によって非接触で情報を記録、再生又は消
去させることができる光磁気情報記録装置に関するもの
である。
気記録媒体面に所定方向に磁界を生じさせると共に、光
ビームの照射によって非接触で情報を記録、再生又は消
去させることができる光磁気情報記録装置に関するもの
である。
〔従来技術〕 光磁気情報記録装置としては、例えばデイスク状の記
録媒体を用いる光磁気デイスク装置等がある。
録媒体を用いる光磁気デイスク装置等がある。
かかる装置に用いる光磁気記録媒体としては、デイス
ク面上に垂直磁化膜を形成し、その垂直磁化膜の磁化方
向を予じめ定めた方向にそろえたものが用いられる。
ク面上に垂直磁化膜を形成し、その垂直磁化膜の磁化方
向を予じめ定めた方向にそろえたものが用いられる。
そして情報の記録はレーザ変調したレーザビームを垂
直磁化膜に照射し、垂直磁化膜の温度がキユーリ点（16
0゜）以上になるようにして行なう。この時レーザビー
ムが照射された部分を、直流バイアス磁界により磁化方
向が周囲と逆になるようにし、再び磁化する。このよう
にして、情報信号に応じて磁化反転部から成るビツト列
を形成する。
直磁化膜に照射し、垂直磁化膜の温度がキユーリ点（16
0゜）以上になるようにして行なう。この時レーザビー
ムが照射された部分を、直流バイアス磁界により磁化方
向が周囲と逆になるようにし、再び磁化する。このよう
にして、情報信号に応じて磁化反転部から成るビツト列
を形成する。
また、光磁気デイスク上に記録した情報を読み取るに
は、垂直磁化膜に読取り用のレーザビームを照射し、垂
直磁化膜の磁化方向の相違により、反射ビームの方向を
変える、いわゆる磁気力−効果を利用した読取り方法が
ある。
は、垂直磁化膜に読取り用のレーザビームを照射し、垂
直磁化膜の磁化方向の相違により、反射ビームの方向を
変える、いわゆる磁気力−効果を利用した読取り方法が
ある。
記録ピツトを消去する場合には、記録ピツト上をトラ
ツキングしながらレーザビームを記録ピツト部分に照射
し、記録ピツトと反対方向の磁化方向の直流バイアス磁
界をかけ、再び垂直磁化膜の磁化方向を揃える。
ツキングしながらレーザビームを記録ピツト部分に照射
し、記録ピツトと反対方向の磁化方向の直流バイアス磁
界をかけ、再び垂直磁化膜の磁化方向を揃える。
尚、ここで直流バイアス磁界は、記録時と消去時に磁
化方向が切換えられるものとする。
化方向が切換えられるものとする。
直流バイアス磁界を発生する方法としては、一般に永
久磁石を用いる方法あるいは電磁石を用いる方法があ
る。
久磁石を用いる方法あるいは電磁石を用いる方法があ
る。
しかし、前者の永久磁石を用いる方法によれば、磁化
を反転させるのに時間がかかり、また磁化を反転する機
構が新たに必要となるため部品点数が多くなり、コスト
が上がるという不都合が生じる。このため、従来から直
流バイアス磁界を発生させる方法として後者の電磁石を
用いる方法が採用されている。
を反転させるのに時間がかかり、また磁化を反転する機
構が新たに必要となるため部品点数が多くなり、コスト
が上がるという不都合が生じる。このため、従来から直
流バイアス磁界を発生させる方法として後者の電磁石を
用いる方法が採用されている。
第４図は、光磁気デイスクに情報の記録を行なう。従
来の光磁気デイスク装置の概略構成を示す側断面図であ
る。
来の光磁気デイスク装置の概略構成を示す側断面図であ
る。
この図において、100は光デイスクで、この光デイス
ク100には凹凸から成る列状のトラツクが複数形成され
ている。そして垂直磁化膜101を挟んでウエハス状に上
面に基板102を、下面には裏打ち板103を設けることによ
って光デイスク100が構成されている。
ク100には凹凸から成る列状のトラツクが複数形成され
ている。そして垂直磁化膜101を挟んでウエハス状に上
面に基板102を、下面には裏打ち板103を設けることによ
って光デイスク100が構成されている。
ここで、垂直磁化膜101としては、例えばGdTbFe,TbFe
Coから成るものが知られていおり、裏打板103としては
例えばガラス、プラスチツク製のものが知られている。
Coから成るものが知られていおり、裏打板103としては
