JP2574963B2 - ペースト塗布機 - Google Patents
ペースト塗布機Info
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- JP2574963B2 JP2574963B2 JP4001581A JP158192A JP2574963B2 JP 2574963 B2 JP2574963 B2 JP 2574963B2 JP 4001581 A JP4001581 A JP 4001581A JP 158192 A JP158192 A JP 158192A JP 2574963 B2 JP2574963 B2 JP 2574963B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネル等に所
望ペーストを塗布するためのペースト塗布機に係り、特
に、テーブルに載置された基板上に、ノズルから吐出さ
れるペーストを、縦あるいは横方向の直線状のみなら
ず、これと斜め方向にも塗布することができるようにし
たペースト塗布機に関する。
望ペーストを塗布するためのペースト塗布機に係り、特
に、テーブルに載置された基板上に、ノズルから吐出さ
れるペーストを、縦あるいは横方向の直線状のみなら
ず、これと斜め方向にも塗布することができるようにし
たペースト塗布機に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示パネルは、透明電極や薄膜トラ
ンジスタアレイなどを設けた二枚のガラスを数μｍ程度
の極めて接近した間隔で貼り合わせ、これによって形成
される空間に液晶を封止したものである。ガラスの貼り
合わせは、一方のガラスにシール剤をほぼ閉ループとな
るように設け、このガラスに他方のガラスを対面させて
シール剤で積層接着されることによって行われる。
ンジスタアレイなどを設けた二枚のガラスを数μｍ程度
の極めて接近した間隔で貼り合わせ、これによって形成
される空間に液晶を封止したものである。ガラスの貼り
合わせは、一方のガラスにシール剤をほぼ閉ループとな
るように設け、このガラスに他方のガラスを対面させて
シール剤で積層接着されることによって行われる。
【０００３】特開平２−５２７４２号公報には、ノズル
に対して基板を相対的に移動させ、ノズルから基板上に
抵抗ペーストを吐出させて所定の抵抗パターンを描画す
ることにより、抵抗の形成を行なう技術が紹介されてい
る。
に対して基板を相対的に移動させ、ノズルから基板上に
抵抗ペーストを吐出させて所定の抵抗パターンを描画す
ることにより、抵抗の形成を行なう技術が紹介されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術を用いてガラス上に閉ループ状にシール剤のパタ
ーンを描いてみると、縦あるいは横方向に直線状にシー
ル剤が塗布される部分では所望の塗布形状が得られる
が、縦あるいは横方向に対して斜めの方向に直線状にシ
ール剤が塗布される部分では所望の塗布形状が得られな
かった。
来技術を用いてガラス上に閉ループ状にシール剤のパタ
ーンを描いてみると、縦あるいは横方向に直線状にシー
ル剤が塗布される部分では所望の塗布形状が得られる
が、縦あるいは横方向に対して斜めの方向に直線状にシ
ール剤が塗布される部分では所望の塗布形状が得られな
かった。
【０００５】即ち、接着用のシール剤はガラスの周辺に
ループ状に塗布され、このループ状のパターンでは、縦
あるいは横方向のガラスの辺部でこれに沿う直線状にな
り、ガラスの角部で斜めの直線状になるが、斜めの直線
状にシール剤が塗布される部分では、縦あるいは横方向
の直線状にシール剤が塗布される部分と同じ幅のシール
剤の塗布パターンとなるべきであるのに対し、塗布量に
差が生じて狭幅になるし、また、途中で斜傾角度が変わ
る場合には、ペーストが引っ張られて屈曲部が予定した
位置に形成されず、所望の折線状にならない。
ループ状に塗布され、このループ状のパターンでは、縦
あるいは横方向のガラスの辺部でこれに沿う直線状にな
り、ガラスの角部で斜めの直線状になるが、斜めの直線
