JP6418262B2 - イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法 - Google Patents

イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6418262B2
JP6418262B2 JP2017044966A JP2017044966A JP6418262B2 JP 6418262 B2 JP6418262 B2 JP 6418262B2 JP 2017044966 A JP2017044966 A JP 2017044966A JP 2017044966 A JP2017044966 A JP 2017044966A JP 6418262 B2 JP6418262 B2 JP 6418262B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion source
beam irradiation
cabinet
ion
passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017044966A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018147864A (ja
Inventor
一平 西村
一平 西村
丹羽 雄一
雄一 丹羽
正敏 小野田
正敏 小野田
潤一 立道
潤一 立道
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Ion Equipment Co Ltd
Original Assignee
Nissin Ion Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Ion Equipment Co Ltd filed Critical Nissin Ion Equipment Co Ltd
Priority to JP2017044966A priority Critical patent/JP6418262B2/ja
Priority to CN201711143287.3A priority patent/CN108573842B/zh
Priority to KR1020170178090A priority patent/KR101931037B1/ko
Publication of JP2018147864A publication Critical patent/JP2018147864A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6418262B2 publication Critical patent/JP6418262B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/022Details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/08Ion sources; Ion guns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/38Mounting, supporting, spacing, or insulating electron-optical or ion-optical arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