例えばガラス、プラスチツク製のものが知られている。
対物レンズ104は光学ヘツドとともに光デイスク100の
半径方向に移動可能に配置され、光学ヘッド内に設けら
れた対物レンズ駆動手段105により光軸方向およびデイ
スク半径方向に微小駆動され、これによってフオーカシ
ングあるいはトラツキング制御を行なっている。
半径方向に移動可能に配置され、光学ヘッド内に設けら
れた対物レンズ駆動手段105により光軸方向およびデイ
スク半径方向に微小駆動され、これによってフオーカシ
ングあるいはトラツキング制御を行なっている。
対物レンズ駆動手段105は対物レンズ104を電磁力によ
って駆動する装置である。図示していないが、この対物
レンズ駆動手段は、例えばコイルとこのコイルを横切る
磁界を発生する磁石とから構成され、これらの一方を対
物レンズに他方を光ヘツド本体に夫々固定し、コイルに
電流を流すことによって生じる駆動力によって対物レン
ズ104を移動せしめるものである。
って駆動する装置である。図示していないが、この対物
レンズ駆動手段は、例えばコイルとこのコイルを横切る
磁界を発生する磁石とから構成され、これらの一方を対
物レンズに他方を光ヘツド本体に夫々固定し、コイルに
電流を流すことによって生じる駆動力によって対物レン
ズ104を移動せしめるものである。
この対物レンズ駆動手段105及び対物ランズ104は底部
に光通過用の開口106を備えた保護外枠107内に収納され
ている。この保護外枠107は通常プラスチツク等から形
成され、外部のホコリ等がレンズ表面に付着されるのを
防止する。
に光通過用の開口106を備えた保護外枠107内に収納され
ている。この保護外枠107は通常プラスチツク等から形
成され、外部のホコリ等がレンズ表面に付着されるのを
防止する。
またヨーク108は例えばＥ字型の磁性体から成るもの
で形成しており、ヨーク108の第１の突出部108aに巻い
たコイル109に電流を流すことによりバイアス磁石を形
成する。このバイアス磁石によって、垂直磁化膜101に
は上向きの磁界が印加される。ここでヨークの第１の突
出部から出た磁力線は、第４図に破線で示すような経路
を通てヨークの第２の突出部に入る。従って、垂直磁化
膜101における磁束密度分布は膜面方向に広がり、磁束
の一部は記録に寄与しない洩れ磁束となる。このような
構成において、記録に必要な磁界の強さを得るには、コ
イル109に大きな電流を流したり、コイル109の巻数を多
くしたりすることが必要となる。
で形成しており、ヨーク108の第１の突出部108aに巻い
たコイル109に電流を流すことによりバイアス磁石を形
成する。このバイアス磁石によって、垂直磁化膜101に
は上向きの磁界が印加される。ここでヨークの第１の突
出部から出た磁力線は、第４図に破線で示すような経路
を通てヨークの第２の突出部に入る。従って、垂直磁化
膜101における磁束密度分布は膜面方向に広がり、磁束
の一部は記録に寄与しない洩れ磁束となる。このような
構成において、記録に必要な磁界の強さを得るには、コ
イル109に大きな電流を流したり、コイル109の巻数を多
くしたりすることが必要となる。
しかしながら、コイルに大電流を流すと、大型で大容
量の電源が必要となり、また温度上昇も無視できなくな
る。また巻数を増やす場合にはバイアス磁石の大型化が
避けられなくなり、巻数の増加に伴ないコイルのリアク
タンスが増加するが、この際記録、消去又は逆の切換え
に時間がかかるという問題がある。
量の電源が必要となり、また温度上昇も無視できなくな
る。また巻数を増やす場合にはバイアス磁石の大型化が
避けられなくなり、巻数の増加に伴ないコイルのリアク
タンスが増加するが、この際記録、消去又は逆の切換え
に時間がかかるという問題がある。
本発明の目的は、光磁気記録媒体に効率良く磁界を印
加出来る光磁気情報記録装置を提供することにある。
加出来る光磁気情報記録装置を提供することにある。
本発明の目的は、光磁気記録媒体に光ビームを集光さ
せる対物レンズと前記光磁気記録媒体に対して前記対物
レンズの反対側に設けられ、前記光ビームの集光点近傍
の前記光磁気記録媒体に外部から磁界を印可するバイア
ス磁界発生手段と前記対物レンズをその内部に収納し、