状にシール剤が塗布される部分では、縦あるいは横方向
の直線状にシール剤が塗布される部分と同じ幅のシール
剤の塗布パターンとなるべきであるのに対し、塗布量に
差が生じて狭幅になるし、また、途中で斜傾角度が変わ
る場合には、ペーストが引っ張られて屈曲部が予定した
位置に形成されず、所望の折線状にならない。
【０００６】塗布の幅が極端に狭くなると、この部分で
シール剤の途切れを生じ、液晶表示パネルの封止が不可
能になる。また、斜傾角の異なる部分が形成されると、
ガラスに設けた透明電極や薄膜トランジスタアレイなど
の一部がシール剤の外側に位置するようになる場合もあ
り、正常な表示が得られなくなる。
シール剤の途切れを生じ、液晶表示パネルの封止が不可
能になる。また、斜傾角の異なる部分が形成されると、
ガラスに設けた透明電極や薄膜トランジスタアレイなど
の一部がシール剤の外側に位置するようになる場合もあ
り、正常な表示が得られなくなる。
【０００７】また、上記の特開平２−５２７４２号公報
記載の技術では、正常量よりも多めに抵抗ペーストを塗
布し、しかる後、抵抗値を計りつつトリミングを行って
所望の抵抗パターンが得られるようにしている。しか
し、このような方法は非常に手間がかかるものである。
記載の技術では、正常量よりも多めに抵抗ペーストを塗
布し、しかる後、抵抗値を計りつつトリミングを行って
所望の抵抗パターンが得られるようにしている。しか
し、このような方法は非常に手間がかかるものである。
【０００８】本発明の目的は、かかる問題を解消し、斜
傾直線状のペースト塗布部でも所望の塗布形状が得られ
るようにしたペースト塗布機を提供することにある。
傾直線状のペースト塗布部でも所望の塗布形状が得られ
るようにしたペースト塗布機を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、基板とノズルの先端との間隔が基板上に
塗布されるペーストの厚さにほぼ等しいようにノズルが
設置され、該ノズルからの単位時間当りのペースト吐出
量を一定に保つ手段と、縦あるいは横方向に直線状にペ
ーストを塗布する部分と縦あるいは横方向に対して斜め
の方向に直線状にペーストを塗布する部分とで該ノズル
と該基板との単位時間当りの相対的移動量がほぼ一致す
るように制御する手段とを設ける。
に、本発明は、基板とノズルの先端との間隔が基板上に
塗布されるペーストの厚さにほぼ等しいようにノズルが
設置され、該ノズルからの単位時間当りのペースト吐出
量を一定に保つ手段と、縦あるいは横方向に直線状にペ
ーストを塗布する部分と縦あるいは横方向に対して斜め
の方向に直線状にペーストを塗布する部分とで該ノズル
と該基板との単位時間当りの相対的移動量がほぼ一致す
るように制御する手段とを設ける。
【００１０】
【作用】ノズルと基板との単位時間当りの相対的移動量
がほぼ等しいときには、ノズルからの単位時間当りのペ
ースト吐出量が一定である場合、ペーストの塗布形状は
ほぼ等しい。本発明においては、ノズルからの単位時間
当りのペースト吐出量は一定に保たれ、かつ斜傾直線状
にペーストを塗布する部分も縦横直線状にペーストを塗
布する部分とノズル，基板間の単位時間当りの相対的移
動量がほぼ一致して、単位距離当りのペースト塗布量が
ほぼ一致するから、斜傾直線状にペーストを塗布する部
分では、所望の斜傾角度で縦，横方向の直線状にペース
トを塗布する部分の塗布形状とほぼ等しい幅でペースト
が塗布されることになる。
がほぼ等しいときには、ノズルからの単位時間当りのペ
ースト吐出量が一定である場合、ペーストの塗布形状は
ほぼ等しい。本発明においては、ノズルからの単位時間
当りのペースト吐出量は一定に保たれ、かつ斜傾直線状
にペーストを塗布する部分も縦横直線状にペーストを塗
布する部分とノズル，基板間の単位時間当りの相対的移
動量がほぼ一致して、単位距離当りのペースト塗布量が
ほぼ一致するから、斜傾直線状にペーストを塗布する部
分では、所望の斜傾角度で縦，横方向の直線状にペース
トを塗布する部分の塗布形状とほぼ等しい幅でペースト
が塗布されることになる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。図１は本発明によるペースト塗布機の一実施例を示
