JP2569024Y2 - ウェーハ処理装置の下側電極着脱装置 - Google Patents

ウェーハ処理装置の下側電極着脱装置

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JP2569024Y2
JP2569024Y2 JP532291U JP532291U JP2569024Y2 JP 2569024 Y2 JP2569024 Y2 JP 2569024Y2 JP 532291 U JP532291 U JP 532291U JP 532291 U JP532291 U JP 532291U JP 2569024 Y2 JP2569024 Y2 JP 2569024Y2
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JP
Japan
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lower electrode
wafer processing
processing chamber
lift
attached
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JP532291U
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敏 佐藤
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Hitachi Kokusai Electric Inc
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案はウェーハ処理装置、特に
プラズマによりウェーハの各種処理を行うウェーハ処理
装置に於ける下側電極の着脱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造設備の1つに、減圧反応ガス
雰囲気下に於いて、プラズマを発生させウェーハのドラ
イエッチング等、各種表面処理を行うウェーハ処理装置
がある。
【0003】従来のこの種のウェーハ処理装置を図4よ
り説明する。
【0004】図中、1はウェーハ処理室、2はマイクロ
波発生ユニットを示している。
【0005】前記ウェーハ処理室1及び付属する各種ユ
ニット(図示せず)は、架台3内に収納され、該架台3
の上側に枠体4が設けられている。該枠体4の上ビーム
5に吊ロッド6を介してベースプレート7が設けられ、
該ベースプレート7上に前記マイクロ波発生ユニット2
が載設されている。
【0006】該マイクロ波発生ユニット2と前記ウェー
ハ処理室1とは導波管ユニット8によって接続されてい
る。該導波管ユニット8はエルボウ管9、整合器10、
中継管11、短管12、終端導波管13等から構成され
ている。
【0007】又、ウェーハ処理室1には、ウェーハ処理
室1下方より取付けられた下側電極14を有している。
【0008】上記ウェーハ処理装置に於いて、マイクロ
波発生ユニット2で発生されたマイクロ波は、導波管ユ
ニット8によりウェーハ処理室1へ導かれ、ウェーハ処
理室1に供給される反応ガスを励起させプラズマを発生
させる。該プラズマにより、ウェーハの表面処理がなさ
れる。
【0009】前記したウェーハ処理室1は、前記架台3
の支持ビーム15にボルトにより固定され、前記下側電
極14はウェーハ処理室1の下側から挿入した状態でフ
ランジ部をボルトによりウェーハ処理室1の下面に固着
して固定している。
【0010】
【考案が解決しようとする課題】上記したウェーハ処理
装置では、処理室1内部の清浄、下側電極14の清浄等
を適宜行わなければならない。斯かる保守作業を行う
為、下側電極14を着脱するが、従来のウェーハ処理装
置で下側電極14を取外すには、下側電極を取付けてい
るボルトを抜脱し、下側電極を下方へ降して取外してい
た。
【0011】この下側電極14着脱の一連の作業で、ボ
ルトを抜脱した際に下電極14を支持するのは作業者自
体であり、一方の手で下側電極14を支持しつつ、ボル
トの抜脱を行うこととなる。従って、作業性が悪く、又
落下等の危険を伴う。又、複数の作業者が協同して下側
電極14の取付け、取外し作業を行うとしても、ウェー
ハ処理室1の下方には、種々の機器が取付けられてお
り、充分な作業スペースとは言えず、狭小な場所での作
業となり、協同作業が難しく、又行えたとしてもやはり
作業性は悪いという問題がある。
【0012】本考案は、斯かる実情に鑑み、保守作業の
作業性の向上、安全性の向上を図ることを目的とするも
のである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本考案は、下側電極がウ
ェーハ処理室に対し、下方より着脱する様になっている
ウェーハ処理装置に於いて、ウェーハ処理室の下方にリ
フトを設け、該リフトの昇降に昇降プレートを取付
け、該昇降プレートにスライド手段を介して下側電極を
載置可能な下側電極受座を取付けたことを特徴とするも