本発明は、イオンビームを用いて基板処理を行うイオンビーム照射装置で、イオン源を構成する部材を一挙に取外し、取付することが可能なイオンビーム照射装置に関する。
イオンビーム照射装置では、装置の使用状況に応じてイオン源を構成する部材の一式が取外し、取付けられる。特許文献1には、この種のイオン源の取付け、取外し方法が開示されている。
イオン源の取外しにあたっては、吊下機構でイオン源を搬送治具である支持台上に移送し、支持台を搬送することでイオン源の搬出が行われる。イオン源の取付けは、取外しとは逆の順序で行われる。
吊下機構によってイオン源が吊下げられている状態では、イオン源は空中に浮いているので、イオン源の姿勢は安定していない。支持台に載置されることでイオン源の姿勢は安定する。
イオン源の取り外しにあたって、仮にイオン源をイオンビーム照射装置の外側で支持台に載置するとすれば、姿勢が不安定なイオン源を装置外部まで移送することになるので、支持台にイオン源を載置するまでに長時間要することが懸念される。この点については、イオン源の取付けにあたっても同じことが言える。
また、イオン源の移送距離が延びれば、それだけイオン源を移送するための機構が大掛かりなものとなる。
上述した点から、イオン源の取付け、取外し作業(イオン源着脱作業)の効率化を図り、イオン源を取付け、取外しする治具を小型にするためには、イオン源の移送距離を短くすること、つまり、イオンビーム照射装置内でイオン源を支持台に載置する、あるいは、支持台からイオン源を引き上げる構成とすることが望まれる。
しかしながら、これを実現するには次に述べる問題がある。
装置構成にもよるが、イオンビーム照射装置では、基板位置に合わせてイオン源の取付け位置が同等の高さとなるように設計されているケースがある。
このケースでは、イオン源が配置されるシールドキャビネット内の床面は、イオンビーム照射装置が配置される工場の床面よりも高く、2つの床面間には大きな段差が存在している。
この段差によって、イオン源を載置する為の支持台の上げ下ろしが必要となる。支持台の上げ下ろし作業という工程が増えれば、イオン源着脱作業の効率が低下する。また、イオン源の重量に応じて、同工程に要する作業時間は増加し、人手による対応が不可能な場合には同工程用に新たな機構を設ける等の対応が必要となる。
特開2016−110827
そこで本発明では、イオン源着脱作業の効率化とイオン源交着脱治具の構成の簡素化を実現するイオンビーム照射装置とイオン源の着脱方法を提供する。
本発明のイオンビーム照射装置は、
イオンビーム照射装置が配置される床面よりも高い床面を有し、イオン源が内部に収納されるキャビネットと、
前記キャビネットの外周端部から内側に向けて前記キャビネットの床面の一部に形成されている通路とを有し、
前記通路が形成された前記キャビネットの床面の高さは、他の部分と比べて低く、イオンビーム照射装置が配置される床面の高さと略同一である。
イオンビーム照射装置が配置される床面の高さと略同一の通路をキャビネットの床面の一部に形成したので、イオン源搬送用治具をキャビネット内外へ搬入出する時に、イオン源搬送用治具の上げ下ろしが不要となる。
また、イオン源搬送用治具のキャビネット内への搬入が可能となることから、イオン源の移送距離が短くなる。
これらのことから、イオン源着脱作業が効率的なものとなり、同作業で使用するイオン源着脱治具の構成が簡素になる。
イオン源の移送距離をさらに短くするには、前記通路が、前記イオン源が配置される場所まで形成されていることが望ましい。
上記した通路の構成であれば、イオン源の近傍でイオン源を搬送治具に載置することが可能となり、イオン源の移送距離がさらに短くなる。
これより、イオン源着脱作業の効率がさらに向上する。
キャビネット内の構成としては、前記通路に、着脱可能な床面が設けられていることが望ましい。
キャビネット内に通路を形成した場合、通路が形成される床面とそうでない床面との間に大きな段差が生じることが懸念される。
イオン源の着脱作業以外に、キャビネット内では様々なメンテナンス作業が行われている。作業時の足場に大きな段差があれば、作業効率や作業の安全性が低下する。
上述したように通路に着脱可能な床面が設けられていれば、例えば、イオン源着脱時にこの床面を取り外し、他のメンテナンス作業時にはこの床面を取り付けたままにしておく等して、キャビネット内で行われる様々なメンテナンス作業に適した作業環境を実現することができる。
さらに、着脱式の床面を取り付けておけば、キャビネット内での作業時の足場強度が補強される点からも、作業時の安全性を確保することが出来る。
床面の着脱を簡便に行うには、前記着脱可能な床面が、車輪を有していることが望まれる。
イオン源の着脱方法としては、上記のイオンビーム照射装置で、前記通路に、前記イオン源の搬送治具を搬入する。
イオンビーム照射装置が配置される床面の高さと略同一の通路をキャビネットの床面の一部に形成したので、イオン源搬送用治具をキャビネット内外へ搬入出する時に、イオン源搬送用治具の上げ下ろしが不要となる。
また、イオン源搬送用治具のキャビネット内への搬入が可能となることから、イオン源の移送距離が短くなる。
これらのことから、イオン源着脱作業が効率的なものとなり、同作業で使用するイオン源着脱治具の構成が簡素になる。
(A)はイオンビーム照射装置の一構成例を示すXY平面図である。(B)は同構成例のZX平面図である。 (A)はイオンビーム照射装置の別の構成例を示すXY平面図である。(B)は同構成例のZX平面図である。 図2の構成例で、床面の取り外しとイオン源搬送治具の搬入に係る説明図である。 (A)は支持台の一構成例を示すXY平面図である。(B)は同構成例のZX平面図である。 着脱可能な床面に係る他の構成例を示す斜視図である。
図1はイオンビーム照射装置の一構成例を示す平面図である。(A)はXY平面図で、(B)はZX平面図である。図示されるイオンビーム照射装置は、イオン注入装置の一構成例であるが、本発明のイオンビーム照射装置はイオン注入装置に限定されない。例えば、イオンビームエッチング装置等の他のイオンビーム照射装置にも適用できる。
イオンビーム照射装置IDは、イオン源1からイオンビームを引き出すための1乃至複数枚の電極で構成される引出電極系2を備えている。引出されたイオンビームは、質量分析電磁石5と図示されない分析スリットで質量分析されて、処理室6に輸送される。
処理室6では、基板7(例えば、ガラス基板やシリコンウエーハ等)が図示される矢印の方向で、イオンビームを横切るように往復搬送されている。
イオン注入処理の終了後、基板7は、図示されない真空ロボットで搬送室10に搬送されて、搬送室10の両側に配置されたいずれかの真空予備室8、9を通り、装置外部に搬出される。
イオン源1は、シールドキャビネットと呼ばれるキャビネット12内に配置されている。このキャビネット12は、イオン源が配置される高電圧部と他の部位とを電気的に絶縁する機能と高電圧部で発生したX線の外部への流出を防止する機能とを有している。
キャビネット12の床面4は、イオンビーム照射装置IDが配置される工場の床面11よりも高い部分を有し、この部分に図示されない絶縁碍子を介してイオン源1が配置されている。
