JP2568402B2 - 崩壊性中子の製造方法 - Google Patents

崩壊性中子の製造方法

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JP2568402B2 JP62002919A JP291987A JP2568402B2 JP 2568402 B2 JP2568402 B2 JP 2568402B2 JP 62002919 A JP62002919 A JP 62002919A JP 291987 A JP291987 A JP 291987A JP 2568402 B2 JP2568402 B2 JP 2568402B2
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Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は、ダイカストやスクイズキャスト等の高圧鋳
造に用いて好適な崩壊性中子の製造方法に関する。
【従来の技術】
一般にダイカスト等の高圧鋳造においては、中子の強
度上の制限等から金属性中子が使用されているが、該金
属性中子は鋳造後の取り除きの点で大きな制限をうける
為、比較的単純な形状の中子だけがダイカストでは使用
されているだけであり、適用できる製品の種類は少な
い。 そこで、上記金属性中子に代えて崩壊性中子の使用が
考えられるが、ダイカスト等の高圧鋳造においては、シ
ェル中子の強度、Al溶湯等のさし込み、及び鋳肌等に問
題があり、満足し得るものは得られなかった。 これらの問題点を解決する為に、従来、多くの研究が
なされており、一概に総括することはできないが、基本
的にはシェル中子本体の表面に塗型層を設けることがな
されており、現在、例えば、特公昭60−15418号公報や
特開昭59−45054号公報に開示されたもの、及び本出願
人が出願した特願昭62−2918号のものが知られている。
【発明が解決しようとする問題点】
上記特公昭60−15418号及び特願昭59−45045号公報に
開示されたものは、シェル中子の表面に第1塗型層と第
2塗型層とを2層形成するものであるが、第4図に示し
た如く、第2塗型層aは、第1塗型層bの表面に単に層
成されているだけであるので第1塗型層bと第2塗型層
a間の密着力が弱く、為にダイカストのようにAl溶湯が
高速乱流で型内に注入される場合には第2塗型層aはAl
溶湯等により洗い流されてしまいAl溶湯等が浸透する原
因となっている。 従って、従来の崩壊性中子は、ゲート通過スピードを
極端に遅くした特殊な鋳造法にしか使用できない問題点
がある。また特願昭62−2918号に開示されている崩壊性
中子の製造方法は、上記の問題点は解消できるがシェル
中子の表面に3回の塗型形成工程が必要なため、塗型形
成作業が煩雑になるという問題点がある。 本発明は上記従来の問題点を解消しようとしたもの
で、シェル中子表面の目ならしをする第1塗型層と、Al
溶湯等の浸透を防ぐ第2塗型層との密着強度を高める為
に、第2塗型層内のフェノール樹脂を第2塗型層にも浸
透させて第1、第2両塗型層共通のバインダーとするこ
とによって、第1塗型層と第2塗型層との密着強度を高
め、ダイカストのようにAl溶湯等が高速、高圧で充填さ
れるような鋳造法にも適応できる使用範囲の広い崩壊性
中子を容易に得ようとするのが、その目的である。
【問題点を解決する為の手段】
即ち本発明は、レジンコーテッドサンドで成形したシ
ェル中子1aの表面に、微粉末状耐火物とアルコールとフ
ェノール樹脂からなる第1スラリーを塗布した後、アル
コール分を蒸発させるも該第1スラリが硬化しない程度
に乾燥させて第1塗型層2を形成し、該第1塗型層2が
未硬化のままの状態で該第1塗型層2の表面に第2塗型
層3形成用の第2スラリーを塗布して加熱することによ
り該第1塗型層2内のフェノール樹脂の一部が第2塗型
層3内へ浸透して該第1第2塗型層間に根をはるように
拡散した状態で該第1、第2塗型層が硬化することを特
徴とする崩壊性中子の製造方法を提供して、上記問題点
を解決したものである。
【実施例】
以下本発明の実施例を詳述する。 第1実施例 ジルコンサンド(粒度・AFS・FN54)100部と、フェノ
ール樹脂1.2部からなるレジンコーテッドサンドを使用
して製作した第1図及び第2図に示すシェル中子1a(抗
折力90kgf/cm2)を下記の第1スラリー中に5秒間浸漬
させ、室温30℃にて30分間放置しメチルアルコール分を
蒸発させ第1塗型層2をシェル中子1aの表面に形成し
た。 これを更に下記の第2スラリー中に2秒間浸漬させ、
80℃にて10分間乾燥させ、更に180℃にて10分間加熱し
て硬化させ第2塗型層3を、上記第1塗型層2の表面に
形成し、第1図に示す形状及び寸法を有する中子1を製
造した。 上記中子1を金型のキャビティ内に設置し、500Tのダ