前記光磁気記録媒体に対向する位置に前記光ビームを通
過させる開口を有した保護外枠とを備える光磁気情報記
録装置において、 前記保護外枠の前記光磁気記録媒体に対向する面を強
磁性体で構成するとともに、前記バイアス磁界発生手段
が前記集光点近傍に配された第１の突出部及び前記第１
の突出部から前記光磁気記録媒体の表面に沿った方向に
隔離して配された第２の突出部を備えたヨークと前記第
１の突出部に巻かれたコイルとから構成され、前記第１
の突出部の前記媒体表面に沿う方向における幅をl1、前
記第１の突出部と第２の突出部との間隔をl3、前記保護
外枠の開口の幅をl2、前記ヨークと保護外枠との間の距
離をｄとしたときに、条件式 l3/d＞１ l2/l1＜１ を満足することによって達成される。
せる対物レンズと前記光磁気記録媒体に対して前記対物
レンズの反対側に設けられ、前記光ビームの集光点近傍
の前記光磁気記録媒体に外部から磁界を印可するバイア
ス磁界発生手段と前記対物レンズをその内部に収納し、
前記光磁気記録媒体に対向する位置に前記光ビームを通
過させる開口を有した保護外枠とを備える光磁気情報記
録装置において、 前記保護外枠の前記光磁気記録媒体に対向する面を強
磁性体で構成するとともに、前記バイアス磁界発生手段
が前記集光点近傍に配された第１の突出部及び前記第１
の突出部から前記光磁気記録媒体の表面に沿った方向に
隔離して配された第２の突出部を備えたヨークと前記第
１の突出部に巻かれたコイルとから構成され、前記第１
の突出部の前記媒体表面に沿う方向における幅をl1、前
記第１の突出部と第２の突出部との間隔をl3、前記保護
外枠の開口の幅をl2、前記ヨークと保護外枠との間の距
離をｄとしたときに、条件式 l3/d＞１ l2/l1＜１ を満足することによって達成される。
以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明の光磁気情報記録装置の一実施例の概
略構成を示すデイスク半径方向から見た時の側断面図で
ある。第１図において、１は光デイスクで、この光デイ
スク１には凹凸から成る列状のトラツクが複数形成され
ている。
略構成を示すデイスク半径方向から見た時の側断面図で
ある。第１図において、１は光デイスクで、この光デイ
スク１には凹凸から成る列状のトラツクが複数形成され
ている。
そして垂直磁化膜２を挟んでウエハス状に上面に基板
３を、下面には裏打ち板４を設けることによって光デイ
スク１が構成されている。ここで、垂直磁化膜２として
はスパツタリングや蒸着で作られるGdTbFe,TbFeCo等の
非晶質磁性合金或いはコバルトクロム合金薄膜とパーマ
ロイ面内磁化膜との２層膜等を用いることが出来る。裏
打板４としてはガラス、プラスチツク等の材料が用いら
れる。
３を、下面には裏打ち板４を設けることによって光デイ
スク１が構成されている。ここで、垂直磁化膜２として
はスパツタリングや蒸着で作られるGdTbFe,TbFeCo等の
非晶質磁性合金或いはコバルトクロム合金薄膜とパーマ
ロイ面内磁化膜との２層膜等を用いることが出来る。裏
打板４としてはガラス、プラスチツク等の材料が用いら
れる。
対物レンズ５はデイスク１の半径方向に移動可能に支
持され、光学ヘツド内に設けられた対物レンズ駆動手段
６により光軸方向およびデイスク半径方向に微小駆動さ
せることによりフオーカシングあるいはトラツキング制
御を行なう。対物レンズ駆動手段６は従来例の対物レン
ズ駆動手段105と同様に例えばコイルと磁石とから構成
され、対物レンズ５を電磁力によって駆動する。
持され、光学ヘツド内に設けられた対物レンズ駆動手段
６により光軸方向およびデイスク半径方向に微小駆動さ
せることによりフオーカシングあるいはトラツキング制
御を行なう。対物レンズ駆動手段６は従来例の対物レン
ズ駆動手段105と同様に例えばコイルと磁石とから構成
され、対物レンズ５を電磁力によって駆動する。
この対物レンズ駆動手段６及び対物レンズ５は底部、
即ち、光デイスク１に対向する位置に光ビームを透過さ
せる開口７を備えた保護外枠５内に収納され、外部から
のホコリ等の侵入から保護されている。この保護外枠８