のである。
【0014】
【作用】リフトの上昇位置、下側電極を載置した状態で
下側電極のウェーハ処理室への着脱を行い、リフトの下
降状態で下側電極を側方へ移動させ、保守作業位置とす
る。
【0015】
【実施例】以下、図面に基づき本考案の一実施例を説明
する。
【0016】尚、図1〜図3中、図4中で示したものと
同一のものには、同符号を付してある。
【0017】下側電極14の下方にペダル16足踏式の
油圧リフト17を立設し、該油圧リフト17の昇降部で
ある昇降ロッド18の上端にコ字状に形成した昇降プレ
ート19を固着する。該昇降プレート19の両幅端にサ
イドフレーム20,20を固着する。
【0018】該サイドフレーム20,20は、平板の上
下を内側に直角に曲げ、前後端の下半部を内側に直角に
曲げて成形してあり、各サイドフレーム20,20の内
側上部にスライド手段であるスライドレール21,21
を取付ける。各スライドレール21,21にスライダ2
2,22を固着し、該左右のスライダ22,22には着
脱可能な連結ビーム27を掛渡して取付ける。両スライ
ダ22,22の上面に下側電極受座23,23を固着
し、該下側電極受座23には位置合せ用のピン24を突
設する。
【0019】前記サイドフレーム20の1端側にそれぞ
れ、扇状のストッパプレート25をその中心位置に於い
て、ボルト26により取付ける。該ストッパプレート2
5を図2の様に、円弧が中心側に位置する様な姿勢とす
ると、該ストッパプレート25の上端部が前記スライダ
22と干渉して、スライダ22の動きを規制する様にな
っている。
【0020】以下、作動について説明する。
【0021】先ず、下側電極14の取外し作業について
説明する。
【0022】図1、図2中、実線で示す状態でペダル1
6を踏み昇降ロッド18を上昇させる。昇降ロッド18
が上昇し、前記下側電極受座23が下側電極14の下面
に当接し、又前記ピン24が下側電極14下面の穴に嵌
合すると油圧リフト17の昇降動をロックする。
【0023】下側電極14をウェーハ処理室1に固着し
ているボルトを全て抜脱し、該下側電極14を前記下側
電極受座23に載置させる。油圧リフト17のリリーフ
弁(図示せず)を開き、昇降ロッド18を徐々に下降さ
せる。昇降ロッド18が完全に下降した状態では、下側
電極14がウェーハ処理室1から取外された状態とな
る。
【0024】前記ストッパプレート25,25を、それ
ぞれ外側方向に回転させる。該ストッパプレート25と
サイドフレーム20との干渉が解除され、スライダ22
が自在に動き得る様になる。
【0025】スライダ22を介して下側電極14を引出
すと、該下側電極14は作業するに充分な空間的余裕の
ある位置迄移動する。下側電極14を引出した状態で、
下側電極14の清浄等を行うことができ、或は下側電極
14を下側電極受座23から取外し、他の場所へ移動す
ることが可能となる。下側電極14を下側電極受座23
から取外す場合は、前記連結ビーム27を外して行う。
【0026】下側電極14の組込みは、前述した下側電
極14の取外し作業の逆を行えばよい。
【0027】尚、前記下側電極14の下部には電極の端
子、ケーブル、冷却用の配管等が取付けられているが、
これら付属機器と前記昇降プレート19とが干渉しない
様、該昇降プレート19はコ字状に形成されている。
【0028】又、上記実施例ではリフトとして足踏式の
油圧リフトを用いたが、電動式のリフト等に代えてもよ
いことは勿論である。
【0029】
【考案の効果】以上述べた如く本考案によれば、下側電
極を人手で支えることなく着脱できるので、作業性が向
上すると共に安全性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示す側面図である。
【図2】同前正面図である。
【図3】同前平面図である。
【図4】ウェーハ処理装置の全体図である。
【符号の説明】
1 ウェーハ処理室 17 油圧リフト 18 昇降ロッド 19 昇降プレート 23 下側電極受座

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下側電極がウェーハ処理室に対し、下方
    より着脱する様になっているウェーハ処理装置に於い
    て、ウェーハ処理室の下方にリフトを設け、該リフトの
    昇降に昇降プレートを取付け、該昇降プレートにスラ
    イド手段を介して下側電極を載置可能な下側電極受座を
    取付けたことを特徴とするウェーハ処理装置の下側電極
    着脱装置。
JP532291U 1991-01-21 1991-01-21 ウェーハ処理装置の下側電極着脱装置 Expired - Lifetime JP2569024Y2 (ja)

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JPH0497853U JPH0497853U (ja) 1992-08-25
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