本発明のイオンビーム照射装置IDは、キャビネット12の外周端部から内側に向けてキャビネット12の床面4の一部に形成されている通路Pを備えている。図1(B)に示す通り、この通路Pが形成されたキャビネット12の床面4の高さは、他の部分に比べて低く、イオンビーム照射装置IDが配置される床面11の高さと略同一である。
この構成によって、従来のイオンビーム照射装置で問題となっていたキャビネット12の内外での段差がなくなるので、通路Pを通じて、イオン源1の搬送用治具をキャビネット12の内外に搬入出することが容易となる。
また、キャビネット12内に搬送治具が搬入できることで、イオン源1を搬送治具に受け渡しするまでの距離が短くなり、作業時間が短縮される。
さらに、イオン源1の移送距離が短くて済むので、イオン源1を搬送治具に移送するための移送治具を設けるにしても、大掛かりな移送治具は不要となる。
これらのことから、イオン源着脱作業が効率的なものとなり、同作業で使用するイオン源着脱治具の構成が簡素となる。
通路Pが形成されたキャビネット12の床面4の高さが、イオンビーム照射装置IDが配置される床面11の高さと略同一であるとは、完全に両者が同一の高さである必要はなく、本発明で想定されるイオン源搬送治具の搬入出に支障を来さない程度のものであれば、両床面の高さに若干の違いがあるものでもよい。イオン源搬送治具の搬入出をよりスムーズにするなら、両床面間の若干の高さの違いを補うためのスロープを設けるか、同スロープをキャビネット12の床面の一部に形成しておく等の工夫も考えられる。
本発明で想定されるイオン源搬送治具は、車輪を有し、イオンビーム照射装置が配置される工場内の床面上を移動するものである。
また、本発明の実施形態ではイオン源1と引出電極系2とを別々の部材として説明しているが、両者をまとめてイオン源と呼び、これらを一挙に着脱できるように構成しておいてもいい。
具体的には、引出電極系2を支持する図示されないフランジとイオン源1とをボルト等で連結したままにしておき、同フランジとそれよりも下流側(イオン源1とは反対側)にある部材との連結を切り離す。そのうえで、両部材を吊下機構等の移送治具で搬送治具に移送し、搬送治具で装置外部に搬出することで、両部材を一挙に取り外す構成が考えられる。なお、両部材の取付けについては、逆の順序で行われる。
さらなる作業効率の改善を考えれば、キャビネット12の外周端部からイオン源1が配置される場所まで通路Pを形成しておく。このような通路Pであれば、イオン源1の搬送治具をイオン源1の近傍に配置して、イオン源着脱時のイオン源1の移送距離をさらに短くし、イオン源着脱作業をさらに改善することが可能となる。
通路Pは、キャビネット12の外周端部から内側に向けて形成されたものであるが、必ずしもイオン源1に向けて真っ直ぐに延びた通路である必要はなく、キャビネット12の内側の部材配置に応じて種々の方向に形成されていてもよい。例えば、図1の構成例で、イオン源1と通路Pとの位置関係がX方向にずれていてもよい。
さらに、通路Pの形状は図示される直線状である必要はなく、曲線状であってもよい。
また、通路Pの大きさは、内部にイオン源搬送治具の全体が搬入出可能な大きさである必要はない。通路P内にイオン源搬送治具の一部が搬入出可能なものであれば、本発明の効果を奏することができる。
移送治具が有するイオン源1の移送機能としては、搬送治具にイオン源1を移送するためにイオン源1を上下動させる機能に加えて、通路Pの形状や形成方向に応じて付加的な機能を追加してもよい。例えば、イオン源1を左右方向へ移動させる機能やイオン源1の向きを変更するためにイオン源1をその場で旋回させる機能等が考えられる。
図2、図3は、イオンビーム照射装置IDの別の構成例を示す平面図である。図1の構成例との違いは、通路Pに着脱可能な床面3が配置されている点にある。なお、符号が共通している箇所は、図1で説明した内容と同一の構成である。
着脱可能な床面3は、X方向の両端が図示されないボルトでキャビネット12の床面4に取り付けられている。図3に示す通り、イオン源着脱時には、床面3が矢印の方向に取り除かれて、キャビネット12の床面4に形成された通路Pが現れる。
イオン源1を取外す際には、図示されるZ方向で2組の車輪13がイオン源1の2つの側面に取り付けられる。
支持台Lは、イオン源1の各車輪13に対応した一組のレール14を備えている。各レールの端部には、車輪13の動きを規制するための車輪止め15が設けられている。
支持台Lが通路P内に搬送された後、イオン源1は図示しない吊下機構で支持台Lまで移送される。その後、支持台Lを搬出することでイオンビーム照射装置からイオン源1が搬出される。
このような手順で、イオン源1の取外しと装置外への搬出が行われる。取付け等については上述した逆の順序で行われる。
キャビネット12内に通路Pを形成した場合、通路Pが形成される床面とそうでない床面との間に大きな段差が生じることが懸念される。
イオン源1の着脱作業以外に、キャビネット内では様々なメンテナンス作業が行われている。作業時の足場に大きな段差があれば、作業効率や作業の安全性が低下する。
通路Pに着脱可能な床面3が設けられていれば、例えば、イオン源着脱時にこの床面3を取り外し、他のメンテナンス作業時にはこの床面3を取り付けたままにしておく等して、キャビネット12内で行われる様々なメンテナンス作業に適した作業環境を実現することができる。
着脱可能な床面3については、図4に示すように下面に車輪が取り付けられたものであってもよい。このような床面3であれば、床面3の着脱作業が簡便となる。
図5には、着脱可能な床面3の別の構成例が描かれている。図示されるように、着脱可能な床面3は階段状に構成されていてもよい。例えば、キャビネット12の床面4の高さとイオンビーム照射装置が配置される床面11の高さとが大きく異なる場合、イオン源1のメンテナンス時に作業者がキャビネット12内に入ることが難しくなる。この場合、着脱可能な床面3を階段状に構成しておくことで、作業者がキャビネット12内へアクセスし易くなる。
図2、図3の実施形態では、通路Pの全体を着脱可能な床面3で完全に塞ぐ構成であったが、着脱可能な床面3は、通路Pの一部に設けられていればいい。
また、着脱可能な床3は、通路P内に配置されていればよく、その平面形状については、矩形以外に、円形、半円形、楕円形、三角形、多角形等々、どのような形状であってもよい。
また、イオン源1の着脱には、特許文献1のような支持台を使用しなくてもいい。例えば、イオン源搬送治具は、車輪を有し、イオンビーム照射装置が配置される工場内の床面上を移動するものであり、その上方部分にイオン源の下面や下面及び側面を直接把持する把持部を備えた搬送治具であってもよい。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であることは言うまでもない。
1 イオン源
3 着脱可能な床面
4 キャビネットの床面
11 イオンビーム照射装置が配置される床面
12 キャビネット
13 車輪
ID イオンビーム照射装置