す斜視図であって、１はノズル、２はペースト収納筒、
３は光学式変位計、４はＺ軸テーブル部、５はＸ軸テー
ブル部、６はＹ軸テーブル部、７は基板、８は基板吸着
部、９は架台部、１０はＺ軸テーブル部支持部、１１は
制御装置である。
る。図１は本発明によるペースト塗布機の一実施例を示
す斜視図であって、１はノズル、２はペースト収納筒、
３は光学式変位計、４はＺ軸テーブル部、５はＸ軸テー
ブル部、６はＹ軸テーブル部、７は基板、８は基板吸着
部、９は架台部、１０はＺ軸テーブル部支持部、１１は
制御装置である。
【００１２】同図において、架台部９上にＸ軸テーブル
部５が固定して載置され、このＸ軸テーブル５上にＸ軸
方向に移動可能にＹ軸テーブル部６が搭載されている。
そして、このＹ軸テーブル部６上に、Ｙ軸方向に移動可
能に、基板吸着部（テーブル）８が搭載されている。こ
の基板吸着部８に基板７が、例えばその４辺がＸ，Ｙ軸
に平行となるように、吸着されて固定されている。これ
らＸ軸テーブル部５、Ｙ軸テーブル部６は制御装置１１
によって制御駆動され、Ｘ軸テーブル部５が駆動される
と、Ｙ軸テーブル部６がＸ軸方向に移動して基板吸着部
８が、従って基板７がＸ軸方向に移動し、Ｙ軸テーブル
部６が駆動されると、基板７がＹ軸方向に移動する。従
って、Ｘ軸テーブル部５とＹ軸テーブル部６とが制御装
置１１によって制御駆動されることにより、架台部９の
面に平行な面内で任意の方向に移動することができる。
部５が固定して載置され、このＸ軸テーブル５上にＸ軸
方向に移動可能にＹ軸テーブル部６が搭載されている。
そして、このＹ軸テーブル部６上に、Ｙ軸方向に移動可
能に、基板吸着部（テーブル）８が搭載されている。こ
の基板吸着部８に基板７が、例えばその４辺がＸ，Ｙ軸
に平行となるように、吸着されて固定されている。これ
らＸ軸テーブル部５、Ｙ軸テーブル部６は制御装置１１
によって制御駆動され、Ｘ軸テーブル部５が駆動される
と、Ｙ軸テーブル部６がＸ軸方向に移動して基板吸着部
８が、従って基板７がＸ軸方向に移動し、Ｙ軸テーブル
部６が駆動されると、基板７がＹ軸方向に移動する。従
って、Ｘ軸テーブル部５とＹ軸テーブル部６とが制御装
置１１によって制御駆動されることにより、架台部９の
面に平行な面内で任意の方向に移動することができる。
【００１３】一方、架台部９の面上にはＺ軸テーブル部
支持部１０が搭載されており、このＺ軸テーブル部支持
部１０にノズル１やペーストを収納したペースト収納筒
２、光学式変位計３をＺ軸方向（上下方向）に移動させ
るＺ軸テーブル部４が取り付けられている。ここで、ノ
ズル１はペースト収納筒２の下端に取り付けられてお
り、光学式変位計３はペースト収納筒２の脇に配置され
ている。Ｚ軸テーブル部４も制御装置１１によって制御
駆動され、Ｚ軸テーブル部４が駆動されると、これらノ
ズル１やペースト収納筒２、光学式変位計３が上下方向
に移動する。
支持部１０が搭載されており、このＺ軸テーブル部支持
部１０にノズル１やペーストを収納したペースト収納筒
２、光学式変位計３をＺ軸方向（上下方向）に移動させ
るＺ軸テーブル部４が取り付けられている。ここで、ノ
ズル１はペースト収納筒２の下端に取り付けられてお
り、光学式変位計３はペースト収納筒２の脇に配置され
ている。Ｚ軸テーブル部４も制御装置１１によって制御
駆動され、Ｚ軸テーブル部４が駆動されると、これらノ
ズル１やペースト収納筒２、光学式変位計３が上下方向
に移動する。
【００１４】かかる構成において、基板７上にペースト
のパターンを描く場合には、まず、Ｚ軸テーブル部４が
制御装置１１によって駆動制御され、ノズル１の先端を
基板７から所定の高さ位置に固定する。ここでは、この
高さ位置を形成されるペーストパターンの厚み分とす
る。
のパターンを描く場合には、まず、Ｚ軸テーブル部４が
制御装置１１によって駆動制御され、ノズル１の先端を
基板７から所定の高さ位置に固定する。ここでは、この
高さ位置を形成されるペーストパターンの厚み分とす
る。
【００１５】このようにノズル１の位置が設定された
後、制御装置１１によってＸ軸テーブル部５とＹ軸テー