イカストマシンを使用して660℃のAl合金(ADC10)溶湯
を、鋳造圧力500kgf/cm2、プランジャースピード2m/sec
にて鋳込んだ。 鋳造後、400℃で2時間の熱処理を行ないエアーハン
マーにて振動を与えたところ30秒〜1分で中子1は完全
に崩壊し、得られた製品の鋳肌は平滑でアルミ溶湯のさ
し込みはなかった。 第1スラリー ケイ砂フラワー 1μm(平均粒径) 50部 〃 10μm(平均粒径) 20部 メチルアルコール液 25部 60%フェノール樹脂メチルアルコール溶液 15部 第2スラリー 鱗片状黒鉛 30部 ステンレス鋼粉 10部 スルホコハク酸ナトリウム 0.2部 合成雲母 15部 水 50部 消泡剤 数滴 ここで上記第1塗型層2は、約150μm、第2塗型層
3は約50μmとした。 又、第1図において4はシェル中子1aの表面に層成し
た塗型層部分、5、6は中子1の金型保持部分を夫々示
す。 第2実施例 硅砂(粒度・AFS・FN58、22)とフェノール樹脂2部
とからなるレジンコーテッドサンドを使用して製作した
シェル中子1a(抗折力60kgf/cm2)を、下記第1スラリ
ー中に5秒間浸漬させ、1分間放置後、再び1秒間浸漬
させ65℃にて15分間乾燥させ、アルコール分を蒸発させ
て第1塗型層2を、上記シェル中子1aの表面に形成し
た。 これを更に、下記第2スラリー中に2秒間浸漬させ、
100℃にて10分間乾燥し、更に180℃にて10分間加熱硬化
させて第2塗型層3を、上記第1塗型層2の表面に形成
して中子1を製造した。 上記中子1を金型のキャビティ内に設置し、800Tのダ
イカストマシンを使用して655℃のAl溶湯(ADC10)を、
鋳造圧力600kgf/cm2、プランジャースピード1.6m/secに
て鋳込んだ。 鋳造後、400℃で1時間の熱処理を行い、エアーハン
マーにて振動を与えたところ1分〜3分で完全に崩壊
し、得られた製品の鋳肌は平滑でAl溶湯のさし込みはな
かった。 第1スラリー ジルコンフラワー 1μm 50部 ジルコン 10μm 20部 メチルアルコール 20部 60%フェノール樹脂メチルアルコール溶液 10部 第2スラリー 天然雲母 10部 合成雲母 20部 スルホコハク酸ナトリウム 0.2部 消泡剤 数滴 水 50部 第3図は本発明方法によって製造した中子1における
第1、第2両塗型層2、3の結合状態を示す拡大断面
図、同図において7は微粉末状耐火物、8はフェノール
樹脂、9は鱗片状黒鉛と雲母を夫々示す。
【発明の効果】
以上の説明から明らかな如く本発明に係る崩壊性中子
製造方法によればシェル中子1aの表面に、微粉末状耐火
物とアルコールとフェノール樹脂からなる第1スラリー
を塗布し、アルコール分を蒸発させ、硬化しない程度に
乾燥させて第1塗型層2を形成し、該第1塗型層2の表
面に水と雲母又は鱗片状黒鉛からなる第2スラリーを塗
布し、乾燥硬化させて第2塗型層3を形成して中子1を
製造するようにしたので、第1塗型層2のフェノール樹
脂8の一部が、表面の第2塗型層3内へも浸透してい
き、第1、第2両塗型層2、3に拡散して根をはり、こ
れが加熱乾燥して硬化されることにより第1塗型層2と
第2塗型層3とが強く結合し、当該両層2、3間の密着
強度の大きい中子が得られる。 従って、当該中子製造方法によればダイカストのよう
にAl溶湯等が高速、高圧で充填されるような鋳造法に対
しても使用できる崩壊性中子を容易、かつ低コストに製
造でき、当該中子の使用範囲を拡大できると共に、当該
中子の使用により鋳肌の平滑な優れた製品を得られる等
の利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る崩壊性中子の製造方法によって製
造した中子の一例を示す正面図、 第2図は同中子の拡大横断面図、 第3図は同中子における第1、第2両塗型層の拡大断面
図、 第4図は従来の崩壊性中子における塗型層の拡大断面図
である。 1a……シェル中子 2……第1塗型層 3……第2塗型層

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レジンコーテッドサンドで成形したシェル
    中子の表面に、微粉末状耐火物とアルコールとフェノー
    ル樹脂からなる第1スラリーを塗布した後、アルコール
    分を蒸発させるも該第1スラリが硬化しない程度に乾燥
    させて第1塗型層を形成し、該第1塗型層が未硬化のま
    まの状態で該第1塗型層の表面に第2塗型層形成用の第
    2スラリーを塗布して加熱することにより該第1塗型層
    内のフェノール樹脂の一部が第2塗型層内へ浸透して該
    第1第2塗型層間に根をはるように拡散した状態で該第
    1、第2塗型層が硬化することを特徴とする崩壊性中子
    の製造方法。
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