Claims (4)

  1. イオンビーム照射装置が配置される床面よりも高い床面を有し、イオン源が内部に収納されるキャビネットと、
    前記キャビネットの外周端部から内側に向けて前記キャビネットの床面の一部に形成されている通路とを有し、
    前記通路が形成された前記キャビネットの床面の高さは、他の部分と比べて低く、イオンビーム照射装置が配置される床面の高さと略同一であり、
    前記通路に、着脱可能な床面が設けられているイオンビーム照射装置。
  2. 前記通路が、前記イオン源が配置される場所まで形成されている請求項1記載のイオンビーム照射装置。
  3. 前記着脱可能な床面が、車輪を有している請求項記載のイオンビーム照射装置。
  4. 請求項1に記載のイオンビーム照射装置で、
    前記通路に、前記イオン源の搬送治具を搬入するイオン源の着脱方法。
JP2017044966A 2017-03-09 2017-03-09 イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法 Active JP6418262B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017044966A JP6418262B2 (ja) 2017-03-09 2017-03-09 イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法
CN201711143287.3A CN108573842B (zh) 2017-03-09 2017-11-17 离子束照射装置和离子源的装拆方法
KR1020170178090A KR101931037B1 (ko) 2017-03-09 2017-12-22 이온빔 조사 장치, 이온원의 착탈 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017044966A JP6418262B2 (ja) 2017-03-09 2017-03-09 イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018147864A JP2018147864A (ja) 2018-09-20
JP6418262B2 true JP6418262B2 (ja) 2018-11-07