ブル部６とが駆動制御されて基板７が上記平面上を移動
し、これととともに、ノズル１の先端から単位時間当り
一定の吐出量でペーストが基板７上に吐出される。これ
により、基板７上にペーストのパターンが描かれるが、
この場合、このパターンが縦，横、即ち、Ｘ軸方向，Ｙ
軸方向で直線状に描かれる部分（以下、「パターンの縦
横直線部分」という）でも、Ｘ軸，Ｙ軸に対し斜めの方
向に直線状に描かれる部分（以下、「パターンの斜傾直
線部分」という）でも、ノズル１の先端と基板７との単
位時間当たりの相対速度が等しくなるように、制御装置
１１によってＸ軸テーブル部５とＹ軸テーブル部６とが
制御される。従って、パターンの縦横直線部分とパター
ンの斜傾直線部分とで、ほとんど同じ状態でペーストが
基板７上に塗布されることになり、パターンの斜傾直線
部分では、制御装置１１の制御で決まる斜傾角度で、か
つパターンの縦横直線部分とほぼ同じ断面形状のパター
ンが形成されることになる。
後、制御装置１１によってＸ軸テーブル部５とＹ軸テー
ブル部６とが駆動制御されて基板７が上記平面上を移動
し、これととともに、ノズル１の先端から単位時間当り
一定の吐出量でペーストが基板７上に吐出される。これ
により、基板７上にペーストのパターンが描かれるが、
この場合、このパターンが縦，横、即ち、Ｘ軸方向，Ｙ
軸方向で直線状に描かれる部分（以下、「パターンの縦
横直線部分」という）でも、Ｘ軸，Ｙ軸に対し斜めの方
向に直線状に描かれる部分（以下、「パターンの斜傾直
線部分」という）でも、ノズル１の先端と基板７との単
位時間当たりの相対速度が等しくなるように、制御装置
１１によってＸ軸テーブル部５とＹ軸テーブル部６とが
制御される。従って、パターンの縦横直線部分とパター
ンの斜傾直線部分とで、ほとんど同じ状態でペーストが
基板７上に塗布されることになり、パターンの斜傾直線
部分では、制御装置１１の制御で決まる斜傾角度で、か
つパターンの縦横直線部分とほぼ同じ断面形状のパター
ンが形成されることになる。
【００１６】そこで、基板７を液晶表示パネルの一方の
ガラスとし、このガラスの周辺にシール剤のペーストを
ループ状に塗布したとすると、描かれたパターンのこの
ガラス７の角度でのパターンの斜傾直線部分では、所望
の斜傾角度でこのガラスの辺部でのパターンの縦横直線
部分と同じ断面形状となる。
ガラスとし、このガラスの周辺にシール剤のペーストを
ループ状に塗布したとすると、描かれたパターンのこの
ガラス７の角度でのパターンの斜傾直線部分では、所望
の斜傾角度でこのガラスの辺部でのパターンの縦横直線
部分と同じ断面形状となる。
【００１７】図２は図１に示した実施例でのペーストの
塗布動作状態を示す図であって、１２はペースト、１３
はホース、１４は吸着穴であり、図１に対応する部分に
は同一符号をつけている。
塗布動作状態を示す図であって、１２はペースト、１３
はホース、１４は吸着穴であり、図１に対応する部分に
は同一符号をつけている。
【００１８】図２において、ホース１３を介してペース
ト収納筒２に圧縮空気あるいは圧縮窒素ガスが送られ、
これにより、ペースト収納筒２に収納されているペース
ト１２がノズル１の先端から基板７上に吐出される。こ
のとき、ノズル１からの単位時間当りのペースト吐出量
は一定に保たれる。基板吸着部８には複数個の吸着穴１
４が設けられ、これら吸着穴１４により、基板７が吸着
されて基板吸着部８の所定の位置に固定載置されてい
る。光学式変位計３は三角測量法でもって基板７との間
隔を計測する。具体的には、投光素子からレーザ光を基
板７上に斜めに照射し、そこからの反射光を受光する受
光素子の位置から光学式変位計３と基板７との間隔を測
定する。そして、ノズル１と光学式変位計３の位置関係
からノズル１の先端と基板７との間隔を算出する。かか
る算出結果に基づいて、制御装置１１（図１）がＺ軸テ
ーブル部４を制御し、このノズル１の先端と基板７との
間隔を、先に説明したように、また、図２に示すよう
に、基板７上に塗布されるペースト１２の厚さにほぼ等
しくなるようにする。
ト収納筒２に圧縮空気あるいは圧縮窒素ガスが送られ、