は、電磁軟鉄、ボンデ鋼板、けい素鋼板或いは磁性鋼板
等の強磁性体から成る板材をプレス加工等で成形してい
る。
即ち、光デイスク１に対向する位置に光ビームを透過さ
せる開口７を備えた保護外枠５内に収納され、外部から
のホコリ等の侵入から保護されている。この保護外枠８
は、電磁軟鉄、ボンデ鋼板、けい素鋼板或いは磁性鋼板
等の強磁性体から成る板材をプレス加工等で成形してい
る。
また、ヨーク９は光デイスク１に対向する位置にギヤ
ツプを設けた、例えばＥ型形状の磁性材料から成ってお
り、ヨーク９の第１の突出部9a及び第２の部9bに巻かれ
たコイル10に電流を流すことによりバイアス磁石を形成
する。このバイアス磁石によって、垂直磁化膜２には上
向きの磁界が印加される。ここでコイル10に電流を流す
と、保護外枠８が強磁性体から成るので、発生した磁界
の磁力線は第１図の破線で示すようにヨーク９の第１の
突出部9aから光デイスク１上に配置された保護外枠部８
を通ってヨーク９の第２の突出部9bに流れる。
ツプを設けた、例えばＥ型形状の磁性材料から成ってお
り、ヨーク９の第１の突出部9a及び第２の部9bに巻かれ
たコイル10に電流を流すことによりバイアス磁石を形成
する。このバイアス磁石によって、垂直磁化膜２には上
向きの磁界が印加される。ここでコイル10に電流を流す
と、保護外枠８が強磁性体から成るので、発生した磁界
の磁力線は第１図の破線で示すようにヨーク９の第１の
突出部9aから光デイスク１上に配置された保護外枠部８
を通ってヨーク９の第２の突出部9bに流れる。
従って、ほぼ第１の突出部9aの直上にある記録部（光
ビームが照射される部分）に磁束が集中し、洩れ磁界を
少なくすることが出来る。従って、従来の光磁気情報記
録装置に見られるように、洩れ磁束のために必要な磁界
の強さが得られないという事態が回避できる。また、本
実施例を採用することにより、必要な強さの磁束を得る
ために電磁石を大きくするとか、コイルの巻数を増加す
るとか、過電流を流す必要がなくなり、光磁気情報記録
装置を小型化、低電力化出来るものである。また、前述
の如き洩れ磁束は、回りの電子部品に電磁誘電を生じさ
せ、信号ラインにノイズが入ることがある。特に、対物
レンズ駆動手段は電磁力を用いている上に、バイアス磁
界発生手段に近い位置にある為、影響を受けやすい。本
実施例は洩れ磁束を減少させるため、このような不都合
を防止する上でも有効である。
ビームが照射される部分）に磁束が集中し、洩れ磁界を
少なくすることが出来る。従って、従来の光磁気情報記
録装置に見られるように、洩れ磁束のために必要な磁界
の強さが得られないという事態が回避できる。また、本
実施例を採用することにより、必要な強さの磁束を得る
ために電磁石を大きくするとか、コイルの巻数を増加す
るとか、過電流を流す必要がなくなり、光磁気情報記録
装置を小型化、低電力化出来るものである。また、前述
の如き洩れ磁束は、回りの電子部品に電磁誘電を生じさ
せ、信号ラインにノイズが入ることがある。特に、対物
レンズ駆動手段は電磁力を用いている上に、バイアス磁
界発生手段に近い位置にある為、影響を受けやすい。本
実施例は洩れ磁束を減少させるため、このような不都合
を防止する上でも有効である。
第２図は本発明の他の実施例を示す側断面図である。
ここで第１図と同一の部材には共通の符号を付し、詳細
な説明は省略する。本実施例は、保護外枠がプラスチツ
ク等の非磁性体から成る枠体11の光デイスク１に対向す
る面に強磁性体層12を設けて成る。強磁性体層12は例え
ば電磁軟鉄から成る板材、ボンデ鋼板、けい素鋼板、磁
性鋼板等を枠体11に接着して形成される。また枠体11の
表面に蒸着或いはメツキ等によって強磁性体層12を設け
ても良い。本実施例は第１図の例に比べて、保護枠体を
軽量化できる利点がある。
ここで第１図と同一の部材には共通の符号を付し、詳細
な説明は省略する。本実施例は、保護外枠がプラスチツ
ク等の非磁性体から成る枠体11の光デイスク１に対向す
る面に強磁性体層12を設けて成る。強磁性体層12は例え
ば電磁軟鉄から成る板材、ボンデ鋼板、けい素鋼板、磁
性鋼板等を枠体11に接着して形成される。また枠体11の