Family

ID=63576556

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017044966A Active JP6418262B2 (ja) 2017-03-09 2017-03-09 イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6418262B2 (ja)
KR (1) KR101931037B1 (ja)
CN (1) CN108573842B (ja)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05334987A (ja) * 1992-05-29 1993-12-17 Ulvac Japan Ltd イオン加速装置における冷却システム
KR200391605Y1 (ko) * 2005-05-06 2005-08-05 신현국 센서부의 교체가 용이한 보관용기
US8330101B2 (en) * 2010-01-19 2012-12-11 Agilent Technologies, Inc. System and method for replacing an ion source in a mass spectrometer
CN103182698A (zh) * 2011-12-30 2013-07-03 北京中科信电子装备有限公司 一种离子源的辅助安装和拆卸装置
KR101391076B1 (ko) * 2013-01-09 2014-04-30 류홍걸 컨테이너 하우스 출입구용 발판
JP6573099B2 (ja) * 2014-12-05 2019-09-11 日新イオン機器株式会社 イオン源、支持台、吊下機構、イオン源搬送システム及びイオン源搬送方法
CN205508767U (zh) * 2016-03-23 2016-08-24 中国科学院等离子体物理研究所 一种可伸缩旋转快速拆卸型离子源装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR101931037B1 (ko) 2018-12-19
JP2018147864A (ja) 2018-09-20
CN108573842A (zh) 2018-09-25
KR20180103675A (ko) 2018-09-19
CN108573842B (zh) 2019-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102532607B1 (ko) 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
TWI541181B (zh) Carrier transfer device
JP6431156B2 (ja) 基板処理装置
TWI540666B (zh) 基板搬送方法及基板搬送系統
KR101815081B1 (ko) 기판 검사 장치 및 프로브 카드 반송 방법
KR102120521B1 (ko) 웨이퍼 보트 지지대 및 이것을 사용한 열처리 장치
JP2009059775A (ja) 容器交換システム及び容器交換方法
KR101913017B1 (ko) 프로세싱 챔버
KR20150040758A (ko) 기판 반송 방법
JP2006261377A (ja) 基板搬送ロボット及びこれを備えた基板搬送システム
JPWO2018003287A1 (ja) 搬送システム
KR20200112447A (ko) 에지 링을 갖는 기판 처리 장치
JP5682595B2 (ja) ロードポート装置の取付け方法及び当該方法に用いられる運搬架台
JP6418262B2 (ja) イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法
JP2008041969A (ja) 基板の脱離方法
KR102228145B1 (ko) 캐리어 반송 장치 및 이를 구비하는 반송체 제어 시스템
JP2002313873A (ja) 搬送ロボット移転対応型搬送装置及び搬送ロボット移転方法
CN111952139A (zh) 半导体制造设备及半导体制造方法
KR20110029705A (ko) 기판 이송장치
JP5713096B2 (ja) キャリア移載促進装置
US20090255892A1 (en) Method and apparatus to remove and replace factory interface track
CN112466798B (zh) 一种半导体机台
JP2018113344A (ja) 基板搬送方法及び基板搬送装置
KR101360611B1 (ko) 웨이퍼 트레이 교환 장치 및 방법
JP2000164689A (ja) 基板保持具および基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180905

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180906

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180911

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180924

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6418262

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250