これにより、ペースト収納筒２に収納されているペース
ト１２がノズル１の先端から基板７上に吐出される。こ
のとき、ノズル１からの単位時間当りのペースト吐出量
は一定に保たれる。基板吸着部８には複数個の吸着穴１
４が設けられ、これら吸着穴１４により、基板７が吸着
されて基板吸着部８の所定の位置に固定載置されてい
る。光学式変位計３は三角測量法でもって基板７との間
隔を計測する。具体的には、投光素子からレーザ光を基
板７上に斜めに照射し、そこからの反射光を受光する受
光素子の位置から光学式変位計３と基板７との間隔を測
定する。そして、ノズル１と光学式変位計３の位置関係
からノズル１の先端と基板７との間隔を算出する。かか
る算出結果に基づいて、制御装置１１（図１）がＺ軸テ
ーブル部４を制御し、このノズル１の先端と基板７との
間隔を、先に説明したように、また、図２に示すよう
に、基板７上に塗布されるペースト１２の厚さにほぼ等
しくなるようにする。
【００１９】次に、図３により、図１に示した実施例の
基板７上へのペースト１２の塗布動作について説明す
る。
基板７上へのペースト１２の塗布動作について説明す
る。
【００２０】図３において、ここでは、ペースト１２が
ａ−ｂ−ｃ−ｄの経路で塗布されるものとする。なお、
ａ−ｂ，ｃ−ｄはパターンの縦横直線部分であり、ｂ−
ｃはパターンの斜傾直線部分である。
ａ−ｂ−ｃ−ｄの経路で塗布されるものとする。なお、
ａ−ｂ，ｃ−ｄはパターンの縦横直線部分であり、ｂ−
ｃはパターンの斜傾直線部分である。
【００２１】いま、パターンの縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ
−ｄでのノズル１の先端と基板７との単位時間当りの相
対的移動量を夫々Ｌ1，Ｌ3とし、パターンの斜傾直線部
分ｂ−ｃでのノズル１の先端と基板７との単位時間当り
の相対的移動量をＬ2とすると、これらほぼ等しくさ
れ、Ｌ1＝Ｌ2＝Ｌ3 となるようにする。
−ｄでのノズル１の先端と基板７との単位時間当りの相
対的移動量を夫々Ｌ1，Ｌ3とし、パターンの斜傾直線部
分ｂ−ｃでのノズル１の先端と基板７との単位時間当り
の相対的移動量をＬ2とすると、これらほぼ等しくさ
れ、Ｌ1＝Ｌ2＝Ｌ3 となるようにする。
【００２２】パターンの斜傾直線部分ｂ−ｃでの相対的
移動量Ｌ2はＸ軸テーブル部５の移動量ＸＤとＹ軸テー
ブル部６の移動量ＹＤからピタゴラスの定理によって求
めることができる。かかる移動量ＸＤ，ＹＤは次のよう
にして求められる。即ち、ここで、ｂ点の位置を
〔ｘ1，ｙ1〕、ｃ点の位置を〔ｘ2，ｙ2〕とすると、斜
傾角度θ及びｂ−ｃ間の距離Ｌは図４の式（１）、
（２）で与えられる。
移動量Ｌ2はＸ軸テーブル部５の移動量ＸＤとＹ軸テー
ブル部６の移動量ＹＤからピタゴラスの定理によって求
めることができる。かかる移動量ＸＤ，ＹＤは次のよう
にして求められる。即ち、ここで、ｂ点の位置を
〔ｘ1，ｙ1〕、ｃ点の位置を〔ｘ2，ｙ2〕とすると、斜
傾角度θ及びｂ−ｃ間の距離Ｌは図４の式（１）、
（２）で与えられる。
【００２３】前述の通り、Ｌ1＝Ｌ2＝Ｌ3とするために
は、 Ｌ＝ｎ×Ｌ1＝ｎ×Ｌ3 ……（３） で与えられる任意数ｎを求める。この任意数ｎによっ
て、パターン斜傾直線部ｂ−ｃ間の単位時間当りの移動
量Ｌ2が求まり、 ＸＤ＝ｃｏｓθ×Ｌ2＝ｃｏｓθ×Ｌ／ｎ ……（４） ＹＤ＝ｓｉｎθ×Ｌ2＝ｓｉｎθ×Ｌ／ｎ ……（５） が与えられる。
は、 Ｌ＝ｎ×Ｌ1＝ｎ×Ｌ3 ……（３） で与えられる任意数ｎを求める。この任意数ｎによっ
て、パターン斜傾直線部ｂ−ｃ間の単位時間当りの移動
量Ｌ2が求まり、 ＸＤ＝ｃｏｓθ×Ｌ2＝ｃｏｓθ×Ｌ／ｎ ……（４） ＹＤ＝ｓｉｎθ×Ｌ2＝ｓｉｎθ×Ｌ／ｎ ……（５） が与えられる。
【００２４】単位時間当りのノズル１のペースト吐出量
は一定に保たれ、かつノズル１の先端と基板７との間隔
が基板７上に塗布されるペースト１２の厚さにほぼ等し
くなるようにノズル１の位置が設定されており、斜傾直
線部分ｂ−ｃと縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄとでのノズ
ル１の先端と基板７との単位時間当りの相対的移動量が
ほぼ等しいので、上記のように、パターンの斜傾直線部
分ｂ−ｃでの単位時間当りのペースト塗布量がパターン
の縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄでの単位時間当りのペー
スト塗布量と等しくなって、パターンの斜傾直線部分ｂ
−ｃと縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄとでの単位距離当り
のペースト塗布量も等しくなる。従って、パターンの斜
傾直線部分ｂ−ｃでは、所望の斜傾角θの直線パターン
が描かれることになり、しかも、この部分のパターン断
面形状もパターンの縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄと同じ
ものとなる。
は一定に保たれ、かつノズル１の先端と基板７との間隔
が基板７上に塗布されるペースト１２の厚さにほぼ等し
くなるようにノズル１の位置が設定されており、斜傾直
線部分ｂ−ｃと縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄとでのノズ
ル１の先端と基板７との単位時間当りの相対的移動量が
ほぼ等しいので、上記のように、パターンの斜傾直線部
分ｂ−ｃでの単位時間当りのペースト塗布量がパターン
の縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄでの単位時間当りのペー
スト塗布量と等しくなって、パターンの斜傾直線部分ｂ
−ｃと縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄとでの単位距離当り
のペースト塗布量も等しくなる。従って、パターンの斜
傾直線部分ｂ−ｃでは、所望の斜傾角θの直線パターン
が描かれることになり、しかも、この部分のパターン断
面形状もパターンの縦横直線部分ａ−ｂ，ｃ−ｄと同じ
ものとなる。
【００２５】さて、移動距離は、移動速度と移動に要す
る時間の積で与えられるから、前記の相対的移動量Ｌ1
〜Ｌ3は、各々、ノズル１とテーブル７の相対的移動速
度μ1〜μ3 に等しい。従って、パータンの縦横直線部
分ａ−ｂ，ｃ−ｄにおける相対的移動速度μ1，μ3とパ
ターンの斜傾直線部分ｂ−ｃにおける相対的移動速度μ
2 を一致させて（μ1＝μ2＝μ3），ｂ点，ｃ点の位置
が与えられれば、上記式（３）〜（５）を下記の様に書
換えることにより、上記式（１），（２）により、所望
の形状の塗布パターンを得ることができる。
る時間の積で与えられるから、前記の相対的移動量Ｌ1
〜Ｌ3は、各々、ノズル１とテーブル７の相対的移動速
度μ1〜μ3 に等しい。従って、パータンの縦横直線部
分ａ−ｂ，ｃ−ｄにおける相対的移動速度μ1，μ3とパ
ターンの斜傾直線部分ｂ−ｃにおける相対的移動速度μ
2 を一致させて（μ1＝μ2＝μ3），ｂ点，ｃ点の位置
が与えられれば、上記式（３）〜（５）を下記の様に書
換えることにより、上記式（１），（２）により、所望
の形状の塗布パターンを得ることができる。
【００２６】 Ｌ＝ｎ×μ1＝ｎ×μ3 ………（６） ＸＶ＝ｃｏｓθ×μ2＝ｃｏｓθ×Ｌ／ｎ ………（７） ＹＶ＝ｓｉｎθ×μ2＝ｓｉｎθ×Ｌ／ｎ ………（８） 尚、上記式（７），（８）において、ＸＶ，ＹＶは、夫
々、パターンの斜傾直線部分ｂ−ｃを描く場合のＸ軸テ
ーブル５、Ｙ軸テーブル６の移動速度である。
々、パターンの斜傾直線部分ｂ−ｃを描く場合のＸ軸テ
ーブル５、Ｙ軸テーブル６の移動速度である。
【００２７】パターンの斜傾直線部分の形状は、上記の
ように、全て数式化して表現できるので、ｘ1，ｙ1，ｘ
2，ｙ2などの描きたいパターンの位置を与え、数式に応
じて上記のようにＸ軸テーブル部５とＹ軸テーブル部６
とを移動させることにより、折線状などの任意の形状に
ペーストを塗布することができる。
ように、全て数式化して表現できるので、ｘ1，ｙ1，ｘ
2，ｙ2などの描きたいパターンの位置を与え、数式に応
じて上記のようにＸ軸テーブル部５とＹ軸テーブル部６
とを移動させることにより、折線状などの任意の形状に