表面に蒸着或いはメツキ等によって強磁性体層12を設け
ても良い。本実施例は第１図の例に比べて、保護枠体を
軽量化できる利点がある。
第１図及び第２図で示した実施例において、光デイス
クの記録部に更に効率良く磁束を集中せしめる為には、
保護枠体等が所定の条件を満足するように構成されてい
ることが望ましい。これを、第３図の光磁気情報記録装
置の概略図を用いて説明する 第３図に示すように、第１の突出部9aの光ディスク１
の表面に沿う方向における幅をl1,ヨーク９のギヤツプ
の間隔をl3,保護外枠８の開口の幅をl2,ヨーク９と保護
外枠８との間の距離をｄとしたときに、以下の式を満足
することが望ましい。
クの記録部に更に効率良く磁束を集中せしめる為には、
保護枠体等が所定の条件を満足するように構成されてい
ることが望ましい。これを、第３図の光磁気情報記録装
置の概略図を用いて説明する 第３図に示すように、第１の突出部9aの光ディスク１
の表面に沿う方向における幅をl1,ヨーク９のギヤツプ
の間隔をl3,保護外枠８の開口の幅をl2,ヨーク９と保護
外枠８との間の距離をｄとしたときに、以下の式を満足
することが望ましい。
l3/d＞１ （１） l2/l1＜１ （２） 上記（１）式は、ギヤツプ間隔が、ヨークと保護外枠
との距離よりも大きいことを意味する。（１）式の条件
をはずれると、第１の突出部から空中を通って直接第２
の突出部に入る磁力線が増加して、記録部の磁束密度が
高くなりにくい。
との距離よりも大きいことを意味する。（１）式の条件
をはずれると、第１の突出部から空中を通って直接第２
の突出部に入る磁力線が増加して、記録部の磁束密度が
高くなりにくい。
また（２）式は、第１の突出部の光ディスク表面に沿
う方向における幅が、保護外枠の開口の幅よりも大きい
ことを意味する。（２）式を満足するならば、保護外枠
８の端部が光デイスク１を挟んで第１の突出部9aに対向
する位置にあることになり、光デイスク１の記録部に垂
直方向の磁束が集中し易くなる。
う方向における幅が、保護外枠の開口の幅よりも大きい
ことを意味する。（２）式を満足するならば、保護外枠
８の端部が光デイスク１を挟んで第１の突出部9aに対向
する位置にあることになり、光デイスク１の記録部に垂
直方向の磁束が集中し易くなる。
以上説明した実施例に限らず、本発明は種々の応用が
可能である。例えば、光磁気記録媒体としては、前述の
デイスク状に限らず、カード状、テープ状のものも用い
ることが出来る。本発明は特許請求の範囲を逸脱しない
限りにおいて、このような変形を全て包含するものであ
る。
可能である。例えば、光磁気記録媒体としては、前述の
デイスク状に限らず、カード状、テープ状のものも用い
ることが出来る。本発明は特許請求の範囲を逸脱しない
限りにおいて、このような変形を全て包含するものであ
る。
上記のように本発明は、対物レンズの保護外枠の光磁
気記録媒体に対向する面を強磁性体で構成するととも
に、バイアス磁界発生手段が光ビームの集光点近傍に配
された第１の突出部及び第１の突出部から光磁気記録媒
体の表面に沿った方向に間隔して配された第２の突出部
を備えたヨークと第１の突出部に巻かれたコイルとから
構成され、第１の突出部の光磁気記録媒体表面に沿う方
向における幅をl1、第１の突出部と第２の突出部との間
隔をl3、保護外枠の開口の幅をl2、ヨークと保護外枠と
の間の距離をｄとしたときに、条件式 l3/d＞１ l2/l1＜１ を満足させることにより、バイアス磁石により生じた磁
束を光ビーム照射位置に効率よく集中させることがで
き、必要な強さの磁束を得るために電磁石を大きくする
とか、コイルの巻数を増加するとか、過電流を流す必要
をなくすることができる。従って、小型の光学系駆動装
置を製作することも可能になる。
気記録媒体に対向する面を強磁性体で構成するととも
に、バイアス磁界発生手段が光ビームの集光点近傍に配
された第１の突出部及び第１の突出部から光磁気記録媒
体の表面に沿った方向に間隔して配された第２の突出部
を備えたヨークと第１の突出部に巻かれたコイルとから
構成され、第１の突出部の光磁気記録媒体表面に沿う方
向における幅をl1、第１の突出部と第２の突出部との間
隔をl3、保護外枠の開口の幅をl2、ヨークと保護外枠と
の間の距離をｄとしたときに、条件式 l3/d＞１ l2/l1＜１ を満足させることにより、バイアス磁石により生じた磁
束を光ビーム照射位置に効率よく集中させることがで
き、必要な強さの磁束を得るために電磁石を大きくする
とか、コイルの巻数を増加するとか、過電流を流す必要
をなくすることができる。従って、小型の光学系駆動装
置を製作することも可能になる。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の光磁気情報記録装置の一実施例の概略
構成を示す側断面図、 第２図は本発明の光磁気情報記録装置の他の実施例の概
略構成を示す側断面図、 第３図は本発明の光磁気情報記録装置の各部の寸法を示
す概略図、 第４図は従来の光磁気情報記録装置の概略構成を示す側
断面図である。 １……光デイスク ５……対物レンズ ６……対物レンズ駆動手段 ７……開口 ８……保護外枠 ９……ヨーク 10……コイル
構成を示す側断面図、 第２図は本発明の光磁気情報記録装置の他の実施例の概
略構成を示す側断面図、 第３図は本発明の光磁気情報記録装置の各部の寸法を示
す概略図、 第４図は従来の光磁気情報記録装置の概略構成を示す側
断面図である。 １……光デイスク ５……対物レンズ ６……対物レンズ駆動手段 ７……開口 ８……保護外枠 ９……ヨーク 10……コイル
Claims (1)
- 【請求項１】光磁気記録媒体に光ビームを集光させる対
物レンズと前記光磁気記録媒体に対して前記対物レンズ
の反対側に設けられ、前記光ビームの集光点近傍の前記
光磁気記録媒体に外部から磁界を印可するバイアス磁界
発生手段と前記対物レンズをその内部に収納し、前記光
磁気記録媒体に対向する位置に前記光ビームを通過させ
る開口を有した保護外枠とを備える光磁気情報記録装置
において、 前記保護外枠の前記光磁気記録媒体に対向する面を強磁
性体で構成するとともに、前記バイアス磁界発生手段が
前記集光点近傍に配された第１の突出部及び前記第１の
突出部から前記光磁気記録媒体の表面に沿った方向に隔
離して配された第２の突出部を備えたヨークと前記第１
の突出部に巻かれたコイルとから構成され、前記第１の
突出部の前記媒体表面に沿う方向における幅をl1、前記
第１の突出部と第２の突出部との間隔をl3、前記保護外
枠の開口の幅をl2、前記ヨークと保護外枠との間の距離
をｄとしたときに、条件式 l3/d＞１ l2/l1＜１ を満足することを特徴とする光磁気情報記録装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20053286A JP2578411B2 (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 光磁気情報記録装置 |
| US06/904,453 US4843600A (en) | 1985-09-13 | 1986-09-08 | Recording head for magneto-optical information recording apparatus |
| DE19863630691 DE3630691A1 (de) | 1985-09-13 | 1986-09-09 | Magnetooptisches informationsaufzeichnungsgeraet |
| FR8612783A FR2590065B1 (fr) | 1985-09-13 | 1986-09-12 | Appareil d'enregistrement magneto-optique d'informations |
| GB8622064A GB2181879B (en) | 1985-09-13 | 1986-09-12 | Magneto-optical information recording apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20053286A JP2578411B2 (ja) | 1986-08-27 | 1986-08-27 | 光磁気情報記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6356835A JPS6356835A (ja) | 1988-03-11 |