ペーストを塗布することができる。
【００２８】以上のように、この実施例では、所望のパ
ターンの斜傾直線部分にパターンの縦横直線部分と同じ
ようにペーストを塗布することができるので、パターン
の縦横直線部分にペーストを塗布することと組み合わせ
ることにより、任意の形状のパターンにペーストを同じ
断面形状で塗布することができる。従って、シール剤や
抵抗ペーストを正しく塗布することで液晶表示パネルや
抵抗を高歩留まりで製作することができる。
ターンの斜傾直線部分にパターンの縦横直線部分と同じ
ようにペーストを塗布することができるので、パターン
の縦横直線部分にペーストを塗布することと組み合わせ
ることにより、任意の形状のパターンにペーストを同じ
断面形状で塗布することができる。従って、シール剤や
抵抗ペーストを正しく塗布することで液晶表示パネルや
抵抗を高歩留まりで製作することができる。
【００２９】なお、上記実施例では、基板７側を移動さ
せているが、ノズル１側を移動させるようにしてもよ
い。
せているが、ノズル１側を移動させるようにしてもよ
い。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
テーブルに載置した基板上にノズルから吐出されるペー
ストを、パターンの縦横直線部分のみならず、所望のパ
ターンの斜傾直線部分でも、パターンの縦横直線部分と
同じに、正確、かつ確実に塗布することができ、従っ
て、任意の形状のペーストパターンを正確、確実に得る
ことができる。
テーブルに載置した基板上にノズルから吐出されるペー
ストを、パターンの縦横直線部分のみならず、所望のパ
ターンの斜傾直線部分でも、パターンの縦横直線部分と
同じに、正確、かつ確実に塗布することができ、従っ
て、任意の形状のペーストパターンを正確、確実に得る
ことができる。
【図１】本発明によるペースト塗布機の一実施例を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】図１に示した実施例のペーストの塗布動作状態
を示す図である。
を示す図である。
【図３】図１に示した実施例でのペーストを斜傾直線パ
ターン状に塗布する場合の制御を説明するための図であ
る。
ターン状に塗布する場合の制御を説明するための図であ
る。
【図４】図３における傾斜角度θと距離Ｌとを表わす式
である。
である。
１ ノズル ２ ペースト収納円筒 ３ 変位計 ４ Ｚ軸テーブル部 ５ Ｘ軸テーブル部 ６ Ｙ軸テーブル部 ７ 基板 ８ 基板吸着部 ９ 架台部 １０ Ｚ軸テーブル部支持部 １１ 制御装置 １２ ペースト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三階 春夫 茨城県竜ケ崎市向陽台５丁目２番 日立 テクノエンジニアリング株式会社 開発 研究所内 (56)参考文献 実開 昭63−57771（ＪＰ，Ｕ)
Claims (4)
- 【請求項１】 基板が載置されたテーブルとノズルを相
対的に移動させ、該ノズルからペーストを吐出させて該
基板上に所定のパターンでペーストを塗布するペースト
塗布機において、 該基板と該ノズルの先端との間隔が該基板上に塗布され
るペーストの厚さにほぼ等しいように該ノズルが設定さ
れており、 単位時間当りの該ノズルのペースト吐出量を一定に保つ
第１の手段と、該 基板の縦あるいは横方向に直線状に塗布する部分と該
縦あるいは横方向に対して斜めの方向に直線状に塗布す
る部分とで単位距離当りのペースト塗布量がほぼ一致す
るように、該ノズルと該基板との間の該基板の縦方向及
び横方向の単位時間当りの相対的移動量を制御する第２
の手段とを設けたことを特徴とするペースト塗布機。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記ノズルは前記テーブルの上方に配置されており、 前記第２の手段は前記テーブルを任意の水平方向に移動
させることを特徴とするペースト塗布機。 - 【請求項３】 請求項２において、 前記第２の手段は、前記テーブルの移動速度を制御する
ことにより、前記ノズルと前記基板との単位時間当りの
相対的移動量を、前記の縦あるいは横方向に直線状にペ
ーストを塗布する部分と前記の縦あるいは横方向に対し
て斜めの方向に直線状にペーストを塗布する部分とで、
ほぼ一致させることを特徴とするペースト塗布機。 - 【請求項４】 基板が載置されたテーブルとノズルを相
対的に移動させ、該ノズルからペーストを吐出させて該
基板上に所定のパターンでペーストを塗布するペースト
塗布機において、 該基板と該ノズルの先端との間隔が該基板上に塗布され
るペーストの厚さにほぼ等しいように該ノズルが設定さ
れており、 単位時間当りの該ノズルのペースト吐出量を一定に保つ
第１の手段と、該 基板の縦あるいは横方向に直線状に塗布する部分と該
縦あるいは横方向に対して斜めの方向に直線状に塗布す
る部分とで該ノズルと該基板との間の単位時間当りの相
対的移動量がほぼ一致するように、該ノズルと該基板と
の間の該基板の縦方向及び横方向の単位時間当りの相対
的移動量を制御する第２の手段とを設けたことを特徴と
するペースト塗布機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4001581A JP2574963B2 (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | ペースト塗布機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4001581A JP2574963B2 (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | ペースト塗布機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05185005A JPH05185005A (ja) | 1993-07-27 |
| JP2574963B2 true JP2574963B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=11505486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4001581A Expired - Fee Related JP2574963B2 (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | ペースト塗布機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2574963B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6605315B1 (en) | 1999-11-05 | 2003-08-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Bonding paste applicator and method of using it |
| JP3609359B2 (ja) * | 2001-08-21 | 2005-01-12 | 株式会社 日立インダストリイズ | ペースト塗布機とペースト塗布方法 |
| JP4689159B2 (ja) * | 2003-10-28 | 2011-05-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液滴吐出システム |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6357771U (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-18 |
-
1992
- 1992-01-08 JP JP4001581A patent/JP2574963B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05185005A (ja) | 1993-07-27 |
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