| JP2578411B2 true JP2578411B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=16425870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20053286A Expired - Fee Related JP2578411B2 (ja) | 1985-09-13 | 1986-08-27 | 光磁気情報記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2578411B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS644942A (en) * | 1987-06-26 | 1989-01-10 | Nec Corp | Magneto-optical head |
| JPS6443820A (en) * | 1987-08-11 | 1989-02-16 | Nec Corp | Lens actuator |
-
1986
- 1986-08-27 JP JP20053286A patent/JP2578411B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6356835A (ja) | 1988-03-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0461907B1 (en) | Magneto-optical recording/reproducing device | |
| US4340914A (en) | Thermomagnetic recording and reproducing apparatus | |
| US4843600A (en) | Recording head for magneto-optical information recording apparatus | |
| JPH0630183B2 (ja) | 光磁気記録再生消去方法及びその装置 | |
| JPH073709B2 (ja) | 光磁気情報装置 | |
| JP2578411B2 (ja) | 光磁気情報記録装置 | |
| JP2517559B2 (ja) | 光磁気情報記録装置 | |
| JP2718712B2 (ja) | 光磁気記録装置 | |
| JPH0568763B2 (ja) | ||
| JP2706265B2 (ja) | 光学ヘッド装置 | |
| JP2904575B2 (ja) | 磁界変調光磁気記録装置 | |
| JP3088437B2 (ja) | 光磁気ディスク装置 | |
| JP2685471B2 (ja) | 光磁気記憶装置 | |
| JPS6265203A (ja) | 補助磁界印加装置 | |
| JPH0520724A (ja) | 光磁気記録装置 | |
| JP2834879B2 (ja) | 光磁気記録装置 | |
| JP2800391B2 (ja) | 光学ヘッドの磁界変調用コイル | |
| JPS6132244A (ja) | 光磁気記録装置 | |
| JP4294843B2 (ja) | 光磁気ディスク装置 | |
| JP2000021041A (ja) | 浮上型磁気ヘッド装置及びこれを用いた信号再生方法、記録再生方法 | |
| JPH03260936A (ja) | 磁界変調オーバライト光磁気ディスク装置 | |
| JPH0341648A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS61269204A (ja) | 磁界印加装置 | |
| JPS6337840A (ja) | 光磁気記録装置 | |
| JPH09204689A (ja) | 光学記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |